JP6454246B2 - 加工方法 - Google Patents
加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6454246B2 JP6454246B2 JP2015177174A JP2015177174A JP6454246B2 JP 6454246 B2 JP6454246 B2 JP 6454246B2 JP 2015177174 A JP2015177174 A JP 2015177174A JP 2015177174 A JP2015177174 A JP 2015177174A JP 6454246 B2 JP6454246 B2 JP 6454246B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- conductive substrate
- thermally conductive
- ion beam
- attaching
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
が露出すると、試料SにイオンビームIBが照射され、試料Sが徐々に切削される。このとき、冷却手段(図示せず)で冷却されている熱伝導性基板6によって、試料Sは冷却される。このように試料Sは冷却されながら切削され、最終的に遮蔽板4の先端部と同じ位置まで切削される。
熱伝導性を有する材料を、試料に含浸させる含浸工程と、
前記含浸工程の後に、前記試料を、熱伝導性基板に取り付ける試料取付工程と、
前記熱伝導性基板および前記試料に跨がる熱伝導性箔を取り付ける箔取付工程と、
前記試料が取り付けられた前記熱伝導性基板を試料ホルダーに取り付け、前記試料ホルダーを試料ステージに取り付ける試料ホルダー取付工程と、
前記熱伝導性基板に取り付けられた前記試料を冷却しつつ前記試料にイオンビームを照射して、前記試料を加工する加工工程と、
を含み、
前記試料取付工程では、
前記熱伝導性基板の第1面に、前記試料を取り付け、
前記箔取付工程では、
前記熱伝導性基板の前記第1面および前記試料の前記熱伝導性基板側とは反対側の第2面に跨がるように、前記熱伝導性箔を取り付け、
前記加工工程では、
前記試料の一部を遮蔽板で覆い、前記遮蔽板側から前記試料に前記イオンビームを照射して、前記試料の前記遮蔽板に遮蔽されていない部分を切削し、
前記試料と前記遮蔽板との間に配置された前記熱伝導性基板を冷却することにより、前記試料を冷却し、
前記試料ホルダーには、液体窒素収容容器から供給される液体窒素が流れる液体窒素用管が接しており、前記液体窒素用管に液体窒素を供給することによって、前記熱伝導性基板を冷却する。
前記材料は、染色剤であり、
前記含浸工程では、前記染色剤を用いて、前記試料を電子染色してもよい。
前記染色剤は、四酸化ルテニウム、四酸化オスミウム、または酢酸ウランであってもよい。
。
30を介して試料Sを保持している。試料ホルダー40には、液体窒素用管43が接している。液体窒素用管43には、液体窒素収容容器42から供給される液体窒素が流れているため、試料ホルダー40は冷却される。試料ホルダー40が冷却されることにより、熱伝導性基板30が冷却される。熱伝導性基板30が冷却されることにより、試料Sが冷却される。
び試料Sに跨がる金属箔32によっても熱的に接続されている。図示の例では、金属箔32は、熱伝導性基板30の下面31bと試料Sの面S1との間を熱的に接続している。このように、金属箔32によって熱伝導性基板30と試料Sとの間を熱的に接続することにより、試料Sの冷却効果を高めることができる。
うに、加工工程において、試料Sの冷却効果を高めることができ、試料Sに熱が蓄えられることを抑えることができる。したがって、本実施形態に係る加工方法によれば、試料の熱損傷を低減することができる。
レータの断面を得た。
素用管、50…試料ステージ、100…イオンビーム断面加工装置
Claims (3)
- 熱伝導性を有する材料を、試料に含浸させる含浸工程と、
前記含浸工程の後に、前記試料を、熱伝導性基板に取り付ける試料取付工程と、
前記熱伝導性基板および前記試料に跨がる熱伝導性箔を取り付ける箔取付工程と、
前記試料が取り付けられた前記熱伝導性基板を試料ホルダーに取り付け、前記試料ホルダーを試料ステージに取り付ける試料ホルダー取付工程と、
前記熱伝導性基板に取り付けられた前記試料を冷却しつつ前記試料にイオンビームを照射して、前記試料を加工する加工工程と、
を含み、
前記試料取付工程では、
前記熱伝導性基板の第1面に、前記試料を取り付け、
前記箔取付工程では、
前記熱伝導性基板の前記第1面および前記試料の前記熱伝導性基板側とは反対側の第2面に跨がるように、前記熱伝導性箔を取り付け、
前記加工工程では、
前記試料の一部を遮蔽板で覆い、前記遮蔽板側から前記試料に前記イオンビームを照射して、前記試料の前記遮蔽板に遮蔽されていない部分を切削し、
前記試料と前記遮蔽板との間に配置された前記熱伝導性基板を冷却することにより、前記試料を冷却し、
前記試料ホルダーには、液体窒素収容容器から供給される液体窒素が流れる液体窒素用管が接しており、前記液体窒素用管に液体窒素を供給することによって、前記熱伝導性基板を冷却する、加工方法。 - 請求項1において、
前記材料は、染色剤であり、
前記含浸工程では、前記染色剤を用いて、前記試料を電子染色する、加工方法。 - 請求項2において、
前記染色剤は、四酸化ルテニウム、四酸化オスミウム、または酢酸ウランである、加工
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015177174A JP6454246B2 (ja) | 2015-09-09 | 2015-09-09 | 加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015177174A JP6454246B2 (ja) | 2015-09-09 | 2015-09-09 | 加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017053694A JP2017053694A (ja) | 2017-03-16 |
JP6454246B2 true JP6454246B2 (ja) | 2019-01-16 |
Family
ID=58320774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015177174A Active JP6454246B2 (ja) | 2015-09-09 | 2015-09-09 | 加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6454246B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6900781B2 (ja) * | 2017-05-18 | 2021-07-07 | 住友ゴム工業株式会社 | 試料の観察方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3686952B2 (ja) * | 1998-12-08 | 2005-08-24 | 独立行政法人 国立印刷局 | インキ転移物の断面観察法 |
JP4922632B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2012-04-25 | 日本電子株式会社 | イオンビームを用いる断面試料作製方法 |
US8941057B2 (en) * | 2007-09-05 | 2015-01-27 | The United States Of America, As Represented By The Secretary, Department Of Health And Human Services | Probe and method for obtaining three-dimensional compositional maps of a biological sample |
JP2009135078A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-06-18 | Tokyo Institute Of Technology | 集束イオンビーム加工用試料ホルダ及び集束イオンビーム装置 |
EP2685233A1 (en) * | 2012-07-13 | 2014-01-15 | Fei Company | Forming an electron microscope sample from high-pressure frozen material |
JP5896891B2 (ja) * | 2012-12-17 | 2016-03-30 | 三菱重工業株式会社 | パラメータ推定装置、パラメータ推定方法、蓄電システム及びプログラム |
CN105658310A (zh) * | 2013-09-13 | 2016-06-08 | 斯坦福大学托管董事会 | 使用质量标签和次级离子质谱术的组织复用成像 |
-
2015
- 2015-09-09 JP JP2015177174A patent/JP6454246B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017053694A (ja) | 2017-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4922632B2 (ja) | イオンビームを用いる断面試料作製方法 | |
JP5857158B2 (ja) | イオンミリング装置 | |
US20170170454A1 (en) | Method for removing coating layer of electrode plate | |
TW523823B (en) | TEM sample slicing process | |
EP3193391A1 (en) | Electrode plate coating removal method | |
JP6454246B2 (ja) | 加工方法 | |
JP5581007B2 (ja) | 加工装置、及び試料加工方法 | |
JP5920427B2 (ja) | 貫通孔形成方法、貫通電極を備えるガラス基板の製造方法、およびインターポーザの製造方法 | |
JP2016173874A (ja) | イオンミリング装置 | |
JPWO2019155836A1 (ja) | 試料支持体、イオン化法及び質量分析方法 | |
CN111512150B (zh) | 试样支承体、试样支承体的制造方法和试样的离子化方法 | |
CN109425612B (zh) | 检查用晶片和能量分布的检查方法 | |
JP2010230518A (ja) | 薄片試料作製方法 | |
JPWO2019155835A1 (ja) | 試料支持体、イオン化法及び質量分析方法 | |
JP2009259556A (ja) | 電子顕微鏡観察用試料支持部材 | |
US6362474B1 (en) | Semiconductor sample for transmission electron microscope and method of manufacturing the same | |
WO2008038642A1 (fr) | Procédé d'analyse d'échantillon et appareil d'analyse | |
CN111465843A (zh) | 激光解吸电离法、质谱法、试样支承体和试样支承体的制造方法 | |
Rublack et al. | Mechanism of selective removal of transparent layers on semiconductors using ultrashort laser pulses | |
JP6024485B2 (ja) | 電子顕微鏡観察用試料台、並びに試料の断面観察方法 | |
JP6974986B2 (ja) | 電子顕微鏡観察用の包埋樹脂試料の作製方法およびそれに用いる型枠。 | |
JPWO2017203676A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
WO2015136635A1 (ja) | 試料観察方法及び荷電粒子線装置 | |
JP7236394B2 (ja) | レーザ脱離イオン化法及び質量分析方法 | |
JP2015125087A (ja) | 試料加工方法および試料加工装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180222 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180919 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180919 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181116 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20181205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20181214 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6454246 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |