JP6456429B2 - フォーカシング状態測定装置 - Google Patents
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Description
20 レーザ加工装置
100 フォーカシング状態測定装置
110 ベースプレート
120 第1ラインビーム発生部
130 第2ラインビーム発生部
140 第3ラインビーム発生部
150 第4ラインビーム発生部
160 フォーカシング測定部
Claims (4)
- 作業のために被対象物に対する作業装置のフォーカシング状態を測定するフォーカシング状態測定装置であって、
被対象物に対する作業を行う作業装置に設置され、前記被対象物から離隔配置される全てのラインビーム発生部を設置する同一平面から成るベースプレートと、
前記ベースプレートの一側に具備され、前記被対象物を向かって第1ラインビームを照射する第1ラインビーム発生部と、
前記第1ラインビーム発生部から第1方向に沿って離隔されるように前記ベースプレートの一側に具備され、前記被対象物を向かって第2ラインビームを照射する第2ラインビーム発生部と、
前記第1ラインビーム発生部と前記第2ラインビーム発生部の間に位置するように前記ベースプレートの一側に具備され、前記被対象物を向かって第3ラインビームを照射する第3ラインビーム発生部と、
前記第3ラインビーム発生部から前記第1方向に垂直である第2方向に沿って離隔されるように前記ベースプレートの一側に具備され、前記被対象物を向かって第4ラインビームを照射する第4ラインビーム発生部と、を含み、
作業装置のフォーカシング状態が正確な時の状態は、第1ラインビーム及び第2ラインビームは完全に一致し、且つ、第3ラインビーム及び第4ラインビームは完全に一致し、略「+」の形状を有し、
前記被対象物に対する前記作業装置のフォーカシング状態は、前記第1ラインビーム及び前記第2ラインビームの状態、前記第3ラインビーム及び前記第4ラインビームの状態によって決定されることを特徴とするフォーカシング状態測定装置
- 前記作業装置のフォーカシング状態は、
前記作業装置が前記被対象物から離隔された距離を示すフォーカシング距離と、
前記作業装置が前記被対象物の作業面に対して傾いた程度を示すフォーカシング勾配を含むことを特徴とする請求項1に記載のフォーカシング状態測定装置。
- 前記フォーカシング距離は、前記第1ラインビームと前記第2ラインビームの間の距離又は前記第3ラインビームと前記第4ラインビームの間の距離によって決定され、
前記フォーカシング勾配は、前記第1ラインビームと前記第2ラインビームの間の角度、前記第3ラインビームと前記第4ラインビームの間の角度、前記第1ラインビームと前記第2ラインビームの長さの差又は前記第3ラインビームと前記第4ラインビームの長さの差によって決定されることを特徴とする請求項2に記載のフォーカシング状態測定装置
- 前記フォーカシング状態測定装置は、
前記被対象物に照射された前記第1ラインビーム及び前記第2ラインビームの状態、並びに、前記第3ラインビーム及び前記第4ラインビームの状態を測定して、前記被対象物に対する前記作業装置のフォーカシング状態を判断するフォーカシング測定部をさらに含むことを特徴とする請求項3に記載のフォーカシング状態測定装置。
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