JP6473508B2 - オーバーレイ誤差を検出するための装置及び方法 - Google Patents
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Description
光源は測定光を生成し、
照明システムは、対物レンズに測定光を入射させ、
前記対物レンズは、前記測定光をオーバーレイマーク上に導き、前記オーバーレイマークから回折された回折光成分の主要な最大値を収集し、前記回折光成分の前記主要な最大値を前記対物レンズの瞳面に集光し、
前記対物レンズの前記瞳面上に配置された検出器は、前記オーバーレイマークのオーバーレイ誤差を得るように前記検出器上の前記回折光成分の前記主要な最大値の位置を検出する。
これは、照明の均一性や透過均一性等の影響を排除し、回折光の位置情報に基づいて、オーバーレイ誤差測定を可能にする。
有効な露光領域のより小さい部分を占める小さな測定マークを使用することが許されている。その結果、オーバーレイマークのコスト及びそのチップ製造への悪影響が低減される。
より小さいマークの使用は、従来の技術では不可能であった露光フィールド内での測定を可能にし、オーバーレイ誤差測定精度に関する新しい技術ノードの高い要求を満たす。
図2に示すように、オーバーレイ誤差検出のための装置は、以下に詳述するような構成要素を含む。
図11に示すように、本実施形態では、偏光子44が含まれていないことを除いて、本質的に実施形態1と同じである。すなわち、偏光子は必ずしも必要ではなく、2つの異なる開口絞り45に対するオーバーレイ信号が依然として得られ、偏光子なしであってもオーバーレイ誤差計算の基礎として役立つ。
これは、照明の均一性や透過均一性等の影響を排除し、回折光の位置情報に基づいて、オーバーレイ誤差測定を伴う。
有効な露光領域のより小さい部分を占める小さな測定マークを使用することが許されている。その結果、オーバーレイマークのコスト及びそのチップ製造への悪影響が低減される。
より小さいマークの使用は、従来の技術では不可能であった露光フィールド内での測定を可能にし、オーバーレイ誤差測定精度に関する新しい技術ノードの高い要求を満たす。
6 基板
30 干渉フィルタ
32 オーバーレイマーク検出器
34 反射面
40 後側焦点面
41 光源
42 コリメータレンズ
43 フィルタ
44 偏光子
45 開口絞り
46 第1レンズ
47 視野絞り
48 第2レンズ
49 スプリッタ
410 対物レンズ
411 オーバーレイマーク
412 レンズ群
413 検出器
451 円形の穴
452 スリット
F、f 焦点距離
L、L1、L2 距離
Ls1 対物レンズ
Ls2 レンズ
θ 回折角
ρ 半径
Claims (16)
- オーバーレイ誤差検出のための装置であって、光源と、照明システムと、対物レンズと、検出器と、を備え、
前記光源は、測定光を生成するように構成され、
前記照明システムは、前記測定光を前記対物レンズに入射させるように構成され、
前記対物レンズは、前記測定光を、それぞれが所定の偏差を有する3つのオーバーレイマークを含むオーバーレイマーク上に導き、前記それぞれのオーバーレイマークから回折された回折光成分の主要な最大値を収集し、前記回折光成分の前記主要な最大値を前記対物レンズの瞳面に集光するように構成され、
前記検出器は、前記検出器上の前記それぞれのオーバーレイマークから回折された前記回折光成分の前記主要な最大値の位置と、フィッティングによって得られるオーバーレイ誤差との相関に基づいて、前記オーバーレイマークの前記オーバーレイ誤差を得るように前記検出器上の前記それぞれのオーバーレイマークから回折された前記回折光成分の前記主要な最大値の前記位置を検出するように構成される、
装置。 - 前記照明システムは、コリメータレンズと、フィルタと、第1レンズと、視野絞りと、第2レンズと、スプリッタと、を有し、前記測定光の伝搬方向に沿って連続して配置されている、請求項1に記載の装置。
- 前記照明システムは、前記フィルタと前記第1レンズとの間に配置された偏光子をさらに備える、請求項2に記載の装置。
- 前記オーバーレイマークのピッチの数は20未満であり、前記オーバーレイマークは、10μm(マイクロメートル)×10μm(マイクロメートル)以下のサイズを有する、請求項1に記載の装置。
- 前記照明システムは、前記フィルタと前記第1レンズとの間に配置された開口絞りを備え、前記開口絞りは、円形の穴、又はスリットとして実装される、請求項2に記載の装置。
- 2つの円形の穴、又は2つのスリットが設けられ、前記2つの円形の穴、又はスリットは、前記開口絞りの中心に対して互いに対称である、請求項5に記載の装置。
- 少なくとも3つの円形の穴、又はスリットが設けられる、請求項5に記載の装置。
- 前記回折光成分の前記主要な最大値は、プラスとマイナスの1次のものである、請求項1に記載の装置。
- 前記オーバーレイマークは、基板内に形成された2つの積層された回折格子からなる、請求項1に記載の装置。
- 請求項1〜請求項9のいずれか1つに記載の装置を使用するオーバーレイ誤差検出のための方法であって、
光源は測定光を生成し、
照明システムは、対物レンズに前記測定光を入射させ、
前記対物レンズは、前記測定光を、それぞれが所定の偏差を有する3つのオーバーレイマークを含むオーバーレイマーク上に導き、前記3つのオーバーレイマークは、第1のオーバーレイマークが第2のオーバーレイマークと第3のオーバーレイマークとの間に位置するように配置され、前記それぞれのオーバーレイマークから回折された回折光成分の主要な最大値を収集し、前記回折光成分の前記主要な最大値を前記対物レンズの瞳面に集光し、
検出器は、前記検出器上の前記それぞれのオーバーレイマークから回折された前記回折光成分の前記主要な最大値の位置と、フィッティングによって得られるオーバーレイ誤差との相関に基づいて、前記オーバーレイマークの前記オーバーレイ誤差を得るように前記検出器上の前記それぞれのオーバーレイマークから回折された前記回折光成分の前記主要な最大値の前記位置を検出する、
方法。 - 前記オーバーレイマークのピッチの数は20未満であり、前記オーバーレイマークは、10μm(マイクロメートル)×10μm(マイクロメートル)以下のサイズを有する、請求項10に記載の方法。
- 前記照明システムは、円形の穴、又はスリットとして実装される開口絞りを備える、請求項10に記載の方法。
- 2つの円形の穴、又は2つのスリットが設けられ、前記2つの円形の穴、又はスリットは、前記開口絞りの中心に対して互いに対称である、請求項12に記載の方法。
- 少なくとも3つの円形の穴、又はスリットが設けられる、請求項12に記載の方法。
- 前記回折光成分の前記主要な最大値は、プラスとマイナスの1次のものである、請求項10に記載の方法。
- 前記オーバーレイ誤差は、前記検出器上の前記回折光成分の前記主要な最大値の前記位置に線形適合を行うことによって得られる、請求項10に記載の方法。
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