KR101517697B1 - Method for manufacturing film for transferring printed pattern, film for transferring printed pattern, apparatus for manufacturing the same and method for transferring pattern using the same - Google Patents
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Abstract
본 명세서는 인쇄 패턴 전사용 필름의 제조방법, 인쇄 패턴 전사용 필름, 그의 제조장치 및 그를 사용하는 인쇄 패턴 전사 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a printing pattern transferring film, a printing pattern transferring film, a manufacturing apparatus thereof, and a printing pattern transferring method using the same.
Description
본 명세서는 2012년 11월 28일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제 10-2012-0136120 호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.This specification claims the benefit of the filing date of Korean Patent Application No. 10-2012-0136120 filed on November 28, 2012 to the Korean Intellectual Property Office, the entire contents of which are incorporated herein by reference.
본 명세서는 인쇄 패턴 전사용 필름의 제조방법, 인쇄 패턴 전사용 필름, 그의 제조장치 및 그를 사용하는 인쇄 패턴 전사 방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a printing pattern transferring film, a printing pattern transferring film, a manufacturing apparatus thereof, and a printing pattern transferring method using the same.
디스플레이 기판에 있어서, 종래의 패턴을 형성하기 위해서는 포토 리소그라피 방법을 주로 사용하였으나, 패턴의 형성 공정이 복잡하거나, 제조 비용이 고가이거나, 성능에 문제점이 있었다. In the display substrate, although a photolithography method is mainly used to form a conventional pattern, a pattern forming process is complicated, a manufacturing cost is high, and there is a problem in performance.
그래서, 종래의 패턴 형성방법보다 좀 더 단순하고, 비용이 절감되면서도 성능을 개선할 수 있는 방법을 개발할 필요가 있었다. Therefore, there has been a need to develop a method that is simpler than the conventional pattern forming method and can improve the performance while reducing the cost.
일반적으로 액정 표시 장치, 반도체 소자 등의 전자 소자는 기판 상에 수많은 층들의 패턴이 형성되어 제작된다. 이러한 패턴을 형성하기 위해서 지금까지는 포토리소그래피 공정이 주로 많이 사용되어 왔다. 그러나, 포토리소그래피 공정은 소정의 패턴 마스크를 제작해야 하고, 화학적 에칭, 스트립핑 과정을 반복해야 하므로 제작공정이 복잡하고, 환경에 유해한 화학 폐기물을 다량 발생시키는 문제점이 있다. 이는 곧 제작비용의 상승으로 연결되어 제품의 경쟁력을 떨어뜨린다. 이러한 포토리소그래피 공정의 단점을 해결하기 위하여 인쇄 기법을 통해 미세 패턴을 형성하는 방법들이 개발되고 있다. 인쇄기법을 통해 미세 패턴을 제조할 경우, 공정이 단순하고, 원재료의 소모를 최소화할 수 있고, 제조 비용이 저렴하다는 장점이 있다.2. Description of the Related Art Generally, electronic devices such as a liquid crystal display device and a semiconductor device are fabricated by forming patterns of numerous layers on a substrate. In order to form such a pattern, a photolithography process has been mainly used so far. However, in the photolithography process, a predetermined pattern mask must be prepared, chemical etching, and stripping processes must be repeated. Therefore, the fabrication process is complicated, and a large amount of chemical waste harmful to the environment is generated. This leads to an increase in production costs, which reduces the competitiveness of the product. To solve the disadvantages of such a photolithography process, methods for forming a fine pattern through a printing technique have been developed. When a fine pattern is manufactured by a printing technique, the process is simple, consumption of raw materials can be minimized, and manufacturing cost is low.
한편, 미세 패턴 형성이 가능한 인쇄 기법으로는 그라비아 인쇄, 오프셋 인쇄, 스크린 인쇄 등을 들 수 있는데, 이중에서도 오프셋 인쇄는 비교적 미세한 인쇄 패턴을 균일한 두께로 제조할 수 있기 때문에 특히 유용하다.On the other hand, printing techniques capable of forming fine patterns include gravure printing, offset printing, and screen printing. Of these, offset printing is particularly useful because a relatively fine print pattern can be produced with uniform thickness.
특히, 리버스 오프셋 인쇄 공정은 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS) 고무 재질의 블랭킷(blanket)에 잉크를 도포한 후, 인쇄판에 의해 원하지 않는 패턴부를 제거한 후, 블랭킷에 남아 있는 패턴부를 기판으로 전사하는 방식에 의해 미세 패턴을 형성하는 방법이다.Particularly, in the reverse offset printing process, after ink is applied to a blanket made of polydimethylsiloxane (PDMS) rubber, an unwanted pattern portion is removed by a printing plate, and then the pattern portion remaining in the blanket is transferred to the substrate To form a fine pattern.
상기 리버스 오프셋 인쇄 공정의 일반적인 방법을 하기 도 3에 나타내었다.A general method of the reverse offset printing process is shown in FIG.
리버스 오프셋 인쇄 방법은 패턴 형성에 있어서, 비용이 절감되고, 생산속도가 향상된다는 측면에서 매우 각광받는 기술이지만, 연속 인쇄시에는 잉크에 함유된 용매에 의해 블랭킷이 팽윤(swelling)되어 정밀한 패턴을 얻기 어렵다는 문제가 있다.The reverse offset printing method is very popular in terms of cost reduction and production speed in pattern formation. However, in continuous printing, the blanket is swelled by the solvent contained in the ink to obtain a precise pattern There is a problem that it is difficult.
본 명세서가 해결하고자 하는 과제는 공정 효율을 개선하거나 공정을 단순화하여 비용을 절감할 수 있고, 연속 인쇄시에도 인쇄 패턴의 정밀도가 떨어지지 않고, 종래의 리버스 오프셋 인쇄 방법에서 셋 공정이 생략되는 방법을 포함하는 인쇄 패턴 전사용 필름의 제조 방법, 그에 의해 제조된 인쇄 패턴 전사용 필름, 그의 제조장치 및 그를 사용하는 인쇄 패턴 전사 방법을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide a method of reducing the cost by improving the process efficiency or simplifying the process, And a method for transferring a printing pattern using the same. The present invention also provides a printing pattern transferring method using the same.
본 명세서의 일 실시상태는 기재 필름 상에 잉크층을 코팅하는 단계; 인쇄판과 잉크층을 접촉함으로써 잉크층에서 원하는 패턴 이외의 부분을 제거하여 기재 필름 상에 인쇄 패턴층을 형성하는 단계; 및 상기 인쇄 패턴층이 형성된 기재 필름과 일 면에 코팅층이 구비된 이형 필름을 합지하는 단계를 포함하는 것인 인쇄 패턴 전사용 필름의 제조 방법을 제공한다. One embodiment of the present disclosure includes a method comprising: coating an ink layer on a substrate film; Removing a portion other than the desired pattern from the ink layer by contacting the printing plate with the ink layer to form a printing pattern layer on the base film; And a releasing film having a coating layer on one surface thereof, and a base film on which the print pattern layer is formed.
또한, 본 명세서의 다른 실시상태는 상기 제조방법에 의해 제조된 인쇄 패턴 전사용 필름으로서, 기재 필름; 상기 기재 필름의 일 면에 구비된 인쇄 패턴층; 상기 인쇄 패턴층의 상부에 구비된 코팅층; 및 상기 코팅층의 상부에 구비된 이형 필름을 포함하는 것인 인쇄 패턴 전사용 필름을 제공한다. Further, another embodiment of the present invention is a printing pattern transfer film produced by the above manufacturing method, comprising: a base film; A printing pattern layer provided on one side of the base film; A coating layer provided on the print pattern layer; And a release film provided on the top of the coating layer.
또한, 본 명세서의 다른 실시상태는 상기 인쇄 패턴 전사용 필름을 사용하여 전사된 인쇄 패턴층을 포함하는 것인 디스플레이 기판을 제공한다.In addition, another embodiment of the present invention provides a display substrate comprising a printed pattern layer transferred using the printing pattern transfer film.
또한, 본 명세서의 다른 실시상태는 상기 디스플레이 기판을 포함하는 것인 전자 소자를 제공한다. Further, another embodiment of the present invention provides an electronic device comprising the display substrate.
또한, 본 명세서의 다른 실시상태는 상기 인쇄 패턴 전사용 필름의 제조장치로서, 기재 필름에 잉크 조성물을 코팅하는 코팅 유닛; 용매를 건조하는 유닛; 원하는 패턴을 음각부로 구비하고, 원하는 패턴 이외의 부분을 양각부로 구비한 인쇄판 및 백업 롤(backup roll) 유닛; 필름 언와인더(unwinder) 유닛; 및 필름 리와인더(rewinder) 유닛을 포함하는 것인 인쇄 패턴 전사용 필름 제조장치를 제공한다. In addition, another embodiment of the present invention is an apparatus for producing the printing pattern transfer film, comprising: a coating unit for coating an ink composition on a base film; A unit for drying the solvent; A printing plate and a backup roll unit provided with a desired pattern at an engraved portion and an embossed portion other than a desired pattern; A film unwinder unit; And a film rewinder unit. The apparatus for manufacturing a printing pattern transfer film according to claim 1,
또한, 본 명세서의 다른 실시상태는 상기 인쇄 패턴 전사용 필름에서 이형 필름을 제거하는 단계; 및 상기 인쇄 패턴 전사용 필름을 인쇄 패턴층과 기판이 마주하도록 기판과 정렬하고 합지하여 인쇄 패턴을 기판에 전사시키는 단계를 포함하는 것인 인쇄 패턴 전사 방법을 제공한다.Further, another embodiment of the present invention is a method of manufacturing a printing pattern transferring film, comprising: removing a release film from the printing pattern transfer film; And transferring the print pattern transferring film onto a substrate by aligning and laminating the print pattern transferring film with the substrate so that the print pattern layer and the substrate face each other.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 인쇄 패턴 전사용 필름은 인쇄 패턴의 정밀도가 우수하고, 인쇄 패턴 전사용 필름의 제조방법은 공정이 단순화되어 비용 절감 효과가 크다.The printing pattern transfer film according to one embodiment of the present invention is excellent in the accuracy of the printing pattern, and the manufacturing method of the printing pattern transferring film is simple in the process, resulting in a large cost saving effect.
도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 인쇄 패턴 전사용 필름의 구조를 나타낸 것이다.
도 2는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 인쇄 패턴 전사용 필름을 사용한 인쇄 패턴 전사 방법에 의해 인쇄 패턴이 전사된 디스플레이 기판의 구조를 나타낸 것이다.
도 3은 종래의 리버스 오프셋 인쇄 방법을 나타낸 것이다.
도 4는 본 명세서의 일 실시상태에 따라 평판형 인쇄판(Cliche)를 사용하여 인쇄 패턴 전사용 필름을 제조하는 장치의 모식도를 나타낸 것이다.
도 5는 본 명세서의 일 실시상태에 따라 롤형 인쇄판(Cliche)를 사용하여 인쇄 패턴 전사용 필름을 제조하는 장치의 모식도를 나타낸 것이다.
도 6은 도 5에서 사용된 롤형 인쇄판의 확대도이다.1 shows a structure of a printing pattern transfer film according to an embodiment of the present invention.
2 shows a structure of a display substrate on which a print pattern is transferred by a print pattern transfer method using a print pattern transfer film according to an embodiment of the present invention.
3 shows a conventional reverse offset printing method.
4 is a schematic view of an apparatus for producing a printing pattern transfer film using a flat printing plate (Cliche) according to an embodiment of the present invention.
5 is a schematic view of an apparatus for producing a printing pattern transfer film using a roll type printing plate (Cliche) according to an embodiment of the present invention.
6 is an enlarged view of the roll type printing plate used in Fig.
이하, 본 명세서를 상세히 설명한다. Hereinafter, the present specification will be described in detail.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 인쇄 패턴 전사용 필름의 제조방법은 기재 필름 상에 잉크층을 코팅하는 단계; 인쇄판과 잉크층을 접촉함으로써 잉크층에서 원하는 패턴 이외의 부분을 제거하여 기재 필름 상에 인쇄 패턴층을 형성하는 단계; 및 상기 인쇄 패턴층이 형성된 기재 필름과 일 면에 코팅층이 구비된 이형 필름을 합지하는 단계를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, a method of manufacturing a printing pattern transfer film includes: coating an ink layer on a base film; Removing a portion other than the desired pattern from the ink layer by contacting the printing plate with the ink layer to form a printing pattern layer on the base film; And joining a base film on which the print pattern layer is formed and a release film having a coating layer on one surface thereof.
상기 제조방법에서 잉크층을 코팅하는 단계와 인쇄 패턴층을 형성하는 단계는 종래의 리버스 오프셋 인쇄 방법에서 셋(set) 공정이 생략된 인쇄 방법에 대응된다고 할 수 있다. The step of coating the ink layer and the step of forming the printing pattern layer in the above manufacturing method correspond to the printing method in which the set process is omitted in the conventional reverse offset printing method.
도 3은 종래의 리버스 오프셋 인쇄 방법을 나타낸 것이다. 도 3에 있어서, 도면부호 10은 상기 블랭킷 상에 패턴 재료인 잉크 조성물을 코팅하는 코터이고, 도면부호 20은 블랭킷을 지지하기 위한 인쇄롤이고, 도면부호 21은 블랭킷이며, 도면부호 22는 블랭킷 상에 도포된 잉크 조성물이다. 도면부호 30은 패턴을 갖는 인쇄판이며, 이는 형성하고자 하는 패턴에 대응하는 패턴이 음각으로 형성되어 있다. 도면부호 31은 인쇄판과 기재를 지지하는 스테이지이고, 도면부호 40은 인쇄물, 예를 들어 기판이고, 도면부호 210은 인쇄물에 전사된 인쇄 패턴이다. 3 shows a conventional reverse offset printing method. In Fig. 3,
도 3에서 도면부호 (a)는 블랭킷 상에 패턴 재료인 잉크 조성물을 코팅하는 단계를 나타낸 것이고, 도면부호 (b)는 리버스 오프셋 인쇄 방법에서 오프(off) 과정으로 인쇄판에 의해 원하지 않는 패턴부를 제거하는 단계를 나타낸 것이다. 또한 도면부호 (c)는 리버스 오프셋 인쇄 방법에서 셋(set) 과정으로 블랭킷에 남아있는 원하는 패턴부를 기판에 전사하는 단계를 나타낸 것이다. 3 (a) shows a step of coating an ink composition as a pattern material on a blanket, and (b) shows a step of removing an undesired pattern portion by a printing plate in an off process in a reverse offset printing method. FIG. Also, reference numeral (c) represents a step of transferring a desired pattern portion remaining in the blanket to the substrate in a set-up process in the reverse offset printing method.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 인쇄 패턴 전사용 필름의 제조 방법은 도 3의 블랭킷에 잉크를 도포하는 (a) 단계 대신 기재 필름에 잉크를 코팅하는 공정을 포함하고, 도 3의 (b)단계에 대응되는 오프(off) 공정을 포함하지만, 도 3의 (c)에 대응되는 셋(set) 공정은 포함하지 않는다. 그러므로, 제조 공정이 매우 단순해지는 장점이 있다. 또한, 본 명세서는 블랭킷을 사용하지 않으므로, 리버스 오프셋 인쇄 방법에 따른 연속 인쇄시 블랭킷의 스웰링(swelling)과 디스웰링(deswelling)정도의 변화에 의해 패턴의 정밀도와 얼라인(align)의 정밀도가 크게 떨어질 수 있는 문제점이 없다. 따라서, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 인쇄물의 제조 방법 또는 인쇄방법은 공정이 간단하여 비용 절감의 효과가 있을 뿐만 아니라, 연속 인쇄시에도 제조된 인쇄물의 패턴의 정밀도가 떨어지지 않는 장점이 있다. The method for manufacturing a printing pattern transfer film according to one embodiment of the present disclosure includes a step of coating ink on a base film instead of the step (a) of applying ink to the blanket of Fig. 3, But does not include a set process corresponding to FIG. 3 (c). Therefore, there is an advantage that the manufacturing process becomes very simple. In addition, since the present specification does not use a blanket, the precision of pattern alignment and the accuracy of alignment are improved by the change of swelling and deswelling degree of the blanket during continuous printing according to the reverse offset printing method There is no problem that can be largely dropped. Therefore, the manufacturing method or the printing method according to one embodiment of the present invention is advantageous in that not only the process is simple, but also the cost is reduced, and the precision of the pattern of the printed product is not deteriorated even in continuous printing.
상기 기재 필름 상에 잉크층을 코팅하는 단계에서 코팅 방법은 스핀(Spin) 코팅, 잉크젯(Ink Jet) 인쇄, 스크린(Screen) 인쇄, 그라비아(Gravure) 코팅, 마이크로 그라비아(Micro Gravure) 코팅, 키스 그라비아(Kiss Gravure) 코팅, 콤마 나이프(Comma Knife) 코팅, 롤(Roll) 코팅, 스프레이(Spray) 코팅, 메이어 바(Meyer Bar) 코팅 및 슬릿 다이(Slit Die) 코팅으로 이루어진 군에서 선택되는 방법을 사용할 수 있다. In the step of coating the ink layer on the base film, the coating method may be a spin coating method, an ink jet printing method, a screen printing method, a gravure coating method, a micro gravure coating method, A method selected from the group consisting of Kiss Gravure coating, Comma Knife coating, Roll coating, Spray coating, Meyer Bar coating and Slit Die coating can be used .
본 명세서의 일 실시상태에 따른 제조 방법은 상기 잉크층을 코팅하는 단계 이후에 용매를 제거하기 위해 잉크층을 건조하는 단계를 더 포함할 수 있다. 코팅 단계에서 잉크 조성물이 기재 상에서 디웨팅(dewetting) 핀홀 등의 발생 없이 균일하게 코팅되기 위해서는, 잉크 조성물의 표면 에너지는 기재의 표면 에너지보다 낮거나 유사하거나 기재보다 약간 높은 값(기재와의 차이가 2mN/m 이내인 값)을 가진다. 건조 단계에서 잉크 조성물의 용매 성분이 대부분 제거되어 잉크층의 표면 에너지가 증가하게 되어, 기재 필름과 잉크층과의 표면 에너지의 차이가 증가하게 된다. 즉, 건조 전의 잉크의 표면 에너지는 낮은 상태이지만 건조되면서 점점 증가되어 건조 이후 전사가 잘되게 된다. 건조 전의 잉크층의 표면 에너지는 20mN/m 내지 30 mN/m 일 수 있고, 건조 이후 잉크층의 표면 에너지는 30mN/m 내지 50 mN/m 일 수 있다. 기재 필름의 표면 에너지는 20 mN/m 내지 40mN/m, 더욱 구체적으로 20 mN/m 내지 30mN/m 일 수 있기 때문이다. The manufacturing method according to one embodiment of the present disclosure may further include drying the ink layer to remove the solvent after coating the ink layer. In order for the ink composition to be uniformly coated on the substrate without the occurrence of dewetting pinholes or the like in the coating step, the surface energy of the ink composition may be lower than or similar to the surface energy of the substrate or slightly higher than the substrate M < 2 > / m). The solvent component of the ink composition is largely removed in the drying step, so that the surface energy of the ink layer is increased, and the difference in surface energy between the base film and the ink layer is increased. That is, although the surface energy of the ink before drying is low, it gradually increases as it dries, and the ink is transferred after drying. The surface energy of the ink layer before drying may be 20 mN / m to 30 mN / m, and the surface energy of the ink layer after drying may be 30 mN / m to 50 mN / m. The surface energy of the base film may be 20 mN / m to 40 mN / m, more specifically 20 mN / m to 30 mN / m.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 인쇄판은 원하는 패턴을 음각부로 구비하고, 원하는 패턴 이외의 부분을 양각부로 구비한 것이며, 상기 인쇄 패턴층은 인쇄판의 양각부와 잉크층을 접촉함으로써 잉크층에서 원하는 패턴 이외의 부분을 제거함으로써 형성할 수 있다. 상기 인쇄판과 잉크층을 접촉할 때 압력을 가하여 잉크층에서 원하는 패턴 이외의 부분을 제거할 수 있다. 이때 압력은 인쇄판의 두께와 기재 필름의 두께 및 잉크층의 두께를 합한 값에서 5 마이크로미터 내지 100 마이크로미터, 더욱 구체적으로 10 마이크로미터 내지 50 마이크로미터의 두께가 감소할 정도의 압력을 가할 수 있다. 이때 잉크층의 두께는 최고값을 의미한다. 구체적으로 인쇄판과 잉크층이 접촉하는 지점을 0 이라고 할 때, 그 지점을 기준으로 인쇄판이 잉크층이 코팅된 기재 필름 방향으로 5 마이크로미터 내지 100 마이크로미터, 더욱 구체적으로 10 마이크로미터 내지 50 마이크로미터 지점까지 이동하도록 압력을 가할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the printing plate is provided with a desired pattern as an engraved portion, and a portion other than a desired pattern is provided as an embossed portion. The printed pattern layer is formed by contacting a raised portion of the printing plate with an ink layer, Can be formed by removing other portions. When the printing plate and the ink layer are in contact with each other, pressure may be applied to remove portions other than the desired pattern from the ink layer. At this time, the pressure may be applied to such a degree that the thickness of the printing plate, the thickness of the base film and the thickness of the ink layer may be reduced by a value of 5 to 100 micrometers, more specifically, 10 to 50 micrometers . At this time, the thickness of the ink layer means the highest value. Specifically, when the point at which the printing plate and the ink layer are contacted is 0, the printing plate is moved in the direction of the substrate film on which the ink layer is coated with 5 to 100 micrometers, more specifically 10 to 50 micrometers Pressure can be applied to move to the point.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 양각부의 표면 에너지는 40 mN/m 이상인 것이 바람직하다. 상기 기재 필름에 도포된 잉크층과 인쇄판의 양각부를 접촉시켜 기재 필름으로부터 잉크층의 원하지 않는 패턴 부분을 제거하기 위해서는 인쇄판 양각부의 표면 에너지가 기재 필름의 표면 에너지보다 높은 것이 바람직하다. 기재 필름의 표면 에너지는 20 mN/m 내지 40mN/m일 수 있기 때문에 상기 양각부의 표면 에너지는 40 mN/m 이상인 것이 바람직하다. In one embodiment of the present invention, the surface energy of the embossed portion is preferably 40 mN / m or more. It is preferable that the surface energy of the printing plate embossing portion is higher than the surface energy of the base film in order to contact the embossed portion of the printing plate with the ink layer applied to the base film to remove an undesired pattern portion of the ink layer from the base film. Since the surface energy of the base film may be 20 mN / m to 40 mN / m, the surface energy of the embossed portion is preferably 40 mN / m or more.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 인쇄판은 평판 또는 롤 형상일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the printing plate may be in the form of a flat plate or a roll.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 제조방법에서 상기 코팅층이 구비된 이형필름을 합지하는 단계는 인쇄 패턴층의 전면과 코팅층이 접하도록 합지할 수 있다. In the manufacturing method according to one embodiment of the present invention, the step of laminating the release film provided with the coating layer may be such that the entire surface of the print pattern layer and the coating layer are in contact with each other.
상기 합지하는 단계에서 합지는 열 또는 압력을 가하여 실행할 수 있다. 이때, 열은 필름에 손상을 주지 않는 온도이면 무방하며, 구체적으로 상온 내지 100℃ 의 온도일 수 있다. 또한, 이때의 압력은 합지 후의 필름의 총 두께가 합지 전의 필름의 총 두께에서 5 마이크로미터 내지 100 마이크로미터, 더욱 구체적으로 10 마이크로미터 내지 50 마이크로미터 감소된 두께가 되도록 가하는 압력일 수 있다. 구체적으로 기재 필름의 두께, 기재 필름 상에 형성된 인쇄 패턴층의 두께, 코팅층의 두께 및 이형 필름의 두께를 합한 값에서 5 마이크로미터 내지 100 마이크로미터, 더욱 구체적으로 10 마이크로미터 내지 50 마이크로미터의 두께가 감소할 정도의 압력을 가할 수 있다. 이때 인쇄 패턴층의 두께는 인쇄 패턴층의 선고 값들 중 최고값을 의미하고, 코팅층의 두께는 코팅층의 두께 값들 중 최고값을 의미한다. 구체적으로 합지 시점에 인쇄 패턴층의 표면과 코팅층의 표면이 접촉하는 지점을 0 이라고 할 때, 그 지점을 기준으로 인쇄 패턴층의 표면이 코팅층이 구비된 이형 필름의 방향으로 5 마이크로미터 내지 100 마이크로미터, 더욱 구체적으로 10 마이크로미터 내지 50 마이크로미터 지점까지 이동하도록 압력을 가할 수 있다. In the lapping step, the lapping can be performed by applying heat or pressure. At this time, the heat may be a temperature that does not cause damage to the film, and may be specifically a temperature of room temperature to 100 ° C. In addition, the pressure at this time may be a pressure applied so that the total thickness of the film after laminating is reduced to a thickness of 5 micrometers to 100 micrometers, more specifically 10 micrometers to 50 micrometers, in the total thickness of the film before laminating. Specifically, the thickness of the base film, the thickness of the printing pattern layer formed on the base film, the thickness of the coating layer, and the thickness of the release film are 5 to 100 micrometers, more specifically 10 to 50 micrometers The pressure can be applied to such a degree that the pressure decreases. At this time, the thickness of the print pattern layer means the highest value among the values of the print pattern layer, and the thickness of the coating layer means the highest value among the thickness values of the coating layer. Specifically, when the point at which the surface of the print pattern layer and the surface of the coating layer come into contact with each other at the point of time of lapping is 0, the surface of the print pattern layer is spaced from 5 to 100 micrometers in the direction of the release film provided with the coating layer Meter, more specifically from about 10 micrometers to about 50 micrometers.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 코팅층은 투명한 점착층 또는 접착제층일 수 있고, 구체적으로 광학 투명 접착제(Optical clear adhesive: OCA)를 포함할 수 있다. 상기 코팅층의 재료는 특별히 제한되지는 않으나, 실리콘계, 불소계, 아크릴계 또는 우레탄계를 포함할 수 있다. In one embodiment of the present disclosure, the coating layer may be a transparent adhesive layer or an adhesive layer, and may specifically include an optical clear adhesive (OCA). The material of the coating layer is not particularly limited, but may include silicon, fluorine, acrylic or urethane.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 코팅층은 UV를 조사하거나 열 또는 압력을 가하면 접착력이 증가하는 물질을 포함할 수 있다. 그래서, UV 를 조사하거나 열 또는 압력을 가하면 코팅층의 접착력이 증가되어 기판에 인쇄 패턴을 전사할 때 기판과의 접착력이 증가되어 인쇄 패턴층이 기판과 잘 떨어지지 않게 할 수 있다.In one embodiment of the present disclosure, the coating layer may include a material that increases the adhesion by irradiating UV light or applying heat or pressure. Therefore, when UV light, heat or pressure is applied, the adhesive force of the coating layer is increased, so that when the printing pattern is transferred onto the substrate, the adhesive force with the substrate is increased so that the printing pattern layer does not fall off from the substrate.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 코팅층은 인쇄 패턴층이 형성된 기재 필름과 이형 필름을 합지하였을 때, 인쇄 패턴층의 전면에 형성되어 패턴의 상면 및/또는 패턴의 측면에 접하여 구비되고, 기재 필름에서 패턴이 형성되지 않은 영역과 접하여 구비되는 것일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the coating layer is formed on the entire surface of the print pattern layer when the base film and the release film, on which the print pattern layer is formed, are laminated so as to be in contact with the upper surface and / Or may be provided in contact with an area where no pattern is formed.
도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 인쇄 패턴 전사용 필름의 구조를 나타낸 것으로 코팅층이 인쇄 패턴층의 전면에 형성되어 패턴 및 기재 필름의 일부와 접하여 구비되는 것을 나타낸 것이다. 도 1에서, 도면 부호 100은 기재 필름이고, 도면 부호 120은 인쇄 패턴층이며, 도면 부호 140은 코팅층이다. 또한, 도면 부호 160은 이형 필름을 나타낸 것이다.FIG. 1 shows a structure of a printing pattern transferring film according to an embodiment of the present invention, wherein a coating layer is formed on the entire surface of a printing pattern layer and is in contact with a pattern and a part of a base film. In Fig. 1,
상기 코팅층이 인쇄 패턴층의 전면을 커버할 수 있도록, 코팅층의 두께는 인쇄 패턴층의 선고보다 큰 것이 바람직하다. 여기서 선고는 인쇄 패턴층의 두께 또는 높이를 의미한다. 인쇄 패턴층의 선고는 0.01 마이크로미터 내지 30 마이크로미터, 구체적으로 0.02 마이크로미터 내지 10 마이크로미터일 수 있다. The thickness of the coating layer is preferably larger than that of the print pattern layer so that the coating layer covers the entire surface of the print pattern layer. Here, sentence means the thickness or height of the printed pattern layer. The imprinting of the print pattern layer may be from 0.01 micrometers to 30 micrometers, specifically from 0.02 micrometers to 10 micrometers.
본 명세서의 일 실시상태에서 코팅층의 두께는 0.01 마이크로미터 초과 100 마이크로미터 이하의 범위 내에서 인쇄 패턴층의 선고보다 큰 것이 바람직하다. 0.01 마이크로미터 초과이면 코팅층의 두께가 너무 얇아서 인쇄 패턴층과 기재와의 사이에서 코팅층의 역할을 제대로 수행할 수 없게 되는 문제를 방지할 수 있고, 100 마이크로미터 이하이면 코팅층이 너무 두꺼울 경우 인쇄패턴이 형성된 기판의 투과도가 감소하거나 헤이즈 값이 증가하는 등 광학 특성이 나빠질 수 있는 문제를 방지할 수 있다.In one embodiment of the present invention, it is preferable that the thickness of the coating layer is larger than that of the printed pattern layer within a range of 0.01 micrometers or more and 100 micrometers or less. If the thickness of the coating layer is too thick, the problem that the coating layer can not be properly performed between the printed pattern layer and the substrate can be prevented. On the other hand, if the thickness is less than 100 micrometers, It is possible to prevent the problem that the optical characteristics may deteriorate, such as the decrease of the transmittance of the formed substrate or the increase of the haze value.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 코팅층과 이형 필름의 사이에 제1 이형층을 더 포함할 수 있다. 상기 제1 이형층은 패턴 전사 과정 중에 코팅층으로부터 이형 필름이 보다 용이하게 제거될 수 있도록 하기 위해 형성된 것이다. 상기 제1 이형층은 코팅층으로부터 쉽게 분리될 수 있는 재료이면 어느 것이나 가능하지만, 실리콘계 이형제, 불소계 이형제 또는 불소실리콘계 이형제를 포함하는 것이 바람직하다. In one embodiment of the present invention, a first release layer may be further included between the coating layer and the release film. The first release layer is formed so that the release film can be more easily removed from the coating layer during the pattern transfer process. The first release layer may be any material that can be easily separated from the coating layer, but it preferably includes a silicone-based release agent, a fluorine-based release agent, or a fluorine-silicone-based release agent.
예를 들어, 코팅층에 실리콘계를 사용하는 경우 제1 이형층을 형성하기 위해 불소계 이형제를 사용할 수 있다.For example, when a silicone system is used for the coating layer, a fluorine-based releasing agent may be used to form the first release layer.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 기재 필름은 인쇄 패턴 전사용 필름을 지지하는 역할과 인쇄 패턴층을 보호하는 역할을 동시에 한다. 또한, 이와 같은 역할을 할 수 있는 물질이라면 어느 것이나 적용할 수 있다. 구체적으로, 트리아세틸셀룰로오스(Triacetylcellulose: TAC), 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethyleneterephthalate: PET), 폴리부틸렌테레프탈레이트(Polybutyleneterephthalate: PBT), 폴리에틸렌나프탈레이트(Polyethylenenaphthalate: PEN), 폴리부틸렌나프탈레이트(Polybutylenenaphthalate: PBN), 폴리아크릴로니트릴(Polyacrylonitirile: PAN), 폴리메틸 메타크릴산(Polymethylmethacrylate: PMMA), 폴리비닐알코올(Polyvinyl alcolol: PVA), 폴리아미드(Polyamide: PA), 폴리이미드(Polyimide: PI), 폴리카보네이트(Polycarbonate: PC), 폴리에테르설폰(Polyether sulfone: PES), 폴리아미드(Polyamide: PA), 폴리비닐알코올(Polyvinylalcolol: PVA), 나일론(Nylon), 폴리에틸렌(Polyetylene: PE) 및 폴리프로필렌(Polypropylene: PP)으로 구성되는 군으로부터 선택되는 하나 또는 둘 이 상의 혼합 수지일 수 있다.In one embodiment of the present invention, the base film serves both to support the print pattern transfer film and to protect the print pattern layer. In addition, any material capable of such a role can be applied. Specific examples of the material include triacetylcellulose (TAC), polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate (PBT), polyethylene naphthalate (PEN), polybutylene naphthalate (PBN) , Polyacrylonitrile (PAN), polymethylmethacrylate (PMMA), polyvinyl alcolol (PVA), polyamide (PA), polyimide (PI), polycarbonate Polyether sulfone (PES), polyamide (PA), polyvinylalcohol (PVA), nylon, polyethylene (PE) and polypropylene PP). ≪ / RTI >
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 기재 필름의 두께는 200 마이크로미터 이하, 구체적으로 20 마이크로미터 내지 125 마이크로미터 일 수 있다. 200 마이크로미터 이하이면 두께가 너무 두꺼워서 유연성이 안 좋아질 수 있는 문제를 방지할 수 있다. 또한, 20 마이크로미터 이상이면 인쇄 패턴에 영향을 주지 않으면서도 두께가 너무 얇을 경우 오프(Off) 공정상에서 기재 필름이 구겨지거나 늘어나는 등의 변형이 일어날 수 있는 문제를 방지할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the thickness of the base film may be 200 micrometers or less, specifically 20 to 125 micrometers. If it is less than 200 micrometers, it is possible to prevent the problem that the thickness is too thick and the flexibility may be poor. If the thickness is too small without affecting the print pattern, the problem that the substrate film is wrinkled or stretched in the off process can be prevented if the thickness is 20 micrometers or more.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 기재 필름은 인쇄 패턴이 기재 필름에 전사된 후에 제거될 수도 있다. 그러므로, 이형층을 포함하는 필름일 수 있다. 구체적으로 기재 필름과 인쇄 패턴층 사이에 제2 이형층이 구비될 수 있다. In one embodiment of the present invention, the base film may be removed after the printing pattern is transferred to the base film. Therefore, it may be a film including a release layer. Specifically, a second release layer may be provided between the base film and the print pattern layer.
상기 기재 필름이 전사된 후에 제거되는 경우에 인쇄 패턴층으로부터 보다 용이하게 기재 필름이 제거될 수 있도록 하기 위해 형성된 것이다. So that the base film can be more easily removed from the print pattern layer when the base film is removed after being transferred.
상기 제2 이형층은 인쇄 패턴층으로부터 쉽게 분리될 수 있는 재료이면 어느 것이나 가능하지만, 실리콘계 이형제, 불소계 이형제 또는 불소실리콘계 이형제를 포함하는 것이 바람직하다. 구체적으로 상기 제2 이형층은 실리콘계 이형제를 포함할 수 있다. 더 구체적으로 상기 제2 이형층은 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS)을 포함할 수 있다. The second release layer can be any material that can be easily separated from the print pattern layer, but preferably includes a silicone-based release agent, a fluorine-based release agent, or a fluorine-silicone-based release agent. Specifically, the second release layer may include a silicone-based release agent. More specifically, the second release layer may comprise polydimethylsiloxane (PDMS).
상기 제2 이형층의 두께는 10 마이크로미터 이하일 수 있다. The thickness of the second release layer may be 10 micrometers or less.
상기 제2 이형층의 두께는 구체적으로 100 나노미터 이상 10 마이크로미터 이하일 수 있다. 더 구체적으로 100 나노미터 이상 1 마이크로미터 이하일 수 있다. The thickness of the second release layer may be specifically 100 nanometers or more and 10 micrometers or less. More specifically, it may be 100 nanometers or more and 1 micrometer or less.
상기 기재 필름은 0.1 (gf/25mm 폭) 내지 100 (gf/25mm 폭)의 박리력을 가지는 것이 바람직하다.The base film preferably has a peeling force of 0.1 (gf / 25 mm width) to 100 (gf / 25 mm width).
또한, 상기 기재 필름은 인쇄 패턴이 기판에 전사된 후에도 제거되지 않을 수도 있다. 그러므로 광학 물성이 좋아야 한다. 예를 들어, 가시광선 투과율이 80% 이상이어야 한다.Further, the base film may not be removed even after the print pattern is transferred onto the substrate. Therefore, optical properties should be good. For example, the visible light transmittance should be 80% or more.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 이형 필름은 종이, 폴리에틸렌(Poly etylene: PE), 폴리프로필렌(Polypropylene: PP) 및 폴리에틸렌테레프탈레이트(Polyethylene terephthalate: PET)로 이루어지는 군에서 선택되는 것일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the release film may be selected from the group consisting of paper, polyethylene (PE), polypropylene (PP), and polyethylene terephthalate (PET).
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 이형 필름은 인쇄 패턴을 기판에 전사하기 전에 제거될 수 있다. 상기 이형 필름은 쉽게 제거될 수 있도록 0.1 (gf/25mm 폭) 내지 100 (gf/25mm 폭)의 박리력을 가지도록 구비될 수 있다. In one embodiment of the present disclosure, the release film can be removed before transferring the print pattern to the substrate. The release film may be provided to have a peeling force of 0.1 (gf / 25 mm width) to 100 (gf / 25 mm width) so that it can be easily removed.
본 명세서의 일 실시상태는 상기 제조 방법에 의해 제조된 인쇄 패턴 전사용 필름을 제공한다. One embodiment of the present invention provides a printing pattern transfer film produced by the above manufacturing method.
상기 인쇄 패턴 전사용 필름은 기재 필름; 상기 기재 필름의 일 면에 구비된 인쇄 패턴층; 상기 인쇄 패턴층의 상부에 구비된 코팅층; 및 상기 코팅층의 상부에 구비된 이형 필름을 포함한다. Wherein the printing pattern transfer film comprises a base film; A printing pattern layer provided on one side of the base film; A coating layer provided on the print pattern layer; And a release film provided on the coating layer.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 코팅층은 인쇄 패턴층의 전면에 접하여 구비될 수 있다. 이때 코팅층은 인쇄 패턴층과 이형 필름의 사이 및/또는 인쇄 패턴들의 사이에 구비될 수 있고, 기재 필름 상에서 패턴이 형성되지 않은 영역과 접하여 구비되는 것일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the coating layer may be provided in contact with the entire surface of the print pattern layer. In this case, the coating layer may be provided between the print pattern layer and the release film and / or between the print patterns, and may be provided in contact with the region where no pattern is formed on the base film.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 코팅층과 이형 필름의 사이에 제1 이형층을 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, a first release layer may be further included between the coating layer and the release film.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 기재 필름과 인쇄 패턴층의 사이에 제2 이형층을 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, a second release layer may be further included between the base film and the print pattern layer.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 인쇄 패턴 전사용 필름은 디스플레이 기판에 직접 인쇄 패턴을 전사시킬 수 있는 중간체로서 역할을 할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the print pattern transfer film can serve as an intermediate capable of transferring a print pattern directly to a display substrate.
상기 기재 필름, 인쇄 패턴층, 이형필름, 코팅층, 제1 이형층 및 제2 이형층에 관한 설명은 인쇄 패턴 전사용 필름의 제조방법에서 상술한 바와 동일하다. The description of the base film, the print pattern layer, the release film, the coating layer, the first release layer and the second release layer is the same as described above in the production method of the print pattern transfer film.
본 명세서의 일 실시상태는 기재 필름에 잉크 조성물을 코팅하는 코팅 유닛; 용매를 건조하는 유닛; 원하는 패턴을 음각부로 구비하고, 원하는 패턴 이외의 부분을 양각부로 구비한 인쇄판 및 백업 롤 유닛; 필름 언와인더 유닛; 및 필름 리와인더 유닛을 포함하는 인쇄 패턴 전사용 필름 제조장치를 제공한다.One embodiment of the present disclosure relates to a coating unit for coating an ink composition on a substrate film; A unit for drying the solvent; A printing plate and a back-up roll unit having a desired pattern as a depressed portion and an embossed portion other than a desired pattern; A film unwinder unit; And a film rewinder unit.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 인쇄판은 평판 또는 롤 형상일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the printing plate may be in the form of a flat plate or a roll.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 인쇄판이 평판 형상인 경우 인쇄판의 재료는 원하는 패턴이 식각된 유리를 사용할 수 있으나, 이에 한정하지는 않는다. 상기 인쇄판이 평판 형상인 경우 백업 롤의 회전 선속도와 인쇄판 스테이지의 상대 이동 속도를 동일하게 조절하여 구동할 수 있다. In one embodiment of the present invention, when the printing plate is a flat plate, the material of the printing plate may be glass on which a desired pattern is etched, but the present invention is not limited thereto. When the printing plate is in the form of a flat plate, the rotational linear velocity of the backup roll and the relative moving velocity of the printing plate stage may be adjusted to be the same.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 인쇄판이 롤 형상인 경우 인쇄판 롤의 재료는 스틸, 유리, 고무 등 여러 재질을 사용할 수 있으나, 이에 한정하지는 않는다. In the embodiment of the present invention, when the printing plate is a roll, the material of the printing plate roll may be various materials such as steel, glass, rubber, but is not limited thereto.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 평판형 인쇄판 또는 롤형 인쇄판은 원하는 패턴을 음각부로 구비하고, 원하는 패턴 이외의 부분을 양각부로 구비할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the flat-type printing plate or the roll-type printing plate may have a desired pattern as an engraved portion and a portion other than a desired pattern as an embossed portion.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 인쇄판이 롤 형상인 경우 백업 롤과 인쇄판 롤의 회전 선속도를 동일하게 조절하여 구동될 수 있다. In one embodiment of the present invention, when the printing plate is in the form of a roll, the rotational speed of the backup roll and the printing plate roll may be adjusted to be the same.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 인쇄판이 롤 형상인 경우 인쇄판을 세정하기 위한 인라인(in-line) 세정 유닛을 더 포함할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the printing plate may further include an in-line cleaning unit for cleaning the printing plate when the printing plate is in the form of a roll.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 백업 롤은 스틸 롤에 고무가 코팅된 것을 사용할 수 있다. 이 경우 잉크층이 인쇄판과 접촉할 때 균일한 압력을 부여하기에 유리하다. 이때 고무의 두께는 1 mm 내지 100 mm, 구체적으로 5 mm 내지 20 mm일 수 있다. In one embodiment of the present invention, the backup roll may be a rubber roll coated steel roll. In this case, it is advantageous to apply a uniform pressure when the ink layer comes into contact with the printing plate. The thickness of the rubber may be 1 mm to 100 mm, specifically 5 mm to 20 mm.
본 명세서의 일 실시상태에서 상기 필름 언와인더 유닛 및 필름 리와인더 유닛은 장력 조절을 위한 로드 셀(load cell) 및 필름 좌우 위치 제어를 위한 엣지 포지션 콘트롤러(Edge position controller: EPC)를 더 포함할 수 있다. 이때 엣지 포지션 콘트롤러는 필름 롤이 감기면서 좌우로 어긋나게 감기는 것을 방지하여 필름 좌우 위치를 제어하는 역할을 할 수 있다. In one embodiment of the present invention, the film unwinder unit and the film rewinder unit may further include a load cell for controlling the tension and an edge position controller (EPC) for controlling the lateral position of the film. have. At this time, the edge position controller can prevent the film roll from being wrapped to the right and left while being wound, thereby controlling the position of the film left and right.
도 4는 평판형 인쇄판(Cliche)를 사용하여 인쇄 패턴 전사용 필름을 제조하는 장치의 모식도를 나타낸 것이다. 도 4를 참조하여 설명하면, 기재 필름이 언와인더(300) 유닛에서 코팅 유닛으로 이동하여 코팅 롤(312)이 회전하면서 코터(310)에 의해 잉크 조성물이 기재 필름에 코팅된다. 그리고 나서, 용매를 건조하는 유닛인 오븐(320)으로 이동하여 코팅된 잉크 조성물 중 용매를 건조시킨다. 그리고 나서 백업 롤(330) 유닛으로 이동하여 평판형 인쇄판(340)과 접촉시켜 인쇄 패턴을 형성한 후 이형 필름 언와인더(370) 유닛에서 온 이형 필름을 라미네이터(360)에서 합지하여 인쇄 패턴 전사용 필름을 제조하여 리와인더(380) 유닛으로 이동시킨다. 4 is a schematic view of an apparatus for producing a printing pattern transfer film using a flat printing plate (Cliche). 4, the base film is transferred from the
도 5는 롤형 인쇄판(Cliche)를 사용하여 인쇄 패턴 전사용 필름을 제조하는 장치의 모식도를 나타낸 것이다. 도 5를 참조하여 설명하면, 기재 필름이 언와인더(300) 유닛에서 코팅 유닛으로 이동하여 코팅 롤(312)이 회전하면서 코터(310)에 의해 잉크 조성물이 기재 필름에 코팅된다. 그리고 나서, 용매를 건조하는 유닛인 오븐(320)으로 이동하여 코팅된 잉크 조성물 중 용매를 건조시킨다. 그리고 나서 백업 롤(330) 유닛으로 이동하여 롤형 인쇄판(350)과 접촉시켜 인쇄 패턴을 형성한 후 이형 필름 언와인더(370) 유닛에서 온 이형 필름을 라미네이터(360)에서 합지하여 인쇄 패턴 전사용 필름을 제조하여 리와인더(380) 유닛으로 이동시킨다. 5 is a schematic view of an apparatus for producing a printing pattern transfer film using a roll type printing plate (Cliche). 5, the base film is transferred from the
도 6은 도 5에서 사용된 롤형 인쇄판(350)으로서 원하는 패턴이 형성된 음각부(352)와 원하는 패턴 이외의 부분이 형성된 양각부(354)를 나타낸 것이다.Fig. 6 shows a
본 명세서의 일 실시상태는 인쇄 패턴 전사용 필름에서 이형 필름을 제거하는 단계; 및 상기 인쇄 패턴 전사용 필름을 코팅층과 기판이 마주하도록 기판과 정렬하고 합지하여 인쇄 패턴을 기판에 전사시키는 단계를 포함하는 인쇄 패턴 전사 방법을 제공한다.One embodiment of the present disclosure relates to a process for removing a release film from a printing pattern transfer film; And transferring the print pattern transfer film onto a substrate by aligning and laminating the print pattern transfer film with the substrate so that the coating layer and the substrate face each other.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 인쇄 패턴 전사 방법에서 상기 전사는 열 또는 압력을 가하거나 UV를 조사하여 인쇄 패턴층의 전면에 도포된 코팅층 표면과 기판이 접착되도록 할 수 있다.In the print pattern transfer method according to one embodiment of the present invention, the transfer may be performed by applying heat, pressure, or UV to allow the substrate to adhere to the surface of the coating layer applied to the entire surface of the print pattern layer.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 인쇄 패턴 전사 방법은 상기 인쇄 패턴 전사용 필름에서 이형 필름을 제거하는 단계 이전, 또는 이후에 인쇄 패턴 전사용 필름을 재단하는 단계를 더 포함할 수 있다. The printing pattern transferring method according to one embodiment of the present invention may further include a step of cutting the printing pattern transferring film before or after the step of removing the release film from the printing pattern transferring film.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 인쇄 패턴 전사 방법은 상기 전사시키는 단계 이후에 인쇄 패턴 전사용 필름에서 기재 필름을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다. The printing pattern transferring method according to one embodiment of the present disclosure may further include removing the base film from the printing pattern transferring film after the transferring step.
본 명세서의 일 실시상태는 상기 인쇄 패턴 전사용 필름을 사용하여 전사된 인쇄 패턴층을 포함하는 디스플레이 기판을 제공한다.One embodiment of the present disclosure provides a display substrate comprising a printed pattern layer transferred using the printing pattern transfer film.
상기 디스플레이 기판은 기판과 기판의 상부에 구비된 인쇄 패턴층을 포함할 수 있다. 또한, 기판과 인쇄 패턴층의 사이 및/또는 인쇄 패턴들의 사이에 구비된 코팅층을 더 포함할 수 있다. 또한, 상기 디스플레이 기판은 인쇄 패턴층의 상부에 기재 필름을 더 포함할 수 있다.The display substrate may include a substrate and a print pattern layer provided on the substrate. Further, it may further comprise a coating layer provided between the substrate and the print pattern layer and / or between the print patterns. In addition, the display substrate may further include a base film on the print pattern layer.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 상기 디스플레이 기판은 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP), 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display: LCD) 패널, 전기영동 디스플레이 (Electrophoretic display) 패널, 음극선관(Cathode-Ray Tube: CRT) 패널, OLED 디스플레이 패널 또는 각종 터치 패널 등을 포함한다.The display substrate according to one embodiment of the present invention may be a plasma display panel (PDP), a liquid crystal display (LCD) panel, an electrophoretic display panel, a cathode ray tube : CRT) panel, an OLED display panel, or various touch panels.
본 명세서의 일 실시상태는 상기 디스플레이 기판을 포함하는 전자 소자를 제공한다.One embodiment of the present disclosure provides an electronic device including the display substrate.
도 2는 본 명세서의 일 실시상태에 따른 인쇄 패턴 전사용 필름을 사용한 인쇄 패턴 전사 방법에 의해 인쇄 패턴이 전사된 디스플레이 기판의 구조를 나타낸 것이다. 도 2에서, 도면 부호 100은 기재 필름이고, 도면 부호 120은 인쇄 패턴층이며, 도면 부호 140은 코팅층이다. 또한, 도면 부호 200은 기판을 나타낸 것이다. 2 shows a structure of a display substrate on which a print pattern is transferred by a print pattern transfer method using a print pattern transfer film according to an embodiment of the present invention. 2,
10: 코터 20: 인쇄롤
21: 블랭킷 22: 잉크 조성물
30: 인쇄판 31: 스테이지
40: 인쇄물 100: 기재 필름
120: 인쇄 패턴층 140: 코팅층
160: 이형 필름 200: 기판
210: 인쇄물에 전사된 인쇄 패턴 300: 언와인더
310: 슬릿 다이 코터 312: 코팅롤
320: 오븐 330: 백업 롤
340: 평판형 인쇄판 342: 인쇄판 스테이지
350: 롤형 인쇄판 352: 원하는 패턴이 형성된 음각부
354: 원하는 패턴 이외의 부분이 형성된 양각부
360: 라미네이터 370: 이형 필름 언와인더
380: 리와인더 10: Coater 20: Printing roll
21: Blanket 22: Ink composition
30: printing plate 31: stage
40: printed matter 100: base material film
120: print pattern layer 140: coating layer
160: release film 200: substrate
210: Print pattern transferred to the print 300: Unwinder
310: Slit die coater 312: Coating roll
320: oven 330: backup roll
340: flat plate printing plate 342: printing plate stage
350: roll-type printing plate 352: engraved portion formed with a desired pattern
354: an embossed portion having a portion other than a desired pattern
360: Laminator 370: Release film unwinder
380: Rewinder
Claims (27)
인쇄판과 잉크층을 접촉함으로써 잉크층에서 원하는 패턴 이외의 부분을 제거하여 기재 필름 상에 인쇄 패턴층을 형성하는 단계; 및
상기 인쇄 패턴층이 형성된 기재 필름과 일 면에 코팅층이 구비된 이형 필름을 합지하는 단계를 포함하는 것인 인쇄 패턴 전사용 필름의 제조 방법.Coating an ink layer on the base film;
Removing a portion other than the desired pattern from the ink layer by contacting the printing plate with the ink layer to form a printing pattern layer on the base film; And
And a release film having a coating layer on one side of the base film on which the print pattern layer is formed.
필름 리와인더(rewinder) 유닛;
상기 필름 언와인더 유닛에서 상기 필름 리와인더 유닛으로 진행하는 기재 필름에 잉크 조성물을 코팅하는 코팅 유닛;
상기 잉크 조성물이 코팅된 기재 필름의 용매를 건조하는 유닛;
원하는 패턴을 음각부로 구비하고, 원하는 패턴 이외의 부분을 양각부로 구비하여 상기 기재 필름에 코팅된 잉크 조성물과 양각부가 접촉되어 인쇄 패턴층이 형성되도록 구비된 인쇄판;
상기 잉크 조성물이 코팅된 기재 필름을 지지하는 백업 롤(backup roll) 유닛;
이형 필름 언와인더 유닛; 및
상기 이형 필름 언와인더 유닛에서 온 이형 필름을 인쇄 패턴층이 형성된 기재 필름과 합지되도록 구비된 라미네이터를 포함하는 것인 인쇄 패턴 전사용 필름 제조장치. A film unwinder unit;
Film rewinder unit;
A coating unit for coating an ink composition on a substrate film that proceeds from the film unwinder unit to the film rewinder unit;
A unit for drying the solvent of the substrate film coated with the ink composition;
A printing plate provided with a desired pattern as a relief portion and a portion other than a desired pattern as an embossed portion so that the embossed portion and the ink composition coated on the base film are contacted to form a printed pattern layer;
A backup roll unit for supporting the substrate film coated with the ink composition;
A release film unwinder unit; And
And a laminator provided on the release film unwinder unit for laminating the release film on the base film on which the print pattern layer is formed.
상기 인쇄판이 롤 형상인 경우 백업 롤과 인쇄판 롤의 회전 선속도를 동일하게 조절하여 구동하는 것인 인쇄 패턴 전사용 필름 제조장치. [20] The method of claim 20, wherein when the printing plate is in the form of a flat plate, the rotational linear velocity of the backup roll and the relative moving velocity of the printing plate stage are adjusted to be the same,
Wherein when the printing plate is in the form of a roll, the rotational linear velocity of the backup roll and the printing plate roll are adjusted to be the same.
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