JP6474512B1 - 下げ振り装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 この発明の課題は、レーザービームを用いるがレーザー受光装置を用いないで、簡単な操作で垂直度や心墨を確認することのできる、構造の簡単な下げ振り装置を提供すること。【解決手段】 レーザービームを発射するレーザービーム発射装置と、前記レーザービーム発射装置を搭載することができるとともに下げ振りを吊り下げる下げ振り垂下部を備える基台とを備え、前記レーザービーム発射装置は、レーザービームを以下の方向Ａに発射可能とすることを特徴とする下げ振り装置。[方向Ａ：下げ振り垂下部から吊り下げられた下げ振りに至る鉛直線を含む仮想平面Ｓ１内で発射する方向。]【選択図】 図１

Description

この発明は下げ振り装置に関し、さらに詳しくは、短時間のうちに容易かつ正確に垂直度や心墨を確認することのできる下げ振り装置に関する。

従来の下げ振り装置は、下げ振りと称される重りである錐とこれを吊り下げる吊り下げ条体例えば糸、ワイヤ、索とを備える。下げ振り装置は、下げ振りを吊り下げ条体で吊るして垂直状態の確認や心墨を出したり、或いは垂直の墨を出したりするために使用される。なお、「下げ振り」と言う用語は、下げ振り装置全体を指すことがあり、また前記錐を「下げ振り」と称することもある。

しかしながら、従来の下げ振り装置においては、錐である下げ振りの振り子運動、風や振動の影響による揺動運動によって、下げ振りを下端に装着する条体を垂直に停止させるのに長い時間が掛かっていた。したがって、従来の下げ振り装置にあっては垂直確認に長時間を要するという技術的問題点があった。

特許文献１には「極く短時間に自然静止状態とすると共に、容易かつ正確に垂直度や心墨を確認し得る下げ振りを提供することを目的として、・・本発明を完成した。」(段落番号０００４)と記載され、前記目的を達成する手段として「下げ振り本体がレーザーポインターを備えたものである」下げ振り装置が開示され（請求項１２）、「請求項１２記載の下げ振りと正方形状盤体の上面中心部に円形状のレーザー受光部を設けた下げ振り定規盤体とから成る下げ振り装置」が開示され（請求項１３）、「レーザーポインター９Lを備えた下げ振りをその上部から吊り下げれば、レーザー受光により側面垂直度や心墨が極めて容易かつ正確に確認測定される」（段落番号００４３欄）との開示がある。

レーザーポインターが下げ振りに装着されていると、下げ振りが静止したときにはレーザーポインターから発せられるレーザービームを、下げ振りの直下に位置する正方形状盤体に設けられたレーザー受光部が検出することができることは合理的であるが、下げ振りの振り子運動や揺動はこのレーザービームとレーザー受光部との組み合わせによって防止することができるとするのは合理的ではない。

特許文献２には、床面a上の任意の位置に設置された下げ振り装置２７側に光を照射する光源３４と、下げ振り装置２７の下げ振り２７a（２７ｂ）の少なくとも２箇所からの反射光ｇ１を検知する光検知装置４３を備える測量装置が開示されている。

この特許文献２に開示された測量装置は光としてレーザービームを採用するものの、建物等の構造物の水平度又は垂直（鉛直）度を容易に測量し得る測量測地である。

特開平８−９４３６０号 特開２００６−２９１４９７

本発明の課題は、レーザービームを用いるがレーザー受光装置を用いないで、簡単な操作で垂直度や心墨を確認することのできる、構造の簡単な下げ振り装置を提供することである。

前記課題を解決するための本発明の手段は、
（１） 基台と、
基台に搭載されるとともに、条体で下げ振りを吊り下げる下げ振り垂下部と、
下げ振り垂下部から吊り下げられた下げ振りに至る鉛直方向に対する水平方向に基台から所定の距離に位置するように基台に搭載されるとともに、レーザービームを以下の方向Aに発射可能とするレーザービーム発射送致とを備えることを特徴とする下げ振り装置であり、
[方向Ａ：下げ振り垂下部から条体で吊り下げられた下げ振りに至る鉛直線を含む仮想平面Ｓ１内で、下げ振りに照射する方向、及びその下げ振りを通る鉛直線に沿って下方に変位させる方向。]
（２） 前記下げ振りは、前記下げ振り垂下部から吊り下げられる鉛直線長さが１０〜５０ｃｍである前記（１）に記載の下げ振り装置であり、
（３） 前記レーザービーム発射装置は、レーザービームを以下の方向Ｂに発射可能とすることを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の下げ振り装置であり、
[方向Ｂ：前記仮想平面Ｓ１に対して任意の角度（角度ゼロを含む。）で交差する仮想平面Ｓ２内で発射する方向。]
（４） 前記発射方向調整装置が、前記基台の表面から所定高さに位置することを特徴とする前記（１）〜（３）のいずれか一項に記載の下げ振り装置であり、
（５） 前記発射方向調整装置が、前記基台の表面から所定の高さにまで高さ調節可能に形成されてなる前記（１）〜（４）のいずれかに記載の下げ振り装置である。

この発明の下げ振り装置にあっては、垂直度を確認する場合、取り付け面に取り付けた基台に搭載されたレーザービーム発射装置におけるレーザービームの光源から発射するレーザービームを、仮想平面Ｓ１内で、下げ振り垂下部から垂下した下げ振りに照射し、次いで、その下げ振りを通る鉛直線に沿ってレーザービームの照射方向を下方に変位させ、変位させた結果としてそのレーザービームが基準面に到達してレーザービームスポットが確認できるとその基準面で視認されるレーザースポットを、鉛直線における基準点であると確定することができる。

また、レーザービームの発射方向を方向Ｂに変更してレーザービームを対象物に照射すると、その対象物に照射されたレーザービームスポットとレーザービームの光源とで結ばれる仮想線を鉛直線に対する傾斜線と確定することができる。特に、方向Ｂが、前記仮想平面Ｓ１に対してレーザービーム発射装置におけるレーザービームの光源を中心にして直角の角度で交差する仮想平面Ｓ２内でレーザービームを発射する方向であると、下げ振りを含む鉛直線に対する水平線の確認をすることができる。

さらに、方向Ｂが、前記仮想平面Ｓ１に対してレーザービーム発射装置におけるレーザービームの光源を中心にして１８０度の角度で交差する仮想平面Ｓ２内でレーザービームを発射する方向であると、下げ振りを含む鉛直線の前記基準点の確定とともに鉛直線の上端点の確定確認をすることができる。

この発明に係る下げ振り装置によると、レーザービーム照射と言う簡単な操作によって、迅速に、かつ簡単な操作で鉛直線の基準点（起点とも称される）、起点を通る鉛直線、起点を通る鉛直線に対する水平線、起点を通る鉛直線の上端点等を、容易に確認することができる。

図１は、この発明に係る下げ振り装置による基準点を示す概念図であり、図１（a）はこの下げ振り装置を装着した取り付け面に直交する方向から見た平面での位置関係を示す概念図であり、図１（ｂ）は前記取り付け面に平行な平面、換言すると前記取り付け面を正面にした場合に、この正面を、この正面前方から観察して認識可能な平面での位置関係を示す概念図である。 図２は、この発明に係る下げ振り装置を壁面に設置した状態でその使用の態様を示す説明図である。 図３は、この発明に係る下げ振り装置において、レーザービーム発射装置から発せられるレーザービームの方向を、方向Ａから方向Ｂに変更することを説明する説明図である。

この発明に係る下げ振り装置は、レーザービーム発射装置と、前記レーザービーム発射装置を搭載することができるとともに下げ振りを吊り下げる下げ振り垂下部を備える基台とを備える。
前記レーザービーム発射装置は、基台に装着される。基台に装着された前記レーザービーム発射装置は、そのレーザービーム発射点から以下の方向Ａ及び方向Ｂに向けてレーザービームを発射し照射することができる。

図１（a）に示されるように、方向Ａは、通常は垂直面である取り付け面１に配置された基台２に設けられた前記レーザービーム発射装置における光源Cから発射されたレーザービーム４が、下げ振り垂下部から、吊り下げられた下げ振りD迄に至る鉛直線と一致する仮想的線分Ｌ１を含む仮想的平面Ｓ１内を直進光路４aによって進行する方向であり、下げ振りDに至ってこれを照射することのできる方向である。さらに具体的に言うと、通常の場合、鉛直面である取り付け面１に配置された基台２に設けられた前記レーザー発射装置３は、取り付け面１から水平方向に一定の距離Ｈのところに位置するように、基台２に設置されている。その基台２に設けられた下げ振り垂下部５からは、鉛直方向に沿って下げ振り６が吊り下げられている。したがって、下げ振り垂下部から鉛直方向の下方に吊り下げられた下げ振り６にレーザービーム発射装置３からレーザービーム４aを照射するためには、鉛直方向から所定の角度θ１（伏角と称することがある。）でレーザービーム４ａを発射することになる。なお、「伏角」は、一般に、水平方向に対する角度を言うが、この発明においては、レーザービームの光源Ｃを通る鉛直線から、下げ振りＤを含む鉛直線に向かう角度を伏角と称する。また、前記下げ振り垂下部は、吊り下げられた下げ振りを下端部とする鉛直線における上端部に位置する。

さらに、このレーザービーム発射装置３により発射されるレーザービーム４の方向として、方向Ｂがある。
図１（ｂ）に示されるように、この方向Ｂは、前記仮想平面Ｓ１に対して、レーザービーム４の光源Ｃを中心にして所定の角度θ２で交差する仮想平面Ｓ２内で、レーザービーム４が進行する方向である。さらに具体的に言うと、仮想平面Ｓ１と仮想平面Ｓ２とは所定の角度θ２（角度ゼロを含む。）で交差する。角度θ２がゼロ度であるときには、仮想平面Ｓ１と仮想平面Ｓ２とは同一仮想平面Ｓ３（Ｓ１＝Ｓ２）となる。仮想平面Ｓ１と仮想平面Ｓ２とが同一平面Ｓ３である場合、レーザービーム発射装置３から発射されたレーザービーム４は、照射された下げ振りＤから鉛直方向の下方に向かって進行させることができる。また、仮想平面Ｓ１と仮想平面Ｓ２とが直交する場合には、レーザービーム発射装置３から発射されたレーザービーム４は、鉛直方向に対して直交する方向に発射され、進行することになる。また、仮想平面Ｓ１と仮想平面Ｓ２との交差する角度θ２が１８０度であるときには仮想平面Ｓ１と仮想平面Ｓ２との交差角度がゼロと同じである。角度θ２が１８０度である場合には、レーザービーム発射装置３の光源Ｃから発射されるレーザービーム４の方向は、光源Ｃから発射されたレーザービーム４が、下げ振り垂下部から下げ振りＤまでの鉛直線を含んで下げ振りＤとは反対側の方向に延在する鉛直線に向かって伏角θ１で進行し、そして取り付け面１と面一の平面に交差する方向となる。

通常、このレーザービーム発射装置は、レーザービームを発射する光源と、光源から発射されるレーザービームの発射方向を前記方向Ａに調整することができ、好ましくはレーザービームの発射方向を前記方向Ａ及び前記方向Ｂに調整することができるように、形成される。

このレーザービーム発射装置３は、取り付け面１に基台２を取り付けた場合に、基台２から吊り下げられた下げ振りＤの鉛直方向に平行に発射されるレーザービーム４を下げ振りＤに向けて発射することができるように、レーザービーム４の発射方向、換言すると伏角θ１を調整することができ、しかもレーザービーム４を前記下げ振りＤに発射した後にレーザービーム４の発射方向を下げ振りＤの下方に向かう鉛直方向にレーザービーム４を発射して下げ振りＤの下方に位置する鉛直方向と交差することができるように、レーザービーム発射方向、換言すると伏角θ１を調整することができるようになっている。なお、下げ振りＤの鉛直方向下方であって、床面、地面等の何らかの基準面と前記レーザービーム４の投射方向とが交差する点が、前記基準面から立ち上がる鉛直線の基準点Ｅになる。

さらに、このレーザービーム発射装置は前記伏角θ１の外に角度θ２に変化させることが好ましい。

また、このレーザービーム発射装置が有するレーザービーム４の光源Ｃは、基台２の表面から所定の距離を有するように、換言すると、取り付け面１が鉛直面である場合にその取り付け面１に直交する水平方向における、取り付け面１からの距離Ｈを有するように、設置される。

なお、レーザービーム発射装置は、前記光源Ｃの取り付け面１からの距離Ｈを可変することができるように構成されるのが好ましい。
基台は、例えば紐、ワイヤ、鎖等の条体で下げ振りを吊り下げる下げ振り垂下部を備える。下げ振り垂下部は、手動で、又は自動で下げ振りを基台から任意の長さで吊り下げる機構を有する。通常の場合、下げ振り垂下部は、前記条体を巻き付けるリールと、このリールを回転させるモータ等の自動回転装置、又はリールを手動で回転させる手動回転装置とを有するのが、好ましい。下げ振りは、その形状について特に制限がなく、公知の形状を採用することができる。

前記基台は、レーザービーム発射装置を搭載することができ、また、基台取り付け部と下げ振り垂下部とを備える限り、その形状やその形状を形作る素材について特に制限がない。この基台は、前記下げ振り垂下部を内蔵することができるように様々の形状又はデザインを有する箱型であっても良く、箱型以外の適宜の形状であっても良い。

図１(ａ)及び図１（ｂ）に示されるように、前記基台取り付け部は、取り付け面に取り付けたこの基台が垂直移動又は水平移動することがなく、しかも前記取り付け面に対して基台取り付け部を中心にしてこの基台を回動することができるように、この基台を取り付け面に取り付ける機能を有する。なお、「垂直移動及び水平移動することがなく」との意味は、取り付け面に基台を取り付けた場合に、基台が重力によって自然落下することがなく、また、重力以上人の腕力以下の力を加えても容易に基台が取り付け面上で下降したり、その位置を変更することがないことを含む。また、「回動することができる」との意味は、この基台における所定位置を中心にして前記取り付け面に平行な面内で基台を、人の腕力又は機械力で回動することを含む。

前記基台取り付け部は、例えば、基台を基台取り付け面に取り付けようとする場合に、基台取り付け面に向かう基台の表面に設けた例えばピン、及び針状部材等の突起で形成することができる。また、前記基台取り付け部は、基台を取り付ける基台取り付け面が鉄などである場合には、磁石で形成することができる。この磁石は、基台取り付け面に取り付けた基台を手動で、或いは電動で回動させることのできる程度の磁力を有する磁石を採用することができる。また、前記基台取り付け部は、吸盤等の大気圧差を利用して取り付ける機構を採用することもできる。

縦方向あるいは鉛直方向に立設された取り付け面に基台を設置した場合に、前記レーザービーム発射装置から発射されるレーザービームの発射方向（図１(a)における紙面左方向から見た方向）が下げ振りの垂下する鉛直方向と一致しないとき、つまりレーザービームの発射方向と下げ振りを吊り下げる条体の垂下方向とが交差するときには、基台取り付け部の取り付け面に対する取り付け位置を水平方向又は垂直方向に沿って変更し、或いは前記取り付け位置を変更しない状態で基台を、基台取り付け部を中心にして、回動することにより、レーザービームの発射方向と下げ振りを吊り下げる条体の鉛直方向とが一致するように（図１(b)に示されるように、下げ振りDにより形成される鉛直線を含む平面に投影される光源Cから発せられるレーザービームの発射方向の投影方向とが一致するように）、基台取り付け部によって基台の取り付け位置を調整することができる。レーザービームの発射方向（正確には、下げ振りを通る鉛直線を含む鉛直面に投影される発射方向）と下げ振りを吊り下げる条体の鉛直方向との一致又は不一致は、この下げ振り装置を操作する操作者により、又はこの下げ振り装置を取り付ける前記取り付け面の正面に位置する観察者により、容易に確認することができる。

以上の構成を有する下げ振り装置は、以下のようにして操作する。
基台取り付け部によって、基台が取り付け面上で水平移動し、或いは垂直移動することがないように、要するに重力で下げ振り装置がずり下がったり、少々の力で下げ振り装置の取り付け状態又は下げ振り装置の取り付け姿勢が変化しないように、取り付け面に下げ振り装置を取り付ける。

下げ振り装置の下げ振り垂下部によって下げ振りを吊り下げる。下げ振りが吊り下げられる鉛直線長さは通常、１０ｃｍから５０センチまでの範囲に調節するのが好ましい。前記鉛直線長さが前記範囲であると、短時間のうちに下げ振りが静止するからである。前記鉛直線長さが５０ｃｍを超えると、風や振動などによる揺動運動又は振り子運動によって下げ振りが静止するのに時間が掛かる。また、下げ振り自体の重量が１００ｇ〜１０００ｇ、特に１００ｇ〜５００ｇであるのが好ましい。

レーザービーム発射装置をスイッチオンにしてレーザービーム発射装置からレーザービームを発射する。発射方向調整装置によって発射されるレーザービームの発射方向を調節して、レーザービームを、下げ振り垂下部から吊り下げられた下げ振りに向けて、発射する。取り付け面に向かう観察者の位置から見て、レーザービームの発射方向（鉛直線を通る平面に投影される方向）と下げ振りを通る鉛直線方向とが交差しているときには、取り付け面における下げ振り装置の取り付け位置を変更することにより、又は基台取り付け部を中心にして基台を回動させることにより、観察者から見て、レーザービームの発射方向と下げ振りを含む鉛直線方向とが一致するようにレーザービーム発射装置の位置を決定する。

仮想平面Ｓ１に直交する仮想平面に投影されたレーザービームの発射方向と下げ振りを含む鉛直線方向とが一致した状態で、仮想平面Ｓ１内で発射方向調整装置を操作して、つまり伏角θ１を調節してレーザービーム発射装置から発せられるレーザービームが下げ振りを照射するように、つまり、レーザービームが下げ振りに命中するようにする。

この状態では、下げ振り垂下部から吊り下げられた下げ振りに至る鉛直線と一致する仮想的線分Ｌ１を含む平面Ｓ１内で、吊り下げられた下げ振りを前記レーザービームが伏角θ１で照射していることになる。
次いで、発射方向調整装置を操作して、前記仮想的線分Ｌ１における下げ振りの位置からさらに前記仮想的線分Ｌ１が直線状に延長する仮想的延長線Ｌ２上に下げ振り垂下部と仮想的線分Ｌ１と仮想的線分Ｌ２とを含む面内で、伏角θ１を調節してレーザービームの発射方向を下げ振りの下方に変更して行く。レーザービームの発射方向を変更してレーザービームが基準面例えば床面、地面、その他の平面に到達すると、その基準面におけるレーザービーム照射スポットが、鉛直線が立ち上がる基準点であると決定することができる。

また、仮想平面Ｓ１内でレーザービーム発射装置から発射されるレーザービームを下げ振りに投射し、つまり命中させた後に、発射方向調整装置によって、前記仮想平面Ｓ１に直交する仮想平面において投影されるレーザービームの発射方向を鉛直方向に対して直角となる方向にレーザービームの発射方向を変更し、次いで発射方向調整装置によってレーザービームの発射方向の伏角を調整することにより、レーザービームの投射スポットが形成される地点を決定すると、鉛直方向に対する正確な水平方向を決定することができる。

さらにまた、仮想平面Ｓ１に直交する仮想平面に投影されたレーザービームの発射方向と下げ振りを含む鉛直線方向とが一致した状態で、仮想平面Ｓ１内で発射方向調整装置を操作して、つまり伏角θ１を調節してレーザービーム発射装置から発せられるレーザービームが下げ振りを照射するように、つまり、レーザービームが下げ振りに命中するようにし、次いで、発射方向調整装置を操作して、前記仮想的線分Ｌ１における下げ振りの位置からさらに前記仮想的線分Ｌ１が直線状に延長する仮想的延長線Ｌ２上に下げ振り垂下部と仮想的線分Ｌ１と仮想的線分Ｌ２とを含む面内で、伏角θ１を調節してレーザービームの発射方向を下げ振りの下方に変更して、鉛直線が立ち上がる基準点であると決定してから、次のようにすると、前記基準点から立ち上がる鉛直線の上部基準点を決定することができる。

すなわち、発射方向調整装置によりレーザービーム発射装置から発射されるレーザービームの進行方向を、仮想的平面Ｓ１内にあるように決定する。そして伏角θ１を調整することによりレーザービームが照射するレーザービーム照射スポットを鉛直線の上部基準点であると決定する。

次にこの発明の一実施例である下げ振り装置について説明する。
図２は、この発明の一実施例である下げ振り装置を示す説明図である。
図２に示されるように、下げ振り装置１０は、レーザービーム発射装置１１と基台１２とを備える。

前記基台１２は、この下げ振り装置１０を取り付け面１３に取り付ける基台取り付け部１４を備える。
基台取り付け部１４は、取り付け面１３に基台１２を、容易に外れないように取り付けることができる限り、その構造又は構成について特に制限がない。取り付け面が鉄、コバルト、ニッケル又はこれらの合金で形成されている場合には、これらに磁力で結合する磁石でこの基台取り付け部１４を形成することができる。また、取り付け面１３が木質、モルタル質等の容易に針状部材を通すことのできる部材で形成されているときには、適宜長さの針部材又は穿刺部材で形成することができる。

なお、前記取り付け面１３は、前記基台取り付け部材１４を取り付けることのできる面積を少なくとも有する限り種々の部材の面であってよい。
基台１２の内部には、下げ振りを吊り下げる下げ振り垂下部（図示せず。）を有する。この下げ振り垂下部は、下げ振り１５を一端に吊り下げる条体１６例えばワイヤ、紐等と、この条体１６を巻き付けることができ、巻き付けた条体１６を繰り出し、また繰り出した条体１６を巻き取ることのできるリール（図示せず。）を有する。このリールの回転は手動で行うことができるが、利便性を考慮するとリールの回転をスイッチで、つまり自動で行うことができるようにするのが好ましい。自動でリールを回転させるために、リールの回転軸を回転させるための、駆動装置例えばモータと、モータの回転を適切な回転数に原則する減速機と、減速機から出力される回転力をリールの回転軸に伝達する動力伝達機構とを、動力装置として基台１２に内蔵させることも好ましい。ない、駆動装置はスイッチのオンオフにより駆動及び停止が行われることは言うまでもない。

下げ振り垂下部から吊り下げられる下げ振り１５を吊り下げる長さは、通常、１０ｃｍから５０センチまでの範囲にするのが好ましい。吊り下げる長さが長大であると下げ振りの振り子運動や振動による揺動によって下げ振りの静止に時間が掛かりすぎて実用的ではない。

基台１２は、レーザービーム発射装置１１を搭載する。
レーザービーム発射装置１１は、レーザービームを発射する光源としてのレーザー発振器（図示せず。）と、レーザービームの発射角すなわち伏角θ１を調整することができるレーザービーム照射方向変更装置と有する限り様々の構造を採用することができる。
レーザービーム照射方向変更装置は、下げ振り垂下部から吊り下げられた下げ振りに至る鉛直線を含む仮想平面Ｓ１内で伏角θ１を変えてレーザービームを照射する方向を変更する装置である。

前記伏角θ１は、下げ振り垂下部から条体１６を介して吊り下げられた下げ振り１５により形成される仮想的な鉛直線、すなわち下げ振り垂下部から吊り下げられた下げ振り１５に至る鉛直線と一致する仮想的線分Ｌ１を含む仮想平面Ｓ１内で、レーザービーム１７の直進方向と下げ振りの通る鉛直線とのなす角度である。この仮想平面Ｓ１は、取り付け面が垂直面であるなら、通常、その垂直面と直交する。

図３に示されるように、この仮想平面Ｓ１内に、条体１６とこれよって吊り下げられた下げ振り１５とで形成される鉛直線１８と、レーザービーム１７の直進経路とが存在するのであるから、取り付け面１３に直交する方向から前記取り付け面１３に設置された下げ振り装置１０を観察すると、鉛直線１８とレーザービーム１７の直進経路とが一致する。

このレーザービーム発射装置１１は、レーザービーム１７を発射する光源の位置を取り付け面１３に対して調節することができるように形成されているのが、好ましい。レーザービーム１７を発射する光源の位置、つまりこの実施例では、図２に示されるように、取り付け面１３から光源までの水平距離Ｈは、取り付け面１３にこの下げ振り装置１０を設置したときにレーザービーム発射装置１１から発射されるレーザービーム１７が妨げなく直進することのできる限り、適宜に決定することができる。
伏角θ１を調整してレーザービームの照射方向を変更する機構は適宜の機械的手段により構成することができる。

このレーザーブーム照射方向変更装置は、レーザービームが発射される方向Ａを、仮想平面Ｓ１に対して任意の角度θ２で交差し、取り付け面１３に直交する仮想平面Ｓ２に含まれる方向Ｂに変更する機構を有するのが好ましい。なお、角度θ２はゼロ度を含む。
レーザー発振器で発振したレーザービームをレーザービーム発射装置から発射する場合、レーザービームの発射方向を方向Ａから方向Ｂに変更する機構は、レーザービーム発射装置を、例えば図２に示されるように、鉛直面である取り付け面１３に投影されるレーザービームの投射方向を任意の角度θ２、例えばゼロ度、９０度、１８０度に変更することができるようにレーザービーム発射装置を搭載するターンテーブルで、形成することができる。

以上に説明した下げ振り装置は以下のようにして操作することができる。
取り付け面１３にこの下げ振り装置１０を取り付ける。取り付け面１３は鉛直面であるのが好ましいが、鉛直面でない場合であっても下げ振り１５を鉛直方向に垂らすことができるのであれば取り付け面１３は鉛直面でなくても良く、傾斜面であっても良い。
取り付け面１３に取り付けられた下げ振り装置１０の下げ振り垂下部から下げ振り１５を適宜の長さ分だけ吊り下げる。下げ振り１５が鉛直方向に吊り下げられる。下げ振り１５を鉛直方向に吊り下げる長さとして、下げ振り１５を下端とする鉛直線の条体の下端から、鉛直線の条体の上端までの長さが、通常、１０ｃｍから５０センチまでの範囲における適宜の長さであるのが好ましい。

下げ振りを吊り下げている条体が形成する鉛直線における下げ振りから条体の上端までの長さが前記長さ範囲にあると、条体が初期に振り子運動をしていても短期に静止し、また振動等で揺動していても短期間のうちに静止する。
下げ振りが静止すると、レーザービーム発射装置から、図２に示されるように、レーザービーム１７が下げ振り１５に向けて発射され、下げ振り１５に照射される。

レーザービーム１７が下げ振り１５を照射すると、レーザービーム発射装置から発射されるレーザービーム１７の伏角θ１を変更し、これによってレーザービーム１７の進行方向を変更してレーザービーム１７が下げ振り１５を通る鉛直線をなぞるようにレーザービーム１７の直進方向を変えて行く。
直進方向が変えられて行くレーザービーム１７の直進進路が、下げ振り１５の直下に存在する基準面Ｆに到達すると、その基準面Ｆにレーザービーム１７のスポットが観察されることができる。

そのスポットがレーザービームスポットであり、そのレーザービームスポットが下げ振り１５を通る鉛直線の起点であると確認することができる。
また、レーザービーム発射装置から発射されるレーザービーム１７の方向を方向Ａから方向Ｂに変更すると、つまり、図２に示されるように、レーザービーム１７の属する仮想平面Ｓ１に対して、図３に示されるように、直交する仮想平面Ｓ２にレーザービーム１７が属するようにレーザービーム１７の発射方向を変更すると、仮想平面Ｓ２内で伏角θ１をもって進行するレーザービーム１７が照射するスポットを確定すると、レーザービーム１７の発射点とそのスポットとで結ぶ線が水平線であると確認することができる。

さらに、レーザービーム発射装置から発射されるレーザーブーム１７の方向を方向Ａから方向Ｂに変更すると、つまりレーザービーム１７の進行方向を鉛直面に投影したときのそのレーザービーム１７の投影進行方向１７を角度１８０度に変更すると、レーザービーム発射装置１１から発射されるレーザービーム１７の投影進行方向は仮想平面Ｓ１内であって、下げ振り１５の吊り下げられる方向とは逆になる。そして変更後のレーザービーム１７は伏角θ１で進行するので、鉛直平面にレーザービーム１７のスポットが形成される。そのスポットにより下げ振り１５の下方で確定された鉛直線の起点とそのスポットとにより鉛直線上端、或いは鉛直線を確定することができる。

１ 取り付け面
２ 基台
３ レーザービーム発射装置
４、４ａ、４ｂ レーザービーム
１０ 下げ振り装置
１１ レーザービーム発射装置
１２ 基台
１３ 取り付け面
１４ 基台取り付け部
１５ 下げ振り
１６ 条体
１７ レーザービーム
１８ 鉛直線
θ１ 伏角
Ｓ１ 仮想平面
Ｌ１ 仮想的線分
Ｈ 水平距離
Ｆ 基準面

Claims (5)

1. 基台と、
   基台に搭載されるとともに、条体で下げ振りを吊り下げる下げ振り垂下部と、
   下げ振り垂下部から吊り下げられた下げ振りに至る鉛直方向に対する水平方向に基台から所定の距離に位置するように基台に搭載されるとともに、レーザービームを以下の方向Aに発射可能とするレーザービーム発射装置とを備えることを特徴とする下げ振り装置。
   [方向Ａ：下げ振り垂下部から条体で吊り下げられた下げ振りに至る鉛直線を含む仮想平面Ｓ１内で、下げ振りに照射する方向、及びその下げ振りを通る鉛直線に沿って下方に変位させる方向。]
2. 前記下げ振りは、前記下げ振り垂下部から吊り下げられる鉛直線長さが１０〜５０ｃｍである前記請求項１に記載の下げ振り装置。
3. 前記レーザービーム発射装置は、レーザービームを以下の方向Ｂに発射可能とすることを特徴とする前記請求項１又は２に記載の下げ振り装置。
   ［方向Ｂ：前記仮想平面Ｓ１に対して任意の角度（角度ゼロを含む。）で交差する仮想平面Ｓ２内で発射する方向。］
4. 前記レーザービーム発射装置が、前記基台の表面から所定高さに位置することを特徴とする前記請求項１〜３のいずれか一項に記載の下げ振り装置。
5. 前記レーザービーム発射装置が、前記基台の表面から所定の高さにまで高さ調節可能に形成されてなる前記請求項１〜４のいずれか一項に記載の下げ振り装置。

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