JP6468290B2 - 高周波モジュール - Google Patents
高周波モジュール Download PDFInfo
- Publication number
- JP6468290B2 JP6468290B2 JP2016554095A JP2016554095A JP6468290B2 JP 6468290 B2 JP6468290 B2 JP 6468290B2 JP 2016554095 A JP2016554095 A JP 2016554095A JP 2016554095 A JP2016554095 A JP 2016554095A JP 6468290 B2 JP6468290 B2 JP 6468290B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- inductor
- matching circuit
- terminal
- frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 51
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 38
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 38
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 38
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 52
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 17
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 15
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 10
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 10
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/0004—Impedance-matching networks
- H03H9/0009—Impedance-matching networks using surface acoustic wave devices
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/01—Frequency selective two-port networks
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/38—Impedance-matching networks
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/02—Details
- H03H9/05—Holders; Supports
- H03H9/10—Mounting in enclosures
- H03H9/1064—Mounting in enclosures for surface acoustic wave [SAW] devices
- H03H9/1071—Mounting in enclosures for surface acoustic wave [SAW] devices the enclosure being defined by a frame built on a substrate and a cap, the frame having no mechanical contact with the SAW device
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/25—Constructional features of resonators using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/46—Filters
- H03H9/64—Filters using surface acoustic waves
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/70—Multiple-port networks for connecting several sources or loads, working on different frequencies or frequency bands, to a common load or source
- H03H9/703—Networks using bulk acoustic wave devices
- H03H9/706—Duplexers
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H9/00—Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
- H03H9/70—Multiple-port networks for connecting several sources or loads, working on different frequencies or frequency bands, to a common load or source
- H03H9/72—Networks using surface acoustic waves
- H03H9/725—Duplexers
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04B—TRANSMISSION
- H04B1/00—Details of transmission systems, not covered by a single one of groups H04B3/00 - H04B13/00; Details of transmission systems not characterised by the medium used for transmission
- H04B1/38—Transceivers, i.e. devices in which transmitter and receiver form a structural unit and in which at least one part is used for functions of transmitting and receiving
- H04B1/40—Circuits
- H04B1/50—Circuits using different frequencies for the two directions of communication
- H04B1/52—Hybrid arrangements, i.e. arrangements for transition from single-path two-direction transmission to single-direction transmission on each of two paths or vice versa
- H04B1/525—Hybrid arrangements, i.e. arrangements for transition from single-path two-direction transmission to single-direction transmission on each of two paths or vice versa with means for reducing leakage of transmitter signal into the receiver
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
- Transceivers (AREA)
- Filters And Equalizers (AREA)
Description
本発明の高周波モジュールの第1実施形態について、図1〜図5を参照して説明する。なお、図1〜図3では、本発明にかかる主要な構成のみが図示されており、説明を簡易なものとするために、その他の構成は図示省略されている。また、後の説明で参照する各図面についても、図1〜図3と同様に主要な構成のみが図示されているが、以下の説明においてはその説明は省略する。
図1〜図3に示す高周波モジュール1は、携帯電話や携帯情報端末などの通信携帯端末が備えるマザー基板に搭載されるものであり、この実施形態では、第1のフィルタ14および第2のフィルタ15が設けられたフィルタ部品10(デュプレクサ)と、モジュール基板2と、整合回路3と、スイッチICや他のフィルタ部品、抵抗、コンデンサ、インダクタなどの各種の電子部品(図示省略)とを備え、高周波アンテナスイッチモジュールとして形成されている。
フィルタ部品10は、ウェハレベルパッケージ(WLP)構造を有し、平面視矩形状のフィルタ基板11と、絶縁層12と、カバー層13と、高周波信号の通過帯域が異なる第1のフィルタ14および第2のフィルタ15とを備えている。
この実施形態では、フィルタ部品10の第1のフィルタ14の特性調整用の各インダクタL1,L2は、それぞれ、モジュール基板2内に形成された配線電極6により形成されている。また、図1および図2に示すように、インダクタL2を形成する配線電極6が平面視において回路部品3aに接近して配置されている。また、シールド電極7が、平面視でモジュール基板2内において、インダクタL2とフィルタ部品10との間に配置されている。また、図2に示されているように、この実施形態では、平面視でモジュール基板2における、整合回路3を形成するインダクタ3bを有する回路部品3aの直下にシールド電極7が配置されていない。また、シールド電極7は、インダクタL2と、第1、第2のフィルタ14,15との磁界結合および/または電界結合を抑制するように配置されている。また、この実施形態では、平面視で、インダクタL2は第1のフィルタ14と重ならないように配置されている。
次に、フィルタ部品10のアイソレーション特性について説明する。なお、図4および図5に示すアイソレーション特性は、それぞれ、所定の周波数の送信信号が送信電極Txa(送信端子Txb)に入力されたときに受信電極Rxa(受信端子Rxb)において観測される送信信号の大きさを示したものである。なお、図4および図5それぞれの横軸は、送信電極Txaに入力された高周波信号の周波数(MHz)を示し、縦軸は、受信電極Rxbで観測された高周波信号の信号レベル(dB)を示す。なお、図4および図5中において矢印で示す周波数範囲は受信信号の周波数帯域(第2のフィルタ15の通過帯域)に相当し、送信電極Txaに入力されて第1のフィルタ14を通過した送信信号に含まれる当該周波数範囲の信号成分が所定の大きさ以下に抑制される必要がある。
次に、図6を参照して本発明の第2実施形態について説明する。
次に、図7を参照して本発明の第3実施形態について説明する。
次に、図8および図9を参照して本発明の第4実施形態について説明する。
次に、図10を参照して本発明の第5実施形態について説明する。
2 モジュール基板
2a 実装面
2b 実装用の電極
21〜24 誘電体層
3 整合回路
3a 回路部品
3c インダクタ(第2のインダクタ)
7 シールド電極
6,8 配線電極
10 フィルタ部品
14 第1のフィルタ
ANTb 共通端子(第2端子)
GNDa グランド電極(グランド)
GNDb グランド端子(第3端子)
L1,L2 インダクタ
Txb 送信端子(第1端子)
Claims (9)
- 第1の高周波信号が入力される第1端子、
前記第1端子に入力された前記第1の高周波信号が通過する第1のフィルタ、
前記第1のフィルタを通過した前記第1の高周波信号を出力する第2端子、および
前記第1のフィルタに接続された第3端子を有するフィルタ部品と、
前記第2端子に接続された整合回路と、
前記フィルタ部品が実装されたモジュール基板と、
前記モジュール基板内に設けられ、一端が前記第3端子に接続され、他端がグランドに接続された前記第1のフィルタの特性調整用のインダクタと、
前記インダクタと前記フィルタ部品との間に設けられたシールド電極とを備え、
前記インダクタと前記整合回路とが、電磁界結合により伝搬経路を形成するように配置され、
前記整合回路と前記フィルタ部品とは電磁界結合せず、
前記シールド電極は、
前記インダクタと前記フィルタ部品との電磁界結合を抑制するように配置されている
ことを特徴とする高周波モジュール。 - 前記整合回路と前記第1のフィルタとは電磁界結合せず、
前記シールド電極は、前記インダクタと前記第1のフィルタとの電磁界結合を抑制するように配置されていることを特徴とする請求項1に記載の高周波モジュール。 - 前記整合回路と前記第1フィルタとの距離は、前記整合回路と前記インダクタとの距離よりも長いことを特徴とする請求項2に記載の高周波モジュール。
- 前記整合回路は、前記モジュール基板の実装面に設けられた実装用の電極に実装されたチップ型の回路部品により構成され、
平面視で、前記回路部品と前記シールド電極とが重ならないように配置されることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の高周波モジュール。 - 前記モジュール基板は複数の誘電体層から構成され、
前記整合回路はモジュール基板内に設けられ、
前記整合回路と前記第1のフィルタとの間に、前記シールド電極が設けられていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の高周波モジュール。 - 前記整合回路は、前記複数の誘電体層のうち前記インダクタが設けられている誘電体層と同じ誘電体層に設けられていることを特徴とする、請求項5に記載の高周波モジュール。
- 前記整合回路は、前記複数の誘電体層のうち前記インダクタが設けられている誘電体層と異なった誘電体層に設けられており、前記整合回路と前記インダクタは平面視で一部が重なるように配置されていることを特徴とする、請求項5に記載の高周波モジュール。
- 前記整合回路は、前記複数の誘電体層にわたって設けられた配線電極から構成され、
前記インダクタは、前記複数の誘電体層にわたって設けられた配線電極から構成されていることを特徴とする、請求項6または7に記載の高周波モジュール。 - 平面視で、前記インダクタは前記第1のフィルタと重ならないように配置されていることを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載の高周波モジュール。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014211590 | 2014-10-16 | ||
JP2014211590 | 2014-10-16 | ||
PCT/JP2015/078996 WO2016060151A1 (ja) | 2014-10-16 | 2015-10-14 | 高周波モジュール |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016060151A1 JPWO2016060151A1 (ja) | 2017-07-20 |
JP6468290B2 true JP6468290B2 (ja) | 2019-02-13 |
Family
ID=55746694
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016554095A Active JP6468290B2 (ja) | 2014-10-16 | 2015-10-14 | 高周波モジュール |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10063212B2 (ja) |
JP (1) | JP6468290B2 (ja) |
CN (1) | CN107078715B (ja) |
WO (1) | WO2016060151A1 (ja) |
Families Citing this family (88)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016060151A1 (ja) * | 2014-10-16 | 2016-04-21 | 株式会社村田製作所 | 高周波モジュール |
CN109155623B (zh) * | 2016-05-19 | 2019-11-26 | 株式会社村田制作所 | 滤波器装置 |
JP6619698B2 (ja) * | 2016-06-09 | 2019-12-11 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置、及び通信回路 |
CN109314504B (zh) * | 2016-06-24 | 2022-07-29 | 株式会社村田制作所 | 弹性波滤波器装置 |
CN110710119B (zh) * | 2017-06-08 | 2021-07-27 | 株式会社村田制作所 | 高频模块 |
US10560069B2 (en) * | 2017-06-26 | 2020-02-11 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Elastic wave apparatus |
CN111279612B (zh) * | 2017-10-24 | 2023-08-22 | 株式会社村田制作所 | 高频电路、多工器、高频前端电路以及通信装置 |
US11323096B2 (en) | 2018-06-15 | 2022-05-03 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with periodic etched holes |
US11936358B2 (en) | 2020-11-11 | 2024-03-19 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with low thermal impedance |
US11323089B2 (en) | 2018-06-15 | 2022-05-03 | Resonant Inc. | Filter using piezoelectric film bonded to high resistivity silicon substrate with trap-rich layer |
US11929731B2 (en) | 2018-02-18 | 2024-03-12 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with optimized electrode mark, and pitch |
US11323090B2 (en) | 2018-06-15 | 2022-05-03 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator using Y-X-cut lithium niobate for high power applications |
US12088281B2 (en) | 2021-02-03 | 2024-09-10 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with multi-mark interdigital transducer |
US11146232B2 (en) | 2018-06-15 | 2021-10-12 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with reduced spurious modes |
US20220116015A1 (en) | 2018-06-15 | 2022-04-14 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with optimized electrode thickness, mark, and pitch |
US10601392B2 (en) | 2018-06-15 | 2020-03-24 | Resonant Inc. | Solidly-mounted transversely-excited film bulk acoustic resonator |
US10756697B2 (en) | 2018-06-15 | 2020-08-25 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator |
US11509279B2 (en) | 2020-07-18 | 2022-11-22 | Resonant Inc. | Acoustic resonators and filters with reduced temperature coefficient of frequency |
US10637438B2 (en) | 2018-06-15 | 2020-04-28 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonators for high power applications |
US12040779B2 (en) | 2020-04-20 | 2024-07-16 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Small transversely-excited film bulk acoustic resonators with enhanced Q-factor |
US11206009B2 (en) | 2019-08-28 | 2021-12-21 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with interdigital transducer with varied mark and pitch |
CN112106303B (zh) * | 2018-06-06 | 2022-06-07 | 株式会社村田制作所 | 多工器 |
US11888463B2 (en) | 2018-06-15 | 2024-01-30 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multi-port filter using transversely-excited film bulk acoustic resonators |
US12119805B2 (en) | 2018-06-15 | 2024-10-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Substrate processing and membrane release of transversely-excited film bulk acoustic resonator using a sacrificial tub |
US11916539B2 (en) | 2020-02-28 | 2024-02-27 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Split-ladder band N77 filter using transversely-excited film bulk acoustic resonators |
US11349452B2 (en) | 2018-06-15 | 2022-05-31 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic filters with symmetric layout |
US12009798B2 (en) | 2018-06-15 | 2024-06-11 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonators with electrodes having irregular hexagon cross-sectional shapes |
US11876498B2 (en) | 2018-06-15 | 2024-01-16 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with multiple diaphragm thicknesses and fabrication method |
US11996822B2 (en) | 2018-06-15 | 2024-05-28 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Wide bandwidth time division duplex transceiver |
US11228296B2 (en) | 2018-06-15 | 2022-01-18 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with a cavity having a curved perimeter |
US11264966B2 (en) | 2018-06-15 | 2022-03-01 | Resonant Inc. | Solidly-mounted transversely-excited film bulk acoustic resonator with diamond layers in Bragg reflector stack |
US11201601B2 (en) | 2018-06-15 | 2021-12-14 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with multiple diaphragm thicknesses and fabrication method |
US10917072B2 (en) | 2019-06-24 | 2021-02-09 | Resonant Inc. | Split ladder acoustic wave filters |
US11171629B2 (en) | 2018-06-15 | 2021-11-09 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator using pre-formed cavities |
US11967945B2 (en) | 2018-06-15 | 2024-04-23 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversly-excited film bulk acoustic resonators and filters |
US10826462B2 (en) | 2018-06-15 | 2020-11-03 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonators with molybdenum conductors |
US12119808B2 (en) | 2018-06-15 | 2024-10-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator package |
US11323091B2 (en) | 2018-06-15 | 2022-05-03 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with diaphragm support pedestals |
US11901878B2 (en) | 2018-06-15 | 2024-02-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonators with two-layer electrodes with a wider top layer |
US11349450B2 (en) | 2018-06-15 | 2022-05-31 | Resonant Inc. | Symmetric transversely-excited film bulk acoustic resonators with reduced spurious modes |
US11146238B2 (en) | 2018-06-15 | 2021-10-12 | Resonant Inc. | Film bulk acoustic resonator fabrication method |
US12040781B2 (en) | 2018-06-15 | 2024-07-16 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator package |
US11949402B2 (en) | 2020-08-31 | 2024-04-02 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Resonators with different membrane thicknesses on the same die |
US11728785B2 (en) | 2018-06-15 | 2023-08-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator using pre-formed cavities |
US11329628B2 (en) | 2020-06-17 | 2022-05-10 | Resonant Inc. | Filter using lithium niobate and lithium tantalate transversely-excited film bulk acoustic resonators |
US12081187B2 (en) | 2018-06-15 | 2024-09-03 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator |
US12113512B2 (en) | 2021-03-29 | 2024-10-08 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Layout of XBARs with multiple sub-resonators in parallel |
US11323095B2 (en) | 2018-06-15 | 2022-05-03 | Resonant Inc. | Rotation in XY plane to suppress spurious modes in XBAR devices |
US11374549B2 (en) | 2018-06-15 | 2022-06-28 | Resonant Inc. | Filter using transversely-excited film bulk acoustic resonators with divided frequency-setting dielectric layers |
US11909381B2 (en) | 2018-06-15 | 2024-02-20 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonators with two-layer electrodes having a narrower top layer |
JP6852837B2 (ja) * | 2018-06-21 | 2021-03-31 | 株式会社村田製作所 | フィルタおよびマルチプレクサ |
JP6919664B2 (ja) * | 2019-01-31 | 2021-08-18 | 株式会社村田製作所 | マルチプレクサおよび通信装置 |
WO2020186261A1 (en) | 2019-03-14 | 2020-09-17 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with half-lambda dielectric layer |
US11901873B2 (en) | 2019-03-14 | 2024-02-13 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with partial BRAGG reflectors |
US11271541B2 (en) | 2019-03-15 | 2022-03-08 | Resonant Inc. | Microwave duplexer using coupled inductors to improve isolation |
JP2022525465A (ja) | 2019-04-05 | 2022-05-16 | レゾナント インコーポレイテッド | 横方向に励起されたフィルムバルク音響共振器パッケージ及び方法 |
US12034423B2 (en) | 2019-06-27 | 2024-07-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd | XBAR frontside etch process using polysilicon sacrificial layer |
US10911021B2 (en) | 2019-06-27 | 2021-02-02 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with lateral etch stop |
CN110828441A (zh) * | 2019-10-18 | 2020-02-21 | 天津大学 | 一种多工器 |
CN114788181B (zh) * | 2019-12-20 | 2024-06-11 | 株式会社村田制作所 | 高频模块以及通信装置 |
US20210273629A1 (en) | 2020-02-28 | 2021-09-02 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with multi-pitch interdigital transducer |
US11811391B2 (en) | 2020-05-04 | 2023-11-07 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with etched conductor patterns |
US11469733B2 (en) | 2020-05-06 | 2022-10-11 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonators with interdigital transducer configured to reduce diaphragm stress |
US12074584B2 (en) | 2020-05-28 | 2024-08-27 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonators with two-layer electrodes |
US11817845B2 (en) | 2020-07-09 | 2023-11-14 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Method for making transversely-excited film bulk acoustic resonators with piezoelectric diaphragm supported by piezoelectric substrate |
US11264969B1 (en) | 2020-08-06 | 2022-03-01 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator comprising small cells |
US11671070B2 (en) | 2020-08-19 | 2023-06-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonators using multiple dielectric layer thicknesses to suppress spurious modes |
US11271539B1 (en) | 2020-08-19 | 2022-03-08 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with tether-supported diaphragm |
US11894835B2 (en) | 2020-09-21 | 2024-02-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Sandwiched XBAR for third harmonic operation |
US11476834B2 (en) | 2020-10-05 | 2022-10-18 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator matrix filters with switches in parallel with sub-filter shunt capacitors |
US11405017B2 (en) | 2020-10-05 | 2022-08-02 | Resonant Inc. | Acoustic matrix filters and radios using acoustic matrix filters |
US11658639B2 (en) | 2020-10-05 | 2023-05-23 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator matrix filters with noncontiguous passband |
US11728784B2 (en) | 2020-10-05 | 2023-08-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator matrix filters with split die sub-filters |
US11929733B2 (en) | 2020-10-05 | 2024-03-12 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator matrix filters with input and output impedances matched to radio frequency front end elements |
US12119806B2 (en) | 2020-10-30 | 2024-10-15 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with spiral interdigitated transducer fingers |
US12003226B2 (en) | 2020-11-11 | 2024-06-04 | Murata Manufacturing Co., Ltd | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with low thermal impedance |
US11496113B2 (en) | 2020-11-13 | 2022-11-08 | Resonant Inc. | XBAR devices with excess piezoelectric material removed |
US11405020B2 (en) | 2020-11-26 | 2022-08-02 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonators with structures to reduce acoustic energy leakage |
US11239816B1 (en) | 2021-01-15 | 2022-02-01 | Resonant Inc. | Decoupled transversely-excited film bulk acoustic resonators |
US12126318B2 (en) | 2021-01-15 | 2024-10-22 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Filters using decoupled transversely-excited film bulk acoustic resonators |
US12113510B2 (en) | 2021-02-03 | 2024-10-08 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonators with multiple piezoelectric membrane thicknesses on the same chip |
US12107568B2 (en) | 2021-03-24 | 2024-10-01 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Composite transversely-excited film bulk acoustic resonator circuits having a capacitor for improved rejection |
US12126328B2 (en) | 2021-03-24 | 2024-10-22 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Acoustic filters with shared acoustic tracks |
US20220337210A1 (en) | 2021-04-16 | 2022-10-20 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator fabrication using wafer-to-wafer bonding |
US12057823B2 (en) | 2021-05-07 | 2024-08-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with concentric interdigitated transducer fingers |
US12075700B2 (en) | 2021-05-07 | 2024-08-27 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator fabrication using polysilicon pillars |
US20230006640A1 (en) | 2021-06-30 | 2023-01-05 | Resonant Inc. | Transversely-excited film bulk acoustic resonator with reduced substrate to contact bump thermal resistance |
CN113411091B (zh) * | 2021-07-30 | 2022-06-24 | 广州慧智微电子有限公司 | 一种信号接收装置、方法及存储介质 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1497768A (zh) * | 2002-10-04 | 2004-05-19 | 松下电器产业株式会社 | 双工器以及使用该双工器的层叠型高频装置及通信设备 |
US7808935B2 (en) | 2006-03-08 | 2010-10-05 | Kyocera Corporation | Duplexer and communication device |
DE102006059996B4 (de) * | 2006-12-19 | 2015-02-26 | Epcos Ag | Anordnung mit einem HF Bauelement und Verfahren zur Kompensation der Anbindungsinduktivität |
JP4578575B2 (ja) | 2008-07-30 | 2010-11-10 | 京セラ株式会社 | 分波器、通信用モジュール部品、及び通信装置 |
CN101714683B (zh) * | 2009-11-26 | 2013-11-27 | 苏州艾福电子通讯有限公司 | 一种具有陷波图形的介质滤波器和双工器 |
WO2011089746A1 (ja) * | 2010-01-20 | 2011-07-28 | 株式会社村田製作所 | 分波器 |
JP5588838B2 (ja) | 2010-11-17 | 2014-09-10 | 太陽誘電株式会社 | フィルタ回路、分波器およびrfモジュール |
WO2014034373A1 (ja) * | 2012-08-30 | 2014-03-06 | 株式会社村田製作所 | フィルタ装置 |
WO2016060151A1 (ja) * | 2014-10-16 | 2016-04-21 | 株式会社村田製作所 | 高周波モジュール |
-
2015
- 2015-10-14 WO PCT/JP2015/078996 patent/WO2016060151A1/ja active Application Filing
- 2015-10-14 CN CN201580055909.XA patent/CN107078715B/zh active Active
- 2015-10-14 JP JP2016554095A patent/JP6468290B2/ja active Active
-
2017
- 2017-04-12 US US15/485,252 patent/US10063212B2/en active Active
-
2018
- 2018-07-31 US US16/049,860 patent/US10454446B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107078715B (zh) | 2021-08-13 |
US10454446B2 (en) | 2019-10-22 |
US20170222617A1 (en) | 2017-08-03 |
WO2016060151A1 (ja) | 2016-04-21 |
JPWO2016060151A1 (ja) | 2017-07-20 |
CN107078715A (zh) | 2017-08-18 |
US20180337652A1 (en) | 2018-11-22 |
US10063212B2 (en) | 2018-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6468290B2 (ja) | 高周波モジュール | |
US10680579B2 (en) | High frequency module | |
JP6372568B2 (ja) | 高周波モジュール | |
JP6020780B1 (ja) | 高周波モジュール | |
JP5943158B1 (ja) | 高周波モジュール | |
JP6249020B2 (ja) | 高周波モジュール | |
JP6183461B2 (ja) | 高周波モジュール | |
JP6406266B2 (ja) | 高周波モジュール | |
JPWO2014168162A1 (ja) | 高周波モジュール | |
JP6183462B2 (ja) | 高周波モジュール | |
KR102424038B1 (ko) | 멀티플렉서 | |
WO2018003378A1 (ja) | フィルタ装置およびマルチプレクサ | |
JP2023013849A (ja) | 送受信モジュール |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170404 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170404 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180522 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181218 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20181231 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6468290 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |