JP6452189B2 - Method for manufacturing flexible electronic device - Google Patents

Method for manufacturing flexible electronic device Download PDF

Info

Publication number
JP6452189B2
JP6452189B2 JP2014075804A JP2014075804A JP6452189B2 JP 6452189 B2 JP6452189 B2 JP 6452189B2 JP 2014075804 A JP2014075804 A JP 2014075804A JP 2014075804 A JP2014075804 A JP 2014075804A JP 6452189 B2 JP6452189 B2 JP 6452189B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polymer film
support
sensitive adhesive
electronic device
pressure
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014075804A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015198176A (en
Inventor
政宏 玉田
政宏 玉田
健史 塩尻
健史 塩尻
毅人 根岸
毅人 根岸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Teijin Ltd
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Teijin Ltd, Toyobo Co Ltd filed Critical Teijin Ltd
Priority to JP2014075804A priority Critical patent/JP6452189B2/en
Publication of JP2015198176A publication Critical patent/JP2015198176A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6452189B2 publication Critical patent/JP6452189B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は、フレキシブルな高分子フィルムを硬質の支持体に仮固定して高分子フィルム積層体とし、次いで高分子フィルム上に印刷技術を用いて各種電子デバイスを形成した後、高分子フィルムを電子デバイス部ごと支持体から剥離することによりフレキシブル電子デバイスを得る、フレキシブル電子デバイスの製造技術に関する。   In the present invention, a flexible polymer film is temporarily fixed to a hard support to form a polymer film laminate, and then various electronic devices are formed on the polymer film using a printing technique. The present invention relates to a technique for manufacturing a flexible electronic device, in which a flexible electronic device is obtained by peeling the entire device portion from a support.

情報通信機器(放送機器、移動体無線、携帯通信機器等)、レーダー、高速情報処理装置等における電子部品として、半導体素子、MEMS素子、ディスプレイ素子などの機能素子(デバイス)が用いられるが、これらは従来、ガラス、シリコンウエハ、セラミック基材等の無機基板上に形成ないし搭載されるのが一般的であった。しかし、近年、電子部品の軽量化、小型・薄型化、フレキシビリティ化が求められるなか、高分子フィルム上に各種機能素子を形成する試みがなされている。   Functional elements (devices) such as semiconductor elements, MEMS elements, and display elements are used as electronic components in information communication equipment (broadcast equipment, mobile radio, portable communication equipment, etc.), radar, high-speed information processing devices, etc. Conventionally, it is generally formed or mounted on an inorganic substrate such as glass, a silicon wafer, or a ceramic substrate. However, in recent years, attempts have been made to form various functional elements on a polymer film, as electronic components are required to be lighter, smaller, thinner, and flexible.

電子デバイスに用いられる10μm幅程度の導体パターンを印刷によって作製するためには、ナノオーダーまで微粒子化した金属インクと高精度な印刷機が必要となる。すなわち、インクに含まれる金属粒子がパターンに対して大きいと、微細な導体パターンが作製できないのみならず、印刷不良や短絡などの原因にもなりうる。また、高分子フィルム上で作製されるフレキシブルデバイス素子を小型・高精細・高機能化させるためには、導体パターンの膜厚を薄くする必要があり、このことからもナノオーダーまで微粒子化した金属インクが必要となる。   In order to produce a conductor pattern having a width of about 10 μm used for an electronic device by printing, a metal ink finely divided to nano-order and a high-precision printing machine are required. That is, if the metal particles contained in the ink are large relative to the pattern, not only a fine conductor pattern cannot be produced, but it can also cause printing defects and short circuits. In addition, in order to make a flexible device element fabricated on a polymer film compact, high-definition, and high-functional, it is necessary to reduce the thickness of the conductor pattern. Ink is required.

高精細な印刷法としては様々な印刷法が挙げられるが、反転オフセット印刷は、微細配線まで描けること、得られるパターンの断面が矩形となること、インクが完全転写されるため印刷されたパターンの表面がフラットになること、などの理由から、電子デバイスの導体パターンを描くのに適している。   Various printing methods can be cited as high-definition printing methods. Reverse offset printing can draw even fine wiring, the cross-section of the resulting pattern is rectangular, and the printed pattern is transferred because the ink is completely transferred. It is suitable for drawing a conductor pattern of an electronic device because the surface becomes flat.

反転オフセット印刷時には被印刷面に版胴を押し当てることが必要となる。その際、押し当てる力が強すぎると、印刷パターンの変形や被印刷面の変形、被印刷面の傷の発生などを引き起こす。このため、印圧をほとんどかけない、いわゆるキスタッチでの印刷が理想とされている。キスタッチで印刷するためには、被印刷面は平坦でなければならず、被印刷面が平坦でないと印刷の抜けや擦れが発生する。   During reverse offset printing, it is necessary to press the plate cylinder against the printing surface. At this time, if the pressing force is too strong, it causes deformation of the printing pattern, deformation of the printing surface, generation of scratches on the printing surface, and the like. For this reason, printing with a so-called kiss touch that hardly applies printing pressure is considered ideal. In order to print by kiss touch, the printing surface must be flat, and if the printing surface is not flat, printing omission or rubbing occurs.

ところで、各種機能素子を高分子フィルム表面に形成するにあたっては、高分子フィルムの特性であるフレキシビリティを利用した、いわゆるロール・トゥ・ロールプロセスにて加工することが理想とされる。しかしながら、半導体産業、MEMS産業、ディスプレイ産業等の業界においては、これまでウエハベースまたはガラス基板ベース等のリジッドな平面基板を対象としたプロセス技術が主流であった。そこで、既存インフラを利用して各種機能素子を高分子フィルム表面に形成するために、高分子フィルムを無機物(ガラス板、セラミック板、シリコンウエハ、金属板など)からなるリジッドな支持体に貼り合わせておき、所望の素子を搭載した後に支持体から剥離するというプロセスが提案された。かかる技術は、近年研究開発が加速しているところの印刷技術を主体として電子デバイスを形成するプリンテッド・エレクトロニクス技術においても活用されている。   By the way, when various functional elements are formed on the surface of the polymer film, it is ideal to process by a so-called roll-to-roll process using flexibility which is a characteristic of the polymer film. However, in the industries such as the semiconductor industry, the MEMS industry, and the display industry, a process technology for a rigid flat substrate such as a wafer base or a glass substrate base has been mainstream. Therefore, in order to form various functional elements on the surface of the polymer film using the existing infrastructure, the polymer film is bonded to a rigid support made of an inorganic material (glass plate, ceramic plate, silicon wafer, metal plate, etc.). A process has been proposed in which a desired element is mounted and then peeled off from the support. Such technology is also utilized in printed electronics technology that forms electronic devices based on printing technology, which has recently been accelerated in research and development.

高分子フィルムを硬質の支持体に貼り合わせる手段としては、各種の粘着剤が用いられる。高分子フィルムは、電子デバイス形成後に支持体から剥離する必要があるため、粘着剤の選定にあたってはこの点を考慮しなければならない。不必要に接着強度が強い粘着剤を用いると、剥離の際に、電子デバイスの破壊、高分子フィルムの破断などを招くおそれがある。一方、接着力が低すぎると、電子デバイスの加工プロセス途上で高分子フィルムが剥離するなどのトラブルの原因となる場合がある。そのため、粘着剤を用いる場合には、加工プロセスと剥離プロセスにて許容される接着力を正確に把握して、接着力が確実にその範囲に入るように管理する必要がある。さらに粘着剤の接着力は、加熱、加湿などにより変化するため、相応の基礎データを収集して、プロセス中の温度・湿度管理を厳密に行わなければならない。   Various adhesives are used as means for attaching the polymer film to a hard support. Since the polymer film needs to be peeled off from the support after the electronic device is formed, this point must be taken into consideration when selecting the pressure-sensitive adhesive. If an adhesive having an unnecessarily strong adhesive strength is used, the electronic device may be broken or the polymer film may be broken during peeling. On the other hand, if the adhesive force is too low, it may cause troubles such as peeling of the polymer film during the processing process of the electronic device. Therefore, in the case of using a pressure-sensitive adhesive, it is necessary to accurately grasp the adhesive force allowed in the processing process and the peeling process and manage it so that the adhesive force falls within that range. Furthermore, since the adhesive strength of the pressure-sensitive adhesive changes due to heating, humidification, etc., it is necessary to collect appropriate basic data and strictly control the temperature and humidity during the process.

これまでに、剥離可能な粘着剤として、外部刺激により接着力が変化する粘着剤が知られている。例えば特許文献1、特許文献2および特許文献3には、加熱により接着力が低下する粘着剤が開示されている。また特許文献4、特許文献5および特許文献6には、紫外線照射で接着力が低下する粘着剤が開示されている。かかる粘着剤を用いれば、電子デバイスの加工中には剥離せず、電子デバイス完成後には比較的小さい外力により高分子フィルムを支持体から剥離することが可能となることが期待される。しかしながら、例えば電子デバイス製造工程中に紫外線照射を伴う工程がある場合には、紫外線照射で接着力が変化する接着剤の使用は制限されてしまう。また、多くの場合、電子デバイスの製造工程には加熱工程が含まれるため、現実的には、加熱により接着力が低下する粘着剤の使用は難しい。   So far, a pressure-sensitive adhesive whose adhesive force is changed by an external stimulus is known as a peelable pressure-sensitive adhesive. For example, Patent Document 1, Patent Document 2 and Patent Document 3 disclose pressure-sensitive adhesives whose adhesive strength is reduced by heating. Patent Document 4, Patent Document 5 and Patent Document 6 disclose pressure-sensitive adhesives whose adhesive strength is reduced by ultraviolet irradiation. If such an adhesive is used, it is expected that the polymer film will not be peeled off during processing of the electronic device, and the polymer film can be peeled off from the support with a relatively small external force after completion of the electronic device. However, for example, when there is a process involving ultraviolet irradiation in the electronic device manufacturing process, use of an adhesive whose adhesive force changes due to ultraviolet irradiation is limited. In many cases, since the manufacturing process of an electronic device includes a heating process, it is practically difficult to use a pressure-sensitive adhesive whose adhesive strength is reduced by heating.

高分子フィルムの支持体への仮固定に適した剥離可能な粘着剤としては、特許文献7に、温度により接着力が大きく変化する粘着剤が開示されており、これによれば冷却することで接着力を低下させることができる。かかる粘着剤は、デバイス製造工程中に冷却工程が入ることは希であるため、比較的自由度が高く使いやすい接着剤であると言える。   As a peelable pressure-sensitive adhesive suitable for temporary fixing of a polymer film to a support, a pressure-sensitive adhesive whose adhesive strength varies greatly depending on temperature is disclosed in Patent Document 7, and according to this, cooling is performed. Adhesive strength can be reduced. Since such a pressure-sensitive adhesive rarely includes a cooling step during the device manufacturing process, it can be said that the pressure-sensitive adhesive has a relatively high degree of freedom and is easy to use.

特開平11−166164号公報JP-A-11-166164 特開2004−18604号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2004-18604 特開2000−71170号公報JP 2000-71170 A 特開平1−272130号公報JP-A-1-272130 特開昭62−153376号公報Japanese Patent Laid-Open No. 62-153376 特開平2−187478号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2-187478 特開2000−351951号公報JP 2000-351951 A

しかしながら、上述した冷却により接着力を低下させることができる粘着剤を用いて高分子フィルムと支持体とを貼り合わせ、ナノ金属インクおよび反転オフセット印刷法を用いてフレキシブル電子デバイスの製造に取り組んでみたところ、例えば、薄膜トランジスタ(以下「TFT」と略記する)のような高精細な導体パターンを描く必要がある場合などには、得られたTFTが良好に動作しないという問題が起こることがあった。   However, we tackled the manufacture of flexible electronic devices using nano metal ink and reverse offset printing method by bonding the polymer film and the support using the adhesive that can reduce the adhesive force by cooling as described above. However, for example, when it is necessary to draw a high-definition conductor pattern such as a thin film transistor (hereinafter abbreviated as “TFT”), there is a problem that the obtained TFT does not operate well.

本発明は上記の様な事情に着目してなされたものであって、その目的は、高精細な導体パターンを要する場合にも搭載する電子デバイスに動作不良を生じることなくフレキシブル電子デバイスを製造できる技術を確立することにある。   The present invention has been made paying attention to the above-described circumstances, and its purpose is to manufacture a flexible electronic device without causing malfunction in the mounted electronic device even when a high-definition conductor pattern is required. It is to establish technology.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、TFTを製造する場合など高精細な導体パターンを印刷した場合に動作不良を生じていた原因が、第一に、反転オフセット印刷法のように非常に弱い印圧で印刷する場合には支持体に仮固定した高分子フィルムに印刷した導体パターンに欠けやかすれが発生しやすく、これにより回路の短絡が生じること、第二に、支持体から高分子フィルムを剥離する際に冷却によって結露が生じ、結露中の水分により、フィルムに変形が生じたり、導体が酸化して導電性が低下したり、半導体の性能が低下したり、デバイス全体を動作させた時の短絡を生じたりすること、の二点にあることを見出した。そして、高分子フィルムを支持体に仮固定した際に高分子フィルム表面に現れるウネリを所定の範囲内に収めるようフィルムの貼り合せ方等を制御することにより、第一の原因を回避するとともに、支持体から高分子フィルムを剥離する際の冷却を、支持体と高分子フィルムとを仮固定してなる高分子フィルム複合体の支持体側の面に冷媒を接触させることにより行って、第二の原因を回避するようにすれば、高精細な導体パターンを要する場合にも搭載する電子デバイスに動作不良を生じることなくフレキシブル電子デバイスを製造できることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive research to solve the above problems, the present inventors have firstly reversed the cause of malfunction when printing a high-definition conductor pattern such as when manufacturing a TFT. When printing with a very weak printing pressure as in the offset printing method, the conductor pattern printed on the polymer film temporarily fixed to the support is likely to be chipped or blurred, resulting in a short circuit. Second, when peeling the polymer film from the support, condensation occurs due to cooling, the moisture in the condensation causes deformation of the film, conductors oxidize and conductivity decreases, and semiconductor performance decreases. And found that there is a short circuit when the entire device is operated. And by controlling the method of laminating the film so as to fit the undulation that appears on the surface of the polymer film when temporarily fixing the polymer film to the support, the first cause is avoided, The cooling at the time of peeling the polymer film from the support is performed by bringing a refrigerant into contact with the surface on the support side of the polymer film composite obtained by temporarily fixing the support and the polymer film. Assuming that the cause is avoided, the present inventors have found that a flexible electronic device can be manufactured without causing a malfunction in an electronic device to be mounted even when a high-definition conductor pattern is required, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明に係るフレキシブル電子デバイスの製造方法は、高分子フィルムを粘着剤層を介して硬質の支持体に仮固定して高分子フィルム複合体とし、金属ナノ粒子インクを使用した接触型の印刷法を少なくとも用いて前記高分子フィルム複合体の高分子フィルム側の面に導体パターンを印刷し、加熱工程を経て、最終的に支持体から高分子フィルムを剥離するフレキシブル電子デバイスの製造方法において、前記粘着剤層を、−20℃〜20℃の範囲に、融点、ガラス転移温度、または貯蔵弾性率の変曲点温度のいずれかを有するものとし、支持体に仮固定した状態における高分子フィルムの表面におけるウネリの高低差が3μm以下であり、且つ、印刷前の前記高分子フィルム複合体の四隅の反りが3mm以下であり、支持体から高分子フィルムを剥離するにあたり、高分子フィルム複合体の支持体側の面に冷媒を接触させることを特徴とする。   That is, in the method for producing a flexible electronic device according to the present invention, a polymer film is temporarily fixed to a hard support through an adhesive layer to form a polymer film composite, and a contact type using metal nanoparticle ink. In a method for manufacturing a flexible electronic device, a conductor pattern is printed on a surface of a polymer film side of the polymer film composite using at least a printing method, and finally a polymer film is peeled from a support through a heating step. The polymer in a state where the pressure-sensitive adhesive layer has any of a melting point, a glass transition temperature, or an inflection point temperature of a storage elastic modulus in a range of −20 ° C. to 20 ° C. and temporarily fixed to a support. The difference in height of the undulation on the surface of the film is 3 μm or less, and the warp of the four corners of the polymer film composite before printing is 3 mm or less. Upon peeling the molecular film, and wherein contacting the coolant on the surface of the support side of the polymeric film composite.

本発明においては、前記粘着剤層の融点、ガラス転移温度、または貯蔵弾性率の変曲点温度のうち−20℃〜20℃の範囲にあるものの温度以下に前記冷媒の温度を制御することが好ましい。   In the present invention, the temperature of the refrigerant may be controlled to be equal to or lower than the temperature within the range of −20 ° C. to 20 ° C. among the melting point, glass transition temperature, or inflection point temperature of the storage elastic modulus of the pressure-sensitive adhesive layer. preferable.

本発明においては、前記冷媒の熱容量と前記支持体の熱容量との比率(冷媒/支持体)が1.1以上であることが好ましい。
本発明においては、前記高分子フィルムが、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネートからなる群より選択される1種以上からなることが好ましい。
In the present invention, the ratio of the heat capacity of the refrigerant to the heat capacity of the support (refrigerant / support) is preferably 1.1 or more.
In this invention, it is preferable that the said polymer film consists of 1 or more types selected from the group which consists of a polyethylene terephthalate, a polyethylene naphthalate, a polyimide, and a polycarbonate.

本発明においては、前記支持体に高分子フィルムを仮固定する際に、高分子フィルムに加わる張力を0.3MPa以下とすることが好ましい。
本発明においては、支持体から高分子フィルムを剥離する際の剥離面が高分子フィルムと粘着剤層との界面であり、その際の180度剥離強度が1N/cm以下であることが好ましい。
本発明においては、前記接触型の印刷法として反転オフセット印刷法を採用することが好ましい。
In the present invention, when the polymer film is temporarily fixed to the support, the tension applied to the polymer film is preferably 0.3 MPa or less.
In the present invention, it is preferable that the peeling surface when peeling the polymer film from the support is the interface between the polymer film and the pressure-sensitive adhesive layer, and the 180-degree peeling strength at that time is 1 N / cm or less.
In the present invention, it is preferable to employ a reverse offset printing method as the contact printing method.

本発明によれば、高分子フィルムを支持体に仮固定した際に高分子フィルム表面に現れるウネリを所定の範囲内に収めるとともに、支持体から高分子フィルムを剥離する際の冷却を支持体と高分子フィルムとを仮固定してなる高分子フィルム複合体の支持体側の面に冷媒を接触させることにより行うので、高精細な導体パターンを要する場合にも搭載する電子デバイスに動作不良を生じることなくフレキシブル電子デバイスを製造することができる。   According to the present invention, when the polymer film is temporarily fixed to the support, the undulation that appears on the surface of the polymer film is contained within a predetermined range, and the cooling when the polymer film is peeled from the support is supported with the support. Since the coolant is brought into contact with the support-side surface of the polymer film composite that is temporarily fixed to the polymer film, malfunctions may occur in the mounted electronic device even when a high-definition conductor pattern is required. Flexible electronic devices can be manufactured.

本発明のフレキシブル電子デバイスの製造方法は、高分子フィルムを粘着剤層を介して硬質の支持体に仮固定して高分子フィルム複合体とする工程(仮固定工程)、前記高分子フィルム複合体の高分子フィルム側の面に導体パターンを印刷する工程(印刷工程)、加熱工程、支持体から高分子フィルムを剥離する工程(剥離工程)を含む。   The method for producing a flexible electronic device of the present invention includes a step of temporarily fixing a polymer film to a hard support through an adhesive layer to form a polymer film composite (temporary fixing step), and the polymer film composite. Including a step of printing a conductor pattern on the surface of the polymer film (printing step), a heating step, and a step of peeling the polymer film from the support (peeling step).

(仮固定工程)
仮固定工程では、高分子フィルムを粘着剤層を介して硬質の支持体に仮固定することより高分子フィルム複合体を作製する。ここでは、支持体に仮固定した状態における高分子フィルムの表面におけるウネリの高低差が3μm以下となるように仮固定することが重要となる。本発明において「ウネリ」とは、高分子フィルム複合体の高分子フィルム側の表面において、任意の直線を選択し、測定長10mmでその高さの変化を観測したときに隣り合う凹部と凸部との高低差が最大である凹凸を意味する。ウネリの高低差が3μmを超えると、後述する接触型の印刷法にて印刷した際に印刷された導体パターンに欠けや擦れが発生し、これにより回路の短絡が生じることとなる。高分子フィルムの表面におけるウネリの高低差は、好ましくは2.5μm以下、より好ましくは2μm以下、さらに好ましくは1μm以下である。ウネリの高低差を前記範囲に制御するには、例えば、支持体の表面(仮固定面)の凹凸を減らしたり、粘着層やフィルムそのものの厚み斑を抑制したり、ラミネート時のローラー部分の平面性を上げたり、ラミネート時のフィルムの傷付きを防止したり(例えば高分子フィルムに保護シートを付けた状態でラミネートするなど)、ラミネート時の支持体と粘着剤層との間または粘着剤層と高分子フィルムとの間の異物の挟み込みを防止したりするなどの工夫を行えばよい。
(Temporary fixing process)
In the temporary fixing step, the polymer film composite is prepared by temporarily fixing the polymer film to a hard support through an adhesive layer. Here, it is important to temporarily fix so that the height difference of the undulations on the surface of the polymer film in the state temporarily fixed to the support is 3 μm or less. In the present invention, the term “uneri” means that when an arbitrary straight line is selected on the surface of the polymer film composite on the polymer film side and the change in the height is observed at a measurement length of 10 mm, the adjacent concave and convex portions It means the unevenness with the largest difference in height. If the height difference of the ridge exceeds 3 μm, the printed conductor pattern is chipped or rubbed when printed by the contact-type printing method described later, thereby causing a short circuit. The level difference of the undulation on the surface of the polymer film is preferably 2.5 μm or less, more preferably 2 μm or less, and even more preferably 1 μm or less. In order to control the level difference of the undulation within the above range, for example, the unevenness of the surface (temporary fixing surface) of the support is reduced, the uneven thickness of the adhesive layer or the film itself is suppressed, or the flat surface of the roller part at the time of lamination To prevent damage to the film during lamination (for example, laminating a polymer film with a protective sheet attached), between the support and the adhesive layer during lamination, or the adhesive layer What is necessary is just to devise, such as preventing the foreign material between the film and the polymer film.

本発明で用いることのできる硬質の支持体は、無機物からなり基板として用いることのできる板状のものであればよく、例えば、ガラス板、セラミック板、シリコンウエハ、金属のほか、これらを主体としているもの、これらが積層されているもの、これらが分散されているもの、これらからなる繊維を含有しているものなどの複合体等が挙げられる。これらの中でも、ガラス板がコストおよび軽量性等の点で好ましい。   The hard support that can be used in the present invention may be a plate made of an inorganic material that can be used as a substrate, such as a glass plate, a ceramic plate, a silicon wafer, a metal, and the like. And composites such as those in which these are laminated, those in which they are dispersed, and those containing these fibers. Among these, a glass plate is preferable in terms of cost and lightness.

前記支持体の厚みは、特に制限されないが、0.1mm以上3.0mm以下が好ましく、より好ましくは0.3mm以上2.0mm以下、さらに好ましくは0.5mm以上1.5mm以下である。支持体が薄すぎると、高分子フィルム複合体としたときの取り扱いが困難となったり、高分子フィルム複合体に反りが発生しやすくなったりする虞があり、一方、厚すぎると、質量が増大することで取り扱いが困難となる虞がある。   The thickness of the support is not particularly limited, but is preferably from 0.1 mm to 3.0 mm, more preferably from 0.3 mm to 2.0 mm, and still more preferably from 0.5 mm to 1.5 mm. If the support is too thin, it may be difficult to handle the polymer film composite or the polymer film composite may be easily warped. On the other hand, if the support is too thick, the mass increases. Doing so may make handling difficult.

前記支持体の表面粗さは、最大高さ(Ry)が5μm以下であり、かつ算術平均粗さ(Ra)が2.5μm以下であることが好ましい。Ryは好ましくは3μm以下、より好ましくは1μm以下、さらに好ましくは0.5μm以下、特に好ましくは0.01μm以下であり、Raはより好ましくは0.5μm以下、さらに好ましくは0.25μm以下、特に好ましくは0.01μm以下である。支持体の最大高さ(Ry)および算術平均粗さ(Ra)が前記範囲であると、高分子フィルム複合体における高分子フィルム表面のウネリを抑制し易くなる。なお、本発明で言う「最大高さ(Ry)」「算術平均粗さ(Ra)」とは、日本工業規格(JISB 0601―1994)に定められた「最大高さ(Ry)」「算術平均粗さ(Ra)」を意味し、例えば表面粗さ計などを用いて測定できる。   The surface roughness of the support is preferably such that the maximum height (Ry) is 5 μm or less and the arithmetic average roughness (Ra) is 2.5 μm or less. Ry is preferably 3 μm or less, more preferably 1 μm or less, further preferably 0.5 μm or less, particularly preferably 0.01 μm or less, and Ra is more preferably 0.5 μm or less, further preferably 0.25 μm or less, particularly Preferably it is 0.01 micrometer or less. When the maximum height (Ry) and arithmetic average roughness (Ra) of the support are in the above ranges, it is easy to suppress undulation on the surface of the polymer film in the polymer film composite. In the present invention, “maximum height (Ry)” and “arithmetic average roughness (Ra)” mean “maximum height (Ry)” and “arithmetic average” defined in Japanese Industrial Standards (JISB 0601-1994). It means “roughness (Ra)” and can be measured using, for example, a surface roughness meter.

本発明で用いることのできる高分子フィルムは、特に制限されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリブチレンナフタレート等のポリエステル、ポリイミド、ポリカーボネート等が挙げられる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネートからなる群より選択される1種以上が好ましい。   The polymer film that can be used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include polyesters such as polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene terephthalate, and polybutylene naphthalate, polyimide, and polycarbonate. Among these, at least one selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyimide, and polycarbonate is preferable.

前記高分子フィルムの厚みは、特に制限されないが、10μm以上200μm以下が好ましく、より好ましくは20μm以上190μm以下、さらに好ましくは30μm以上150μm以下である。高分子フィルムが薄すぎると、硬質の支持体および粘着剤から生じる微細な凹凸が顕著に表れ易くなったり、電子デバイスの基材としての最低限の機械的強度を維持し難くなったり、支持体からの剥離が困難になったりする虞があり、一方、厚すぎると、支持体から剥がす際にフィルムの折れ曲がりなどが起こる場合がある。   The thickness of the polymer film is not particularly limited, but is preferably 10 μm or more and 200 μm or less, more preferably 20 μm or more and 190 μm or less, and further preferably 30 μm or more and 150 μm or less. If the polymer film is too thin, the fine irregularities generated from the hard support and the pressure-sensitive adhesive tend to appear remarkably, and it becomes difficult to maintain the minimum mechanical strength as the base material of the electronic device. The film may be difficult to peel off. On the other hand, if it is too thick, the film may be bent when it is peeled off from the support.

本発明において前記支持体と前記高分子フィルムとを仮固定する粘着剤層を形成する粘着剤は、温度により接着力(剥離強度)が変化するものであり、具体的には、低温になるほど接着力が低下する性質を有するものである。
本発明における前記粘着剤層は、−20℃〜+20℃の範囲に、融点、ガラス転移温度、または貯蔵弾性率の変曲点温度のいずれか(以下、本発明では「変位点」と称することもある)を有する。ここで、貯蔵弾性率の変曲点温度とは、低温側から高温側に温度を走査して貯蔵弾性率を測定し、横軸に温度、縦軸に貯蔵弾性率をプロットした時に得られる曲線において変曲点となる温度である。粘着剤層の変位点が20℃を超えると、接着力が弱くなりすぎて仮固定後のプロセス中に自ずと剥離してしまうことになり、一方、−20℃未満であると、剥離強度が強くなりすぎて、冷却しても剥離が困難になる。粘着剤層の変位点は、より好ましくは−15℃〜+10℃、さらに好ましくは−5℃〜+5℃である。
In the present invention, the pressure-sensitive adhesive that forms the pressure-sensitive adhesive layer for temporarily fixing the support and the polymer film has an adhesive force (peeling strength) that varies depending on the temperature. It has the property that power is reduced.
In the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer has a melting point, a glass transition temperature, or an inflection point temperature of storage elastic modulus within a range of −20 ° C. to + 20 ° C. (hereinafter referred to as “displacement point” in the present invention). There is also. Here, the inflection point temperature of the storage elastic modulus is a curve obtained by measuring the storage elastic modulus by scanning the temperature from the low temperature side to the high temperature side, and plotting the temperature on the horizontal axis and the storage elastic modulus on the vertical axis. It is the temperature which becomes an inflection point. When the displacement point of the pressure-sensitive adhesive layer exceeds 20 ° C., the adhesive strength becomes too weak and the film will be peeled off naturally during the process after temporary fixing. On the other hand, if it is less than −20 ° C., the peel strength is high. It becomes too much and peeling becomes difficult even if it cools. The displacement point of the pressure-sensitive adhesive layer is more preferably −15 ° C. to + 10 ° C., and further preferably −5 ° C. to + 5 ° C.

前記粘着剤層を形成する粘着剤としては、−20℃〜20℃の範囲に前記変位点を有する樹脂を用いることができる。具体的には、例えばシリコーン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂など、粘着剤に用いられている公知の樹脂の中から、上記物性を有するものを適宜選択すればよい。また、冷却することによって粘着力が減じる性質を有する側鎖結晶性高分子を用いた粘着剤も好ましく用いることができる。   As an adhesive which forms the said adhesive layer, resin which has the said displacement point in the range of -20 degreeC-20 degreeC can be used. Specifically, what has the said physical property should just be selected suitably from well-known resin used for adhesives, such as a silicone resin, an epoxy resin, an acrylic resin, a polyester resin, for example. Moreover, the adhesive using the side chain crystalline polymer which has the property to which adhesive force reduces by cooling can also be used preferably.

前記粘着剤層は、上述した粘着剤を含む液状、ロウ状等の組成物を支持体または高分子フィルムに塗工することにより形成してもよいし(塗工法)、両面粘着シートを使用し、該両面粘着シートの一方の面を支持体に、他方の面を高分子フィルムに貼り合わせることにより形成してもよい(両面粘着シート法)。簡便性の点では後者の両面粘着シート法が好ましい。粘着剤層は、支持体、高分子フィルムのどちらに先に形成してもよいが、先に支持体に形成する方が好ましい。なお、支持体に粘着剤層を形成する際には、予め、UV洗浄装置等を用いて表面を洗浄しておくことが好ましい。   The pressure-sensitive adhesive layer may be formed by applying a liquid or wax-like composition containing the above-mentioned pressure-sensitive adhesive to a support or a polymer film (coating method), or using a double-sided pressure-sensitive adhesive sheet. The double-sided pressure-sensitive adhesive sheet may be formed by bonding one surface to a support and the other surface to a polymer film (double-sided pressure-sensitive adhesive sheet method). From the viewpoint of simplicity, the latter double-sided PSA method is preferred. The pressure-sensitive adhesive layer may be formed first on either the support or the polymer film, but is preferably formed on the support first. In addition, when forming an adhesive layer in a support body, it is preferable to wash | clean the surface previously using UV cleaning apparatus etc.

前記塗工法により粘着剤層を形成する場合、乾燥後の塗膜の厚みが5μm以上30μm以下となるように塗布することが好ましい。なお、塗工方法としては、例えば、スピンコート、ドクターブレード、アプリケーター、コンマコーター、スクリーン印刷法、スリット付き口金からの流延、押出機による押出し、スリットコート、リバースコート、ディップコート等の従来公知の塗布手段を用いればよい。   When forming an adhesive layer by the said coating method, it is preferable to apply | coat so that the thickness of the coating film after drying may be 5 micrometers or more and 30 micrometers or less. As the coating method, for example, conventionally known methods such as spin coating, doctor blade, applicator, comma coater, screen printing method, casting from a nozzle with a slit, extrusion by an extruder, slit coating, reverse coating, dip coating, etc. The coating means may be used.

前記塗工法により形成された粘着剤層の表面の粗さは、最大高さ(Ry)が3μm以下かつ算術平均粗さ(Ra)が2.5μm以下であることが好ましい。Ryはより好ましくは1μm以下、さらに好ましくは0.5μm以下であり、Raはより好ましくは0.5μm以下、さらに好ましくは0.25μm以下である。粘着剤層表面の最大高さ(Ry)および算術平均粗さ(Ra)が前記範囲であると、高分子フィルム複合体における高分子フィルム表面のウネリを抑制し易くなる。粘着剤層の表面の粗さを前記範囲にするには、例えば、支持体の表面(仮固定面)の凹凸を減らしたり、支持体の表面(仮固定面)の濡れ性を高めることで面内への均一な塗工を可能にしたり、高精度の塗工機を用いることで塗工ムラを抑制したりすればよい。   The surface roughness of the pressure-sensitive adhesive layer formed by the coating method is preferably such that the maximum height (Ry) is 3 μm or less and the arithmetic average roughness (Ra) is 2.5 μm or less. Ry is more preferably 1 μm or less, further preferably 0.5 μm or less, and Ra is more preferably 0.5 μm or less, and even more preferably 0.25 μm or less. When the maximum height (Ry) and arithmetic average roughness (Ra) on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer are in the above ranges, it is easy to suppress undulation on the surface of the polymer film in the polymer film composite. In order to make the roughness of the surface of the pressure-sensitive adhesive layer within the above range, for example, by reducing the unevenness of the surface of the support (temporary fixing surface) or increasing the wettability of the surface of the support (temporary fixing surface) What is necessary is just to make uniform coating inside and to suppress coating nonuniformity by using a high precision coating machine.

前記両面粘着シートは、基材(プラスチックシート、不織布シート等)の両面に粘着剤層を備えたものであってもよいし、基材を有さず粘着剤層のみからなるものであってもよい。好ましくは、基材を有する構造であると、貼り合わせ時や導体ナノインクの焼成時など加熱を生じる工程において粘着剤層との収縮差が生じて凹凸の原因となるため、粘着剤層のみで構成されているのが望ましい。   The double-sided pressure-sensitive adhesive sheet may have a pressure-sensitive adhesive layer on both sides of a base material (plastic sheet, nonwoven fabric sheet, etc.), or may have only a pressure-sensitive adhesive layer without having a base material. Good. Preferably, the structure having a base material is composed only of the pressure-sensitive adhesive layer because a difference in shrinkage from the pressure-sensitive adhesive layer is caused in the process of heating such as bonding and firing of the conductor nano ink, which causes unevenness. It is desirable that

前記両面粘着シート法により粘着剤層を形成する場合、両面粘着シートの厚み(総厚み)の下限は、粘着剤のハンドリング性を向上し、硬質の支持体の凹凸を緩和する上では、5μm以上が好ましく、10μm以上がより好ましく、20μm以上がさらに好ましい。一方、両面粘着シートの厚み(総厚み)の上限は、シート状の粘着剤そのものの厚み斑により発生する凹凸を低減するために、50μm以下が好ましく、40μm以下がより好ましく、30μm以下がさらに好ましい。   When the pressure-sensitive adhesive layer is formed by the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet method, the lower limit of the thickness (total thickness) of the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet is 5 μm or more for improving the handling property of the pressure-sensitive adhesive and alleviating the unevenness of the hard support. Is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more. On the other hand, the upper limit of the thickness (total thickness) of the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet is preferably 50 μm or less, more preferably 40 μm or less, and even more preferably 30 μm or less in order to reduce unevenness caused by unevenness in the thickness of the sheet-like pressure-sensitive adhesive itself. .

前記両面粘着シート法により粘着剤層を形成する場合、両面粘着シートと支持体または高分子フィルムとを貼り合せる際の手法としては、公知の貼り合せ方法を適宜採用することができる。具体的には、ロールラミネート法、プレス法、一般的には2本のロールによる加圧による方法等が用いられる。なお、加熱機能を備えたロールを用いるなどして貼り合せ時に、例えば30℃〜100℃程度に加熱することもできる。その際、ロールの材質等に制限はない。   When the pressure-sensitive adhesive layer is formed by the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet method, a known laminating method can be appropriately employed as a method for laminating the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet and the support or the polymer film. Specifically, a roll laminating method, a press method, or a method by pressurization with two rolls is generally used. In addition, it can also heat to about 30 to 100 degreeC at the time of bonding, for example using the roll provided with the heating function. In that case, there is no restriction | limiting in the material of a roll.

前記両面粘着シート法により粘着剤層を形成する場合、両面粘着シートと支持体または高分子フィルムとを貼り合せる際には、貼り付け機における粘着剤層との接触面(例えばロールラミネータのロール部分)の凹凸の高低差を3μm以下とすることが好ましく、より好ましくは1μm以下、さらに好ましくは0.5μm以下である。貼り付け機の接触面に凹凸があると、高分子フィルム表面にうねりが生じる虞がある。   When the pressure-sensitive adhesive layer is formed by the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet method, when the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet is bonded to the support or the polymer film, the contact surface with the pressure-sensitive adhesive layer in the pasting machine (for example, a roll part of a roll laminator) ) Is preferably 3 μm or less, more preferably 1 μm or less, and even more preferably 0.5 μm or less. If the contact surface of the applicator is uneven, the surface of the polymer film may be wavy.

前記両面粘着シート法により形成された粘着剤層の表面の粗さは、最大高さ(Ry)が3μm以下であることが好ましい。より好ましくは1μm以下、さらに好ましくは0.5μm以下である。粘着剤層表面の最大高さ(Ry)が前記範囲であると、高分子フィルム複合体における高分子フィルム表面のウネリを抑制し易くなる。粘着剤層の表面の粗さを前記範囲にするには、例えば、支持体の表面(仮固定面)の凹凸を減らしたり、粘着層そのものの厚み斑を抑制したり、ラミネート時のローラー部分の平面性を上げるなどの工夫を行えばよい。   The surface roughness of the pressure-sensitive adhesive layer formed by the double-sided pressure-sensitive adhesive sheet method preferably has a maximum height (Ry) of 3 μm or less. More preferably, it is 1 micrometer or less, More preferably, it is 0.5 micrometer or less. When the maximum height (Ry) of the pressure-sensitive adhesive layer surface is in the above range, it becomes easy to suppress undulation on the surface of the polymer film in the polymer film composite. In order to make the surface roughness of the pressure-sensitive adhesive layer within the above range, for example, the unevenness of the surface (temporary fixing surface) of the support is reduced, the uneven thickness of the pressure-sensitive adhesive layer itself is suppressed, What is necessary is just to improve the flatness.

粘着剤層が形成された支持体に高分子フィルムを貼り合わせる際の手法としては、公知の貼り合せ方法を適宜採用することができる。具体的には、ロールラミネート法、プレス法、一般的には2本のロールによる加圧による方法等が用いられる。なお、加熱機能を備えたロールを用いるなどして貼り合せ時に、例えば30℃〜100℃程度に加熱することもできる。その際、ロールの材質等に制限はない。   As a method for adhering the polymer film to the support on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed, a known laminating method can be appropriately employed. Specifically, a roll laminating method, a press method, or a method by pressurization with two rolls is generally used. In addition, it can also heat to about 30 to 100 degreeC at the time of bonding, for example using the roll provided with the heating function. In that case, there is no restriction | limiting in the material of a roll.

粘着剤層が形成された支持体に高分子フィルムを貼り合わせる際には、高分子フィルムに加わる張力を1.0MPa以下とすることが好ましい。高分子フィルムに加わる張力が高すぎると、得られた高分子フィルム複合体においてフィルムの四隅に反りが生じる虞がある。高分子フィルムに加わる張力は、より好ましくは0.5MPa以下、さらに好ましくは0.3MPa以下である。   When the polymer film is bonded to the support on which the pressure-sensitive adhesive layer is formed, the tension applied to the polymer film is preferably 1.0 MPa or less. If the tension applied to the polymer film is too high, the resulting polymer film composite may be warped at the four corners of the film. The tension applied to the polymer film is more preferably 0.5 MPa or less, and still more preferably 0.3 MPa or less.

粘着剤が塗布された硬質の支持体上に高分子フィルムを貼り付ける際、貼り付け機における粘着剤層との接触面(例えばロールラミネータのロール部分)の凹凸の高低差は3μm以下であることが好ましく、より好ましくは1μm以下であり、さらに好ましくは0.5μm以下である。貼り付け機の接触面に凹凸があると、高分子フィルム表面にうねりが生じる虞がある。   When a polymer film is pasted on a hard support coated with an adhesive, the difference in level of unevenness on the contact surface with the adhesive layer in the pasting machine (for example, the roll part of a roll laminator) must be 3 μm or less. Is more preferably 1 μm or less, still more preferably 0.5 μm or less. If the contact surface of the applicator is uneven, the surface of the polymer film may be wavy.

本発明においては、印刷前の前記高分子フィルム複合体の四隅の反りが3mm以下であることが重要となる。高分子フィルム複合体の四隅の反りが前記範囲を超えると、特に中央部において印刷抜けが発生したり、印刷時の固定が難しくなるなど、接触型の印刷法による印刷に問題を生じることになり、また仮に印刷ができても、冷媒に均一に接触させ難くなり冷却斑が生じたり、最終的に支持体から剥離した後のフレキシブル電子デバイス(TFT等)にひずみが生じたりする場合がある。前記高分子フィルム複合体の四隅の反りは、2mm以下であることが好ましく、より好ましくは1mm以下である。   In the present invention, it is important that the warpage of the four corners of the polymer film composite before printing is 3 mm or less. If the curvature of the four corners of the polymer film composite exceeds the above range, problems such as missing prints at the center and difficulty in fixing during printing will cause problems in printing by the contact printing method. Moreover, even if printing can be performed, it may be difficult to uniformly contact the refrigerant, resulting in cooling spots, and finally distortion may occur in the flexible electronic device (TFT or the like) after peeling from the support. The warp of the four corners of the polymer film composite is preferably 2 mm or less, more preferably 1 mm or less.

(印刷工程)
印刷工程では、金属ナノ粒子インクを使用した接触型の印刷法を少なくとも用いて、前記高分子フィルム複合体の高分子フィルム側の面に導体パターンを印刷する。つまり、印刷工程においては複数の印刷法を組合せて採用することができるが、本発明では、少なくともその中の一つの方法として、金属ナノ粒子インクを使用した接触型の印刷法が採用されていなければならない。
接触型の印刷法とは、刷版またはブランケットなどの中間媒体を最終媒体となる高分子フィルムに直接接触させて画像転写を行うものであり、例えば、凸版印刷、凹版印刷、平版印刷、孔版印刷、反転オフセット印刷が挙げられる。接触型の印刷は、非接触型の印刷に比べて印刷時間が非常に短く、高速生産に適している。接触型印刷における印刷解像度は30μm以下であることが好ましく、より好ましくは20μm以下、さらに好ましくは10μm以下である。
(Printing process)
In the printing step, the conductor pattern is printed on the polymer film side surface of the polymer film composite using at least a contact-type printing method using metal nanoparticle ink. In other words, a plurality of printing methods can be used in combination in the printing process, but in the present invention, at least one of them must be a contact type printing method using metal nanoparticle ink. I must.
The contact-type printing method is an image transfer method in which an intermediate medium such as a printing plate or a blanket is directly brought into contact with a polymer film as a final medium, for example, letterpress printing, intaglio printing, planographic printing, stencil printing. And reverse offset printing. Contact printing is much shorter in printing time than non-contact printing and is suitable for high-speed production. The printing resolution in contact printing is preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, and even more preferably 10 μm or less.

前記凸版印刷とは、表面に凹部と凸部とが形成された版の凸部にインクを付着させ、該インクを印刷物に転写させる方法である。
前記凹版印刷とは、凹版上に流動性の大きな樹脂インキを供給し、凹版印刷版に供給した余分なインキをドクターにて掻き取り、同時に画素部相当凹みパターン部にインキを充填し、これを紙やプラスチック等の被印刷体に直接若もしくはゴムブランケットを介して転写させる方法である。
The letterpress printing is a method in which ink is adhered to a convex part of a plate having a concave part and a convex part formed on the surface, and the ink is transferred to a printed matter.
The intaglio printing means that a resin resin having a high fluidity is supplied onto the intaglio, the excess ink supplied to the intaglio printing plate is scraped with a doctor, and at the same time, the ink corresponding to the pixel portion corresponding to the indentation pattern is filled with the ink. This is a method of transferring directly to a printing material such as paper or plastic through a young or rubber blanket.

前記平版(オフセット)印刷とは、印刷版の表面に印刷インクに対して付着性のある領域と付着性のない領域とを形成しておき、付着性のない領域では印刷インクをはじき、付着性のある領域のみに印刷インクを付着させることで版面を構成する方法である。
前記孔版印刷とは、マスターである支持体側から印刷インクを供給して高分子フィルムの穿孔部分を通して浸出させ、マスターの高分子フィルム面に接した印刷用紙に印刷する方法である。
In the lithographic (offset) printing, an area having adhesion to the printing ink and a non-adhesion area are formed on the surface of the printing plate, and the printing ink is repelled in the non-adhesion area. In this method, a printing plate is formed by attaching printing ink only to a certain area.
The stencil printing is a method in which printing ink is supplied from the support side which is a master, is leached through a perforated portion of the polymer film, and is printed on a printing paper in contact with the polymer film surface of the master.

前記反転オフセット印刷とは、ブランケット胴の全面にコートしたインクをパターニングされた凸版に転写し、残ったインクをワークに転写する印刷方式である。
本発明においては、上述した接触型の印刷法の中でも特に、反転オフセット印刷法を採用することが好ましい。反転オフセット印刷によれば、印刷精度が±10μm以下程度であり、解像度が10μm以下程度となる高精細なパターン印刷が可能になるとともに、半乾燥状態のインクをフィルムに転写するので、断面形状が矩形の印刷体を形成することができる。
The reverse offset printing is a printing method in which the ink coated on the entire surface of the blanket cylinder is transferred to a patterned relief plate, and the remaining ink is transferred to a workpiece.
In the present invention, it is preferable to employ the reverse offset printing method among the contact printing methods described above. According to the reverse offset printing, high-precision pattern printing with a printing accuracy of about ± 10 μm or less and a resolution of about 10 μm or less is possible, and the semi-dried ink is transferred to the film, so that the cross-sectional shape is A rectangular printed body can be formed.

前記接触型の印刷法で用いる金属ナノ粒子インクは、作製しようとするフレキシブル電子デバイスの要求特性に応じて適宜設定すればよいが、例えば、白金、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、亜鉛、スズ、鉄等が挙げられる。金属ナノ粒子インクは1種のみであってもよいし2種以上であってもよい。   The metal nanoparticle ink used in the contact-type printing method may be appropriately set according to the required characteristics of the flexible electronic device to be produced. For example, platinum, gold, silver, copper, nickel, palladium, zinc, Examples include tin and iron. The metal nanoparticle ink may be only one type or two or more types.

前記金属ナノ粒子インクの粒子径は、特に制限されないが、例えばメジアン径(d50)で、1nm〜500nmが好ましく、より好ましくは200nm以下、さらに好ましくは100nm以下である。   Although the particle diameter of the metal nanoparticle ink is not particularly limited, for example, the median diameter (d50) is preferably 1 nm to 500 nm, more preferably 200 nm or less, and still more preferably 100 nm or less.

本発明においては、印刷後の前記高分子フィルム複合体の四隅の反りは3mm以下であることが好ましく、より好ましくは2mm以下、さらに好ましくは1mm以下である。印刷後に高分子フィルム複合体の四隅に反りが生じると、最終的に支持体から剥離した後のフレキシブル電子デバイス(TFT等)にひずみが生じたりする場合がある。   In the present invention, warping of the four corners of the polymer film composite after printing is preferably 3 mm or less, more preferably 2 mm or less, and further preferably 1 mm or less. If the four corners of the polymer film composite are warped after printing, the flexible electronic device (TFT or the like) after peeling from the support may be distorted.

(加熱工程)
本発明においては加熱工程を含む。加熱工程は、例えば、高分子フィルムと支持体とを仮固定した高分子フィルム複合体を形成する際に、粘着剤層の接着力を増すために行う加熱であってもよいし、印刷工程において金属ナノ粒子を焼成するために行うものであってもよいし、絶縁体などに用いられる有機高分子を重合するために行うものであってもよいし、金属ナノ粒子や有機高分子に含まれる溶媒を除去するために行うものであってもよい。
(Heating process)
In this invention, a heating process is included. The heating step may be, for example, heating performed to increase the adhesive force of the pressure-sensitive adhesive layer when forming a polymer film composite in which a polymer film and a support are temporarily fixed. It may be performed for firing metal nanoparticles, may be performed for polymerizing organic polymers used for insulators, etc., and is included in metal nanoparticles and organic polymers You may perform in order to remove a solvent.

加熱工程における温度は、その目的に応じて適宜設定すればよいが、例えば、200℃以下が好ましく、より好ましくは180℃以下、さらに好ましくは150℃以下である。   The temperature in the heating step may be appropriately set according to the purpose, but is preferably 200 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower, and further preferably 150 ° C. or lower.

(剥離工程)
剥離工程では、高分子フィルム複合体の支持体から、導体パターンが印刷された高分子フィルムを剥離する。本発明では、支持体から高分子フィルムを剥離するにあたり、高分子フィルム複合体の支持体側の面に冷媒を接触させることが重要となる。高分子フィルム複合体全体を冷却するのではなく、支持体側の面に冷媒を接触させて片側のみから粘着剤層を冷却するようにすれば、結露の発生を抑制することができ、フィルムの変形、導体の酸化、半導体の性能低下、デバイス動作時の短絡など、水分が起因して生じる問題を回避することが可能になる。
(Peeling process)
In the peeling step, the polymer film on which the conductor pattern is printed is peeled from the support of the polymer film composite. In the present invention, in peeling the polymer film from the support, it is important to bring the refrigerant into contact with the support-side surface of the polymer film composite. If the pressure-sensitive adhesive layer is cooled only from one side by bringing the refrigerant into contact with the surface on the support side instead of cooling the entire polymer film composite, the occurrence of condensation can be suppressed, and the deformation of the film It is possible to avoid problems caused by moisture, such as conductor oxidation, semiconductor performance degradation, and short circuit during device operation.

本発明において、前記冷媒としては、高分子フィルム複合体の支持体側の面に接触させうる面を持つ所定の形状の材料を、所定の温度に冷却して用いることが好ましい。冷媒の材質としては、特に限定されるものではないが、例えば、ガラス板、セラミック板、シリコンウエハ、金属のほか、これらを主体としているもの、これらが積層されているもの、これらが分散されているもの、これらからなる繊維を含有しているものなどの複合体等が挙げられる。   In the present invention, as the coolant, it is preferable to use a material having a predetermined shape having a surface that can be brought into contact with the support-side surface of the polymer film composite, after cooling to a predetermined temperature. The material of the refrigerant is not particularly limited, but, for example, a glass plate, a ceramic plate, a silicon wafer, a metal other than these, a material in which these are laminated, a material in which these are laminated, and these are dispersed And composites such as those containing fibers made of these.

前記冷媒は、その熱容量が前記支持体の熱容量よりも大きい材料からなることが好ましく、特に、冷媒(冷媒材料)の熱容量と支持体の熱容量との熱容量比(冷媒/支持体)が1.1以上であることが好ましく、1.3以上であることがより好ましい。この熱容量比が前記範囲よりも小さいと、支持体の冷却が不十分となる虞があり、そうすると粘着剤層の剥離強度を下げることができず剥離が困難になる傾向がある。   The refrigerant is preferably made of a material whose heat capacity is larger than the heat capacity of the support, and in particular, the heat capacity ratio (refrigerant / support) between the heat capacity of the refrigerant (refrigerant material) and the heat capacity of the support is 1.1. It is preferable that it is above, and it is more preferable that it is 1.3 or more. If this heat capacity ratio is smaller than the above range, the support may be insufficiently cooled, and the peeling strength of the pressure-sensitive adhesive layer cannot be lowered, and peeling tends to be difficult.

前記冷媒の温度(すなわち、冷媒として用いる時の冷媒材料の温度)は、粘着剤層の変位点(融点、ガラス転移温度、または貯蔵弾性率の変曲点温度のうちのいずれか)の温度以下に制御することが好ましい。例えば、粘着剤層のガラス転移温度が0℃であれば、冷媒の温度は0℃以下とするのがよい。   The temperature of the refrigerant (that is, the temperature of the refrigerant material when used as a refrigerant) is equal to or less than the temperature of the displacement point of the pressure-sensitive adhesive layer (one of melting point, glass transition temperature, or inflection point temperature of storage elastic modulus). It is preferable to control. For example, if the glass transition temperature of the pressure-sensitive adhesive layer is 0 ° C., the temperature of the refrigerant is preferably 0 ° C. or less.

高分子フィルム複合体の支持体側の面と冷却媒体とを接触させる際の接触面積は、高分子フィルム複合体(支持体)の全面積の80%以上が好ましく、より好ましくは90%以上、さらに好ましくは95%以上、最も好ましくは100%(すなわち支持体の全面に接触させること)である。接触面積が少なすぎると、冷却が不十分となり、剥離し難くなる虞がある。なお、前記接触面積が高分子フィルム複合体(支持体)の全面積よりも大きくてもよいことは言うまでもない。   The contact area when the support side of the polymer film composite is brought into contact with the cooling medium is preferably 80% or more, more preferably 90% or more of the total area of the polymer film composite (support). It is preferably 95% or more, and most preferably 100% (that is, contact with the entire surface of the support). If the contact area is too small, cooling may be insufficient and peeling may be difficult. Needless to say, the contact area may be larger than the total area of the polymer film composite (support).

高分子フィルム複合体の支持体側の面と冷却媒体とを接触させる際の接触時間は、結露が生じ始める時間より短ければよく、冷媒の種類や熱容量、接触面積等に応じて適宜設定すればよいが、通常、1秒以上60秒以下であり、好ましくは2秒以上50秒以下、より好ましくは5秒以上40秒以下、さらに好ましくは10秒以上30秒以下である。   The contact time when the surface on the support side of the polymer film composite is brought into contact with the cooling medium should be shorter than the time when condensation starts to occur, and may be set as appropriate according to the type of refrigerant, heat capacity, contact area, etc. However, it is usually 1 second to 60 seconds, preferably 2 seconds to 50 seconds, more preferably 5 seconds to 40 seconds, and further preferably 10 seconds to 30 seconds.

高分子フィルムを支持体から剥離する方法は、所定の冷却方法(すなわち、高分子フィルム複合体の支持体側の面に冷媒を接触させること)によって粘着剤層が冷却された状態で行いさえすれば、特に制限はされず、例えば、高分子フィルムの端部を引掻くか、僅かな切り込みを入れるなどして剥離のきっかけとなる捲れ部分を作り、その部分から高分子フィルムを引っ張ればよい。   The polymer film can be peeled off from the support only if the pressure-sensitive adhesive layer is cooled by a predetermined cooling method (that is, bringing the refrigerant into contact with the support-side surface of the polymer film composite). There is no particular limitation, and for example, the end portion of the polymer film may be scratched or a slight cut may be made to create a wrinkled portion that triggers peeling, and the polymer film may be pulled from that portion.

支持体から高分子フィルムを剥離する際の剥離面は、高分子フィルムと粘着剤層との界面であることが好ましい。高分子フィルムと粘着剤層との界面で剥離すれば、高分子フィルムに粘着剤層が残存することがないので、電子デバイスとして好適に使用できる。   The peeling surface when peeling the polymer film from the support is preferably the interface between the polymer film and the pressure-sensitive adhesive layer. If it peels in the interface of a polymer film and an adhesive layer, since an adhesive layer does not remain in a polymer film, it can be used conveniently as an electronic device.

支持体から高分子フィルムを冷却剥離する際の180度剥離強度は1N/cm以下であることが好ましい。180度剥離強度は、より好ましくは0.5N/cm以下、さらに好ましくは0.1N/cm以下である。冷却剥離時の180度剥離強度が前記範囲であると、剥離の際に導体パターンや搭載したデバイスを破損してしまうことを防止できる。   The 180 degree peel strength when the polymer film is cooled and peeled from the support is preferably 1 N / cm or less. The 180 degree peel strength is more preferably 0.5 N / cm or less, and still more preferably 0.1 N / cm or less. When the 180-degree peel strength at the time of cooling peeling is within the above range, it is possible to prevent the conductor pattern and the mounted device from being damaged at the time of peeling.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前・後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。
なお、以下の実施例における物性の測定・評価は以下の方法で行った。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following examples, but may be appropriately modified within a range that can meet the purpose described above and below. Of course, it is possible to implement them, and they are all included in the technical scope of the present invention.
The physical properties in the following examples were measured and evaluated by the following methods.

<粘着剤層の変位点(ガラス転移温度)>
高分子フィルムと支持体との仮固定に用いる粘着剤(両面冷却剥離シートの粘着剤層)について、DSC示差熱分析装置を用いて室温から200℃までの範囲での構造変化に起因する吸放熱の有無からガラス転移点温度を求めた。
<Displacement point of adhesive layer (glass transition temperature)>
About the pressure-sensitive adhesive (pressure-sensitive adhesive layer of the double-sided cooling release sheet) used for temporary fixing of the polymer film and the support, using a DSC differential thermal analyzer, it absorbs and releases heat due to structural changes in the range from room temperature to 200 ° C The glass transition temperature was determined from the presence or absence of.

<高分子フィルム複合体における高分子フィルム表面のウネリ>
支持体に高分子フィルムを貼り合せて高分子フィルム複合体とした後、印刷を施す前に、触診式表面粗さ計(株式会社小坂研究所製「サーフコーダET4000L−J」)を用いて下記の条件で高分子フィルム表面について分析した。そして、全測定長(10mm)の中で最も高い点と最も低い点の高低差をウネリとした。
測定温度:室温
測定速度:200μm/秒
雰囲気:大気
測定長:10mm
<Unery on the surface of the polymer film in the polymer film composite>
After a polymer film is bonded to a support to form a polymer film composite, before printing, the following is performed using a palpation type surface roughness meter ("Surfcoder ET4000L-J" manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.) The surface of the polymer film was analyzed under the following conditions. And the difference in height between the highest point and the lowest point in the total measurement length (10 mm) was defined as undulation.
Measurement temperature: Room temperature Measurement speed: 200 μm / sec Atmosphere: Atmospheric measurement length: 10 mm

<180度剥離強度>
冷却剥離時の支持体と高分子フィルムとの間の180度剥離強度を、JIS C 6471に規定の180度剥離法に準じて、下記の条件に従い測定した。なおこの測定は、支持体に高分子フィルムを貼り合せて高分子フィルム複合体とした後、印刷を施す前に行った。
装置名:島津製作所社製「オートグラフAG−IS」
測定温度:5℃
剥離速度:50mm/分
測定雰囲気:大気
測定サンプル幅:1cm
<180 degree peel strength>
The 180 degree peel strength between the support and the polymer film at the time of cooling peeling was measured according to the following conditions in accordance with the 180 degree peeling method specified in JIS C 6471. This measurement was performed before printing, after a polymer film was bonded to the support to form a polymer film composite.
Device name: “Autograph AG-IS” manufactured by Shimadzu Corporation
Measurement temperature: 5 ° C
Peeling speed: 50 mm / min Measurement atmosphere: Air measurement Sample width: 1 cm

<剥離面の確認>
冷却剥離後の高分子フィルムについて、その表面上に粘着剤層の残存が認められるか否かを目視観察にて確認した。粘着剤層の残存がなければ、高分子フィルムと粘着剤層の界面で剥離していると言える。
<Confirmation of peeling surface>
About the polymer film after cooling peeling, it was confirmed by visual observation whether the adhesive layer remained on the surface. If there is no residual adhesive layer, it can be said that the film is peeled off at the interface between the polymer film and the adhesive layer.

<高分子フィルム複合体の四隅の反り>
印刷前と印刷後の高分子フィルム複合体(いずれもA4サイズ)を測定試料とし、この試料をそれぞれ、支持体側が下になるように平坦な板(ガラス板など)の上に載せ、高分子フィルム複合体の四隅について、該複合体の下面(支持体側の面)から平坦な板の上面までの距離を定規で測定し、得られた4つの値の平均値を四隅の反りとした。
<War of the four corners of the polymer film composite>
Before and after printing, a polymer film composite (both A4 size) was used as a measurement sample, and each sample was placed on a flat plate (such as a glass plate) so that the support side would be down. With respect to the four corners of the film composite, the distance from the lower surface (surface on the support side) of the composite to the upper surface of the flat plate was measured with a ruler, and the average value of the four values obtained was defined as the warp of the four corners.

(実施例1)
1.支持体への粘着剤層の形成
ガラス(コーニング社製「イーグルXG」:サイズA4、厚さ1.1mm、最大高さ(Ry)7nm、算術平均粗さ(Ra)1nm、熱容量116J/Kを硬質支持体とし、これをUV洗浄装置にて180秒間UV光を照射することにより洗浄した。次いで、両面に粘着剤層を備えた市販の両面冷却剥離粘着シート(シート1:粘着剤層のガラス転移温度18℃)をA4サイズに切り出し、その片面の保護フィルムを剥離し、枚葉式ラミネータ装置を用いて貼り付け温度(貼り付け時の支持体の温度)が50℃となる状態で、支持体(ガラス板)の洗浄面に貼りあわせた。このラミネータ装置においては、支持体(ガラス板)は孔のあるステンレス鋼製ホットプレート(設定温度50℃)を介して装置に減圧吸着され、両面冷却剥離粘着シートは、300メッシュのスクリーンを介して装置に減圧吸着される。ラミネート条件は以下の通りとした。
貼り付け時に両面冷却剥離粘着シートに加わるテンション:0.3MPa
支持体と両面冷却剥離粘着シートとのギャップ:0.9mm
ローラーのゴム硬度:70度
ローラー供給圧力:0.5MPa
ローラー移動速度:5mm/秒
貼り付け時の押し込み量:0.3mm
Example 1
1. Formation of pressure-sensitive adhesive layer on support Glass (Corning “Eagle XG”: size A4, thickness 1.1 mm, maximum height (Ry) 7 nm, arithmetic average roughness (Ra) 1 nm, heat capacity 116 J / K The substrate was cleaned by irradiating it with UV light for 180 seconds using a UV cleaning device, and then a commercially available double-sided cooling release pressure-sensitive adhesive sheet having a pressure-sensitive adhesive layer on both sides (sheet 1: glass of the pressure-sensitive adhesive layer) A transition temperature of 18 ° C) is cut into A4 size, the protective film on one side is peeled off, and support is performed using a single-wafer laminator device at a pasting temperature (the temperature of the support at the time of pasting) of 50 ° C. In this laminator device, the support (glass plate) is adsorbed to the device under reduced pressure via a stainless steel hot plate with a hole (set temperature: 50 ° C.). Then, the double-sided cooling release pressure-sensitive adhesive sheet is adsorbed to the apparatus under a reduced pressure through a 300-mesh screen.
Tension applied to the double-sided cooling / peeling adhesive sheet at the time of pasting: 0.3 MPa
Gap between support and double-sided cooling / peeling adhesive sheet: 0.9 mm
Roller rubber hardness: 70 degrees Roller supply pressure: 0.5 MPa
Roller moving speed: 5mm / sec. Pushing amount when pasting: 0.3mm

2.高分子フィルム複合体の形成
次いで、粘着剤層を設けた支持体に対し、高分子フィルムとしてポリイミドフィルム(東洋紡株式会社製「XENOMAX(登録商標)型番F38LR」)を貼り合せて、高分子複合体を得た。具体的には、支持体に貼り合せた両面冷却剥離粘着シートの残りの保護フィルムを剥離し、この剥離した面に、「1.支持体への粘着剤層の形成」と同じラミネータ装置を用いて貼り付け温度(貼り付け時の粘着剤層の温度)を50℃として、ポリイミドフィルムを貼り合せた。ラミネート条件は、「1.支持体への粘着剤層の形成」における「両面冷却剥離粘着シート」を「ポリイミドフィルム」と読み替えること以外、「1.支持体への粘着剤層の形成」と同じとした。
2. Formation of Polymer Film Composite Next, a polyimide film (“XENOMAX (registered trademark) model number F38LR” manufactured by Toyobo Co., Ltd.) as a polymer film is bonded to the support provided with the pressure-sensitive adhesive layer, and the polymer composite is bonded. Got. Specifically, the remaining protective film of the double-sided cooling release pressure-sensitive adhesive sheet bonded to the support is peeled off, and the same laminator device as that used in “1. Formation of pressure-sensitive adhesive layer on the support” is used on the peeled surface. The polyimide film was bonded by setting the bonding temperature (temperature of the adhesive layer at the time of bonding) to 50 ° C. Laminating conditions are the same as “1. Formation of pressure-sensitive adhesive layer on support” except that “Double-sided cooling release pressure-sensitive adhesive sheet” in “1. Formation of pressure-sensitive adhesive layer on support” is read as “polyimide film”. It was.

3.導体パターンの印刷および加熱
得られた高分子フィルム複合体の高分子フィルム側の面に、反転オフセット印刷機を用い、反転印刷用銀ナノインクにて、長さ3mm、幅200μmの長方形を10行×12列(合計120個)配した導体パターンを印刷した。次いで、印刷した銀ナノインクを焼結させるため、印刷後の高分子フィルム複合体に、クリーンオーブンにて180℃で30分間加熱処理を施し、加熱後、速やかにオーブンより取り出して室温にて放冷して、導体パターンを形成した高分子フィルム複合体(「印刷後複合体」と称する)を得た。なお、加熱時には、クリーンオーブン内が酸素濃度0.1vol%以下の雰囲気となるように、オーブン内に窒素ガスを流した。
3. Printing and heating of conductor pattern On the surface of the obtained polymer film composite on the polymer film side, using a reverse offset printing machine, a silver nano ink for reverse printing was used to form a rectangle with a length of 3 mm and a width of 200 μm in 10 rows × A conductor pattern arranged in 12 rows (120 in total) was printed. Next, in order to sinter the printed silver nano ink, the polymer film composite after printing is subjected to a heat treatment at 180 ° C. for 30 minutes in a clean oven, and after heating, it is quickly removed from the oven and allowed to cool at room temperature. Thus, a polymer film composite (referred to as “post-printing composite”) on which a conductor pattern was formed was obtained. At the time of heating, nitrogen gas was passed through the oven so that the clean oven had an atmosphere with an oxygen concentration of 0.1 vol% or less.

4.高分子フィルムの剥離
−20℃に設定した冷凍庫内で−20℃に冷却したガラス板(サイズ300mm×300mm、厚さ1.1mm:熱容量165J/K)を冷媒とし、この冷媒としてのガラス板の全面を、温度23℃±1℃、湿度40%±10%の雰囲気中で、印刷後複合体の支持体側の面に10秒間程度接触させ、その後、直ちに、印刷後複合体の高分子フィルムの端部を引っ掻いて剥離のきっかけとなる捲れ部分を作り、該捲れ部分からそのまま45度程度の剥離角度で静かに引っ張ることにより、支持体から高分子フィルムを剥離して、導体パターンを有する高分子フィルム(「導体フィルム」と称する)を得た。
4). Separation of polymer film A glass plate (size 300 mm × 300 mm, thickness 1.1 mm: heat capacity 165 J / K) cooled to −20 ° C. in a freezer set to −20 ° C. was used as a refrigerant, and the glass plate as this refrigerant The entire surface was brought into contact with the surface on the support side of the composite after printing for about 10 seconds in an atmosphere at a temperature of 23 ° C. ± 1 ° C. and a humidity of 40% ± 10%. A polymer having a conductor pattern is formed by scratching the end portion to create a bent portion that triggers peeling, and gently pulling the bent portion as it is at a peeling angle of about 45 degrees to peel the polymer film from the support. A film (referred to as “conductor film”) was obtained.

5.導電性評価
得られた導体フィルムから無作為に8点の測定点を選び、半導体パラメータアナライザー(アジレント・テクノロジー株式会社製 「B1500A」)を用いて比抵抗値を測定し、それらの平均値を導体フィルムの抵抗値とした。結果を表1に示す。
5. Conductivity evaluation Eight random measurement points were selected from the obtained conductor film, the specific resistance value was measured using a semiconductor parameter analyzer (“B1500A” manufactured by Agilent Technologies, Inc.), and the average value was measured. The resistance value of the film was used. The results are shown in Table 1.

(実施例2〜5および比較例1、比較例2)
高分子フィルムまたは両面冷却剥離粘着シートを表1に示すものに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、導体フィルムを得、得られた導体フィルムについて実施例1と同様にして抵抗値を測定した。結果を表1に示す。
(Examples 2 to 5 and Comparative Examples 1 and 2)
A conductor film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the polymer film or the double-sided cooling release adhesive sheet was changed to that shown in Table 1, and the resistance value was obtained in the same manner as in Example 1 with respect to the obtained conductor film. Was measured. The results are shown in Table 1.

なお、表1中では下記の略号を用いた。
・高分子フィルム
PI:ポリイミド(東洋紡株式会社製「XENOMAX(登録商標)F38LR」:厚み38μm)
PEN:ポリエチレンナフタレート(帝人デュポンフィルム株式会社製「テオネックス(登録商標)型番Q65FA」:厚み125μm)
PC:ポリカーボネート(帝人株式会社製「ピュアエース(登録商標)型番SS120」:厚み120μm)
PET:ポリエチレンテレフタレート(東洋紡株式会社製「コスモシャイン(登録商標)型番A1555」:厚み188μm)
In Table 1, the following abbreviations were used.
・ Polymer film PI: Polyimide (“XENOMAX (registered trademark) F38LR” manufactured by Toyobo Co., Ltd .: thickness 38 μm)
PEN: Polyethylene naphthalate (“Teonex (registered trademark) model number Q65FA” manufactured by Teijin DuPont Films Ltd .: thickness 125 μm)
PC: Polycarbonate (“Pure Ace (registered trademark) model number SS120 manufactured by Teijin Limited”: thickness 120 μm)
PET: Polyethylene terephthalate (“Cosmo Shine (registered trademark) model number A1555” manufactured by Toyobo Co., Ltd .: thickness 188 μm)

・両面冷却剥離粘着シート
シート1:粘着剤層のガラス転移温度18℃、厚み25μmの両面粘着シート
シート2:粘着剤層のガラス転移温度−18℃、厚み30μmの両面粘着シート
シート3:粘着剤層のガラス転移温度20℃、厚み47μmの両面粘着シート
シート4:粘着剤層のガラス転移温度−60℃、厚み40μmの両面粘着シート
Double-sided cooling release pressure-sensitive adhesive sheet Sheet 1: Double-sided pressure-sensitive adhesive sheet having a glass transition temperature of 18 ° C. and a thickness of 25 μm Sheet 2: Double-sided pressure-sensitive adhesive sheet having a glass transition temperature of −18 ° C. and a thickness of 30 μm Sheet 3: Pressure-sensitive adhesive Double-sided pressure-sensitive adhesive sheet having a glass transition temperature of 20 ° C. and a thickness of 47 μm Sheet 4: Double-sided pressure-sensitive adhesive sheet having a glass transition temperature of the pressure-sensitive adhesive layer of −60 ° C. and a thickness of 40 μm

(実施例6、実施例7)
実施例1における「4.高分子フィルムの剥離」で用いた冷媒材料(熱容量165J/Kのガラス板)に変え、実施例6ではアルミニウム製板(A5052:サイズ300mm×300mm、厚さ1.1mm:熱容量235J/K)を用い、実施例7ではガラス板(サイズ400mm×400mm、厚さ1.1mm:熱容量298J/K)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして導体フィルムを得、得られた導体フィルムについて実施例1と同様にして抵抗値を測定した。結果を表1に示す。
(Example 6, Example 7)
Instead of the refrigerant material (glass plate with a heat capacity of 165 J / K) used in “4. peeling of polymer film” in Example 1, in Example 6, an aluminum plate (A5052: size 300 mm × 300 mm, thickness 1.1 mm) : Heat capacity 235 J / K), and in Example 7, a conductive film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a glass plate (size 400 mm × 400 mm, thickness 1.1 mm: heat capacity 298 J / K) was used. The resistance value of the obtained conductor film was measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

(比較例3)
実施例1における「4.高分子フィルムの剥離」を以下のように変更したこと以外は、実施例1と同様にして導体フィルムを得、得られた導体フィルムについて実施例1と同様にして抵抗値を測定した。結果を表1に示す。
4.高分子フィルムの剥離
−20℃に設定した冷凍庫内に印刷後複合体を1分間収容した後、直ちに、印刷後複合体の高分子フィルムの端部を引っ掻いて剥離のきっかけとなる捲れ部分を作り、該捲れ部分からそのまま45度程度の剥離角度で静かに引っ張ることにより、支持体から高分子フィルムを剥離して、導体パターンを有する高分子フィルム(導体フィルム)を得た。
(Comparative Example 3)
A conductor film was obtained in the same manner as in Example 1 except that “4. Release of polymer film” in Example 1 was changed as follows. The value was measured. The results are shown in Table 1.
4). Peeling of polymer film After storing the composite for 1 minute in a freezer set to -20 ° C, immediately after printing, scratch the end of the polymer film of the composite to create a crease that triggers peeling. Then, the polymer film was peeled from the support by gently pulling from the bent portion as it was at a peeling angle of about 45 degrees to obtain a polymer film (conductor film) having a conductor pattern.

(比較例4)
実施例1において、「1.支持体への粘着剤層の形成」および「2.高分子フィルム複合体の形成」における「支持体と両面冷却剥離粘着シートとのギャップ」および「粘着剤層を設けた支持体と高分子フィルムとのギャップ」をそれぞれ2mmに変更したこと以外は、実施例1と同様にして導体フィルムを得、得られた導体フィルムについて実施例1と同様にして抵抗値を測定した。結果を表1に示す。
(Comparative Example 4)
In Example 1, “Gap between support and double-sided cooling release pressure-sensitive adhesive sheet” and “Pressure-sensitive adhesive layer” in “1. Formation of pressure-sensitive adhesive layer on support” and “2. Formation of polymer film composite” A conductor film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the “gap between the provided support and the polymer film” was changed to 2 mm, and the resistance value of the obtained conductor film was changed in the same manner as in Example 1. It was measured. The results are shown in Table 1.

(比較例5)
実施例1における「1.支持体への粘着剤層の形成」および「2.高分子フィルム複合体の形成」において、支持体と両面冷却剥離粘着シートとの貼り合せ、および、粘着剤層を設けた支持体と高分子フィルムとの貼り合せに用いたラミネータ装置を、ロール式ラミネータ装置に変更したこと以外は、実施例1と同様にして高分子フィルム複合体を得た。
具体的には、「1.支持体への粘着剤層の形成」では支持体(ガラス板)の洗浄面と両面冷却剥離粘着シートの粘着剤層の面とが対向するように、「2.高分子フィルム複合体の形成」では、粘着剤層付支持体の粘着剤層の面と高分子フィルムとが対向するように、ロールラミネータ装置のロール部分に両面冷却剥離粘着シートあるいは高分子フィルムをセットし、支持体あるいは粘着剤層付支持体を80℃に加熱した状態でラミネートを行った。貼り合せ時に、両面冷却剥離粘着シートあるいは高分子フィルムに加わるテンションは1.5MPaであった。
得られた高分子フィルム複合体を用いて、実施例1の「3.導体パターンの印刷および加熱」と同様にして印刷を行おうとしたが、高分子フィルム複合体の反りが大きく、印刷を行うことができなかった。
(Comparative Example 5)
In “1. Formation of pressure-sensitive adhesive layer on support” and “2. Formation of polymer film composite” in Example 1, bonding of the support and the double-sided cooling release pressure-sensitive adhesive sheet, A polymer film composite was obtained in the same manner as in Example 1 except that the laminator apparatus used for bonding the provided support and the polymer film was changed to a roll laminator apparatus.
Specifically, in “1. Formation of pressure-sensitive adhesive layer on support”, the cleaning surface of the support (glass plate) and the surface of the pressure-sensitive adhesive layer of the double-sided cooling release pressure-sensitive adhesive sheet are opposed to “2. In `` Formation of polymer film composite '', a double-sided cooling release adhesive sheet or polymer film is placed on the roll part of the roll laminator device so that the surface of the adhesive layer of the support with the adhesive layer faces the polymer film. Lamination was performed in a state where the support or the support with the pressure-sensitive adhesive layer was heated to 80 ° C. At the time of bonding, the tension applied to the double-sided cooling release pressure-sensitive adhesive sheet or polymer film was 1.5 MPa.
Using the obtained polymer film composite, printing was performed in the same manner as in “3. Printing and heating of conductor pattern” in Example 1. However, the warp of the polymer film composite is large, and printing is performed. I couldn't.

Figure 0006452189
Figure 0006452189

表1から、高分子フィルム複合体のうねりを所定の範囲内とし、支持体側に冷媒を接触させる方法で高分子フィルムの剥離することにより、抵抗値が低い導体パターンを有するフレキシブルなフィルムが得られることが分かる。   From Table 1, a flexible film having a conductor pattern with a low resistance value can be obtained by peeling the polymer film by a method in which the swell of the polymer film composite is within a predetermined range and a refrigerant is brought into contact with the support. I understand that.

(応用例)
実施例1、比較例1、および比較例3における「2.高分子フィルム複合体の形成」で得られた高分子フィルム複合体を用い、ボトムゲート・ボトムコンタクト型のTFTを作製し、その性能を評価した。
(Application examples)
Using the polymer film composite obtained in “2. Formation of polymer film composite” in Example 1, Comparative Example 1 and Comparative Example 3, a bottom-gate / bottom-contact TFT was fabricated and its performance Evaluated.

すなわち、まず、高分子フィルム複合体の高分子フィルム上に、ゲート電極パターンを、銀ナノインクを用いて反転オフセット印刷機にて印刷した後、180℃で30分間加熱した。室温で十分に放冷した後、次に、ダイコータを用いてゲート絶縁膜インクを塗布し、180℃で30分間加熱した。室温で十分に放冷した後、次に、ソースドレイン電極パターンを、銀ナノインクを用いて反転オフセット印刷機にて印刷した後、180℃で30分間加熱した。室温で十分に放冷した後、次に、インクジェット印刷機にて半導体インクを印刷し、120℃で30分間加熱した。その後、各実施例、比較例における「4.高分子フィルムの剥離」と同じ方法で、それぞれ、支持体と高分子フィルムとの剥離を行い、フレキシブルTFTを作製した。なお、印刷されたパターンの個数は、横640個、縦480個の計約30万個であった。   That is, first, a gate electrode pattern was printed on a polymer film of a polymer film composite using a silver nano ink with a reverse offset printer, and then heated at 180 ° C. for 30 minutes. After sufficiently cooling at room temperature, the gate insulating film ink was applied using a die coater and heated at 180 ° C. for 30 minutes. After sufficiently allowing to cool at room temperature, the source / drain electrode pattern was printed on a reverse offset printing machine using silver nanoink, and then heated at 180 ° C. for 30 minutes. After sufficiently cooling at room temperature, the semiconductor ink was then printed with an inkjet printer and heated at 120 ° C. for 30 minutes. Thereafter, the support and the polymer film were peeled off in the same manner as in “4. Stripping of the polymer film” in each of the examples and comparative examples, thereby producing a flexible TFT. The number of printed patterns was about 300,000 in total of 640 in the horizontal direction and 480 in the vertical direction.

得られたフレキシブルTFTについて半導体パラメータアナライザー(アジレント・テクノロジー株式会社製 「B1500A」)にて移動度の測定を行ったところ、実施例1によれば0.163cm2/Vsの移動度が得られたが、比較例1、および比較例3では10-4cm2/Vs以下と非常に低い移動度となった。比較例1では印刷時にゲート電極およびソースドレイン電極に欠陥が生じ、比較例3では剥離の際に結露が生じたことにより半導体の性能が低下したものと考えられる。 When the mobility of the obtained flexible TFT was measured with a semiconductor parameter analyzer (“B1500A” manufactured by Agilent Technologies), a mobility of 0.163 cm 2 / Vs was obtained according to Example 1. However, in Comparative Example 1 and Comparative Example 3, the mobility was as low as 10 −4 cm 2 / Vs or less. In Comparative Example 1, it is considered that defects occurred in the gate electrode and the source / drain electrode at the time of printing, and in Comparative Example 3, dew condensation occurred at the time of peeling, so that the performance of the semiconductor deteriorated.

以上の結果より、高分子フィルム複合体のうねりを所定の範囲内とし、支持体側に冷媒を接触させる方法で高分子フィルムの剥離することにより、良好な特性(移動度)を有するTFTが得られることが分かる。   From the above results, a TFT having good characteristics (mobility) can be obtained by peeling the polymer film by a method in which the swell of the polymer film composite is within a predetermined range and a coolant is brought into contact with the support. I understand that.

本発明のフレキシブル電子デバイスの製造方法によれば、支持体に仮固定した高分子フィルム上に高精細な導体パターンを印刷したときにも、搭載する電子デバイスに動作不良が発生するのを回避できる。かかる製造方法は、特に印刷技術を主体としてフレキシブル電子デバイスを製造する技術・産業領域に大きく寄与するものである。   According to the method for manufacturing a flexible electronic device of the present invention, even when a high-definition conductor pattern is printed on a polymer film temporarily fixed to a support, it is possible to avoid occurrence of malfunction in the mounted electronic device. . Such a manufacturing method greatly contributes to a technology / industry field in which a flexible electronic device is manufactured mainly using printing technology.

Claims (8)

高分子フィルムを粘着剤層を介して硬質の支持体に仮固定して高分子フィルム複合体とし、金属ナノ粒子インクを使用した接触型の印刷法を少なくとも用いて前記高分子フィルム複合体の高分子フィルム側の面に導体パターンを印刷し、加熱工程を経て、最終的に支持体から高分子フィルムを剥離するフレキシブル電子デバイスの製造方法において、
前記粘着剤層を、−20℃〜20℃の範囲に、融点、ガラス転移温度、または貯蔵弾性率の変曲点温度のいずれかを有するものとし、
支持体に仮固定した状態における高分子フィルムの表面におけるウネリの高低差が3μm以下であり、且つ、印刷前の前記高分子フィルム複合体の四隅の反りが3mm以下であり、
支持体から高分子フィルムを剥離するにあたり、高分子フィルム複合体の支持体側の面に冷媒を接触させる結露発生抑制手段を用いると共に、前記結露発生抑制手段において、前記高分子フィルム複合体の支持体側の面と前記冷媒とを接触させる際の接触時間は、結露が生じ始める時間より短いことを特徴とするフレキシブル電子デバイスの製造方法。
A polymer film is temporarily fixed to a hard support through an adhesive layer to form a polymer film composite, and at least the contact type printing method using metal nanoparticle ink is used to increase the height of the polymer film composite. In the method for producing a flexible electronic device, a conductor pattern is printed on the surface on the molecular film side, subjected to a heating step, and finally the polymer film is peeled from the support.
The pressure-sensitive adhesive layer has a melting point, a glass transition temperature, or an inflection point temperature of a storage elastic modulus in a range of −20 ° C. to 20 ° C.,
The height difference of the undulation on the surface of the polymer film in the state temporarily fixed to the support is 3 μm or less, and the warp of the four corners of the polymer film composite before printing is 3 mm or less,
When peeling the polymer film from the support, use is made of dew generation suppression means for bringing a refrigerant into contact with the surface of the polymer film composite on the support side, and in the dew condensation generation suppression means, the support side of the polymer film complex is used. A method for manufacturing a flexible electronic device, wherein a contact time when the surface of the liquid crystal is brought into contact with the refrigerant is shorter than a time when condensation starts to occur .
前記高分子フィルム複合体の支持体側の面と前記冷媒とを接触させる際の接触時間は1秒以上60秒以下である請求項1に記載のフレキシブル電子デバイスの製造方法。 The polymer film surface of the support side of the complex with the refrigerant and the contact time for contacting the method of manufacturing a flexible electronic device according to claim 1 or less 60 seconds 1 second. 前記粘着剤層の融点、ガラス転移温度、または貯蔵弾性率の変曲点温度のうち−20℃〜20℃の範囲にあるものの温度以下に前記冷媒の温度を制御する請求項1または2に記載のフレキシブル電子デバイスの製造方法。   The temperature of the said refrigerant | coolant is controlled below to the temperature of what is in the range of -20 degreeC-20 degreeC among melting | fusing point of the said adhesive layer, glass transition temperature, or the inflection point temperature of a storage elastic modulus. Manufacturing method for flexible electronic devices. 前記冷媒の熱容量と前記支持体の熱容量との比率(冷媒/支持体)が1.1以上である請求項1〜3のいずれか一項に記載のフレキシブル電子デバイスの製造方法。   The method for manufacturing a flexible electronic device according to any one of claims 1 to 3, wherein a ratio (refrigerant / support) between a heat capacity of the refrigerant and a heat capacity of the support is 1.1 or more. 前記高分子フィルムが、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリカーボネートからなる群より選択される1種以上からなる請求項1〜4のいずれか一項に記載のフレキシブル電子デバイスの製造方法。   The method for producing a flexible electronic device according to any one of claims 1 to 4, wherein the polymer film is composed of one or more selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyimide, and polycarbonate. 前記支持体に高分子フィルムを仮固定する際に、高分子フィルムに加わる張力を0.3MPa以下とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のフレキシブル電子デバイスの製造方法。   The method for producing a flexible electronic device according to any one of claims 1 to 5, wherein a tension applied to the polymer film is 0.3 MPa or less when the polymer film is temporarily fixed to the support. 支持体から高分子フィルムを剥離する際の剥離面が高分子フィルムと粘着剤層との界面であり、その際の180度剥離強度が1N/cm以下である請求項1〜6のいずれか一項に記載のフレキシブル電子デバイスの製造方法。   The peeling surface when peeling the polymer film from the support is an interface between the polymer film and the pressure-sensitive adhesive layer, and the 180-degree peeling strength at that time is 1 N / cm or less. The manufacturing method of the flexible electronic device as described in a term. 前記接触型の印刷法として反転オフセット印刷法を採用する請求項1〜7のいずれか一項に記載のフレキシブル電子デバイスの製造方法。   The manufacturing method of the flexible electronic device as described in any one of Claims 1-7 which employ | adopts the reverse offset printing method as said contact type printing method.
JP2014075804A 2014-04-01 2014-04-01 Method for manufacturing flexible electronic device Active JP6452189B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014075804A JP6452189B2 (en) 2014-04-01 2014-04-01 Method for manufacturing flexible electronic device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014075804A JP6452189B2 (en) 2014-04-01 2014-04-01 Method for manufacturing flexible electronic device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015198176A JP2015198176A (en) 2015-11-09
JP6452189B2 true JP6452189B2 (en) 2019-01-16

Family

ID=54547700

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014075804A Active JP6452189B2 (en) 2014-04-01 2014-04-01 Method for manufacturing flexible electronic device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6452189B2 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6886580B2 (en) * 2016-10-11 2021-06-16 Dic株式会社 How to disassemble the adhesive sheet and articles
JP6907698B2 (en) * 2017-05-18 2021-07-21 東洋紡株式会社 Method for manufacturing laminates and flexible electronic devices
CN107245304B (en) * 2017-07-20 2023-05-05 东莞市纳利光学材料有限公司 OCA optical adhesive film and manufacturing process thereof
CN107984839A (en) * 2017-12-04 2018-05-04 京东方科技集团股份有限公司 A kind of composite protection layer and flexible display apparatus
WO2022124056A1 (en) * 2020-12-10 2022-06-16 三井化学株式会社 Laminate and production method for same, and polyimide film and production method for same
WO2024029473A1 (en) * 2022-08-02 2024-02-08 三菱瓦斯化学株式会社 Multilayer body

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2887274B2 (en) * 1989-01-13 1999-04-26 日東電工株式会社 Removable adhesive
JP3565411B2 (en) * 1999-06-10 2004-09-15 ニッタ株式会社 Temporary adhesive tape for raw sheet for ceramic electronic component and method for producing ceramic electronic component
JP2006237542A (en) * 2005-01-28 2006-09-07 Toppan Printing Co Ltd Semiconductor device manufacturing method
JP2007012652A (en) * 2005-06-28 2007-01-18 Sony Corp Thin-film transistor substrate and manufacturing method thereof
JP2008252068A (en) * 2007-03-08 2008-10-16 Semiconductor Energy Lab Co Ltd Semiconductor device and method for manufacturing same
JP5257314B2 (en) * 2009-09-29 2013-08-07 大日本印刷株式会社 LAMINATE, PREPARATION SUPPORT, LAMINATE MANUFACTURING METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
JP2011084658A (en) * 2009-10-15 2011-04-28 Sumitomo Bakelite Co Ltd Resin composition, semiconductor wafer assembly and semiconductor device
JP2012001762A (en) * 2010-06-16 2012-01-05 Nippon Electric Glass Co Ltd Vapor deposition method and vapor deposition device
EP2571699B1 (en) * 2010-11-08 2013-10-30 U-NICA Technology AG Method and device for producing colour images by way of a uv laser on pigmented substrates, and products produced as a result
JP5862238B2 (en) * 2011-05-27 2016-02-16 東洋紡株式会社 LAMINATE, MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND DEVICE STRUCTURE MANUFACTURING METHOD USING THE SAME
JP5706271B2 (en) * 2011-08-24 2015-04-22 日東電工株式会社 Method for producing transparent conductive film
JP2013077521A (en) * 2011-09-30 2013-04-25 Dainippon Printing Co Ltd Substrate for electromagnetic wave detachable flexible device and method of manufacturing electronic element using the same
WO2014021423A1 (en) * 2012-08-01 2014-02-06 東京エレクトロン株式会社 Method for forming pattern for electronic device, electronic device, and pattern forming device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015198176A (en) 2015-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6452189B2 (en) Method for manufacturing flexible electronic device
US20160270215A1 (en) Flexible electronics device
JP4737348B2 (en) Method for forming transparent conductive layer pattern
US7802599B2 (en) Printing method and a printing apparatus
TW201035271A (en) Method of preparing a flexible substrate assembly and flexible substrate assembly therefrom
JP6080054B2 (en) Pattern formation method
JP2014191894A (en) Transparent electroconductive film and touch panel
JP2012151095A (en) Transparent conductive film, transparent electrode for electrostatic capacitance type touch panel, and touch panel
JP6372132B2 (en) Polymer film laminate and method for producing flexible electronic device using the same
JP2008207526A (en) Printing method and printing apparatus
KR101517697B1 (en) Method for manufacturing film for transferring printed pattern, film for transferring printed pattern, apparatus for manufacturing the same and method for transferring pattern using the same
JP2013516764A (en) Method for providing a patterned substrate using a mask
JP7229787B2 (en) FIXING MEMBER, FLEXIBLE ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD, LAMINATED BODY, AND PRINTING APPARATUS
KR101867377B1 (en) Nanofilm transfer method and apparatus
KR20210104020A (en) Flexible stamp with adjustable high dimensional stability
JP2013202911A (en) Method for manufacturing substrate with transparent conductive layer
JP2004114585A (en) Method for laminating of flexible film and apparatus for laminating
JP2016135562A (en) Laminate, production method of conductive substrate using the same, production method of electronic device, and transfer tool
KR101726492B1 (en) Method of manufacturing a transparent electrode pattern
JP4241203B2 (en) Flexible film laminating method, laminating apparatus, and circuit board manufacturing method
JP6384102B2 (en) Functional element manufacturing method and printing apparatus
JP6907698B2 (en) Method for manufacturing laminates and flexible electronic devices
JP7406056B2 (en) Printing device and printing method
JP2004066690A (en) Manufacturing method of printing blanket
TWI526309B (en) Blanket

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20170315

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170316

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20170315

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180130

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180326

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180717

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180810

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20181113

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20181207

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6452189

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250