JP6483400B2 - Multilayer capacitor and mounting structure - Google Patents

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Description

本発明は、積層型コンデンサに関し、特に、例えば、複数の誘電体層と内部電極とが交互に積層された積層体を有する積層型コンデンサに関するものである。   The present invention relates to a multilayer capacitor, and more particularly to, for example, a multilayer capacitor having a multilayer body in which a plurality of dielectric layers and internal electrodes are alternately stacked.

積層型コンデンサは、誘電体層と内部電極とが交互に積層されており、誘電体を構成するセラミック材料としては、誘電率が比較的高いチタン酸バリウム等の強誘電体材料が一般的に用いられている。このような積層型コンデンサに交流電圧を印加すると、電歪効果から誘電体層に歪みが発生して積層型コンデンサ自体に振動が生じる。積層型コンデンサの振動は、積層型コンデンサがはんだ等を介して実装されている基板に伝播し、基板に伝播した振動により、基板が共鳴して振動が増幅され、基板において振動音が発生する。そして、基板の振動周波数が可聴周波数帯域になると、基板から可聴音が発生する。すなわち、いわゆる、「音鳴き」という現象が生じる。具体的には、積層型コンデンサは、外部電極と基板とをはんだを介して実装した場合には、積層型コンデンサの振動が外部電極に付着するはんだを介して基板を変形させるので、基板において振動音が発生することになる。   In multilayer capacitors, dielectric layers and internal electrodes are alternately stacked, and a ferroelectric material such as barium titanate with a relatively high dielectric constant is generally used as the ceramic material for the dielectric. It has been. When an AC voltage is applied to such a multilayer capacitor, distortion occurs in the dielectric layer due to the electrostrictive effect, and vibration occurs in the multilayer capacitor itself. The vibration of the multilayer capacitor propagates to the substrate on which the multilayer capacitor is mounted via solder or the like, and the vibration propagated to the substrate causes the substrate to resonate and amplify the vibration, and vibration sound is generated in the substrate. When the vibration frequency of the substrate becomes an audible frequency band, an audible sound is generated from the substrate. That is, a so-called “sounding” phenomenon occurs. Specifically, when a multilayer capacitor is mounted with an external electrode and a substrate via solder, the vibration of the multilayer capacitor deforms the substrate via the solder adhering to the external electrode. Sound will be generated.

このような基板における振動音を低減するために、対向する側面に一対の外部電極を有する積層型コンデンサ本体と、一対の外部電極に接続された一対の外部端子とを備えた積層型コンデンサが用いられている。このような積層型コンデンサは、一対の外部端子が一対の外部電極に接続されており、一対の外部端子で積層型コンデンサ本体を基板から浮かして基板上に実装している。このような構成とすることにより、積層型コンデンサ本体で発生した振動を基板に伝播しにくくして、積層型コンデンサ本体に起因して振動音が基板に発生するのを抑制している。このような積層型コンデンサは、例えば、特許文献1に開示されているものがある。   In order to reduce vibration noise in such a substrate, a multilayer capacitor having a multilayer capacitor body having a pair of external electrodes on opposite side surfaces and a pair of external terminals connected to the pair of external electrodes is used. It has been. In such a multilayer capacitor, a pair of external terminals are connected to a pair of external electrodes, and the multilayer capacitor body is floated from the substrate by the pair of external terminals and mounted on the substrate. By adopting such a configuration, vibration generated in the multilayer capacitor main body is hardly propagated to the substrate, and generation of vibration noise on the substrate due to the multilayer capacitor main body is suppressed. An example of such a multilayer capacitor is disclosed in Patent Document 1.

特開2012−23322号公報JP 2012-23322 A

しかしながら、上述の積層型コンデンサは、一対の外部端子を用いて積層型コンデンサ本体を基板から浮かして設けて、積層型コンデンサ本体の振動を一対の外部端子でもって基板に伝播しにくくして「音鳴き」を抑制しており、一対の外部端子を新たに設けることによって構造が複雑になるという問題点があった。   However, the above-described multilayer capacitor is provided with a multilayer capacitor body floating from the substrate using a pair of external terminals, and the vibration of the multilayer capacitor body is difficult to propagate to the substrate with a pair of external terminals. There has been a problem that the structure is complicated by newly providing a pair of external terminals that suppresses “squeal”.

本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、「音鳴き」を抑制することができる積層型コンデンサを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide a multilayer capacitor capable of suppressing “sounding”.

本発明の積層型コンデンサは、複数の誘電体層が積層されて、互いに対向する第1および第2の主面と前記第1および第2の主面間を連結する、互いに対向する第1および第2の端面と前記第1および第2の端面間を連結する、互いに対向する第1および第2の側面
とを有する略直方体状積層体と、前記積層体内の前記複数の誘電体層の積層方向に間隔をおいて配置されている複数の内部電極と、前記第1および第2の端面に配置れ、前記内部電極に電気的に接続されている一対の外部電極とを備えており、前記一対の外部電極は、金属層と該金属層を覆う導電性樹脂層とを含む下地電極と前記導電性樹脂層の外側に位置するめっき層とを有しており、前記下地電極は、前記第1および第2の端面を覆う端面部と、前記端面部から前記第1の主面に延在する第1の主面延在部および前記第2の主面に延在する第2の主面延在部と、前記端面部から前記第1の側面に延在する第1の側面延在部および前記第2の側面に延在する第2の側面延在部とを有しており、前記積層体の前記第1の主面が実装面とされ、前記端面部と前記第1の主面延在部との間に位置する稜線部と前記第1および第2の側面延在部と前記第1の主面延在部との間に位置する各稜線部とにおいて前記導電性樹脂層が前記めっき層から露出していることを特徴とするものである。
In the multilayer capacitor of the present invention, a plurality of dielectric layers are stacked to connect the first and second main surfaces facing each other and the first and second main surfaces facing each other. a second end surface connecting between said first and second end surfaces, and a substantially rectangular parallelepiped laminate having a first and second side surfaces facing each other, of the plurality of dielectric layers of the laminate a plurality of internal electrodes are arranged at intervals in the stacking direction, are arranged in the first and second end surfaces, and a pair of external electrodes being electrically connected to the internal electrode the pair of external electrodes has a plated layer positioned outside of the conductive resin layer and the base electrode including a conductive resin layer covering the metallic layer and the metal layer, wherein the base electrode is , An end surface covering the first and second end surfaces, and the end surface from the end surface A first main surface extending portion extending to the main surface, a second main surface extending portion extending to the second main surface, and a first extending from the end surface portion to the first side surface. 1 side extending portion and has a second side extending portion extending in the second aspect, the first major surface of the laminate is the mounting surface, before Kitan surface And a ridge line portion located between the first main surface extension portion, and a ridge line portion located between the first and second side surface extension portions and the first main surface extension portion, and the conductive resin layer is characterized in that it is exposed from the plating layer in.

本発明の積層型コンデンサによれば、一対の外部電極の下面部のみがはんだ付着部となるので、振動を基板に伝播しにくくすることができる。   According to the multilayer capacitor of the present invention, since only the lower surface portions of the pair of external electrodes become the solder adhesion portions, it is possible to make it difficult for vibration to propagate to the substrate.

(a)は、実施の形態に係る積層型コンデンサを示す概略の斜視図であり、(b)は、(a)に示す積層型コンデンサのA−A線で切断した断面図である。(A) is a schematic perspective view which shows the multilayer capacitor | condenser which concerns on embodiment, (b) is sectional drawing cut | disconnected by the AA line of the multilayer capacitor | condenser shown to (a). (a)〜(c)は、下地電極に形成されためっき層の形成領域を説明するための説明図である。(A)-(c) is explanatory drawing for demonstrating the formation area of the plating layer formed in the base electrode. 図1(b)に示す積層型コンデンサの要部Cを拡大して示す断面図である。It is sectional drawing which expands and shows the principal part C of the multilayer capacitor | condenser shown in FIG.1 (b). (a)は、図1に示す積層型コンデンサを基板上に実装した状態を示す斜視図であり、(b)は、(a)に示す積層型コンデンサを基板上に実装した状態で積層型コンデンサのB−B線で切断した断面図である。(A) is a perspective view showing a state in which the multilayer capacitor shown in FIG. 1 is mounted on a substrate, and (b) is a multilayer capacitor in a state where the multilayer capacitor shown in (a) is mounted on a substrate. It is sectional drawing cut | disconnected by the BB line | wire. 図4(b)に示す積層型コンデンサの要部Dを拡大して示す断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view illustrating a main part D of the multilayer capacitor illustrated in FIG.

<実施の形態>
以下、本発明の実施の形態に係る積層型コンデンサ10について図面を参照しながら説明する。
<Embodiment>
Hereinafter, a multilayer capacitor 10 according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、本発明の実施の形態に係る積層型コンデンサ10を示す概略の斜視図であり、積層型コンデンサ10は、セラミック材料の誘電体層と内部電極2(第1の内部電極2aと第2の内部電極2b)とを有しており、誘電体層と内部電極2とが交互に積層されており、一対の外部電極3(第1の外部電極3aと第2の外部電極3b)が第1および第2の端面1c、1dに引き出された内部電極2と電気的に接続されている。すなわち、内部電極2は、第1の内部電極2aが第1の外部電極3aに電気的に接続されており、第2の内部電極2bが第2の外部電極3bに電気的に接続されている。また、積層型コンデンサ10は、便宜的に、直交座標系XYZを定義するとともに、Z方向の正側を上方として、上面もしくは下面の用語を適宜用いるものとする。   FIG. 1 is a schematic perspective view showing a multilayer capacitor 10 according to an embodiment of the present invention. The multilayer capacitor 10 includes a dielectric layer of ceramic material and internal electrodes 2 (first internal electrode 2a and first internal electrode 2). 2 internal electrodes 2b), dielectric layers and internal electrodes 2 are alternately stacked, and a pair of external electrodes 3 (first external electrode 3a and second external electrode 3b) It is electrically connected to the internal electrode 2 drawn out to the first and second end faces 1c, 1d. That is, in the internal electrode 2, the first internal electrode 2a is electrically connected to the first external electrode 3a, and the second internal electrode 2b is electrically connected to the second external electrode 3b. . In addition, for convenience, the multilayer capacitor 10 defines an orthogonal coordinate system XYZ, and appropriately uses terms of an upper surface or a lower surface, with the positive side in the Z direction being the upper side.

積層型コンデンサ10は、回路基板(以下、基板9という)上にはんだ7を介して実装されるものである。基板9は、例えば、ノートパソコン、スマートフォンまたは携帯電話等に用いられており、例えば、表面に積層型コンデンサ10が電気的に接続される電気回路が形成されているものである。   The multilayer capacitor 10 is mounted on a circuit board (hereinafter referred to as a board 9) via a solder 7. The substrate 9 is used in, for example, a notebook personal computer, a smartphone, a mobile phone, or the like. For example, an electric circuit on which the multilayer capacitor 10 is electrically connected is formed on the surface.

また、基板9は、図4に示すように、例えば、積層型コンデンサ10が実装される表面には、基板電極9aおよび基板電極9bが設けられており、基板電極9aからは配線(図示せず)が延びており、また、基板電極9bからは配線(図示せず)が延びている。積層型コンデンサ10は、例えば、第1の外部電極3aと基板電極9aとがはんだ付けによりはんだ接合され、また、第2の外部電極3bと基板電極9bとがはんだ付けによりはんだ
接合される。
As shown in FIG. 4, the substrate 9 is provided with, for example, a substrate electrode 9a and a substrate electrode 9b on the surface on which the multilayer capacitor 10 is mounted, and wiring (not shown) is provided from the substrate electrode 9a. ) And a wiring (not shown) extends from the substrate electrode 9b. In the multilayer capacitor 10, for example, the first external electrode 3a and the substrate electrode 9a are soldered by soldering, and the second external electrode 3b and the substrate electrode 9b are soldered by soldering.

積層型コンデンサ10は、図1に示すように、積層体1と、積層体1内に形成されている内部電極2(第1の内部電極2aおよび第2の内部電極2b)と、積層体1の第1および第2の端面1c、1dに形成されており、第1および第2の端面1c、1dに引き出された内部電極2に電気的に接続されている一対の外部電極3(第1の外部電極3aおよび第2の外部電極3b)と、を備えている。   As shown in FIG. 1, the multilayer capacitor 10 includes a multilayer body 1, internal electrodes 2 (first internal electrode 2 a and second internal electrode 2 b) formed in the multilayer body 1, and multilayer body 1. The first and second end faces 1c, 1d of the first and second end faces 1c, 1d are electrically connected to the internal electrode 2 drawn out to the first and second end faces 1c, 1d (first External electrode 3a and second external electrode 3b).

積層体1は、複数の誘電体層が積層されて略直方体状に形成されており、互いに対向する第1および第2の主面1a、1bと互いに対向する第1および第2の端面1c、1dと互いに対向する第1および第2の側面1e、1fとを有している。そして、互いに対向する第1および第2の端面1c、1dは、第1および第2の主面1a、1b間を連結しており、また、互いに対向する第1および第2の側面1e、1fは、第1および第2の主面1a、1b間および第1および第2の端面1c、1d間を連結している。なお、略直方体状とは、立方体形状または直方体形状のみならず、例えば、直方体の稜線部分に面取りが施されて稜線部分がR形状となっているものを含んでいる。   The laminated body 1 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape by laminating a plurality of dielectric layers, and first and second end faces 1c facing each other and the first and second main faces 1a and 1b facing each other, 1d and first and second side surfaces 1e and 1f facing each other. The first and second end faces 1c, 1d facing each other connect the first and second main faces 1a, 1b, and the first and second side faces 1e, 1f facing each other. Connects the first and second main faces 1a, 1b and the first and second end faces 1c, 1d. Note that the substantially rectangular parallelepiped shape includes not only a cubic shape or a rectangular parallelepiped shape, but also includes, for example, a shape in which the ridge line portion of the rectangular parallelepiped is chamfered and the ridge line portion has an R shape.

積層体1は、誘電体層となるセラミックグリーンシートを複数枚積層して焼成することで得られる焼結体である。このように、積層体1は、略直方体状に形成されており、互いに対向する第1の主面1aおよび第2の主面1bと、第1の主面1aおよび第2の主面1bに直交しており互いに対向する第1の端面1cおよび第2の端面1dと、第1の端面1cおよび第2の端面1dに直交しており互いに対向する第1の側面1eおよび第2の側面1fとを有している。また、積層体1は、誘電体層の積層方向(Z方向)に対して、直交する方向の断面(XY面)となる平面が長方形状となっている。また、積層型コンデンサ10は、積層体1の各稜線部が丸みを有していてもよい。   The laminated body 1 is a sintered body obtained by laminating and firing a plurality of ceramic green sheets serving as dielectric layers. Thus, the laminated body 1 is formed in a substantially rectangular parallelepiped shape, and is formed on the first main surface 1a and the second main surface 1b, the first main surface 1a, and the second main surface 1b facing each other. The first end face 1c and the second end face 1d that are orthogonal and face each other, and the first side face 1e and the second side face 1f that are orthogonal to the first end face 1c and the second end face 1d and face each other. And have. Moreover, the laminated body 1 has a rectangular plane as a cross section (XY plane) in a direction orthogonal to the stacking direction (Z direction) of the dielectric layers. In the multilayer capacitor 10, each ridge line portion of the multilayer body 1 may be rounded.

このような構成の積層型コンデンサ10の寸法は、長手方向(Y方向)の長さが、例えば、0.6(mm)〜2.2(mm)、短手方向(X方向)の長さが、例えば、0.3(mm)〜1.5(mm)、高さ方向(Z方向)の長さが、例えば、0.3(mm)〜1.2(mm)である。   The dimension of the multilayer capacitor 10 having such a configuration is such that the length in the longitudinal direction (Y direction) is, for example, 0.6 (mm) to 2.2 (mm), and the length in the short direction (X direction). However, the length in the height direction (Z direction) is, for example, 0.3 (mm) to 1.5 (mm), for example, 0.3 (mm) to 1.2 (mm).

誘電体層は、積層方向からの平面視において長方形状であり、1層当たりの厚みが、例えば、0.5(μm)〜3(μm)である。積層体1は、例えば、10(層)〜1000(層)からなる複数の誘電体層がZ方向に積層されている。また、積層体1内の内部電極2の積層数は、積層型コンデンサ10の特性等に応じて適宜設計される。   The dielectric layer has a rectangular shape in a plan view from the stacking direction, and the thickness per layer is, for example, 0.5 (μm) to 3 (μm). In the laminated body 1, for example, a plurality of dielectric layers made of 10 (layers) to 1000 (layers) are laminated in the Z direction. The number of internal electrodes 2 in the multilayer body 1 is appropriately designed according to the characteristics of the multilayer capacitor 10.

誘電体層は、例えば、チタン酸バリウム(BaTiO)、チタン酸カルシウム(CaTiO)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO)またはジルコン酸カルシウム(CaZrO)等である。また、誘電体層は、高い誘電率の点から、特に、誘電率の高い強誘電体材料としてチタン酸バリウムを用いることが好ましい。 The dielectric layer is, for example, barium titanate (BaTiO 3 ), calcium titanate (CaTiO 3 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), or calcium zirconate (CaZrO 3 ). The dielectric layer preferably uses barium titanate as a ferroelectric material having a high dielectric constant from the viewpoint of a high dielectric constant.

複数の内部電極2は、第1の内部電極2aと第2の内部電極2bとを含んでおり、第1の内部電極2aおよび第2の内部電極2bは、所定間隔を介して互いに対向しており、図1(b)に示すように、積層体1内の複数の誘電体層の積層方向に所定間隔をおいて交互に配置されており、積層体1の第1の主面1aおよび第2の主面1bに略平行となるようにそれぞれ設けられている。なお、第1の内部電極2aと第2の内部電極2bとが一対となって、積層体1内に交互に配置されている。   The plurality of internal electrodes 2 include a first internal electrode 2a and a second internal electrode 2b. The first internal electrode 2a and the second internal electrode 2b are opposed to each other with a predetermined interval. As shown in FIG. 1B, the plurality of dielectric layers in the multilayer body 1 are alternately arranged in the lamination direction at a predetermined interval, and the first main surface 1a and the first main surface 1a of the multilayer body 1 are arranged. 2 are provided so as to be substantially parallel to the main surface 1b. The first internal electrodes 2a and the second internal electrodes 2b are paired and alternately arranged in the stacked body 1.

このように、第1の内部電極2aおよび第2の内部電極2bは、積層体1内において誘電体層で隔てられ、かつ互いに対向して配置されており、第1の内部電極2aと第2の内
部電極2bとの間には少なくとも1層の誘電体層がそれぞれ挟まれている。これらの内部電極2が形成された誘電体層が複数枚積層されて積層型コンデンサ10の積層体1が形成される。
As described above, the first internal electrode 2a and the second internal electrode 2b are separated from each other by the dielectric layer in the multilayer body 1 and are disposed so as to face each other. The first internal electrode 2a and the second internal electrode 2b At least one dielectric layer is sandwiched between the internal electrode 2b. A plurality of dielectric layers on which the internal electrodes 2 are formed are laminated to form the multilayer body 1 of the multilayer capacitor 10.

第1の内部電極2aは、図1(b)に示すように、誘電体層間に配置されて、一方の端部が第1の端面1cに引き出されており、第2の内部電極2bは、誘電体層間に配置されて、一方の端部が第1の端面1cに対向する第2の端面1dに引き出されている。   As shown in FIG. 1B, the first internal electrode 2a is disposed between the dielectric layers, and one end portion is drawn out to the first end face 1c, and the second internal electrode 2b is Arranged between the dielectric layers, one end is drawn out to a second end face 1d facing the first end face 1c.

第1および第2の内部電極2a、2bの導電材料は、例えば、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銀(Ag)、パラジウム(Pd)または金(Au)等の金属材料、あるいは、これらの金属材料の一種以上を含む、例えば、Ag−Pd合金等の合金材料である。また、第1および第2の内部電極2a、2bは、電極の厚みが、例えば、0.5(μm)〜2(μm)であり、用途に応じて厚みを適宜設定すればよい。また、第1の内部電極2aおよび第2の内部電極2bは、同一の金属材料または合金材料によって形成することが好ましい。   The conductive material of the first and second internal electrodes 2a and 2b is, for example, a metal material such as nickel (Ni), copper (Cu), silver (Ag), palladium (Pd) or gold (Au), or these For example, an alloy material such as an Ag—Pd alloy including one or more of the above metal materials. The first and second internal electrodes 2a and 2b have an electrode thickness of, for example, 0.5 (μm) to 2 (μm), and the thickness may be set as appropriate depending on the application. The first internal electrode 2a and the second internal electrode 2b are preferably formed of the same metal material or alloy material.

一対の外部電極3は、第1および第2の端面1c、1dにそれぞれ形成されており、第1の端面1cまたは第2の端面1dに引き出された内部電極2に電気的に接続されている。具体的には、第1の外部電極3aは、第1の端面1cに配置されており、第1の端面1cに引き出された第1の内部電極2aに電気的に接続されており、また、第2の外部電極3bは、第2の端面1dに配置されており、第2の端面1dに引き出された第2の内部電極2bに電気的に接続されている。   The pair of external electrodes 3 are formed on the first and second end faces 1c and 1d, respectively, and are electrically connected to the internal electrode 2 drawn to the first end face 1c or the second end face 1d. . Specifically, the first external electrode 3a is disposed on the first end face 1c, and is electrically connected to the first internal electrode 2a drawn out to the first end face 1c. The second external electrode 3b is disposed on the second end face 1d, and is electrically connected to the second internal electrode 2b drawn to the second end face 1d.

このように、一対の外部電極3は、第1の外部電極3aと第2の外部電極3bとからなり、第1および第2の端面1c、1dを覆うように形成されており、第1の外部電極3aと第2の外部電極3bとが互いに対向するように配置されている。そして、一対の外部電極3は、図1に示すように、第1および第2の端面1c、1dを覆うように形成されているとともに、積層体1において、第1および第2の端面1c、1dから第1および第2の主面1a、1bの表面にそれぞれ延在して形成されており、また、第1および第2の端面1c、1dから第1および第2の側面1e、1fの表面にそれぞれ延設して形成されている。   As described above, the pair of external electrodes 3 includes the first external electrode 3a and the second external electrode 3b, and is formed so as to cover the first and second end faces 1c and 1d. The external electrode 3a and the second external electrode 3b are arranged so as to face each other. As shown in FIG. 1, the pair of external electrodes 3 are formed so as to cover the first and second end faces 1c and 1d, and in the stacked body 1, the first and second end faces 1c, The first and second main faces 1a and 1b are formed to extend from 1d to the surfaces of the first and second main faces 1a and 1b, respectively, and from the first and second end faces 1c and 1d to the first and second side faces 1e and 1f. Each is formed extending on the surface.

このように、一対の外部電極3(第1の外部電極3aおよび第2の外部電極3b)は、図1(b)に示すように、積層体1の表面(端面、主面および側面)に形成されており、下地電極4とめっき層5とを有しており、下地電極4は、金属層4gと該金属層4gを覆う導電性樹脂層4hとを含んでおり、めっき層5は、導電性樹脂層4hを覆うように導電性樹脂層4hの表面上に形成されている。   Thus, the pair of external electrodes 3 (the first external electrode 3a and the second external electrode 3b) are formed on the surface (end surface, main surface, and side surface) of the multilayer body 1 as shown in FIG. The base electrode 4 includes a metal layer 4g and a conductive resin layer 4h covering the metal layer 4g. The plating layer 5 includes: It is formed on the surface of the conductive resin layer 4h so as to cover the conductive resin layer 4h.

下地電極4は、第1の端面部4cと第2の端面部4dとを有しており、第1の端面部4cが第1の端面1cを覆っており、第2の端面部4dが第2の端面1dを覆っている。また、下地電極4は、第1の主面延在部4aと第2の主面延在部4bとを有しており、第1の主面延在部4aが第1の端面部4cおよび第2の端面部4dから第1の主面1aに延在しており、第2の主面延在部4bが第1の端面部4cおよび第2の端面部4dから第2の主面1bに延在している。また、下地電極4は、第1の側面延在部4eと第2の側面延在部4fとを有しており、第1の側面延在部4eが第1の端面部4cおよび第2の端面部4dから第1の側面1eに延在しており、第2の側面延在部4fが第1の端面部4cおよび第2の端面部4dから第2の側面4fに延在している。   The base electrode 4 has a first end surface portion 4c and a second end surface portion 4d, the first end surface portion 4c covers the first end surface 1c, and the second end surface portion 4d is the first end surface portion 4d. 2 end face 1d is covered. Further, the base electrode 4 has a first main surface extension portion 4a and a second main surface extension portion 4b, and the first main surface extension portion 4a is a first end surface portion 4c and The second main surface 1b extends from the second end surface portion 4d to the first main surface 1a, and the second main surface extending portion 4b extends from the first end surface portion 4c and the second end surface portion 4d to the second main surface 1b. It extends to. Further, the base electrode 4 has a first side surface extension portion 4e and a second side surface extension portion 4f, and the first side surface extension portion 4e has the first end surface portion 4c and the second side surface extension portion 4e. The end surface portion 4d extends to the first side surface 1e, and the second side surface extension portion 4f extends from the first end surface portion 4c and the second end surface portion 4d to the second side surface 4f. .

このように、下地電極4は、金属層4gと導電性樹脂層4hとを含んでおり、金属層4gは、積層体1の表面(端面、主面および側面)に形成されている。すなわち、金属層4
hは、第1の端面1cおよび第2の端面1dから第1および第2の主面1a、1bに延在するように形成されており、また、第1の端面1cおよび第2の端面1dから第1および第2の側面1e、1fに延在するように形成されている。また、導電性樹脂層4hは、金属層4gを覆うように金属層4gの表面上に形成されている。
Thus, the base electrode 4 includes the metal layer 4g and the conductive resin layer 4h, and the metal layer 4g is formed on the surface (end surface, main surface, and side surface) of the multilayer body 1. That is, the metal layer 4
h is formed so as to extend from the first end face 1c and the second end face 1d to the first and second main faces 1a and 1b, and the first end face 1c and the second end face 1d. To the first and second side faces 1e and 1f. The conductive resin layer 4h is formed on the surface of the metal layer 4g so as to cover the metal layer 4g.

金属層4gは、第1の端面1cまたは第2の端面1dに引き出された内部電極2に電気的に接続されている。また、金属層4gの導電材料は、例えば、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銀(Ag)、パラジウム(Pd)または金(Au)等の金属材料、あるいは、これらの金属材料の一種以上を含む、例えば、Ag−Pd合金等の合金材料である。また、一対の金属層4gは、同一の金属材料または合金材料によって形成することが好ましい。   The metal layer 4g is electrically connected to the internal electrode 2 drawn out to the first end face 1c or the second end face 1d. The conductive material of the metal layer 4g is, for example, a metal material such as nickel (Ni), copper (Cu), silver (Ag), palladium (Pd), or gold (Au), or one or more of these metal materials. For example, an alloy material such as an Ag—Pd alloy. The pair of metal layers 4g are preferably formed of the same metal material or alloy material.

金属層4gは、第1および第2の主面1a、1bにおける厚みが、例えば、4(μm)〜10(μm)であり、第1および第2の端面1c、1dにおける厚みが、例えば、10(μm)〜25(μm)であり、第1および第2の側面1e、1fにおける厚みが、例えば、4(μm)〜10(μm)である。   The metal layer 4g has a thickness at the first and second main surfaces 1a and 1b of, for example, 4 (μm) to 10 (μm), and a thickness at the first and second end surfaces 1c and 1d, for example, 10 (μm) to 25 (μm), and the thickness of the first and second side surfaces 1e and 1f is, for example, 4 (μm) to 10 (μm).

下地電極4の導電性樹脂層4hは、導電性を有しており、図1(b)に示すように、金属層4gの全体を覆うように形成されている。また、導電性樹脂層4hは、積層型コンデンサ10の外部から溶融はんだを接触させた場合に、溶融はんだが付着しないような材料からなる。導電性樹脂層4hは、例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂またはウレタン樹脂等の樹脂材料に、導電性材料として、例えば、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銀(Ag)、白金(Pt)、パラジウム(Pd)または金(Au)等の金属材料の粉末(フィラー)、あるいは、これらの金属材料の一種以上を含む、例えば、Ag−Pd合金等の合金材料の粉末(フィラー)が含まれている。   The conductive resin layer 4h of the base electrode 4 has conductivity, and is formed so as to cover the entire metal layer 4g as shown in FIG. The conductive resin layer 4h is made of a material that prevents the molten solder from adhering when the molten solder is brought into contact with the multilayer capacitor 10 from the outside. The conductive resin layer 4h is made of, for example, a resin material such as an epoxy resin, a silicone resin, or a urethane resin. As the conductive material, for example, nickel (Ni), copper (Cu), silver (Ag), platinum (Pt), Powder (filler) of a metal material such as palladium (Pd) or gold (Au), or a powder (filler) of an alloy material such as an Ag-Pd alloy containing at least one of these metal materials is included. Yes.

また、導電性樹脂層4hの樹脂材料は、例えば、鉛(Pb)フリーはんだ付けピーク温度(例えば、250(℃))で変形が起きにくい耐熱性樹脂材料により構成されることが好ましい。導電性樹脂層4hは、第1および第2の主面1a、1bにおける厚みが、例えば、2(μm)〜10(μm)であり、第1および第2の端面1c、1dにおける厚みが、例えば、5(μm)〜25(μm)であり、第1および第2の側面1e、1fにおける厚みが、例えば、2(μm)〜10(μm)である。   Moreover, it is preferable that the resin material of the conductive resin layer 4h is made of a heat-resistant resin material that hardly deforms at a lead (Pb) -free soldering peak temperature (for example, 250 (° C.)). The conductive resin layer 4h has a thickness of the first and second main surfaces 1a and 1b of, for example, 2 (μm) to 10 (μm), and a thickness of the first and second end surfaces 1c and 1d. For example, the thickness is 5 (μm) to 25 (μm), and the thickness of the first and second side surfaces 1e and 1f is, for example, 2 (μm) to 10 (μm).

例えば、導電性樹脂層4hは、エポキシ樹脂からなる導電性樹脂材料の場合には、導電材料として、銀の粉末(フィラー)が、70(wt%)〜85(wt%)含まれており、弾性率が、1(PGa)〜10(PGa)の範囲にある。   For example, in the case of a conductive resin material made of an epoxy resin, the conductive resin layer 4h contains 70 (wt%) to 85 (wt%) of silver powder (filler) as the conductive material. The elastic modulus is in the range of 1 (PGa) to 10 (PGa).

導電性樹脂層4hは、基板電極9a、9bとのはんだ接合のために、表面にめっき層5が形成されており、めっき層5は、導電性樹脂層4hを覆うように導電性樹脂層4hの表面上に形成されており、一対の外部電極3をリフロー工法等により容易かつ確実にはんだ7を介して基板9の基板電極9aおよび基板電極9bに実装するためのものである。   The conductive resin layer 4h has a plating layer 5 formed on the surface for solder bonding with the substrate electrodes 9a and 9b. The plating layer 5 covers the conductive resin layer 4h so as to cover the conductive resin layer 4h. The pair of external electrodes 3 is mounted on the substrate electrode 9a and the substrate electrode 9b of the substrate 9 via the solder 7 easily and reliably by a reflow method or the like.

ここで、めっき層5の導電性樹脂層4h上における形成領域について以下に説明する。なお、図2は、めっき層5の形成領域を説明するための説明図であり、図2(a)は、積層型コンデンサ10をXY面に直交する方向(Z方向)から見た図であり、図2(b)は、積層型コンデンサ10をZY面に直交する方向(X方向)から見た図であり、図2(c)は、積層型コンデンサ10をZX面に直交する方向(Y方向)から見た図である。   Here, the formation region of the plating layer 5 on the conductive resin layer 4h will be described below. 2 is an explanatory diagram for explaining the formation region of the plating layer 5, and FIG. 2 (a) is a diagram of the multilayer capacitor 10 viewed from a direction (Z direction) orthogonal to the XY plane. 2B is a view of the multilayer capacitor 10 viewed from a direction (X direction) orthogonal to the ZY plane, and FIG. 2C is a direction orthogonal to the ZX plane (Y It is the figure seen from (direction).

一対の外部電極3a、3bは、稜線部6aが第1および第2の端面部4c、4dと第1の主面延在部4aとの間に位置しており、また、稜線部6bが第1および第2の端面部4c、4dと第2の主面延在部4bとの間に位置しており、めっき層5は、図1および図2
に示すように、稜線部6aおよび稜線部6bにおいて導電性樹脂層4hが露出するように形成されている。
In the pair of external electrodes 3a and 3b, the ridge line part 6a is located between the first and second end face parts 4c and 4d and the first main surface extension part 4a, and the ridge line part 6b is the first The plating layer 5 is located between the first and second end face parts 4c, 4d and the second main surface extension part 4b.
As shown, the conductive resin layer 4h is exposed at the ridge line portion 6a and the ridge line portion 6b.

また、一対の外部電極3a、3bは、稜線部6cが第1および第2の側面延在部4e、4fと第1の主面延在部4aとの間に位置しており、また、稜線部6dが第1および第2の側面延在部4e、4fと第2の主面延在部4bとの間に位置しており、めっき層5は、稜線部6cおよび稜線部6dにおいて導電性樹脂層4hが露出するように形成されている。   The pair of external electrodes 3a and 3b has a ridge line portion 6c located between the first and second side surface extension portions 4e and 4f and the first main surface extension portion 4a. The portion 6d is located between the first and second side surface extending portions 4e, 4f and the second main surface extending portion 4b, and the plating layer 5 is conductive at the ridge line portion 6c and the ridge line portion 6d. The resin layer 4h is formed so as to be exposed.

また、一対の外部電極3a、3bは、稜線部6eが第1および第2の端面部4c、4dと第1の側面延在部4eとの間に位置しており、また、稜線部6fが第1および第2の端面部4c、4dと第2の側面延在部4fとの間に位置しており、めっき層5は、稜線部6eおよび稜線部6fにおいて導電性樹脂層4hが露出するように形成されている。   The pair of external electrodes 3a and 3b has a ridge line portion 6e positioned between the first and second end surface portions 4c and 4d and the first side surface extension portion 4e, and the ridge line portion 6f Located between the first and second end face parts 4c, 4d and the second side surface extension part 4f, the plating layer 5 exposes the conductive resin layer 4h at the ridge line part 6e and the ridge line part 6f. It is formed as follows.

また、積層型コンデンサ10の角部は、いずれの稜線部6にも含まれるものであり、めっき層5は、導電性樹脂層4hが露出するように形成される。例えば、めっき層5は、稜線部6aと稜線部6cと稜線部6eとが交わる部分(角部)においては、導電性樹脂層4hが露出するように形成されている。また、稜線部6eおよび稜線部6fにおいて、導電性樹脂層4hが露出しないようにめっき層5が形成されている場合には、稜線部6aと稜線部6cとが交わる部分において、めっき層5は、導電性樹脂層4hが露出するように形成されている。   Further, the corner portion of the multilayer capacitor 10 is included in any ridge line portion 6, and the plating layer 5 is formed so that the conductive resin layer 4h is exposed. For example, the plating layer 5 is formed such that the conductive resin layer 4h is exposed at a portion (corner portion) where the ridge line portion 6a, the ridge line portion 6c, and the ridge line portion 6e intersect. Further, in the ridge line portion 6e and the ridge line portion 6f, when the plating layer 5 is formed so that the conductive resin layer 4h is not exposed, the plating layer 5 is formed at a portion where the ridge line portion 6a and the ridge line portion 6c intersect. The conductive resin layer 4h is formed to be exposed.

図2(a)に示すように、稜線部6eは、第1の端面部4cおよび第2の端面部4dと第1の側面延在部4eとに直交する方向(XY面)において、第1の側面延在部4e側と第1の端面部4c側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有しており、また、第1の側面延在部4e側と第2の端面部4d側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有している。また、稜線部6fは、第1の端面部4cおよび第2の端面部4dと第2の側面延在部4fとに直交する方向(XY面)において、第2の側面延在部4f側と第1の端面部4c側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有しており、また、第2の側面延在部4f側と第2の端面部4d側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有している。なお、曲線状とは、稜線部6e、6fが湾曲しているもの、または、稜線部6e、6fが丸みを帯びているものを含んでいる。   As shown in FIG. 2A, the ridge line portion 6e is first in the direction (XY plane) perpendicular to the first end surface portion 4c, the second end surface portion 4d, and the first side surface extending portion 4e. The side surface extending portion 4e side and the first end surface portion 4c side each have a starting point that is curved, and the first side surface extending portion 4e side, the second end surface portion 4d side, Each has a starting point that is curved. Further, the ridge line portion 6f is formed on the second side surface extension portion 4f side in a direction (XY plane) orthogonal to the first end surface portion 4c, the second end surface portion 4d, and the second side surface extension portion 4f. The first end surface portion 4c side has a start point that is curved, and the second side surface extension portion 4f side and the second end surface portion 4d side are start points that are curved. have. Note that the curved shape includes those in which the ridge line portions 6e and 6f are curved or those in which the ridge line portions 6e and 6f are rounded.

また、図2(b)に示すように、稜線部6aは、第1の端面部4cおよび第2の端面部4dと第1の主面延在部4aとに直交する方向(ZY面)において、第1の主面延在部4a側と第1の端面部4c側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有しており、また、第1の主面延在部4a側と第2の端面部4d側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有している。また、稜線部6bは、第1の端面部4cおよび第2の端面部4dと第2の主面延在部4bとに直交する方向(ZY面)において、第2の主面延在部4b側と第1の端面部4c側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有しており、また、第2の主面延在部4b側と第2の端面部4d側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有している。なお、曲線状とは、稜線部6a、6bが湾曲しているもの、または、稜線部6a、6bが丸みを帯びているものを含んでいる。   Further, as shown in FIG. 2B, the ridge line portion 6a is in a direction (ZY plane) orthogonal to the first end surface portion 4c, the second end surface portion 4d, and the first main surface extending portion 4a. The first main surface extending portion 4a side and the first end surface portion 4c side each have a starting point that is curved, and the first main surface extending portion 4a side and the second main surface extending portion 4c side. Each of the end faces 4d has a starting point that is curved. Further, the ridge line portion 6b has a second main surface extending portion 4b in a direction (ZY surface) orthogonal to the first end surface portion 4c, the second end surface portion 4d, and the second main surface extending portion 4b. And the first end surface portion 4c side have respective starting points that are curved, and the second main surface extending portion 4b side and the second end surface portion 4d side are respectively curved. Has a starting point. Note that the curved shape includes those in which the ridge line portions 6a and 6b are curved or those in which the ridge line portions 6a and 6b are rounded.

また、図2(c)に示すように、稜線部6cは、第1の側面延在部4eおよび第2の側面延在4fと第1の主面延在部4aとに直交する方向(ZX面)において、第1の主面延在部4a側と第1の側面延在部4e側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有しており、また、第1の主面延在部4a側と第2の側面延在部4f側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有している。また、稜線部6dは、第1の側面延在部4eおよび第2の側面延在部4fと第2の主面延在部4bとに直交する方向(ZX面)において、第2の主面延在部4b側
と第1の側面延在部4e側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有しており、また、第2の主面延在部4b側と第2の側面延在部4f側とにそれぞれ曲線状となる開始点を有している。なお、曲線状とは、稜線部6c、6dが湾曲しているもの、または、稜線部6c、6dが丸みを帯びているものを含んでいる。
Further, as shown in FIG. 2C, the ridge line portion 6c has a direction (ZX) orthogonal to the first side surface extension portion 4e and the second side surface extension portion 4f and the first main surface extension portion 4a. Surface), the first main surface extending portion 4a side and the first side surface extending portion 4e side have respective start points that are curved, and the first main surface extending portion 4a. On the side and the second side surface extension portion 4f side, there are start points that are curved. Further, the ridge line portion 6d is a second main surface in a direction (ZX surface) orthogonal to the first side surface extension portion 4e, the second side surface extension portion 4f, and the second main surface extension portion 4b. The extending portion 4b side and the first side surface extending portion 4e side each have start points that are curved, and the second main surface extending portion 4b side and the second side surface extending portion. The 4f side has a starting point that is curved. Note that the curved shape includes those in which the ridge line portions 6c and 6d are curved or those in which the ridge line portions 6c and 6d are rounded.

一対の外部電極3a、3bは、図1および図2に示すように、各稜線部6にはめっき層5が形成されておらず、めっき層5は、各稜線部6で導電性樹脂層4hが露出するように導電性樹脂層4h上に形成されている。   As shown in FIGS. 1 and 2, the pair of external electrodes 3 a and 3 b are not formed with the plating layer 5 on each ridge line portion 6, and the plating layer 5 is formed of the conductive resin layer 4 h at each ridge line portion 6. Is formed on the conductive resin layer 4h so as to be exposed.

例えば、外部電極3は、図3に示すように、稜線部6aにおいて、互いに隣接する曲線状となる開始点6a1、6a2の間の領域においてめっき層5が形成されておらず、めっき層5は下地電極4の導電性樹脂層4hが露出するように形成されている。   For example, as shown in FIG. 3, in the external electrode 3, the plating layer 5 is not formed in a region between the start points 6 a 1 and 6 a 2 that are curved adjacent to each other in the ridge line portion 6 a. The conductive resin layer 4h of the base electrode 4 is formed so as to be exposed.

同様に、一対の外部電極3a、3bは、稜線部6b〜6fにおいても、曲線状となる開始点の間の領域においてめっき層5が形成されておらず、めっき層5は下地電極4の導電性樹脂層4hが露出するように形成されている。   Similarly, in the pair of external electrodes 3a and 3b, the plating layer 5 is not formed in the region between the starting points that are curved in the ridge line portions 6b to 6f. The conductive resin layer 4h is formed to be exposed.

また、積層型コンデンサ10は、各稜線部6が湾曲するように設けられており、欠け等の発生が抑制される。積層型コンデンサ10は、外部電極3が金属層4g、導電性樹脂層4hおよびめっき層5で構成されており、各稜線部6が曲線状(湾曲状)となっているので、稜線部6での応力が分散されて、各層の層間において剥がれまたはクラック等の発生が抑制される。例えば、積層型コンデンサ10は、金象層4gと導電性樹脂層4hとの間の層間剥がれ、または、導電性樹脂層4hとめっき層5との間の層間剥がれ等が抑制される。また、積層型コンデンサ10は、稜線部6での応力が分散されるので、はんだ接合部のクラック等の発生が抑制される。   In addition, the multilayer capacitor 10 is provided so that each ridge line portion 6 is curved, and the occurrence of chipping or the like is suppressed. In the multilayer capacitor 10, the external electrode 3 is composed of the metal layer 4 g, the conductive resin layer 4 h, and the plating layer 5, and each ridge line portion 6 has a curved shape (curved shape). Is dispersed, and the occurrence of peeling or cracking between layers is suppressed. For example, in the multilayer capacitor 10, interlayer peeling between the metal elephant layer 4 g and the conductive resin layer 4 h or interlayer peeling between the conductive resin layer 4 h and the plating layer 5 is suppressed. Further, in the multilayer capacitor 10, since the stress at the ridge line portion 6 is dispersed, the occurrence of cracks and the like in the solder joint portion is suppressed.

めっき層5は、単一のめっき層から形成されていてもよいが、図1(b)に示すように、第1のめっき層5aと第2のめっき層5bとを備えていてもよい。第1のめっき層5aは、導電性樹脂層4hを覆うように形成されており、第2のめっき層5bは、第1のめっき層5aを覆うように第1のメッキ層5aの表面上に形成されている。めっき層5は、例えば、ニッケル(Ni)めっき層、銅(Cu)めっき層、金(Au)めっき層またはスズ(Sn)めっき層等の1層または複数層のめっき層で形成されている。第1のめっき層5aは、厚みが、例えば、5(μm)〜10(μm)であり、第2のめっき層5bは、厚みが、例えば、3(μm)〜5(μm)である。積層型コンデンサ10において、めっき層5は、例えば、第1のめっき層5aがニッケル(Ni)めっき層であり、第2のめっき層がスズ(Sn)めっき層である。   The plating layer 5 may be formed from a single plating layer, but may include a first plating layer 5a and a second plating layer 5b as shown in FIG. The first plating layer 5a is formed so as to cover the conductive resin layer 4h, and the second plating layer 5b is formed on the surface of the first plating layer 5a so as to cover the first plating layer 5a. Is formed. The plating layer 5 is formed of one or a plurality of plating layers such as a nickel (Ni) plating layer, a copper (Cu) plating layer, a gold (Au) plating layer, or a tin (Sn) plating layer. The first plating layer 5a has a thickness of, for example, 5 (μm) to 10 (μm), and the second plating layer 5b has a thickness of, for example, 3 (μm) to 5 (μm). In the multilayer capacitor 10, the plating layer 5 includes, for example, a first plating layer 5a that is a nickel (Ni) plating layer and a second plating layer that is a tin (Sn) plating layer.

積層型コンデンサ10は、図4に示すように、第1の外部電極3aと基板電極9aとがはんだを介して、また、第2の外部電極3bと基板電極9bとがはんだ7を介して基板9上に実装されることになる。   As shown in FIG. 4, the multilayer capacitor 10 includes a substrate in which the first external electrode 3 a and the substrate electrode 9 a are interposed via solder, and the second external electrode 3 b and the substrate electrode 9 b are interposed in the solder 7. 9 will be implemented.

第1の外部電極3aは、図4に示すように、はんだ7を介して第1の主面延在部4aのめっき層5と基板電極9aとがはんだ接合されており、同様に、第2の外部電極3bは、はんだ7を介して第1の主面延在部4aのめっき層5と基板電極9bとがはんだ接合されている。したがって、積層型コンデンサ10は、一対の外部電極3a、3bの下面部がはんだ付着部となり、第1の主面延在部4aのめっき層5と基板電極9a、9bとの間ではんだ接合されている。   As shown in FIG. 4, in the first external electrode 3a, the plating layer 5 of the first main surface extending portion 4a and the substrate electrode 9a are solder-bonded via the solder 7. In the external electrode 3 b, the plating layer 5 of the first main surface extending portion 4 a and the substrate electrode 9 b are soldered via the solder 7. Therefore, in the multilayer capacitor 10, the lower surface portions of the pair of external electrodes 3a and 3b serve as solder adhesion portions, and are soldered between the plating layer 5 of the first main surface extending portion 4a and the substrate electrodes 9a and 9b. ing.

このように、第1の外部電極3aは、図4に示すように、はんだ7を介して基板9上の基板電極9aに接合されており、稜線部6aが第1の端面部4cと第1の主面延在部4a
との間に位置しており、この稜線部6aにおいて、めっき層5が形成されておらず、下地電極4の導電性樹脂層4hが露出しており、この導電性樹脂層4hの露出部がはんだ非付着部となる。したがって、第1の外部電極3aは、第1の主面延在部4aのめっき層5から第1の端面部4cのめっき層5にかけてはんだ7のフィレットが形成されるのが防止される。すなわち、第1の外部電極3aは、稜線部6aにおいて導電性樹脂層4hが露出した領域がはんだ7の非付着部となり、はんだ7は、溶融状態において第1の主面延在部4aのめっき層5から第1の端面部4cのめっき層5に向かって流動することが抑制されて、第1の端面部4cでフィレットを形成しないようになる。
Thus, as shown in FIG. 4, the first external electrode 3a is joined to the substrate electrode 9a on the substrate 9 via the solder 7, and the ridge line portion 6a is connected to the first end face portion 4c and the first end portion 4c. Main surface extension 4a
In this ridge 6a, the plating layer 5 is not formed, and the conductive resin layer 4h of the base electrode 4 is exposed, and the exposed portion of the conductive resin layer 4h is exposed. Solder non-adhered part. Accordingly, the first external electrode 3a is prevented from forming a fillet of the solder 7 from the plating layer 5 of the first main surface extending portion 4a to the plating layer 5 of the first end surface portion 4c. That is, in the first external electrode 3a, the region where the conductive resin layer 4h is exposed in the ridge line portion 6a becomes a non-attached portion of the solder 7, and the solder 7 is plated on the first main surface extending portion 4a in the molten state. The flow from the layer 5 toward the plating layer 5 of the first end surface portion 4c is suppressed, and a fillet is not formed at the first end surface portion 4c.

また、同様に、第2の外部電極3bは、図4に示すように、はんだ7を介して基板9上の基板電極9bに接合されており、稜線部6aが第2の端面部4dと第1の主面延在部4aとの間に位置しており、この稜線部6aにおいて、めっき層5が形成されておらず、下地電極4の導電性樹脂層4hが露出しており、この導電性樹脂層4hの露出部がはんだ非付着部となる。したがって、第2の外部電極3bは、第1の主面延在部4aのめっき層5から第2の端面部4dのめっき層5にかけてはんだ7のフィレットが形成されるのが防止される。すなわち、第2の外部電極3bは、稜線部6aにおいて導電性樹脂層4hが露出した領域がはんだ7の非付着部となり、はんだ7は、溶融状態において第1の主面延在部4aのめっき層5から第2の端面部4dのめっき層5に向かって流動することが抑制されて、第2の端面部4dでフィレットを形成しないようになる。   Similarly, as shown in FIG. 4, the second external electrode 3b is joined to the substrate electrode 9b on the substrate 9 via the solder 7, and the ridge line portion 6a is connected to the second end surface portion 4d and the second end surface portion 4d. 1, the plating layer 5 is not formed on the ridge 6a, and the conductive resin layer 4h of the base electrode 4 is exposed. The exposed portion of the conductive resin layer 4h becomes a solder non-adhered portion. Therefore, the second external electrode 3b is prevented from forming a fillet of the solder 7 from the plating layer 5 of the first main surface extending portion 4a to the plating layer 5 of the second end surface portion 4d. That is, in the second external electrode 3b, a region where the conductive resin layer 4h is exposed in the ridge portion 6a is a non-attached portion of the solder 7, and the solder 7 is plated on the first main surface extending portion 4a in the molten state. The flow from the layer 5 toward the plating layer 5 of the second end surface portion 4d is suppressed, and the fillet is not formed at the second end surface portion 4d.

例えば、外部電極3は、図5に示すように、稜線部6aにおいて、曲線状となる開始点6a1、6a2の間の領域においてめっき層5が形成されておらず、下地電極4の導電性樹脂層4hが露出するようにめっき層5が形成されている。したがって、積層型コンデンサ10は、稜線部6aにおいて、導電性樹脂層4hが露出した領域がはんだ7の非付着部となり、はんだ7は、溶融状態において第1の主面延在部4aのめっき層5から第2の端面部4dのめっき層5に向かって流動することが抑制されて、第2の端面部4dでフィレットを形成しないようになる。   For example, as shown in FIG. 5, in the external electrode 3, the plating layer 5 is not formed in the region between the start points 6 a 1 and 6 a 2 that are curved in the ridge line portion 6 a, and the conductive resin of the base electrode 4 is formed. The plating layer 5 is formed so that the layer 4h is exposed. Therefore, in the multilayer capacitor 10, the region where the conductive resin layer 4 h is exposed in the ridge portion 6 a becomes a non-attached portion of the solder 7, and the solder 7 is a plating layer of the first main surface extending portion 4 a in the molten state. The flow from 5 toward the plating layer 5 of the second end surface portion 4d is suppressed, and the fillet is not formed at the second end surface portion 4d.

したがって、図4に示すように、一対の外部電極3は、稜線部6aにおいて、導電性樹脂層4hが露出した領域がはんだ7の非付着部となり、第1および第2の端面部4c、4dのめっき層5にははんだ7のフィレットが形成されない。   Therefore, as shown in FIG. 4, in the pair of external electrodes 3, in the ridge portion 6a, the region where the conductive resin layer 4h is exposed becomes a non-attached portion of the solder 7, and the first and second end surface portions 4c, 4d No fillet of solder 7 is formed on the plating layer 5.

また、第1の外部電極3aおよび第2の外部電極3bは、図4に示すように、はんだ7を介して基板9上の基板電極9aおよび基板電極9bに接合されており、稜線部6cが第1の側面延在部4eと第1の主面延在部4aとの間および第2の側面延在部4fと第1の主面延在部4aとの間に位置しており、この稜線部6cにおいて、めっき層5が形成されておらず、下地電極4の導電性樹脂層4hが露出しており、この導電性樹脂層4hの露出部がはんだ非付着部となる。したがって、第1の外部電極3aおよび第2の外部電極3bは、はんだ7のフィレットが第1の主面延在部4aのめっき層5から第1の側面延在部4eおよび第2の側面延在部4fのめっき層5にかけて形成されない。   Further, as shown in FIG. 4, the first external electrode 3 a and the second external electrode 3 b are joined to the substrate electrode 9 a and the substrate electrode 9 b on the substrate 9 via the solder 7, and the ridge line portion 6 c is formed. It is located between the first side surface extension portion 4e and the first main surface extension portion 4a and between the second side surface extension portion 4f and the first main surface extension portion 4a, and this In the ridge 6c, the plating layer 5 is not formed, and the conductive resin layer 4h of the base electrode 4 is exposed, and the exposed portion of the conductive resin layer 4h becomes a solder non-adhered portion. Therefore, in the first external electrode 3a and the second external electrode 3b, the fillet of the solder 7 is extended from the plating layer 5 of the first main surface extension portion 4a to the first side surface extension portion 4e and the second side surface extension. It is not formed over the plating layer 5 of the existing portion 4f.

すなわち、第1の外部電極3aおよび第2の外部電極3bは、稜線部6cにおいて導電性樹脂層4hが露出した領域がはんだ7の非付着部となり、はんだ7は、溶融状態において第1の主面延在部4aのめっき層5から第1の側面延在部4eおよび第2の側面延在部4fの表面のめっき層5に向かって流動することが抑制されて、第1の側面延在部4eおよび第2の側面延在部4fでフィレットを形成しないようになる。   That is, in the first external electrode 3a and the second external electrode 3b, the region where the conductive resin layer 4h is exposed in the ridge portion 6c is a non-attached portion of the solder 7, and the solder 7 is in the molten state in the first main electrode 3a. Flow from the plating layer 5 of the surface extension portion 4a toward the plating layer 5 on the surface of the first side surface extension portion 4e and the second side surface extension portion 4f is suppressed, and the first side surface extension is performed. The fillet is not formed by the portion 4e and the second side surface extending portion 4f.

したがって、図4に示すように、一対の外部電極3は、稜線部6cにおいて、導電性樹脂層4hが露出した領域がはんだ7の非付着部となり、第1および第2の側面延在部4e、4fのめっき層5にははんだ7のフィレットが形成されない。   Therefore, as shown in FIG. 4, in the pair of external electrodes 3, in the ridge line portion 6c, the region where the conductive resin layer 4h is exposed becomes a non-attached portion of the solder 7, and the first and second side surface extending portions 4e. The fillet of the solder 7 is not formed on the 4f plating layer 5.

また、稜線部6eが第1の側面延在部4eと第1の第1の端面部4cとの間および第1の側面延在部4eと第2の端面部4dとの間に位置しており、この稜線部6eおいて、めっき層5が形成されておらず、下地電極4の導電性樹脂層4hが露出しているので、稜線部6eにははんだ7のフィレットが形成されない。また、稜線部6fが第2の側面延在部4fと第1の第1の端面部4cとの間および第2の側面延在部4fと第2の端面部4dとの間に位置しており、この稜線部6fおいて、めっき層5が形成されておらず、下地電極4の導電性樹脂層4hが露出しているので、稜線部6fにははんだ7のフィレットが形成されない。   Further, the ridge line portion 6e is located between the first side surface extension portion 4e and the first first end surface portion 4c and between the first side surface extension portion 4e and the second end surface portion 4d. In this ridge line portion 6e, the plating layer 5 is not formed, and the conductive resin layer 4h of the base electrode 4 is exposed. Therefore, the fillet of the solder 7 is not formed on the ridge line portion 6e. Further, the ridge line portion 6f is located between the second side surface extension portion 4f and the first first end surface portion 4c and between the second side surface extension portion 4f and the second end surface portion 4d. Since the plating layer 5 is not formed on the ridge line portion 6f and the conductive resin layer 4h of the base electrode 4 is exposed, the fillet of the solder 7 is not formed on the ridge line portion 6f.

一対の外部電極3a、3bは、稜線部6e、6fが第1および第2の側面延在部4e、4fと第1および第2の端面部4c、4dとの間に位置しており、めっき層5が稜線部6e、6fにおいて導電性樹脂層4hが露出するように形成されているが、めっき層5が稜線部6e、6fにおいて導電性樹脂層4hが露出しないように形成されていてもよい。   In the pair of external electrodes 3a and 3b, the ridge portions 6e and 6f are located between the first and second side surface extending portions 4e and 4f and the first and second end surface portions 4c and 4d. Although the layer 5 is formed so that the conductive resin layer 4h is exposed at the ridge lines 6e and 6f, the plating layer 5 may be formed so that the conductive resin layer 4h is not exposed at the ridge lines 6e and 6f. Good.

また、第1および第2の外部電極3a、3bは、稜線部6bが第1の端面部4cと第2の主面延在部4bとの間に位置しており、この稜線部6bにおいて、めっき層5が形成されておらず、下地電極4の導電性樹脂層4hが露出しており、この導電性樹脂層4hの露出部がはんだ非付着部となる。第1および第2の外部電極3a、3bは、稜線部6dが第1の側面延在部4eと第2の主面延在部4bとの間および第2の側面延在部4fと第2の主面延在部4bとの間に位置しており、この稜線部6dにおいて、めっき層5が形成されておらず、下地電極4の導電性樹脂層4hが露出しており、この導電性樹脂層4hの露出部がはんだ非付着部となる。   The first and second external electrodes 3a and 3b have a ridge line portion 6b located between the first end surface portion 4c and the second main surface extension portion 4b. In the ridge line portion 6b, The plating layer 5 is not formed, the conductive resin layer 4h of the base electrode 4 is exposed, and the exposed portion of the conductive resin layer 4h becomes a solder non-adhered portion. In the first and second external electrodes 3a and 3b, the ridge line portion 6d is between the first side surface extension portion 4e and the second main surface extension portion 4b, and between the second side surface extension portion 4f and the second side electrode extension portion 4f. The plating layer 5 is not formed in the ridge line portion 6d, and the conductive resin layer 4h of the base electrode 4 is exposed at the ridge line portion 6b. The exposed portion of the resin layer 4h becomes a solder non-adhered portion.

このように、一対の外部電極3a、3bは、導電性樹脂層4hが露出するようにめっき層5が形成されており、稜線部6a〜6fがはんだ非付着部をなっているので、積層型コンデンサ10は、基板9に対してどちらの向きでも実装することができる。   Thus, the pair of external electrodes 3a and 3b has the plating layer 5 formed so that the conductive resin layer 4h is exposed, and the ridge line portions 6a to 6f are non-solder-attached portions. The capacitor 10 can be mounted in either direction with respect to the substrate 9.

上述のように、積層型コンデンサ10は、一対の外部電極3が第1の主面延在部4aのめっき層5のみで、基板電極9aと基板電極9bとにはんだ接合されることになる。   As described above, in the multilayer capacitor 10, the pair of external electrodes 3 are soldered to the substrate electrode 9a and the substrate electrode 9b only by the plating layer 5 of the first main surface extending portion 4a.

例えば、積層型コンデンサは、例えば、誘電体層としてチタン酸バリウム等を主成分として構成されている場合には、積層型コンデンサは、交流電圧が印加されると、電歪効果により交流電圧の大きさに応じて誘電体層に歪みが発生する。この歪みによって積層型コンデンサ自体に振動が生じて、振動が基板9に伝播することにより基板9が振動して、この振動が可聴周波数帯域である場合には、基板9の振動が振動音となって現れることになる。   For example, when a multilayer capacitor is composed of, for example, barium titanate as a main component as a dielectric layer, the multilayer capacitor has a large AC voltage due to an electrostrictive effect when an AC voltage is applied. Accordingly, distortion occurs in the dielectric layer. This distortion causes vibration in the multilayer capacitor itself, and the vibration is propagated to the substrate 9, causing the substrate 9 to vibrate. When this vibration is in an audible frequency band, the vibration of the substrate 9 becomes a vibration sound. Will appear.

しかしながら、実施の形態に係る積層型コンデンサ10では、めっき層5は、稜線部6aと稜線部6cとにおいて導電性樹脂層4hが露出するように形成されているので、一対の外部電極3a、3bは、下地電極4の第1の主面延在部4aのめっき層5と基板電極9a、9bとがはんだ接合されることになり、一方、第1および第2の端面部4c、4d、第1および第2の側面延在部4e、4fにははんだ7のフィレットが形成されない。   However, in the multilayer capacitor 10 according to the embodiment, since the plating layer 5 is formed so that the conductive resin layer 4h is exposed at the ridge line portion 6a and the ridge line portion 6c, the pair of external electrodes 3a, 3b Means that the plating layer 5 of the first main surface extending portion 4a of the base electrode 4 and the substrate electrodes 9a, 9b are soldered together, while the first and second end surface portions 4c, 4d, The fillet of the solder 7 is not formed on the first and second side surface extending portions 4e and 4f.

このように、積層型コンデンサ10は、第1および第2の端面部4c、4d、第1および第2の側面延在部4e、4fにフィレットが形成されていないので、フィレットを介しての振動の伝播が抑制され、発生した歪みによる振動が基板9に伝わりにくくなり、基板9に振動音が発生するのを抑制することができる。したがって、積層型コンデンサ10は、基板9の振動が抑制されて、「音鳴き」が起りにくくなり、振動音の抑制効果を向上させることができる。   As described above, the multilayer capacitor 10 has no fillet formed in the first and second end surface portions 4c, 4d and the first and second side surface extending portions 4e, 4f, and therefore vibrations through the fillet Is suppressed, the vibration due to the generated distortion is hardly transmitted to the substrate 9, and the generation of vibration noise on the substrate 9 can be suppressed. Therefore, in the multilayer capacitor 10, the vibration of the substrate 9 is suppressed, so that "sounding" is less likely to occur, and the effect of suppressing vibration noise can be improved.

すなわち、積層型コンデンサ10は、交流電圧を印加した場合には、第1および第2の端面部4c、4dの中心部において伸縮が大きくなりやすく、このように、伸縮が大きい第1および第2の端面部4c、4dのめっき層5にははんだ7のフィレットが形成されていないので、より効果的に基板への振動を抑制することができる。さらに、第1および第2の側面延在部4e、4fにおいても伸縮が起りやすく、第1および第2の側面延在部4e、4fのめっき層5にははんだ7のフィレットが形成されていないので、さらに効果的に基板への振動を抑制することができる。   That is, when an AC voltage is applied, the multilayer capacitor 10 tends to expand and contract easily at the center portions of the first and second end face portions 4c and 4d. Thus, the first and second expansion and contraction are large. Since the fillet 5 of the solder 7 is not formed on the plating layer 5 of the end face portions 4c and 4d, vibration to the substrate can be more effectively suppressed. Further, the first and second side surface extending portions 4e and 4f are easily expanded and contracted, and no solder 7 fillet is formed on the plating layer 5 of the first and second side surface extending portions 4e and 4f. Therefore, vibration to the substrate can be further effectively suppressed.

また、積層型コンデンサ10は、稜線部6において導電性樹脂層4hが露出しており、この導電性樹脂層4hの露出部がはんだ非付着部となり、このはんだ非付着部がはんだ7の流動を抑制することになるので、基板電極9a、9bの大きさに関係なく、はんだ7のフィレットを形成しないようにすることができる。   In the multilayer capacitor 10, the conductive resin layer 4 h is exposed at the ridge line portion 6, and the exposed portion of the conductive resin layer 4 h becomes a solder non-adhered portion, and the solder non-adhered portion causes the solder 7 to flow. Therefore, the fillet of the solder 7 can be prevented from being formed regardless of the size of the substrate electrodes 9a and 9b.

また、積層型コンデンサ10は、導電性樹脂層4hが金属層4gを覆うように形成されており、この導電性樹脂層4hが発生した歪みによる振動を吸収する吸収体となるので、振動が基板9に伝わりにくくなり、基板9に振動音が発生するのを効果的に抑制することができる。   The multilayer capacitor 10 is formed so that the conductive resin layer 4h covers the metal layer 4g, and becomes an absorber that absorbs vibration caused by the distortion generated by the conductive resin layer 4h. 9 and the generation of vibration noise on the substrate 9 can be effectively suppressed.

また、積層型コンデンサは、端面部、側面部にフィレットが形成されると、左右(両側)の外部電極の間ではんだによる張力差が生じて、積層型コンデンサが立ち上がる、いわゆる、ツームストーン現象が起りやすくなる。しかしながら、積層型コンデンサ10は、一対の外部電極3a、3bにおいて、第1の側面延在部4eおよび第2の側面延在部4fと第1の端面部4cとにはんだ7のフィレットが形成されておらず、また、第1の側面延在部4eおよび第2の側面延在部4fと第2の端面部4dとにはんだ7のフィレットが形成されていないので、ツームストーン現象を抑制することができる。   In addition, when a fillet is formed on the end face part and the side face part of a multilayer capacitor, a so-called tombstone phenomenon in which the multilayer capacitor rises due to a difference in tension between the left and right (both sides) external electrodes caused by solder. It tends to happen. However, in the multilayer capacitor 10, the fillet of the solder 7 is formed on the first side surface extension portion 4e, the second side surface extension portion 4f, and the first end surface portion 4c in the pair of external electrodes 3a and 3b. In addition, since the fillet of the solder 7 is not formed on the first side surface extension portion 4e, the second side surface extension portion 4f, and the second end surface portion 4d, the tombstone phenomenon is suppressed. Can do.

ここで、図1に示す積層型コンデンサ10の製造方法の一例について以下に説明する。   Here, an example of a manufacturing method of the multilayer capacitor 10 shown in FIG. 1 will be described below.

複数の第1および第2のセラミックグリーンシートを準備する。第1のセラミックグリーンシートは、第1の内部電極2aが形成されるものであり、第2のセラミックグリーンシートは、第2の内部電極2bが形成されるものである。   A plurality of first and second ceramic green sheets are prepared. The first ceramic green sheet is formed with the first internal electrode 2a, and the second ceramic green sheet is formed with the second internal electrode 2b.

複数の第1のセラミックグリーンシートは、第1の内部電極2aを形成するために、第1の内部電極導体ペースト層が形成される。第1の内部電極導体ペースト層は、第1の内部電極2aのパターン形状となるように第1の内部電極2a用の導体ペースト用いて形成する。なお、第1のセラミックグリーンシートは、多数個の積層型コンデンサ本体10を得るために、1枚のセラミックグリーンシート内に第1の内部電極2aが複数個形成される。   The plurality of first ceramic green sheets are formed with a first internal electrode conductor paste layer in order to form the first internal electrode 2a. The first internal electrode conductor paste layer is formed using the conductor paste for the first internal electrode 2a so as to have the pattern shape of the first internal electrode 2a. In the first ceramic green sheet, a plurality of first internal electrodes 2 a are formed in one ceramic green sheet in order to obtain a large number of multilayer capacitor bodies 10.

また、複数の第2のセラミックグリーンシートは、第2の内部電極2bを形成するために、第2の内部電極導体ペースト層が形成される。第2の内部電極導電ペースト層は、第2の内部電極2bのパターン形状となるように第2の内部電極2b用の導体ペースト用いて形成する。なお、第2のセラミックグリーンシートは、多数個の積層型コンデンサ本体10を得るために、1枚のセラミックグリーンシート内に第2の内部電極2bが複数個形成される。   The plurality of second ceramic green sheets are provided with a second internal electrode conductor paste layer in order to form the second internal electrode 2b. The second internal electrode conductive paste layer is formed using a conductor paste for the second internal electrode 2b so as to have the pattern shape of the second internal electrode 2b. In the second ceramic green sheet, in order to obtain a large number of multilayer capacitor bodies 10, a plurality of second internal electrodes 2b are formed in one ceramic green sheet.

上述の第1および第2の内部電極導体ペースト層は、例えば、スクリーン印刷法等を用いて、それぞれのセラミックグリーンシート上に、それぞれの導体ペーストを所定のパターン形状で印刷して形成する。   The first and second internal electrode conductor paste layers described above are formed by printing each conductor paste in a predetermined pattern shape on each ceramic green sheet using, for example, a screen printing method or the like.

なお、第1および第2のセラミックグリーンシートは誘電体層となり、第1の内部電極導体ペースト層は第1の内部電極2aとなり、第2の内部電極導体ペースト層は第2の内部電極2bとなる。   The first and second ceramic green sheets serve as dielectric layers, the first internal electrode conductor paste layer serves as the first internal electrode 2a, and the second internal electrode conductor paste layer serves as the second internal electrode 2b. Become.

誘電体層となるセラミックグリーンシートの材料としては、例えば、チタン酸バリウム(BaTiO)、チタン酸カルシウム(CaTiO)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO)またはジルコン酸カルシウム(CaZrO)等の誘電体セラミックスを主成分とするものである。副成分として、例えば、Mn化合物、Fe化合物、Cr化合物、Co化合物またはNi化合物等が添加されたものであってもよい。 Examples of the material of the ceramic green sheet used as the dielectric layer include dielectrics such as barium titanate (BaTiO 3 ), calcium titanate (CaTiO 3 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), or calcium zirconate (CaZrO 3 ). The main component is ceramics. For example, a Mn compound, Fe compound, Cr compound, Co compound, or Ni compound may be added as the accessory component.

第1および第2のセラミックグリーンシートは、誘電体セラミックスの原料粉末および有機バインダに適当な有機溶剤等を添加し混合することによって泥漿状のセラミックスラリーを作製して、ドクターブレード法等を用いてセラミックスラリーを成形することによって得られる。   The first and second ceramic green sheets are prepared by adding a suitable organic solvent and the like to the dielectric ceramic raw material powder and the organic binder and mixing them, and using a doctor blade method or the like. It is obtained by forming a ceramic slurry.

第1および第2の内部電極2a、2b用の導体ペーストは、上述したそれぞれの導体材料(金属材料)の粉末に添加剤(誘電体材料)、バインダ、溶剤、分散剤等を加えて混練することで作製される。第1および第2の内部電極2a、2bの導電材料は、例えば、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銀(Ag)、パラジウム(Pd)または金(Au)等の金属材料あるいはこれらの金属材料の一種以上を含む、例えば、Ag−Pd合金等の合金材料が挙げられる。第1および第2の内部電極2a、2bは、同一の金属材料または合金材料によって形成することが好ましい。   The conductor paste for the first and second internal electrodes 2a, 2b is kneaded by adding an additive (dielectric material), a binder, a solvent, a dispersant, etc. to the powder of each of the above-described conductor materials (metal materials). It is produced by. The conductive material of the first and second internal electrodes 2a and 2b is, for example, a metal material such as nickel (Ni), copper (Cu), silver (Ag), palladium (Pd), or gold (Au), or a metal thereof. For example, an alloy material such as an Ag—Pd alloy including one or more materials may be used. The first and second internal electrodes 2a and 2b are preferably formed of the same metal material or alloy material.

第1のセラミックグリーンシートは、第1の内部電極2aが形成されており、第2のセラミックグリーンシートは第2の内部電極2bが形成されており、これらの第1のセラミックグリーンシートと第2のセラミックグリーンシートとを交互に複数積層して、内部電極が形成されていないセラミックグリーンシートを積層方向の最外層にそれぞれ積層することによって、セラミック材料からなる積層体を作製する。   The first ceramic green sheet is formed with a first internal electrode 2a, and the second ceramic green sheet is formed with a second internal electrode 2b. The first ceramic green sheet and the second ceramic green sheet A plurality of ceramic green sheets are alternately laminated, and ceramic green sheets on which no internal electrodes are formed are laminated on the outermost layer in the lamination direction, thereby producing a laminate made of a ceramic material.

このように、複数の第1および第2のセラミックグリーンシートからなる積層体は、プレスして一体化することで、多数個の生積層体1を含む大型の生積層体となる。この大型の生積層体を切断することによって、図1に示すような積層型コンデンサ本体10の積層体1となる生積層体1を得ることができる。大型の生積層体の切断は、例えば、ダイシングブレード等を用いて行なうことができる。   Thus, the laminated body which consists of a some 1st and 2nd ceramic green sheet becomes a large-sized raw laminated body containing many raw laminated bodies 1 by pressing and integrating. By cutting this large green laminate, a green laminate 1 that becomes the laminate 1 of the multilayer capacitor body 10 as shown in FIG. 1 can be obtained. The large green laminate can be cut using, for example, a dicing blade.

そして、積層体1は、生積層体1を、例えば、800(℃)〜1300(℃)で焼成することによって得ることができる。この工程によって、複数の第1および第2のセラミックグリーンシートが誘電体層となり、第1の内部電極導体ペースト層が第1の内部電極2aとなり、第2の内部電極導体ペースト層が第2の内部電極2bとなる。また、積層体1は、例えば、バレル研磨等の研磨手段を用いて角部または辺部を丸めることができる。積層体1は、角部または辺部を丸めることにより角部または辺部が欠けにくいものとなる。   And the laminated body 1 can be obtained by baking the raw laminated body 1 at 800 (degreeC) -1300 (degreeC), for example. By this step, the plurality of first and second ceramic green sheets become dielectric layers, the first internal electrode conductor paste layer becomes the first internal electrode 2a, and the second internal electrode conductor paste layer becomes the second internal electrode. It becomes the internal electrode 2b. Moreover, the laminated body 1 can round a corner | angular part or a side part using grinding | polishing means, such as barrel grinding | polishing, for example. The laminated body 1 becomes a thing which a corner | angular part or a side part cannot be easily chipped by rounding a corner | angular part or a side part.

次に、下地電極4とめっき層5とからなる一対の外部電極3を形成する。下地電極4は、金属層4gと金属層4gを覆う導電性樹脂層4hとからなり、第1および第2の端面1c、1dに形成する。金属層4gは、例えば、積層体1の第1および第2の端面1c、1dに金属層4gとなる金属層4g用の導電ペーストを塗布し、焼き付けることにより一対の金属層4gを形成する。   Next, a pair of external electrodes 3 composed of the base electrode 4 and the plating layer 5 are formed. The base electrode 4 includes a metal layer 4g and a conductive resin layer 4h covering the metal layer 4g, and is formed on the first and second end faces 1c and 1d. For example, the metal layer 4g forms a pair of metal layers 4g by applying and baking a conductive paste for the metal layer 4g to be the metal layer 4g on the first and second end faces 1c and 1d of the laminate 1.

また、金属層4g用の導電ペーストは、金属層4gを構成する金属材料の粉末にバイン
ダ、溶剤、分散剤等を加えて混練することで作製される。なお、金属層4gの導電材料は、例えば、ニッケル(Ni)、銅(Cu)、銀(Ag)、パラジウム(Pd)または金(Au)等の金属材料、あるいは、これらの金属材料の一種以上を含む、例えば、Ag−Pd合金等の合金材料である。また、金属層4gの形成は、導体ペーストを焼き付ける方法を用いる以外に、蒸着法、めっき法またはスパッタリング法等の薄膜形成法を用いて行なってもよい。
Further, the conductive paste for the metal layer 4g is prepared by adding a binder, a solvent, a dispersant and the like to the powder of the metal material constituting the metal layer 4g and kneading. The conductive material of the metal layer 4g is, for example, a metal material such as nickel (Ni), copper (Cu), silver (Ag), palladium (Pd), or gold (Au), or one or more of these metal materials. For example, an alloy material such as an Ag—Pd alloy. The metal layer 4g may be formed by using a thin film forming method such as a vapor deposition method, a plating method, or a sputtering method, in addition to using a method of baking a conductor paste.

導電性樹脂層4hは、金属層4gを覆うように金属層4gの表面に形成する。導電性樹脂層4hは、例えば、以下のようにして金属層4gの表面上に形成される。なお、導電性樹脂層4hは、導電性ペーストを用いて形成され、導電性ペーストが導電性樹脂層4hとなる。導電性ペーストは、例えば、上述の樹脂材料に、導電性材料の粉末(フィラー)、バインダ、溶剤、分散剤等を加えて混練することで作製される。   The conductive resin layer 4h is formed on the surface of the metal layer 4g so as to cover the metal layer 4g. For example, the conductive resin layer 4h is formed on the surface of the metal layer 4g as follows. The conductive resin layer 4h is formed using a conductive paste, and the conductive paste becomes the conductive resin layer 4h. The conductive paste is produced, for example, by adding and kneading a conductive material powder (filler), a binder, a solvent, a dispersant, and the like to the above-described resin material.

まず、導電性ペーストを保持するための凹部(窪み)を備えた平坦なステージを準備する。そして、このステージの凹部に、例えば、ディスペンサ等を用いて、導電性樹脂層4hとなる導電性ペースを吐出する。さらに、導電性ペーストの厚みを均一にするために、スキージ等を用いて、吐出した導電性ペーストの厚みを均一化にする。   First, a flat stage having a recess (dent) for holding a conductive paste is prepared. And the conductive pace used as the conductive resin layer 4h is discharged to the recessed part of this stage using a dispenser etc., for example. Furthermore, in order to make the thickness of the conductive paste uniform, the thickness of the discharged conductive paste is made uniform using a squeegee or the like.

次に、均一にした導電性ペーストに一対の外部電極3のうちの、第1の外部電極3aの金属層4gが形成された部分をディップして、導電ペーストを金属層4gの表面に転写する。同様に、均一にした導電性ペーストに第1の外部電極3aの金属層4gが形成された部分をディップして、導電ペーストを金属層4gの表面に転写する。   Next, the portion of the pair of external electrodes 3 where the metal layer 4g of the first external electrode 3a is formed is dipped on the uniform conductive paste, and the conductive paste is transferred to the surface of the metal layer 4g. . Similarly, the portion of the first external electrode 3a where the metal layer 4g is formed is dipped in the uniform conductive paste, and the conductive paste is transferred to the surface of the metal layer 4g.

そして、乾燥炉等を用いて、転写した導電性ペーストを乾燥硬化させて、金属層4gを覆うように導電性樹脂層4hを形成する。   Then, using a drying furnace or the like, the transferred conductive paste is dried and cured to form the conductive resin layer 4h so as to cover the metal layer 4g.

次に、めっき層5は、導電性樹脂層4hを覆うように導電性樹脂層4hの表面に形成する。めっき層4hは、例えば、電解めっき法等を用いて、導電性樹脂層4hの表面に形成する。導電性樹脂層4hは、例えば、ニッケル(Ni)めっき層、銅(Cu)めっき層、金(Au)めっき層またはスズ(Sn)めっき層等の1層のめっき層または複数層のめっき層が表面に形成される。めっき層5は、単一のめっき層から形成されていてもよいが、積層型コンデンサ10は、めっき層5が第1のめっき層5aと第2のめっき層5bとからなり、これらの積層体を表面に形成している。積層型コンデンサ10は、例えば、第1のめっき層5aがニッケル(Ni)めっき層からなり、第2のめっき層5bが錫(Sn)めっき層からなり、第2のめっき層5bの錫(Sn)めっき層が第1のめっき層5aのニッケル(Ni)めっき層を覆うように形成される。なお、この段階では、めっき層5は、一対の外部電極3の下地電極4の全体にわたって形成されており、一対の外部電極3の各稜線部6において導電性樹脂層4hは露出していない。   Next, the plating layer 5 is formed on the surface of the conductive resin layer 4h so as to cover the conductive resin layer 4h. The plating layer 4h is formed on the surface of the conductive resin layer 4h using, for example, an electrolytic plating method or the like. The conductive resin layer 4h is, for example, a single plating layer or a plurality of plating layers such as a nickel (Ni) plating layer, a copper (Cu) plating layer, a gold (Au) plating layer, or a tin (Sn) plating layer. Formed on the surface. Although the plating layer 5 may be formed from a single plating layer, the multilayer capacitor 10 includes a laminated body in which the plating layer 5 includes a first plating layer 5a and a second plating layer 5b. Is formed on the surface. In the multilayer capacitor 10, for example, the first plating layer 5a is made of a nickel (Ni) plating layer, the second plating layer 5b is made of a tin (Sn) plating layer, and the tin (Sn) of the second plating layer 5b is made. ) The plating layer is formed so as to cover the nickel (Ni) plating layer of the first plating layer 5a. At this stage, the plating layer 5 is formed over the entire base electrode 4 of the pair of external electrodes 3, and the conductive resin layer 4 h is not exposed at each ridge line portion 6 of the pair of external electrodes 3.

次に、一対の外部電極3a、3bは、各稜線部6において導電性樹脂層4hを露出させる。例えば、バレル研磨等の研磨手段を用いて、各稜線部6(角部および辺部)を研磨することによって、稜線部6においてめっき層5の下層の導電性樹脂層4hを露出させることができる。研磨手段を用いることで、各稜線部6a〜6fは、めっき層5が形成されずに、導電性樹脂層4hをめっき層5から露出させることができる。   Next, the pair of external electrodes 3 a and 3 b expose the conductive resin layer 4 h at each ridge line portion 6. For example, by polishing each ridge line part 6 (corner part and side part) using a polishing means such as barrel polishing, the conductive resin layer 4h under the plating layer 5 can be exposed at the ridge line part 6. . By using the polishing means, the ridge line portions 6 a to 6 f can expose the conductive resin layer 4 h from the plating layer 5 without forming the plating layer 5.

このようにして、第1の外部電極3aおよび第2の外部電極3bは、めっき層5が稜線部6a〜6fにおいて導電性樹脂層4hが露出するように形成される。また、第1の外部電極3aおよび第2の外部電極3bは、各稜線部6において導電性樹脂層4hが露出するとともに、各稜線部6が曲線状となる。   Thus, the 1st external electrode 3a and the 2nd external electrode 3b are formed so that the conductive resin layer 4h may be exposed in the plating layer 5 in the ridgeline parts 6a-6f. In the first external electrode 3a and the second external electrode 3b, the conductive resin layer 4h is exposed at each ridge line portion 6, and each ridge line portion 6 is curved.

本発明は、上述した実施の形態に特に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更および改良が可能である。   The present invention is not particularly limited to the above-described embodiments, and various changes and improvements can be made within the scope of the present invention.

例えば、上述した実施の形態では、一般的な積層型コンデンサ10を例に挙げて説明したが、外部電極3が2つの積層型コンデンサ10に限らず、本発明は、外部電極が3つの3端子の積層型コンデンサにおいても適用することができる。すなわち、3端子の積層型コンデンサにおいても、本発明の技術を適用して、外部電極の稜線部にはんだ非付着部を形成することにより、振動音の抑制効果を向上させることができる。   For example, in the above-described embodiment, the general multilayer capacitor 10 has been described as an example. However, the external electrode 3 is not limited to the two multilayer capacitors 10, and the present invention has three terminals with three external electrodes. The present invention can also be applied to the multilayer capacitor. That is, even in a three-terminal multilayer capacitor, the effect of suppressing vibration noise can be improved by applying the technique of the present invention and forming a solder non-adhered portion at the ridge line portion of the external electrode.

1 積層体
1a 第1の主面
1b 第2の主面
1c 第1の端面
1d 第2の端面
1e 第1の側面
1f 第2の側面
2 内部電極
2a 第1の内部電極
2b 第2の内部電極
3 外部電極
3a 第1の外部電極
3b 第2の外部電極
4 下地電極
4a 第1の主面延在部
4b 第2の主面延在部
4c 第1の端面部
4d 第2の端面部
4e 第1の側面延在部
4f 第2の側面延在部
4g 金属層
4h 導電性樹脂層
5 めっき層
5a 第1のめっき層
5b 第2のめっき層
6 稜線部
7 はんだ
9 基板
9a、9b 基板電極
10 積層型コンデンサ





DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laminate 1a 1st main surface 1b 2nd main surface 1c 1st end surface 1d 2nd end surface 1e 1st side surface 1f 2nd side surface 2 Internal electrode 2a 1st internal electrode 2b 2nd internal electrode 3 External electrode 3a 1st external electrode 3b 2nd external electrode 4 Base electrode 4a 1st main surface extension part 4b 2nd main surface extension part 4c 1st end surface part 4d 2nd end surface part 4e 1st 1 side extended portion 4 f second side extended portion 4 g metal layer 4 h conductive resin layer 5 plated layer 5 a first plated layer 5 b second plated layer 6 ridge line portion 7 solder 9 substrates 9 a and 9 b substrate electrode 10 Multilayer capacitor





Claims (2)

複数の誘電体層が積層されて、互いに対向する第1および第2の主面と前記第1および第2の主面間を連結する、互いに対向する第1および第2の端面と前記第1および第2の端面間を連結する、互いに対向する第1および第2の側面とを有する略直方体状積層体と、
前記積層体内の前記複数の誘電体層の積層方向に間隔をおいて配置されている複数の内部電極と、
前記第1および第2の端面に配置れ、前記内部電極に電気的に接続されている一対の外部電極とを備えており、
前記一対の外部電極は、金属層と該金属層を覆う導電性樹脂層とを含む下地電極と前記導電性樹脂層の外側に位置するめっき層とを有しており、
前記下地電極は、前記第1および第2の端面を覆う端面部と、前記端面部から前記第1の主面に延在する第1の主面延在部および前記第2の主面に延在する第2の主面延在部と、前記端面部から前記第1の側面に延在する第1の側面延在部および前記第2の側面に延在する第2の側面延在部とを有しており、
前記積層体の前記第1の主面が実装面とされ、
記端面部と前記第1の主面延在部との間に位置する稜線部と前記第1および第2の側面延在部と前記第1の主面延在部との間に位置する各稜線部とにおいて前記導電性樹脂層が前記めっき層から露出していることを特徴とする積層型コンデンサ。
A plurality of dielectric layers are stacked to connect the first and second main surfaces facing each other and the first and second main surfaces, and the first and second end surfaces facing each other and the first and connecting the second end surface, a substantially rectangular parallelepiped laminate having a first and second side surfaces facing each other,
A plurality of internal electrodes arranged at intervals in the stacking direction of the plurality of dielectric layers in the stack;
Wherein arranged in the first and second end surfaces, and a pair of external electrodes being electrically connected to said internal electrodes,
Said pair of external electrodes has a plated layer positioned outside of the conductive resin layer and the base electrode including a conductive resin layer covering the metallic layer and the metallic layer,
The base electrode extends to an end surface portion covering the first and second end surfaces, a first main surface extending portion extending from the end surface portion to the first main surface, and the second main surface. A second main surface extending portion, a first side extending portion extending from the end surface portion to the first side surface, and a second side surface extending portion extending to the second side surface. Have
The first main surface of the laminate is a mounting surface,
Located between the first major surface extending portion and the ridge portion positioned between the first and second side surfaces extending portion between the front Kitan surface and the first principal surface extending portion multilayer capacitor wherein the conductive resin layer and wherein the exposed from the plating layer in each ridge.
請求項1に記載の積層型コンデンサと該積層型コンデンサが実装される基板電極を有する基板とが、前記第1の主面延材部と前記基板電極とを対向させて配置されているとともに、前記第1の主面延材部と前記基板電極とがはんだ接合されている実装構造。
The multilayer capacitor according to claim 1 and a substrate having a substrate electrode on which the multilayer capacitor is mounted are disposed so that the first main surface extending material portion and the substrate electrode are opposed to each other, A mounting structure in which the first main surface extending material portion and the substrate electrode are joined by soldering .
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