JP6448528B2 - エリプソメータ - Google Patents
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Description
(1)物体の表面からの反射光の光束を受光面に結像させるための結像光学系を備えたエリプソメータであって、
前記結像光学系は、凹面主鏡及び凸面副鏡を含み、前記物体の表面からの反射光の光束を、前記凹面主鏡、前記凸面副鏡、前記凹面主鏡の順番で反射させた後、前記受光面に結像させることのできる等倍反射型結像光学系で構成されており、
前記等倍反射型結像光学系は検光子を含み、
前記検光子は、X軸方向及びY軸方向において同一の屈折率を有する偏光素子で構成されている、エリプソメータ。
前記物体の表面と前記凹面主鏡の間の光路上に、前記第1の検光子が配置されており、
前記凹面主鏡と前記受光面の間の光路上に、前記第2の検光子が配置されている、上記(1)に記載のエリプソメータ。
本実施形態に係るエリプソメータ100は、試料の表面で光が反射する際の偏光状態の変化を観測して、その試料の特性である膜厚や光学定数(屈折率、消衰係数)等を測定することのできる装置である。
図1に示すように、エリプソメータ100は、照明光学系10と結像光学系30を備えている。観察対象である試料の表面は、物体面Sとして表されている。
本実施形態のエリプソメータ100は、結像光学系30が、等倍反射型結像光学系の一つであるオフナー光学系によって構成されている。
物体面Sは、観察対象となる物体の表面であり、例えば、薄膜が形成された基板の表面である。
受光面40は、物体面Sで反射した光束が結像する面であり、例えば、2次元CCD等の撮像素子の受光面である。
副鏡34は、光学系の瞳となっている。
12 光源
14 コリメータレンズ
16 集光レンズ
20 液晶偏光子
30 結像光学系
32 凹面主鏡
34 凸面副鏡
40 受光面
50 第1の検光子
52 第2の検光子
100 エリプソメータ
S 物体面
Claims (3)
- 物体の表面からの反射光の光束を受光面に結像させるための結像光学系を備えたエリプソメータであって、
前記結像光学系は、凹面主鏡及び凸面副鏡を含み、前記物体の表面からの反射光の光束を、前記凹面主鏡、前記凸面副鏡、前記凹面主鏡の順番で反射させた後、前記受光面に結像させることのできる等倍反射型結像光学系で構成されており、
前記等倍反射型結像光学系は検光子を含み、
前記検光子は、X軸方向及びY軸方向において同一の屈折率を有する偏光素子で構成されている、エリプソメータ。 - 前記検光子は、第1の検光子及び第2の検光子を含み、
前記物体の表面と前記凹面主鏡の間の光路上に、前記第1の検光子が配置されており、
前記凹面主鏡と前記受光面の間の光路上に、前記第2の検光子が配置されている、請求項1に記載のエリプソメータ。 - 前記検光子は、プレート型偏光素子またはプリズム型偏光素子である、請求項1または請求項2に記載のエリプソメータ。
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