JP2008166666A - Ceramic electronic component - Google Patents

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Takashi Komatsu
敬 小松
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a ceramic electronic component in which adhesion between a metal electrode layer and an electrically conductive resin electrode layer is improved. <P>SOLUTION: A laminated capacitor C1 comprises a ceramic material body 10, and outer electrodes 30 arranged on the outer surface of the ceramic material body 10. Each outer electrode 30 includes a first metal electrode layer 32 containing a metal as a main component and an electrically conductive resin electrode layer 34 containing a metal powder and contacting the first metal electrode layer 32, wherein the metal contained in the first metal electrode layer 32 and the metal powder contained in the electrically conductive resin layer 34 form an alloy. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、セラミック電子部品に関する。   The present invention relates to a ceramic electronic component.

この種のセラミック電子部品として、金属を主成分として含有する金属電極層と、該金属電極層と接触すると共に金属粉末を含有する導電性樹脂電極層とを有する外部電極を備えたものが知られている(例えば、特許文献1参照)。   As this type of ceramic electronic component, an external electrode having a metal electrode layer containing metal as a main component and a conductive resin electrode layer in contact with the metal electrode layer and containing metal powder is known. (For example, refer to Patent Document 1).

このようなセラミック電子部品は、一般に外部電極を基板に半田付けすることによって、基板に実装される。セラミック電子部品を実装した基板が急激な温度変化による熱衝撃を受けた場合、セラミック電子部品及び基板はそれぞれの熱膨張係数に応じて伸び縮みする。その際、セラミック電子部品と基板とでは熱膨張係数の違いから伸び縮みの量が異なり、撓みを生じてしまう。この撓みによってセラミック電子部品はクラックを生じ、機能しなくなるというおそれがあった。そこで、特許文献1に記載されたセラミック電子部品では、導電性樹脂電極層で撓みを吸収し、熱衝撃によるクラックの発生を防いでいる。
特開平10−284343号公報
Such a ceramic electronic component is generally mounted on a substrate by soldering external electrodes to the substrate. When the substrate on which the ceramic electronic component is mounted is subjected to a thermal shock due to a rapid temperature change, the ceramic electronic component and the substrate expand and contract according to their respective thermal expansion coefficients. At that time, the amount of expansion / contraction differs depending on the difference in thermal expansion coefficient between the ceramic electronic component and the substrate, resulting in bending. This bending may cause the ceramic electronic component to crack and fail to function. Therefore, in the ceramic electronic component described in Patent Document 1, bending is absorbed by the conductive resin electrode layer to prevent generation of cracks due to thermal shock.
JP-A-10-284343

本発明は、金属電極層と導電性樹脂電極層との密着性を向上することが可能なセラミック電子部品を提供することを課題とする。   This invention makes it a subject to provide the ceramic electronic component which can improve the adhesiveness of a metal electrode layer and a conductive resin electrode layer.

本発明者等は、金属電極層と導電性樹脂電極層との密着性を向上し得るセラミック電子部品についても鋭意研究を進めた。その結果、本発明者等は、金属電極層に含有する金属と導電性樹脂電極層に含有する金属粉末とを合金化させると、金属電極層と導電性樹脂電極層との密着性が向上するという新たな事実を見出すに至った。   The inventors of the present invention have also intensively studied ceramic electronic components that can improve the adhesion between the metal electrode layer and the conductive resin electrode layer. As a result, when the present inventors alloy the metal contained in the metal electrode layer and the metal powder contained in the conductive resin electrode layer, the adhesion between the metal electrode layer and the conductive resin electrode layer is improved. I came up with a new fact.

かかる研究結果を踏まえ、本発明に係るセラミック電子部品は、セラミック素体と、セラミック素体の外表面に配置された外部電極と、を備え、外部電極は、金属を主成分として含有する金属電極層と、金属電極層と接触すると共に、金属粉末を含有する導電性樹脂電極層と、を有しており、金属電極層に含有する金属と、導電性樹脂電極層に含有する金属粉末とが合金化していることを特徴とする。   Based on such research results, the ceramic electronic component according to the present invention includes a ceramic body and an external electrode disposed on the outer surface of the ceramic body, and the external electrode contains a metal as a main component. And a conductive resin electrode layer containing metal powder and in contact with the metal electrode layer, the metal contained in the metal electrode layer and the metal powder contained in the conductive resin electrode layer It is alloyed.

本発明に係るセラミック電子部品では、金属電極層に含有する金属と、導電性樹脂電極層に含有する金属粉末とが合金化している。このため、金属電極層と導電性樹脂電極層との間の結合が強くなり、金属電極層と導電性樹脂電極層との密着性を向上することができる。   In the ceramic electronic component according to the present invention, the metal contained in the metal electrode layer and the metal powder contained in the conductive resin electrode layer are alloyed. For this reason, the coupling | bonding between a metal electrode layer and a conductive resin electrode layer becomes strong, and the adhesiveness of a metal electrode layer and a conductive resin electrode layer can be improved.

また、本発明者等は、金属電極層に含有する金属と導電性樹脂電極層に含有する金属粉末とを同じ金属成分とすると、金属電極層に含有する金属と導電性樹脂電極層に含有する金属粉末とが結合し、結合した金属がくさびとして機能することにより、金属電極層と導電性樹脂電極層との密着性が向上するという新たな事実を見出すに至った。   Moreover, when the present inventors make the metal contained in the metal electrode layer and the metal powder contained in the conductive resin electrode layer the same metal component, the metal contained in the metal electrode layer and the conductive resin electrode layer contain it. It came to discover the new fact that the adhesiveness of a metal electrode layer and a conductive resin electrode layer improves because a metal powder couple | bonds and the couple | bonded metal functions as a wedge.

かかる研究結果を踏まえ、本発明に係るセラミック電子部品は、セラミック素体と、セラミック素体の外表面に配置された外部電極と、を備え、外部電極は、金属を主成分として含有する金属電極層と、金属電極層と接触すると共に、金属電極層に含有する金属と同じ金属成分からなる金属粉末を含有する導電性樹脂電極層と、を有しており、金属電極層に含有する金属と、導電性樹脂電極層に含有する金属粉末とが結合していることを特徴とする。   Based on such research results, the ceramic electronic component according to the present invention includes a ceramic body and an external electrode disposed on the outer surface of the ceramic body, and the external electrode contains a metal as a main component. And a conductive resin electrode layer containing a metal powder made of the same metal component as the metal contained in the metal electrode layer and in contact with the metal electrode layer, and the metal contained in the metal electrode layer, The metal powder contained in the conductive resin electrode layer is bonded.

本発明に係るセラミック電子部品では、金属電極層に含有する金属と導電性樹脂電極層に含有する金属粉末とが結合している。このため、金属電極層と導電性樹脂電極層との間の結合が強くなり、金属電極層と導電性樹脂電極層との密着性を向上することができる。   In the ceramic electronic component according to the present invention, the metal contained in the metal electrode layer is bonded to the metal powder contained in the conductive resin electrode layer. For this reason, the coupling | bonding between a metal electrode layer and a conductive resin electrode layer becomes strong, and the adhesiveness of a metal electrode layer and a conductive resin electrode layer can be improved.

好ましくは、金属電極層は、セラミック素体の外表面に、金属電極層に主成分として含有する金属の粉末を含む導電ペーストを塗布して焼き付けることにより形成されている。   Preferably, the metal electrode layer is formed by applying and baking a conductive paste containing metal powder contained as a main component in the metal electrode layer on the outer surface of the ceramic body.

好ましくは、導電性樹脂電極層は、金属電極層の外表面に、導電性樹脂電極層に含有する金属粉末と熱硬化樹脂とを含む導電性ペーストを塗布して加熱することにより形成されている。熱硬化樹脂を硬化させる熱処理により、金属電極層に含有する金属と導電性樹脂電極層に含有する金属粉末とが合金化又は結合し、この合金又は結合した金属は金属電極層と導電性樹脂電極層との界面及び界面近傍に存在し、くさびのように機能することとなる。このため、金属電極層と導電性樹脂電極層との間の結合を更に強くすることができる。   Preferably, the conductive resin electrode layer is formed by applying and heating a conductive paste containing metal powder and thermosetting resin contained in the conductive resin electrode layer on the outer surface of the metal electrode layer. . By heat treatment for curing the thermosetting resin, the metal contained in the metal electrode layer and the metal powder contained in the conductive resin electrode layer are alloyed or combined, and the alloy or the combined metal is the metal electrode layer and the conductive resin electrode. It exists at the interface with the layer and in the vicinity of the interface and functions like a wedge. For this reason, the bond between the metal electrode layer and the conductive resin electrode layer can be further strengthened.

本発明によれば、金属電極層と導電性樹脂電極層との密着性を向上することが可能なセラミック電子部品を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the ceramic electronic component which can improve the adhesiveness of a metal electrode layer and a conductive resin electrode layer can be provided.

以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には、同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and redundant description is omitted.

図1は実施形態に係る積層コンデンサC1の断面図である。積層コンデンサC1は、図1に示すように、セラミック素体10と、2つの外部電極30とを備えている。   FIG. 1 is a cross-sectional view of the multilayer capacitor C1 according to the embodiment. As shown in FIG. 1, the multilayer capacitor C <b> 1 includes a ceramic body 10 and two external electrodes 30.

セラミック素体10では、内部電極20が誘電体層22を介して積層されている。各誘電体層22は、例えば誘電体セラミックを含むセラミックグリーンシートの焼結体から構成される。実際の積層コンデンサC1では、誘電体層22の間の境界が視認できない程度に一体化されている。   In the ceramic body 10, the internal electrode 20 is laminated via a dielectric layer 22. Each dielectric layer 22 is made of a sintered body of a ceramic green sheet containing a dielectric ceramic, for example. The actual multilayer capacitor C1 is integrated so that the boundary between the dielectric layers 22 is not visible.

セラミック素体10内に配置された内部電極20は、内部電極20の積層方向に平行なセラミック素体10の対向する2側面に交互に引き出されている。内部電極20は、積層型の電気素子の内部電極として通常用いられる導電性材料から構成される。本実施形態では、内部電極20は、卑金属であるNiを導電性材料として含んでいる。   The internal electrodes 20 arranged in the ceramic body 10 are alternately drawn out to two opposing side surfaces of the ceramic body 10 parallel to the stacking direction of the internal electrodes 20. The internal electrode 20 is made of a conductive material that is usually used as an internal electrode of a laminated electric element. In this embodiment, the internal electrode 20 contains Ni, which is a base metal, as a conductive material.

外部電極30は、セラミック素体10の外表面に配置されている。外部電極30は、第1の金属電極層32と、導電性樹脂電極層34と、第2の金属電極層36と、第3の金属電極層38とを有している。   The external electrode 30 is disposed on the outer surface of the ceramic body 10. The external electrode 30 has a first metal electrode layer 32, a conductive resin electrode layer 34, a second metal electrode layer 36, and a third metal electrode layer 38.

第1の金属電極層32は、卑金属であるCuを主成分として含有している。第1の金属電極層32は、セラミック素体10の外表面に、すなわち内部電極20の積層方向に平行なセラミック素体10の対向する2つの端面上に形成され、内部電極20と物理的且つ電気的に接続される。第1の金属電極層32は、Cu粉末を含有する導電性ペーストをセラミック素体10の外表面に塗布して焼き付けることによって形成されている。第1の金属電極層32の厚みは、例えば、10〜30μmである。Cu粉末の粒径は、0.1〜10μm程度である。   The first metal electrode layer 32 contains Cu, which is a base metal, as a main component. The first metal electrode layer 32 is formed on the outer surface of the ceramic body 10, that is, on two opposing end faces of the ceramic body 10 parallel to the stacking direction of the internal electrodes 20. Electrically connected. The first metal electrode layer 32 is formed by applying and baking a conductive paste containing Cu powder on the outer surface of the ceramic body 10. The thickness of the first metal electrode layer 32 is, for example, 10 to 30 μm. The particle size of the Cu powder is about 0.1 to 10 μm.

導電性樹脂電極層34は、金属粉末を導電性材料として含む。導電性樹脂電極層34は、第1の金属電極層32上に、第1の金属電極層32を覆うように形成されており、第1の金属粉末と、所定の平均粒径を有する第2の金属粉末と、熱硬化性樹脂とを樹脂層形成用組成物を硬化させてなる層である。導電性樹脂電極層34の厚みは、例えば、20〜100μmである。   The conductive resin electrode layer 34 includes metal powder as a conductive material. The conductive resin electrode layer 34 is formed on the first metal electrode layer 32 so as to cover the first metal electrode layer 32, and the first metal powder and the second metal having a predetermined average particle diameter. It is a layer formed by curing the resin layer forming composition of the metal powder and the thermosetting resin. The thickness of the conductive resin electrode layer 34 is, for example, 20 to 100 μm.

本実施形態では、第1の金属粉末の材料として貴金属であるAgが用いられる。導電性樹脂電極層34における導電性は、主として第1の金属粉末、すなわちAg粉末により確保される。第1の金属粉末の粒径は、0.1〜10μm程度である。   In this embodiment, Ag which is a noble metal is used as the material of the first metal powder. The conductivity in the conductive resin electrode layer 34 is ensured mainly by the first metal powder, that is, Ag powder. The particle size of the first metal powder is about 0.1 to 10 μm.

本実施形態では、第2の金属粉末として、卑金属のNiが用いられている。第2の金属粉末の形状は、球状、鱗片状等のいずれの形状でもよいが、球状であることが好ましい。この第2の金属粉末は、その平均粒径が10〜50nm程度であり、極めて微小である。ここでは、平均粒径を、動的光散乱法にて測定している。   In this embodiment, base metal Ni is used as the second metal powder. The shape of the second metal powder may be any shape such as a sphere or a scale, but is preferably a sphere. The second metal powder has an average particle size of about 10 to 50 nm and is extremely fine. Here, the average particle diameter is measured by a dynamic light scattering method.

熱硬化性樹脂としては特に制限されないが、例えば、フェノール樹脂、アクリル樹脂、
シリコン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド等を用いることができる。
Although it does not restrict | limit especially as a thermosetting resin, For example, a phenol resin, an acrylic resin,
Silicon resin, epoxy resin, polyimide, or the like can be used.

上記樹脂層形成用組成物中の全金属粉末の含有量は、樹脂層形成用組成物の固形分全量を基準として60〜95質量%であることが好ましい。この含有量が60質量%未満であると、含有量が上記範囲内である場合と比較して、導電性樹脂電極層34の内部における導電性が不十分となる傾向にある。含有量が95質量%を超えると、含有量が上記範囲内である場合と比較して、熱硬化性樹脂の量が不足するため、第1の金属電極層32と導電性樹脂電極層34との密着性が低下する傾向にある。   The total metal powder content in the resin layer forming composition is preferably 60 to 95% by mass based on the total solid content of the resin layer forming composition. When the content is less than 60% by mass, the conductivity inside the conductive resin electrode layer 34 tends to be insufficient as compared with the case where the content is in the above range. When the content exceeds 95% by mass, the amount of the thermosetting resin is insufficient as compared with the case where the content is within the above range, and therefore the first metal electrode layer 32 and the conductive resin electrode layer 34 There is a tendency for the adhesion of the material to decrease.

樹脂層形成用組成物は、必要に応じて溶媒を更に含むものである。溶媒としては、上記熱硬化性樹脂を溶解又は分散可能なものであれば公知の溶媒を特に制限なく使用することができる。溶媒として具体的には、例えば、メチルカルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、セロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルセロソルブアセテート、テルピネオール等が挙げられる。   The composition for resin layer formation further contains a solvent as needed. As the solvent, any known solvent can be used without particular limitation as long as it can dissolve or disperse the thermosetting resin. Specific examples of the solvent include methyl carbitol, ethyl carbitol, butyl carbitol, butyl carbitol acetate, cellosolve, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate, and terpineol.

導電性樹脂電極層34は、第1の金属電極層32上に上記樹脂層形成用組成物を塗布し、乾燥及び熱硬化を行うことによって形成されている。ここで、熱硬化時の温度は、使用する硬化性樹脂に応じて適宜調節される。   The conductive resin electrode layer 34 is formed by applying the resin layer forming composition on the first metal electrode layer 32 and performing drying and thermosetting. Here, the temperature at the time of thermosetting is appropriately adjusted according to the curable resin to be used.

ところで、第1の金属電極層32との界面及び界面近傍に存在する第2の金属粉末は、上述したようにその表面が一部溶融すると、第1の金属電極層32に含有する金属と合金化し、第1の金属電極層32に含有する金属と導電性樹脂電極層34に含有する第2の金属粉末との合金(本実施形態では、Cu−Ni合金)が第1の金属電極層32と導電性樹脂電極層34との界面及び界面近傍に存在することとなる。この合金は、くさびのように機能することとなるため、第1の金属電極層32と導電性樹脂電極層34との間の結合が強くなる。   By the way, the second metal powder existing at the interface with the first metal electrode layer 32 and in the vicinity of the interface, as described above, partially melts the metal and alloy contained in the first metal electrode layer 32. The first metal electrode layer 32 is an alloy (in this embodiment, Cu—Ni alloy) of the metal contained in the first metal electrode layer 32 and the second metal powder contained in the conductive resin electrode layer 34. And the conductive resin electrode layer 34 are present at and near the interface. Since this alloy functions like a wedge, the bond between the first metal electrode layer 32 and the conductive resin electrode layer 34 is strengthened.

第2の金属電極層36は、Niを主成分として含む。第2の金属電極層36は、導電性樹脂電極層34上に、導電性樹脂電極層34を覆うように形成されている。第2の金属電極層36は、導電性樹脂電極層34表面をNiでメッキ処理することによって形成されている。第2の金属電極層36の厚みは、例えば、1〜5μmである。   The second metal electrode layer 36 contains Ni as a main component. The second metal electrode layer 36 is formed on the conductive resin electrode layer 34 so as to cover the conductive resin electrode layer 34. The second metal electrode layer 36 is formed by plating the surface of the conductive resin electrode layer 34 with Ni. The thickness of the second metal electrode layer 36 is, for example, 1 to 5 μm.

第3の金属電極層38は、SnあるいはSn合金を主成分として含む。第3の金属電極層38は、第2の金属電極層36上に、第2の金属電極層36を覆うように形成されている。第3の金属電極層38は、第2の金属電極層36表面をSn又はSn合金でメッキ処理することによって形成されている。第3の金属電極層38の厚みは、例えば、1〜5μmである。   The third metal electrode layer 38 contains Sn or Sn alloy as a main component. The third metal electrode layer 38 is formed on the second metal electrode layer 36 so as to cover the second metal electrode layer 36. The third metal electrode layer 38 is formed by plating the surface of the second metal electrode layer 36 with Sn or an Sn alloy. The thickness of the third metal electrode layer 38 is, for example, 1 to 5 μm.

以上のように、本実施形態においては、第1の金属電極層32に含有する金属と、導電性樹脂電極層34に含有する第2の金属粉末とが合金化している。このため、第1の金属電極層32と導電性樹脂電極層34との間の結合が強くなり、第1の金属電極層32と導電性樹脂電極層34との密着性を向上することができる。   As described above, in the present embodiment, the metal contained in the first metal electrode layer 32 and the second metal powder contained in the conductive resin electrode layer 34 are alloyed. For this reason, the bond between the first metal electrode layer 32 and the conductive resin electrode layer 34 becomes strong, and the adhesion between the first metal electrode layer 32 and the conductive resin electrode layer 34 can be improved. .

本実施形態の変形例として、導電性樹脂電極層34に含まれる金属粉末は、第1の金属電極層32に含有される金属と同じ金属成分であってもよい。すなわち、本実施形態では、導電性樹脂電極層34は、導電性材料としてCu粉末を含む。このCu粉末の平均粒径は、上述したように10〜50nm程度である。   As a modification of the present embodiment, the metal powder contained in the conductive resin electrode layer 34 may be the same metal component as the metal contained in the first metal electrode layer 32. That is, in this embodiment, the conductive resin electrode layer 34 contains Cu powder as a conductive material. The average particle diameter of the Cu powder is about 10 to 50 nm as described above.

Cu粉末は、上述したNi粉末と同様に、極めて微小であるため、熱硬化時の加熱処理により、その表面が一部溶融する。したがって、第1の金属電極層32との界面及び界面近傍に存在するCu粉末は、その表面が一部溶融すると、第1の金属電極層32に含有するCuと結合し、結合したCuがくさびとして機能することとなる。この結果、第1の金属電極層32と導電性樹脂電極層34との間の結合が強くなり、第1の金属電極層32と導電性樹脂電極層34との密着性を向上することができる。   Since the Cu powder is extremely fine like the Ni powder described above, the surface thereof is partially melted by the heat treatment at the time of thermosetting. Therefore, when the Cu powder existing at the interface with the first metal electrode layer 32 and in the vicinity of the interface partially melts, the Cu contained in the first metal electrode layer 32 is bonded, and the bonded Cu is wedged. Will function as. As a result, the bond between the first metal electrode layer 32 and the conductive resin electrode layer 34 is strengthened, and the adhesion between the first metal electrode layer 32 and the conductive resin electrode layer 34 can be improved. .

以上、本発明の好適な実施形態について説明してきたが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the present invention is not necessarily limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、本実施形態では、第1の金属電極層32が主成分の金属としてCuを含有し、導電性樹脂電極層34が第2の金属粉末としてNi粉末を含有しているが、含有する金属材料はこれらに限られない。第1の金属電極層32に主成分として含有する金属と導電性樹脂電極層34に含有する金属粉末(第2の金属粉末)とが、合金化する組み合わせの材料であればよい。また、第1の金属電極層32が主成分として含有する金属と、導電性樹脂電極層34が含有する金属粉末とが同じ金属成分である場合でも、この金属成分は、上述したCuに限られない。   For example, in this embodiment, the first metal electrode layer 32 contains Cu as the main component metal, and the conductive resin electrode layer 34 contains Ni powder as the second metal powder. The material is not limited to these. Any material may be used as long as the metal contained in the first metal electrode layer 32 as a main component and the metal powder (second metal powder) contained in the conductive resin electrode layer 34 are alloyed. Even when the metal contained in the first metal electrode layer 32 as a main component and the metal powder contained in the conductive resin electrode layer 34 are the same metal component, this metal component is limited to the above-described Cu. Absent.

本実施形態では、本発明をコンデンサに適用した例を示しているが、これに限られることはない。本発明は、例えば圧電体素子(圧電アクチュエータ)、インダクタ、バリスタ、サーミスタ等にも適用可能である。   In this embodiment, an example in which the present invention is applied to a capacitor is shown, but the present invention is not limited to this. The present invention can be applied to, for example, a piezoelectric element (piezoelectric actuator), an inductor, a varistor, a thermistor, and the like.

実施形態に係る積層コンデンサの断面図である。1 is a cross-sectional view of a multilayer capacitor according to an embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

C1…積層コンデンサ、10…セラミック素体、20…内部電極、22…誘電体層、30…外部電極、32…第1の金属電極層、34…導電性樹脂電極層、36…第2の金属電極層、38…第3の金属電極層。   C1 ... multilayer capacitor, 10 ... ceramic body, 20 ... internal electrode, 22 ... dielectric layer, 30 ... external electrode, 32 ... first metal electrode layer, 34 ... conductive resin electrode layer, 36 ... second metal Electrode layer, 38... Third metal electrode layer.

Claims (4)

セラミック素体と、
前記セラミック素体の外表面に配置された外部電極と、を備え、
前記外部電極は、
金属を主成分として含有する金属電極層と、
前記金属電極層と接触すると共に、金属粉末を含有する導電性樹脂電極層と、を有しており、
前記金属電極層に含有する金属と、前記導電性樹脂電極層に含有する金属粉末とが合金化していることを特徴とするセラミック電子部品。
A ceramic body,
An external electrode disposed on the outer surface of the ceramic body,
The external electrode is
A metal electrode layer containing a metal as a main component;
A conductive resin electrode layer containing metal powder and in contact with the metal electrode layer;
A ceramic electronic component, wherein a metal contained in the metal electrode layer and a metal powder contained in the conductive resin electrode layer are alloyed.
セラミック素体と、
前記セラミック素体の外表面に配置された外部電極と、を備え、
前記外部電極は、
金属を主成分として含有する金属電極層と、
前記金属電極層と接触すると共に、前記金属電極層に含有する金属と同じ金属成分からなる金属粉末を含有する導電性樹脂電極層と、を有しており、
前記金属電極層に含有する金属と、前記導電性樹脂電極層に含有する金属粉末とが結合していることを特徴とするセラミック電子部品。
A ceramic body,
An external electrode disposed on the outer surface of the ceramic body,
The external electrode is
A metal electrode layer containing a metal as a main component;
A conductive resin electrode layer that is in contact with the metal electrode layer and contains a metal powder composed of the same metal component as the metal contained in the metal electrode layer;
A ceramic electronic component comprising a metal contained in the metal electrode layer and a metal powder contained in the conductive resin electrode layer bonded together.
前記金属電極層は、前記セラミック素体の外表面に、前記金属電極層に主成分として含有する金属の粉末を含む導電性ペーストを塗布して焼き付けることにより形成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のセラミック電子部品。   The metal electrode layer is formed by applying and baking a conductive paste containing a metal powder contained as a main component in the metal electrode layer on an outer surface of the ceramic body. Item 3. The ceramic electronic component according to Item 1 or 2. 前記導電性樹脂電極層は、前記金属電極層の外表面に、前記導電性樹脂電極層に含有する金属粉末と熱硬化樹脂とを含む樹脂層形成用組成物を塗布して加熱することにより形成されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載のセラミック電子部品。   The conductive resin electrode layer is formed by applying and heating a resin layer forming composition containing a metal powder and a thermosetting resin contained in the conductive resin electrode layer on the outer surface of the metal electrode layer. The ceramic electronic component according to any one of claims 1 to 3, wherein the ceramic electronic component is provided.
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