JP6443547B2 - 表面処理剤 - Google Patents

Description

本発明は、（ポリ）エーテル基含有シラン化合物、およびこれを含んで成る表面処理剤に関する。

ある種のシラン化合物は、基材の表面処理に用いると、優れた機能（例えば、撥水性、撥油性、防汚性）などを提供し得ることが知られている。シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層（以下、「表面処理層」とも言う）は、いわゆる機能性薄膜として、例えばガラス、プラスチック、繊維、建築資材など種々多様な基材に施されている。

そのようなシラン化合物として、含フッ素シラン化合物が知られている。具体的には、特許文献１および２には、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端に有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物が記載されている。

また、別のシラン化合物として、ポリエーテル基含有シラン化合物が知られている。具体的には、特許文献３および４には、Ｓｉ原子に結合した加水分解可能な基を分子末端に有するポリエーテル基含有シラン化合物が記載されている。

国際公開第９７／０７１５５号 特表２００８−５３４６９６号公報 特開２０１３−６０３５４号 特開２０１４−６５８２７号

特許文献１〜４に記載のような表面処理剤から得られる表面処理層は、上記のような機能を薄膜でも発揮し得ることから、光透過性ないし透明性が求められるメガネやタッチパネルなどの光学部材に好適に利用されている。このような用途においては、指紋の付着が問題となり得る。

特許文献１および２に記載のようなパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、優れた撥水撥油性を有しており、指紋が付着しにくい。しかしながら、パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層においては、指紋の付着量は少ないが、指紋が付着した場合には、その優れた撥水撥油性、即ち高い接触角のために、付着した皮脂が光を散乱し、指紋が目立ってしまうという問題がある。

特許文献１および２に記載のようなポリエーテル含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、親油性が高く、付着した皮脂が層になじむので、指紋が付着した場合であっても目立たない。しかしながら、特許文献１および２に記載のようなポリエーテル含有シラン化合物を含む表面処理剤から得られる層は、摩擦耐久性が低く、長期間その機能を保持することができないという問題がある。

本発明は、付着した指紋の視認性が低く、かつ、摩擦耐久性に優れた層を形成することのできるシラン化合物およびこれを含む表面処理剤を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討した結果、基材に結合する加水分解可能な基を有するＳｉ基を複数有する（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を用いることにより、付着した指紋の視認性が低く、かつ、摩擦耐久性が高い表面処理層を形成できることを見出し、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明の第１の要旨によれば、下記一般式（Ａ１）または（Ａ２）：

［式中：
Ｒ^１は、ＯＲ^４を表し；
Ｒ^４は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し；
ＰＥ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（Ｃ_ａＨ_２ａＯ）_ｂ−
（式中：
ａは、ｂを付して括弧でくくられた単位毎にそれぞれ独立して、１〜６の整数であり；
ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２００の整数である。）
で表される基であり；
Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または−ＣＯＮＨ−Ｒ^５−ＮＨＣＯＯ−を表し；
Ｒ^５は、各出現においてそれぞれ独立して、二価の有機基を表し；
ｎは、１〜５０の整数であり；
ＰＥ^２は、単結合または上記−（Ｃ_ａＨ_２ａＯ）_ｂ−基を表し；
Ｘは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^７１ _ｐＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒを表し；
Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表し；
Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表し；
Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａと同意義であり；
Ｒ^ａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
１つのＲ^ａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり；
Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し；
Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
αを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり；
αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
ただし、１つのＸに結合する（ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ）_α中には、Ｒ^ｂまたはＲ^７２を有するＳｉ原子が、合計で２つ以上存在する。］
で表される化合物が提供される。

本発明の第２の要旨によれば、上記式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される少なくとも１種の化合物を含有する表面処理剤が提供される。

本発明の第３の要旨によれば、基材と、該基材の表面に、上記の表面処理剤より形成された層とを含む物品が提供される。

本発明によれば、新規な（ポリ）エーテル基含有シラン化合物およびこれを含んで成る表面処理剤が提供される。この表面処理剤を用いることにより、指紋が付着した場合であっても、指紋の視認性が低く、また、摩擦耐久性に優れた表面処理層を形成することができる。

以下、本発明の化合物について説明する。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」とは、炭素および水素を含む基であって、炭化水素から１個の水素原子を脱離させた基を意味する。かかる炭化水素基としては、特に限定されるものではないが、１つまたはそれ以上の置換基により置換されていてもよい、炭素数１〜２０の炭化水素基、例えば、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。上記「脂肪族炭化水素基」は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよく、飽和または不飽和のいずれであってもよい。また、炭化水素基は、１つまたはそれ以上の環構造を含んでいてもよい。尚、かかる炭化水素基は、その末端または分子鎖中に、１つまたはそれ以上のＮ、Ｏ、Ｓ、Ｓｉ、アミド、スルホニル、シロキサン、カルボニル、カルボニルオキシ等を有していてもよい。

本明細書において用いられる場合、「炭化水素基」の置換基としては、特に限定されないが、例えば、ハロゲン原子；１個またはそれ以上のハロゲン原子により置換されていてもよい、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、Ｃ_２−６アルキニル基、Ｃ_３−１０シクロアルキル基、Ｃ_３−１０不飽和シクロアルキル基、５〜１０員のヘテロシクリル基、５〜１０員の不飽和ヘテロシクリル基、Ｃ_６−１０アリール基および５〜１０員のヘテロアリール基から選択される１個またはそれ以上の基が挙げられる。

本明細書において用いられる場合、「２〜１０価の有機基」とは、炭素を含有する２〜１０価の基を意味する。かかる２〜１０価の有機基としては、特に限定されないが、炭化水素基からさらに１〜９個の水素原子を脱離させた２〜１０価の基が挙げられる。例えば、２価の有機基としては、特に限定されるものではないが、炭化水素基からさらに１個の水素原子を脱離させた２価の基が挙げられる。

本発明は、下記一般式（Ａ１）または（Ａ２）：

で表される少なくとも１種の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を提供する。

上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、Ｒ^１は、ＯＲ^４を表す。

Ｒ^４は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。当該炭素数１〜２０のアルキル基は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、好ましくは直鎖である。炭素数１〜２０のアルキル基は、好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基であり得る。具体的には、炭素数１〜２０のアルキル基は、好ましくはメチル基、エチル基またはｎ−プロピル基、より好ましくはメチル基である。Ｒ_４は、好ましくは水素原子またはメチル基であり、より好ましくは水素原子である。

上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、ＰＥ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、下記式：
−（Ｃ_ａＨ_２ａＯ）_ｂ−
（式中：
ａは、ｂを付して括弧でくくられた単位毎にそれぞれ独立して、１〜６の整数であり、好ましくは２〜４の整数であり；
ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、１〜２００の整数であり、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、さらに好ましくは５〜５０の整数である。）
で表される基である。

上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、ＰＥ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、単結合、または下記式：
−（Ｃ_ａＨ_２ａＯ）_ｂ−
（式中、ａおよびｂは、上記と同意義である。）
で表される基である。

好ましい態様において、ＰＥ^１およびＰＥ^２における−（Ｃ_ａＨ_２ａＯ）_ｂ−は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｄ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｅ−
（式中：
ｃ、ｄおよびｅは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２００の整数、例えば１〜２００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、さらに好ましくは５〜５０の整数であり；
ｃ、ｄおよびｅの和は１〜２００であり、好ましくは５〜２００、より好ましくは５〜１００、さらに好ましくは５〜５０であり；
添字ｃ、ｄまたはｅを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。）
で表される基である。

好ましい態様において、式（Ａ１）または（Ａ２）中、−（Ｃ_ａＨ_２ａＯ）−単位の少なくとも１つにおいて、ａは４である。即ち、式（Ａ１）または（Ａ２）中は、少なくとも１つの−Ｃ_４Ｈ_８Ｏ−基を含む。かかる−Ｃ_４Ｈ_８Ｏ−基は、好ましくは直鎖である。−Ｃ_４Ｈ_８Ｏ−基を含むことにより、本発明の化合物は、指紋の視認性を低く、また、指紋の跡を容易に消すことができる表面処理層を与えることができる

上記の態様において、（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）単位数と、（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）単位数と、（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）単位数の比は特に限定されない。好ましい態様において、（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）単位数および（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）単位数は、それぞれ、（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）単位数の１００％以下、好ましくは８０％以下、より好ましくは５０％以下、さらに好ましくは３０％以下であり得る。

一の態様において、ＰＥ^１およびＰＥ^２における−（Ｃ_ａＨ_２ａＯ）_ｂ−は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｄ−
（式中：
ｃおよびｄは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜２００の整数、例えば１〜２００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、さらに好ましくは５〜５０の整数であり；
ｃおよびｄの和は１〜２００であり、好ましくは５〜２００、より好ましくは５〜１００、さらに好ましくは５〜５０であり；
添字ｃまたはｄを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。）
で表される基である。

上記の態様において、（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）単位数と（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）単位数の比は特に限定されない。好ましい態様において、（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）単位数は、（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）単位数の１００％以下、好ましくは８０％以下、より好ましくは５０％以下、さらに好ましくは３０％以下であり得る。

別の態様において、ＰＥ^１およびＰＥ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、
−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−
−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｄ−、および
−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｅ−
（式中、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して、１〜２００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、さらに好ましくは５〜５０の整数である。）
から選択される基である。即ち、この態様において、ＰＥ^１およびＰＥ^２は、それぞれ独立して、−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−、−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｄ−、または−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｅ−で表されるホモポリマー単位である。好ましい態様において、式（Ａ１）または（Ａ２）中、少なくとも１つの−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−ホモポリマー単位が存在する。また、式（Ａ１）または（Ａ２）中、−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−ホモポリマー単位に加え、他の２種が存在してもよく、他の１種のみが存在してもよい。

上記の態様において、各ホモポリマー単位の存在比率は、特に限定されないが、好ましくは、−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｄ−ホモポリマー単位数および−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｅ−ホモポリマー単位数は、それぞれ、−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−ホモポリマー単位数の８０％以下、好ましくは５０％以下、より好ましくは３０％以下であり得る。

好ましい態様において、ＰＥ^１およびＰＥ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、
−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−、および
−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｄ−
（式中、ｃおよびｄは、それぞれ独立して、１〜２００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、さらに好ましくは５〜５０の整数である。）
から選択される基である。好ましい態様において、式（Ａ１）または（Ａ２）中、少なくとも１つの−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−ホモポリマー単位を含む。

上記の態様において、各ホモポリマー単位の存在比率は、特に限定されないが、好ましくは、−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｄ−ホモポリマー単位数は、−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−ホモポリマー単位数の８０％以下、好ましくは５０％以下、より好ましくは３０％以下であり得る。

より好ましい態様において、ＰＥ^１およびＰＥ^２は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−
（式中、ｃは、１〜２００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは５〜１００の整数、さらに好ましくは５〜５０の整数である。）
で表される基である。即ち、この態様において、ＰＥ^１およびＰＥ^２は、−Ｃ_４Ｈ_８Ｏ−単位のみから成る。

上記ポリエーテルの繰り返し単位のうち、−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）−は、−（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）−、−（ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）−、−（ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２Ｏ）−、−（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）−、−（Ｃ（ＣＨ_３）_２ＣＨ_２Ｏ）−、−（ＣＨ_２Ｃ（ＣＨ_３）_２Ｏ）−、−（ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）−、−（ＣＨ（Ｃ_２Ｈ_５）ＣＨ_２Ｏ）−および−（ＣＨ_２ＣＨ（Ｃ_２Ｈ_５）Ｏ）−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）−である。−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）−は、−（ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）−、−（ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２Ｏ）−および−（ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＣＨ_２ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）−である。また、−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）−は、−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）−および−（ＣＨ（ＣＨ_３）Ｏ）−のいずれであってもよいが、好ましくは−（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）−である。

上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または−ＣＯＮＨ−Ｒ^５−ＮＨＣＯＯ−を表す。

上記Ｒ^５は、各出現においてそれぞれ独立して、二価の有機基を表す。

Ｒ^５は、好ましくは、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の二価の脂肪族炭化水素基または炭素数３〜２０の二価の芳香族炭化水素基、あるいはこれらの組み合わせであり得る。上記脂肪族炭化水素基は、直鎖状、分枝鎖状または環状のいずれであってもよい。一の態様において、Ｒ^５は、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０のアルキレン、炭素数３〜２０のシクロアルキレン、または炭素数３〜２０のアリーレン、あるいはこれらの組み合わせであり得る。上記置換基としては、好ましくは炭素数１〜６個のアルキル基が挙げられる。

一の態様において、Ｒ^５は、下記式で表される基であり得る。
−（ＣＨ_２）_ｘ’− （式中、ｘ’は、１〜６の整数、例えば１〜４の整数である。）；

（式中、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜６の整数、例えば０〜３または１〜３の整数であり；
ｚは、０〜１０の整数、例えば０〜４または１〜４の整数である。）

（式中、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜６の整数、例えば０〜３または１〜３の整数であり；
ｚは、０〜４の整数、例えば０〜３または１〜３の整数である。）
尚、ｘまたはｙが０である場合、−（ＣＨ_２）_ｘ−または−（ＣＨ_２）_ｙ−は、それぞれ単結合（結合手）を意味する。

上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、ｎは、１〜５０の整数であり、好ましくは１〜３０の整数であり、例えば５〜３０の整数または１０〜２０の整数である。

上記式（Ａ１）または（Ａ２）中、Ｘは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表す。当該Ｘは、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物において、主に表面機能を提供するポリエーテル部（即ち、Ｒ^１−（ＰＥ^１−Ｙ）_ｎ−ＰＥ^２−部または−（ＰＥ^１−Ｙ）_ｎ−ＰＥ^２−部）と、基材との結合能を提供するシラン部（即ち、αを付して括弧でくくられた基）とを連結するリンカーと解される。従って、当該Ｘは、式（Ａ１）および（Ａ２）で表される化合物が安定に存在し得るものであれば、いずれの有機基であってもよい。

上記式中、αは１〜９の整数である。これらαは、Ｘの価数に応じて変化し得る。式（Ａ１）および（Ａ２）においては、αは、Ｘの価数から１を引いた値である。例えば、Ｘが１０価の有機基である場合、αは９であり、Ｘが５価の有機基である場合、αは４であり、Ｘが２価の有機基である場合、αは１である。

上記Ｘは、好ましくは２〜８価、例えば３〜８価であり、より好ましくは２〜６価、例えば３〜６価である。

一の態様において、Ｘは、下記Ｘ^１ａであり得る。

上記Ｘ^１ａの例としては、特に限定するものではないが、例えば、下記式：
−（Ｒ^３０）_ｒ’−［（Ｒ^３１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’］−
［式中：
Ｒ^３０は、−ＣＯＮＨ−または−ＣＯ−、好ましくは−ＣＯＮＨ−であり；
ｒ’は、０または１であり、
Ｒ^３１は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｓ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｓ’−であり、
ｓ’は、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数、さらにより好ましくは１または２であり、
Ｘ^ａは、−（Ｘ^ｂ）_ｌ’−を表し、
Ｘ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、ｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、−ＣＯＮＲ^３４−、−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、−ＮＲ^３４−および−（ＣＨ_２）_ｎ’−からなる群から選択される基を表し、
Ｒ^３３は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、Ｃ_１−６アルキル基またはＣ_１−６アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはＣ_１−６アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
Ｒ^３４は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはＣ_１−６アルキル基（好ましくはメチル基）を表し、
ｍ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜１００の整数、好ましくは１〜２０の整数であり、
ｎ’は、各出現において、それぞれ独立して、１〜２０の整数、好ましくは１〜６の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｌ’は、１〜１０の整数、好ましくは１〜５の整数、より好ましくは１〜３の整数であり、
ｐ’は、０または１であり、
ｑ’は、０または１であり、
ここに、ｐ’およびｑ’の少なくとも一方は１であり、［（Ｒ^３１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’］において、ｐ’またはｑ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である］
で表される２価の基が挙げられる。ここに、Ｒ^３１およびＸ^ａ（典型的にはＲ^３１およびＸ^ａの水素原子）は、Ｃ_１−３アルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１ａは、−（Ｒ^３０）_ｒ’−（Ｒ^３１）_ｐ’−（Ｘ^ａ）_ｑ’−Ｒ^３２−である。Ｒ^３２は、単結合、−（ＣＨ_２）_ｔ’−またはｏ−、ｍ−もしくはｐ−フェニレン基を表し、好ましくは−（ＣＨ_２）_ｔ’−である。ｔ’は、１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。ここに、Ｒ^３２（典型的にはＲ^３２の水素原子）は、Ｃ_１−３アルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

好ましくは、上記Ｘ^１ａは、
−Ｒ^３０−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^３０−Ｒ^３１−Ｘ^ｃ−Ｒ^３２−、
−Ｒ^３０−Ｘ^ｄ−Ｒ^３２−、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^３１−Ｘ^ｃ−Ｒ^３２−、または
−Ｘ^ｄ−Ｒ^３２−
［式中、Ｒ^３０、Ｒ^３１およびＲ^３２は、上記と同意義である。］
であり得る。

より好ましくは、上記Ｘ^１ａは、
−Ｒ^３０−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^３０−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−Ｒ^３０−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
−Ｒ^３０−Ｘ^ｄ−、
−Ｒ^３０−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
−Ｘ^ｄ−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、Ｒ^３０、ｓ’およびｔ’は、上記と同意義である。］
である。

上記式中、Ｘ^ｃは、
−Ｏ−、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｏ−ＣＯＮＲ^３４−、
−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−ＣＨ_２ＣＨ_２−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、Ｒ^３３、Ｒ^３４およびｍ’は、上記と同意義であり、
ｕ’は１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］を表す。Ｘ^ｃは、好ましくは−Ｏ−である。

上記式中、Ｘ^ｄは、
−Ｓ−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−、
−ＣＯＮＲ^３４−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−、
−ＣＯＮＲ^３４−（ＣＨ_２）_u’−Ｎ（Ｒ^３４）−、または
−ＣＯＮＲ^３４−（ｏ−、ｍ−またはｐ−フェニレン）−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
を表す。

より好ましくは、上記Ｘ^１ａは、
−Ｒ^３０−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^３０−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−Ｒ^３０−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｘ^ｃ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−Ｘ^ｄ−（ＣＨ_２）_ｔ’−
［式中、各記号は、上記と同意義である。］
であり得る。

さらにより好ましくは、上記Ｘ^１ａは、
−Ｒ^３０−Ｃ_１−２０アルキレン基、
−Ｒ^３０−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−Ｒ^３０−（ＣＨ_２）_ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−Ｒ^３０−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−Ｒ^３０−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２ −（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（Ｃ_vＨ_２v）−、
Ｃ_１−２０アルキレン基、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_u’−（Ｓｉ（Ｒ^３３）_２Ｏ）_ｍ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（ＣＨ_２）_ｔ’−、または
−（ＣＨ_２）_ｓ’−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｔ’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２ −（ＣＨ_２）_u’−Ｓｉ（Ｒ^３３）_２−（Ｃ_vＨ_２v）−
［式中、−Ｒ^３０、Ｒ^３３、ｍ’、ｓ’、ｔ’およびｕ’は、上記と同意義であり、ｖは１〜２０の整数、好ましくは２〜６の整数、より好ましくは２〜３の整数である。］
である。

上記式中、−（Ｃ_vＨ_２v）−は、直鎖であっても、分枝鎖であってもよく、例えば、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＨ（ＣＨ_３）−、−ＣＨ（ＣＨ_３）ＣＨ_２−であり得る。

上記Ｘ^１ａ基は、Ｃ_１−３アルキル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

別の態様において、Ｘ^１ａ基としては、例えば下記の基が挙げられる：

［式中、Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基、好ましくはメチル基であり；
Ｄは、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＯ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯ−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、および

（式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。）
から選択される基であり、
Ｅは、−（ＣＨ_２）_ｎ−（ｎは２〜６の整数）であり、
Ｄは、分子主鎖のＰＥ^２に結合し、Ｅは、Ｓｉ原子に結合する。］

上記Ｘ^１ａの具体的な例としては、例えば：
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＯ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯ−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２−
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２（ＣＨ_２）_７ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＯＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_４−、
−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_６−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６ＮＨ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２Ｏ−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_６−、
−Ｓ−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２Ｓ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２ＯＳｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_１０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ（Ｓｉ（ＣＨ_３）_２Ｏ）_２０Ｓｉ（ＣＨ_３）_２（ＣＨ_２）_２−
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_３−、
−Ｃ（Ｏ）Ｏ−（ＣＨ_２）_６−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＨ_２−Ｏ−（ＣＨ_２）_３−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−（ＣＨ_２）_２−Ｓｉ（ＣＨ_３）_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−ＣＨ_２−、

などが挙げられる。

さらに別の態様において、Ｘは、Ｘ^１ｂであり得る。Ｘ^１ｂ基の例として、下記の基が挙げられる：

［式中、
Ｒ^４１は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数１〜６のアルキル基、またはＣ_１−６アルコキシ基好ましくはメチル基であり；
各Ｘ^１基において、Ｔのうち任意のいくつかは、分子主鎖のＰＥ^２に結合する以下の基：
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＨ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＦ_２Ｏ（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）_２−、
−（ＣＨ_２）_３−、
−（ＣＨ_２）₄−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮＨ−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＯ−（ＣＨ_２）_２−、
−ＣＯ−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯ−（ＣＨ_２）_４−、
−ＣＯＮ（ＣＨ_３）−（ＣＨ_２）_３−、
−ＣＯＮ（Ｐｈ）−（ＣＨ_２）_３−（式中、Ｐｈはフェニルを意味する）、または

［式中、Ｒ^４２は、それぞれ独立して、水素原子、Ｃ_１−６のアルキル基またはＣ_１−６のアルコキシ基、好ましくはメチル基またはメトキシ基、より好ましくはメチル基を表す。］
であり、別のＴのいくつかは、Ｓｉ原子に結合する−（ＣＨ_２）_ｎ”−（ｎ”は２〜６の整数）であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基またはＣ_１−６アルコキシ基である。

この態様において、Ｘ^１ａは３〜１０価の有機基であり得る。この態様においては、基材との結合部位であるシラン部位（ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ）が、２つ以上存在し得る。このような構成とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上させることができる。

さらに別の態様において、Ｘは、下記Ｘ^２であり得る。

Ｘ^２は、−ＣＯＮＨ−Ｒ^６１−Ｒ^６２（Ｒ^６１−ＮＨＣＯ−Ｒ^６３）_β−１
［式中：
Ｒ^６１は、それぞれ独立して、二価の炭化水素基を表し；
Ｒ^６２は、β価の有機基を表し；
βは、２〜６の整数であり；
Ｒ^６３は、−Ｏ−Ｒ^６７（ＯＲ^６８）_ｓ（Ｏ−Ｘ^１ａ−）_ｔを表し；
Ｒ^６７は、γ価の有機基を表し；
γは、２〜８の整数であり；
Ｒ^６８は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり；
Ｘ^１ａは、二価の有機基であって、上記したＸ^１ａと同意義であり；
ｓは、０〜６の整数であり；
ｔは、１〜７の整数であり；
ｓとｔの和は、γ−１である。］
で表される基である。

上記Ｒ^６１は、それぞれ独立して、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数３〜１０のシクロアルキレン基または炭素数３〜１０のアリーレン基であり、より好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキレン基、例えば炭素数３〜８のアルキレン基である。

Ｒ^６２は、好ましくは置換基を有していてもよい２〜６価の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、脂肪族複素環基、芳香族基または芳香族複素環基である。

好ましい態様において、βは３〜６であり、即ち、Ｒ^６２は、３〜６価である。この態様においては、基材との結合部位である加水分解可能な基を有するシラン部位（ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ）が、２つ以上存在し得る。このような構成とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上させることができる。

上記Ｘ^２において、Ｒ^６３を除く部分（即ち、−ＣＯＮＨ−Ｒ^６１−Ｒ^６２（Ｒ^６１−ＮＨＣＯ−）_β−１）は、多官能イソシアネート残基として理解され得、例えば以下の構造を有する。

Ｒ^６７は、好ましくは置換基を有していてもよい２〜８価の脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、脂肪族複素環基、芳香族基または芳香族複素環基である。

好ましい態様において、γは３〜８であり、即ち、Ｒ^６７は、３〜８価である。この態様においては、基材との結合部位である加水分解可能な基を有するシラン部位（ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ）が、２つ以上存在し得る。このような構成とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上させることができる。

上記Ｒ^６３において、Ｘ^１ａを除く部分（即ち、−Ｏ−Ｒ^６７（ＯＲ^６８）_ｓ（Ｏ−）_ｔ）は、ポリオール残基として理解され得、例えば以下の構造を有する。

Ｒ^６８は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基、例えばメチル基またはエチル基であり、好ましくは水素原子である。

ｓは、０〜６の整数であり、好ましくは０〜３の整数、より好ましくは０または１、さらに好ましくは０である。

好ましい態様において、Ｘ^２は、下記式：

［式中、Ｒ^６１、Ｒ^６７、Ｘ^１およびｔは、上記と同意義である。］
で表される基である。

この態様において、Ｒ^６１は、好ましくは置換基を有していてもよい炭素数１〜８のアルキレン基、炭素数５〜８のシクロアルキレン基またはフェニレン基である。上記置換基としては、好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、より好ましくはメチル基またはエチル基、さらに好ましくはメチル基である。

この態様において、Ｒ^６７は、２〜６価、好ましくは２〜４価、より好ましくは２価または３価の炭素数２〜６の炭化水素鎖であり得る。好ましくは、Ｒ^６７は、下記の基であり得る。

［式中、＊を付した結合手が、イソシアヌレート環側に結合する。］

この態様において、Ｘ^１は、好ましくは炭素数１〜８のアルキレン基、より好ましくは炭素数２〜６のアルキレン基であり得る。

一の態様において、Ｘは、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基を表し、αは、それぞれ独立して、２〜９の整数である。この態様において、好ましくはαを付して括弧でくくられた単位のすべてが、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子を含む。このような構成とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上させることができる。

上記式中、Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^７１ _ｐＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒを表す。

式中、Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または２価の有機基を表す。

上記Ｚは、好ましくは、Ｃ_１−６アルキレン基、−（ＣＨ_２）_ｇ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｈ−（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ_２）_ｉ−（式中、ｉは、０〜６の整数である）であり、より好ましくはＣ_１−３アルキレン基である。これらの基は、例えば、フッ素原子、Ｃ_１−６アルキル基、Ｃ_２−６アルケニル基、およびＣ_２−６アルキニル基から選択される１個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。

式中、Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表す。Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａと同意義である。

Ｒ^ａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個である。即ち、上記Ｒ^ａにおいて、Ｒ^７１が少なくとも１つ存在する場合、Ｒ^ａ中にＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子が２個以上存在するが、かかるＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は最大で５個である。なお、「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」とは、Ｒ^ａ中において直鎖状に連結される−Ｚ−Ｓｉ−の繰り返し数と等しくなる。

例えば、下記にＲ^ａ中においてＺ基を介してＳｉ原子が連結された一例を示す。

上記式において、＊は、主鎖のＳｉに結合する部位を意味し、…は、ＺＳｉ以外の所定の基が結合していること、即ち、Ｓｉ原子の３本の結合手がすべて…である場合、ＺＳｉの繰り返しの終了箇所を意味する。また、Ｓｉの右肩の数字は、＊から数えたＺ基を介して直鎖状に連結されたＳｉの出現数を意味する。即ち、Ｓｉ^２でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が２個であり、同様に、Ｓｉ^３、Ｓｉ^４およびＳｉ^５でＺＳｉ繰り返しが終了している鎖は、それぞれ、「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」が３、４および５個である。なお、上記の式から明らかなように、Ｒ^ａ中には、ＺＳｉ鎖が複数存在するが、これらはすべて同じ長さである必要はなく、それぞれ任意の長さであってもよい。

好ましい態様において、下記に示すように、「Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数」は、すべての鎖において、１個（左式）または２個（右式）である。

一の態様において、Ｒ^ａ中のＺ基を介して直鎖状に連結されるＳｉ原子の数は１個または２個、好ましくは１個である。

式中、Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記「加水分解可能な基」とは、本明細書において用いられる場合、加水分解反応を受け得る基を意味する。加水分解可能な基の例としては、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）などが挙げられ、好ましくは−ＯＲ（アルコキシ基）である。Ｒの例には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。

好ましくは、Ｒ^７２は、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

式中、Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｐ、ｑおよびｒの和は３である。

好ましい態様において、Ｒ^ａ中の末端のＲ^ａ’（Ｒ^ａ’が存在しない場合、Ｒ^ａ）において、上記ｑは、好ましくは２以上、例えば２または３であり、より好ましくは３である。

上記式中、Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表す。

上記「加水分解可能な基」とは、Ｒ^７２の記載と同意義であり、好ましくは、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ）_２、−Ｎ（Ｒ）_２、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）であり、好ましくは−ＯＲである。Ｒは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基などの非置換アルキル基；クロロメチル基などの置換アルキル基が含まれる。それらの中でも、アルキル基、特に非置換アルキル基が好ましく、メチル基またはエチル基がより好ましい。水酸基は、特に限定されないが、加水分解可能な基が加水分解して生じたものであってよい。より好ましくは、Ｒ^ｂは、−ＯＲ（式中、Ｒは、置換または非置換のＣ_１−３アルキル基、より好ましくはメチル基を表す）である。

上記式中、Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表す。該低級アルキル基は、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜６のアルキル基、さらに好ましくはメチル基である。

式中、ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数である。ただし、ｋ、ｌおよびｍの和は、３である。

好ましい態様において、ｋは１〜３、より好ましく２または３、さらに好ましくは３である。即ち、Ｒ^ａが存在する。この態様においては、基材との結合部位である加水分解可能な基を有するシラン部位が、２つ以上存在し得る。このような構成とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上させることができる。

本発明の化合物において、Ｘが二価の有機基である場合、ｋは１〜３、より好ましく２または３、さらに好ましくは３である。この態様において、αを付して括弧でくくられた単位は、水酸基または加水分解可能な基が結合したＳｉ原子を２個以上含む。このような構成とすることにより、表面処理層の摩擦耐久性を向上させることができる。

本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の数平均分子量は、好ましくは２００以上、より好ましくは５００以上であり、好ましくは１０，０００以下、より好ましくは５，０００以下、さらに好ましくは２，０００以下である。このような数平均分子量を有することにより、基材に付着した指紋の視認性が低くなり、また、付着した指紋を、容易に、例えば布等で拭うことにより、見えなくする（または、視認性をより低下させる）ことができる。

本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物におけるポリエーテル部（ＰＥ^１基）の数平均分子量は、特に限定されるものではないが、好ましくは２００以上、より好ましくは５００以上であり、好ましくは１０，０００以下、より好ましくは５，０００以下、さらに好ましくは２，０００以下であり得る。ＰＥ^１がこのような数平均分子量を有することにより、基材に付着した指紋の視認性が低くなり、また、付着した指紋を拭うことにより、指紋の視認性を容易に低くすることができる。

本発明において、「数平均分子量」は、ＧＰＣ（ゲル浸透クロマトグラフィー）分析により測定される。

本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、好ましくは−７０℃以上であり、好ましくは４０℃以下、より好ましくは３０℃以下、さらに好ましくは２０℃以下のガラス転移温度（Ｔｇ）を有し得る。このようなガラス転移温度を有することにより、基材に付着した指紋の視認性が低くなり、また、付着した指紋を拭うことにより、指紋の視認性を容易に低くすることができる。

本発明において、「ガラス転移温度」は、示差走査熱量分析により測定される。

本発明の化合物は、ポリエーテル基の少なくとも一方の末端に、基材との結合部位である水酸基または加水分解可能な基を有するシラン部位が、２つ以上存在し得る。従って、基材に強固に結合することができ、高い摩擦耐久性を達成できると考えられる。

式（Ａ１）および式（Ａ２）で表される（ポリ）エーテル基含有シラン化合物は、公知の方法により製造することができる。

例えば、ＰＥ^１およびＰＥ^２に対応するポリエーテル基含有ジアルコールと、Ｙに対応するジイソシアネート基を反応させて、Ｒ^１−（ＰＥ^１−Ｙ）_ｎ−ＰＥ^２−Ｈを合成し、次いで、Ｒ^１−（ＰＥ^１−Ｙ）_ｎ−ＰＥ^２−Ｈの末端のＯＨ基と、−Ｘ−ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍに対応するイソシアネート基を末端に有するシラン化合物を反応させることにより得ることができる。

本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を製造する際の反応条件は、当業者であれば適宜好ましい範囲に調整することが可能である。

次に、本発明の表面処理剤について説明する。

本発明の表面処理剤は、式（Ａ１）および式（Ａ２）のいずれかで表される少なくとも１種の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する。

本発明の表面処理剤は、特に限定されないが、構造に応じて、親水性、親油性、防汚性、表面滑り性、拭き取り性、摩擦耐久性等を基材に対して付与することができる。

特に、本発明の化合物を含む表面処理剤を用いて、基材上に形成された表面処理層は、親油性が高い。即ち、本発明の化合物を含む表面処理剤は、ｎ−ヘキサデカンに対する接触角が、好ましくは４０°以下、より好ましくは３０°以下、さらに好ましくは２５°以下であり、また、好ましくは１０°以上、より好ましくは１５°以上である表面処理層を形成することができる。従って、指紋が付着した場合であっても、接触角が小さいことから、視認性が低く、指紋が目立たない。

また、本発明の化合物を含む表面処理剤を用いて、基材上に形成された表面処理層は、表面滑り性が高い。即ち、本発明の化合物を含む表面処理剤は、動摩擦係数が、好ましくは０．３０以下、より好ましくは０．２５以下、さらに好ましくは０．２０以下、より好ましくは０．１５以下、さらに好ましくは０．１０以下である表面処理層を形成することができる。

一の態様において、本発明の表面処理剤は、式（Ａ１）で表される少なくとも１種の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物を含有する。

本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されていてもよい。このような溶媒としては、特に限定されず、各種汎用溶剤を用いることができる。例えば、本発明の表面処理剤に含まれる溶剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エタノール、メタノール、およびジアセトンアルコールが挙げられる。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上の混合物として用いることができる。

本発明の表面処理剤は、本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物に加え、他の成分を含んでいてもよい。かかる他の成分としては、特に限定されるものではないが、ポリオール、触媒などが挙げられる。

上記ポリオールとしては、下記式：
ＨＯ−（Ｃ_ａ’Ｈ_２ａ’Ｏ）_ｂ’−ＯＨ
［式中：
ａ’は、ｂ’を付して括弧でくくられた単位毎にそれぞれ独立して、１〜６の整数であり；
ｂ’は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３００の整数である。］
で表される化合物であり得る。当該ポリオールは、ブロックポリマーであっても、ランダムポリマーであってもよい。ポリオールを加えることにより、より優れた表面滑り性、摩擦耐久性、拭き取った後の指紋視認性を低下させる性能を得ることができる。

好ましい態様において、−（Ｃ_ａ’Ｈ_２ａ’Ｏ）_ｂ’−は、下記式：
−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ’−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｄ’−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｅ’−
（式中：
ｃ’、ｄ’およびｅ’は、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３００の整数、例えば１〜３００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは１０〜１００の整数であり；
ｃ’、ｄ’およびｅ’の和は１〜２００であり、好ましくは５〜２００、より好ましくは１０〜１００であり；
添字ｃ’、ｄ’またはｅ’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。）
で表される基である。

別の態様において、−（Ｃ_ａ’Ｈ_２ａ’Ｏ）_ｂ’−は、下記式：
−（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ’−
−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｄ’−、および
−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｅ’−
（式中、ｃ’、ｄ’およびｅ’は、それぞれ独立して、１〜３００の整数、好ましくは５〜２００の整数、より好ましくは１０〜１００の整数である。）
から選択される基である。

上記ポリオールの数平均分子量は、好ましくは１，０００〜３０，０００であり、より好ましくは５，０００〜２０，０００であり、例えば８，０００〜２０，０００または１０，０００〜２０，０００であり得る。

本発明の表面処理剤中、ポリオールは、上記本発明のポリエーテル基含有シラン化合物の合計１００質量部（２種以上の場合にはこれらの合計、以下も同様）に対して、例えば０〜５００質量部、好ましくは０〜４００質量部、より好ましくは２５〜４００質量部で含まれ得る。

好ましい態様において、真空蒸着法により表面処理層を形成する場合には、式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される化合物の平均分子量よりも、上記ポリオールの平均分子量を大きくしてもよい。このような式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される化合物およびポリオールの平均分子量とすることにより、より優れた表面滑り性と摩擦耐久性を得ることができる。

上記触媒としては、酸（例えば酢酸、トリフルオロ酢酸等）、塩基（例えばアンモニア、トリエチルアミン、ジエチルアミン等）、遷移金属（例えばＴｉ、Ｎｉ、Ｓｎ等）等が挙げられる。

触媒は、本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の加水分解および脱水縮合を促進し、表面処理層の形成を促進する。

本発明の表面処理剤は、多孔質物質、例えば多孔質のセラミック材料、金属繊維、例えばスチールウールを綿状に固めたものに含浸させて、ペレットとすることができる。当該ペレットは、例えば、真空蒸着に用いることができる。

次に、本発明の物品について説明する。

本発明の物品は、基材と、該基材の表面に本発明の表面処理剤より形成された層（表面処理層）とを含む。この物品は、例えば以下のようにして製造できる。

まず、基材を準備する。本発明に使用可能な基材は、例えばガラス、サファイアガラス、樹脂（天然または合成樹脂、例えば一般的なプラスチック材料であってよく、板状、フィルム、その他の形態であってよい）、金属（アルミニウム、銅、鉄等の金属単体または合金等の複合体であってよい）、セラミックス、半導体（シリコン、ゲルマニウム等）、繊維（織物、不織布等）、毛皮、皮革、木材、陶磁器、石材等、建築部材等、任意の適切な材料で構成され得る。好ましくは、基材は、ガラスまたはサファイアガラスである。

上記ガラスとしては、ソーダライムガラス、アルカリアルミノケイ酸塩ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、クリスタルガラス、石英ガラスが好ましく、化学強化したソーダライムガラス、化学強化したアルカリアルミノケイ酸塩ガラス、および化学結合したホウ珪酸ガラスが特に好ましい。
樹脂としては、アクリル樹脂、ポリカーボネートが好ましい。

例えば、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面を構成する材料は、光学部材用材料、例えばガラスまたは透明プラスチックなどであってよい。また、製造すべき物品が光学部材である場合、基材の表面（最外層）に何らかの層（または膜）、例えばハードコート層や反射防止層などが形成されていてもよい。反射防止層には、単層反射防止層および多層反射防止層のいずれを使用してもよい。反射防止層に使用可能な無機物の例としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、ＴｉＯ、Ｔｉ_２Ｏ_３、Ｔｉ_２Ｏ_５、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、ＣｅＯ_２、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２、ＭｇＦ_２、ＷＯ_３などが挙げられる。これらの無機物は、単独で、またはこれらの２種以上を組み合わせて（例えば混合物として）使用してもよい。多層反射防止層とする場合、その最外層にはＳｉＯ_２および／またはＳｉＯを用いることが好ましい。製造すべき物品が、タッチパネル用の光学ガラス部品である場合、透明電極、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）や酸化インジウム亜鉛などを用いた薄膜を、基材（ガラス）の表面の一部に有していてもよい。また、基材は、その具体的仕様等に応じて、絶縁層、粘着層、保護層、装飾枠層（Ｉ−ＣＯＮ）、霧化膜層、ハードコーティング膜層、偏光フィルム、相位差フィルム、および液晶表示モジュールなどを有していてもよい。

基材の形状は特に限定されない。また、表面処理層を形成すべき基材の表面領域は、基材表面の少なくとも一部であればよく、製造すべき物品の用途および具体的仕様等に応じて適宜決定され得る。

かかる基材としては、少なくともその表面部分が、水酸基を元々有する材料から成るものであってよい。かかる材料としては、ガラスが挙げられ、また、表面に自然酸化膜または熱酸化膜が形成される金属（特に卑金属）、セラミックス、半導体等が挙げられる。あるいは、樹脂等のように、水酸基を有していても十分でない場合や、水酸基を元々有していない場合には、基材に何らかの前処理を施すことにより、基材の表面に水酸基を導入したり、増加させたりすることができる。かかる前処理の例としては、プラズマ処理（例えばコロナ放電）や、イオンビーム照射が挙げられる。プラズマ処理は、基材表面に水酸基を導入または増加させ得ると共に、基材表面を清浄化する（異物等を除去する）ためにも好適に利用され得る。また、かかる前処理の別の例としては、炭素−炭素不飽和結合基を有する界面吸着剤をＬＢ法（ラングミュア−ブロジェット法）や化学吸着法等によって、基材表面に予め単分子膜の形態で形成し、その後、酸素や窒素等を含む雰囲気下にて不飽和結合を開裂する方法が挙げられる。

またあるいは、かかる基材としては、少なくともその表面部分が、別の反応性基、例えばＳｉ−Ｈ基を１つ以上有するシリコーン化合物や、アルコキシシランを含む材料から成るものであってもよい。

次に、かかる基材の表面に、上記の本発明の表面処理剤の膜を形成し、この膜を必要に応じて後処理し、これにより、本発明の表面処理剤から表面処理層を形成する。

本発明の表面処理剤の膜形成は、上記の表面処理剤を基材の表面に対して、該表面を被覆するように適用することによって実施できる。被覆方法は、特に限定されない。例えば、湿潤被覆法および乾燥被覆法を使用できる。

湿潤被覆法の例としては、浸漬コーティング、スピンコーティング、フローコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティングおよび類似の方法が挙げられる。

乾燥被覆法の例としては、蒸着（通常、真空蒸着）、スパッタリング、ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。蒸着法（通常、真空蒸着法）の具体例としては、抵抗加熱、電子ビーム、マイクロ波等を用いた高周波加熱、イオンビームおよび類似の方法が挙げられる。ＣＶＤ方法の具体例としては、プラズマ−ＣＶＤ、光学ＣＶＤ、熱ＣＶＤおよび類似の方法が挙げられる。

更に、常圧プラズマ法による被覆も可能である。

湿潤被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、溶媒で希釈されてから基材表面に適用され得る。本発明の表面処理剤の安定性および溶媒の揮発性の観点から、次の溶媒が好ましく使用される：アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールジメチルエーテルペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、二硫化炭素、ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、ダイグライム、トリグライム、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ベンゾニトリル、ブタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エタノール、メタノール、およびジアセトンアルコール。これらの溶媒は、単独で、または、２種以上を組み合わせて混合物として用いることができる。さらに、例えば、（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の溶解性を調整する等のために、別の溶媒と混合することもできる。

乾燥被覆法を使用する場合、本発明の表面処理剤は、そのまま乾燥被覆法に付してもよく、または、上記した溶媒で希釈してから乾燥被覆法に付してもよい。

膜形成は、膜中で本発明の表面処理剤が、加水分解および脱水縮合のための触媒と共に存在するように実施することが好ましい。簡便には、湿潤被覆法による場合、本発明の表面処理剤を溶媒で希釈した後、基材表面に適用する直前に、本発明の表面処理剤の希釈液に触媒を添加してよい。乾燥被覆法による場合には、触媒添加した本発明の表面処理剤をそのまま蒸着（通常、真空蒸着）処理するか、あるいは鉄や銅などの金属多孔体に、触媒添加した本発明の表面処理剤を含浸させたペレット状物質を用いて蒸着（通常、真空蒸着）処理をしてもよい。

触媒には、任意の適切な酸または塩基を使用できる。酸触媒としては、例えば、酢酸、ギ酸、トリフルオロ酢酸などを使用できる。また、塩基触媒としては、例えばアンモニア、有機アミン類などを使用できる。

次に、必要に応じて、膜を後処理する。この後処理は、特に限定されないが、例えば、水分供給および乾燥加熱を逐次的に実施するものであってよく、より詳細には、以下のようにして実施してよい。

上記のようにして基材表面に本発明の表面処理剤を膜形成した後、この膜（以下、「前駆体膜」とも言う）に水分を供給する。水分の供給方法は、特に限定されず、例えば、前駆体膜（および基材）と周囲雰囲気との温度差による結露や、水蒸気（スチーム）の吹付けなどの方法を使用してよい。

前駆体膜に水分が供給されると、本発明の表面処理剤中の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物のＳｉに結合した加水分解可能な基に水が作用し、当該化合物を速やかに加水分解させることができると考えられる。

水分の供給は、例えば０〜２５０℃、好ましくは６０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上とし、好ましくは１８０℃以下、さらに好ましくは１５０℃以下の雰囲気下にて実施し得る。このような温度範囲において水分を供給することにより、加水分解を進行させることが可能である。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

次に、該前駆体膜を該基材の表面で、６０℃を超える乾燥雰囲気下にて加熱する。乾燥加熱方法は、特に限定されず、前駆体膜を基材と共に、６０℃を超え、好ましくは１００℃を超える温度であって、例えば２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の温度で、かつ不飽和水蒸気圧の雰囲気下に配置すればよい。このときの圧力は特に限定されないが、簡便には常圧とし得る。

このような雰囲気下では、本発明の（ポリ）エーテル基含有シラン化合物間では、加水分解後のＳｉに結合した基同士が速やかに脱水縮合する。また、かかる化合物と基材との間では、当該化合物の加水分解後のＳｉに結合した基と、基材表面に存在する反応性基との間で速やかに反応し、基材表面に存在する反応性基が水酸基である場合には脱水縮合する。その結果、（ポリ）エーテル基含有シラン化合物と基材との間で結合が形成される。

上記の水分供給および乾燥加熱は、過熱水蒸気を用いることにより連続的に実施してもよい。

過熱水蒸気は、飽和水蒸気を沸点より高い温度に加熱して得られるガスであって、常圧下では、１００℃を超え、一般的には５００℃以下、例えば３００℃以下の温度で、かつ、沸点を超える温度への加熱により不飽和水蒸気圧となったガスである。本発明では、パーフルオロ（ポリ）エーテル基含有シラン化合物の分解を抑制する観点から、好ましくは、２５０℃以下、好ましくは１８０℃以下の過熱水蒸気が水分供給および乾燥加熱に用いられる。前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すと、まず、過熱水蒸気と、比較的低温の前駆体膜との間の温度差により、前駆体膜表面にて結露が生じ、これによって前駆体膜に水分が供給される。やがて、過熱水蒸気と前駆体膜との間の温度差が小さくなるにつれて、前駆体膜表面の水分は過熱水蒸気による乾燥雰囲気中で気化し、前駆体膜表面の水分量が次第に低下する。前駆体膜表面の水分量が低下している間、即ち、前駆体膜が乾燥雰囲気下にある間、基材の表面の前駆体膜は過熱水蒸気と接触することによって、この過熱水蒸気の温度（常圧下では１００℃を超える温度）に加熱されることとなる。従って、過熱水蒸気を用いれば、前駆体膜を形成した基材を過熱水蒸気に曝すだけで、水分供給と乾燥加熱とを連続的に実施することができる。

以上のようにして後処理が実施され得る。かかる後処理は、摩擦耐久性を一層向上させるために実施され得るが、本発明の物品を製造するのに必須でないことに留意されたい。例えば、本発明の表面処理剤を基材表面に適用した後、そのまま静置しておくだけでもよい。

上記のようにして、基材の表面に、本発明の表面処理剤の膜に由来する表面処理層が形成され、本発明の物品が製造される。これにより得られる表面処理層は、高い摩擦耐久性を有する。また、この表面処理層は、高い摩擦耐久性に加えて、付着した指紋を容易に見えなくすることができ、さらに、使用する表面処理剤の組成にもよるが、撥水性、撥油性、防汚性（例えば指紋等の汚れの付着を防止する）、防水性（電子部品等への水の浸入を防止する）、表面滑り性（または潤滑性、例えば指紋等の汚れの拭き取り性や、指に対する優れた触感）などを有し得、機能性薄膜として好適に利用され得る。

本発明によって得られる表面処理層を有する物品は、特に限定されるものではないが、光学部材であり得る。光学部材としては、例えば、下記の光学部材が挙げられる：例えば、陰極線管（ＣＲＴ：例、ＴＶ、パソコンモニター）、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機薄膜ＥＬドットマトリクスディスプレイ、背面投写型ディスプレイ、蛍光表示管（ＶＦＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ：Ｆｉｅｌｄ Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｄｉｓｐｌａｙ）などのディスプレイまたはそれらのディスプレイの前面保護板、反射防止板、偏光板、アンチグレア板、あるいはそれらの表面に反射防止膜処理を施したもの；眼鏡などのレンズ；携帯電話、携帯情報端末などの機器のタッチパネルシート；ブルーレイ（Ｂｌｕ−ｒａｙ（登録商標））ディスク、ＤＶＤディスク、ＣＤ−Ｒ、ＭＯなどの光ディスクのディスク面；光ファイバー；時計の表示面など。

本発明によって得られる表面処理層を有する他の物品は、窯業製品、塗面、布製品、皮革製品、医療品およびプラスターなどを挙げることができる

また、本発明によって得られる表面処理層を有する他の物品は、医療機器または医療材料であってもよい。

表面処理層の厚さは、特に限定されない。光学部材の場合、表面処理層の厚さは、１〜５０ｎｍ、好ましくは１〜３０ｎｍ、より好ましくは１〜１５ｎｍの範囲であることが、光学性能、表面滑り性、摩擦耐久性および防汚性の点から好ましい。

以上、本発明の表面処理剤を使用して得られる物品について詳述した。なお、本発明の表面処理剤の用途、使用方法ないし物品の製造方法などは、上記で例示したものに限定されない。

本発明の表面処理剤について、以下の実施例を通じてより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、本実施例において、以下に示される化学式はすべて平均組成を示す。

（化合物の合成）

実施例１
ポリテトラメチレングリコール（分子量６５０）６．５ｇをテトラヒドロフラン１０ｇに溶解させ、水素化ナトリウム０．９６ｇを加えた。アリルブロミド７．３ｇを滴下し、５０度で３時間撹拌した。室温まで放冷した後、飽和塩化アンモニウム水溶液７０ｍｌをゆっくり加え、分液後上層を回収し、溶剤および未反応物を減圧留去した。得られたオイル状の生成物５ｇをトルエン１０ｇ、テトラメチルシクロテトラシロキサン３．６ｇ、１，３−ジビニルー１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金（０）錯体のキシレン溶液０．２５ｇ（Ｐｔ単体として５ｍｇを含有）の混合溶液に滴下し、６０度で３時間撹拌した。その後、溶剤および未反応物を減圧留去した。得られた化合物８．５ｇ、トルエン１０ｇ、ビニルトリメトキシシラン８．３ｇ、１，３−ジビニルー１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン白金（０）錯体のキシレン溶液０．２５ｇ（Ｐｔ単体として５ｍｇを含有）を混合し、６０℃で５時間撹拌した。その後活性炭１ｇを加え室温で一晩撹拌した。活性炭を濾過した後、溶剤および未反応物を減圧留去したところオイル状の生成物１３ｇを得た。１Ｈ−ＮＭＲより下記式に示される化合物であることを確認した。

式中、ｎは約９である。

実施例２
滴下漏斗、撹拌機、温度計を備えた４ツ口フラスコにグリセリン２．０ｇ、酢酸エチルを５ｇ入れ撹拌し、撹拌混合し、系内を均一にした。次いで［ＯＨ］／［ＮＣＯ］＝３／２になるように３−（トリエトキシシリル）プロピルイソシアネート５．７４ｇ、および触媒としてのジ−ｎ−ブチルスズジラウレート０．０５ｇの混合物を滴下漏斗より滴下し、撹拌し室温にて１２時間反応させた。ＦＴ−ＩＲにて２２６０ｃｍ^−１のイソシアネートのピーク消失を確認した後、３官能イソシアネートであるスミジュールＮ３３００（住友化学社製）を［ＯＨ］／［ＮＣＯ］＝２／３の比率になるように３．５６ｇ秤量し、同重量の酢酸エチルに溶解させて滴下し、撹拌反応させ、イソシアネート基を有する４官能シラン化合物Ａを得た。次いで得られたシラン化合物Ａとポリテトラメチレングリコール（分子量６５０）を［ＯＨ］／［ＮＣＯ］＝２／１になるよう混合し、１分子当たり平均４個のシランを有する化合物２を得た。ＦＴ−ＩＲにて２２６０ｃｍ^−１のイソシアネートのピーク消失で反応の完了を確認した。

実施例３
シラン化合物Ａとポリテトラメチレングリコール（分子量６５０）を用い、［ＯＨ］／［ＮＣＯ］＝１／１の比率になるよう混合反応させ、１分子当たり平均８個のシラン分子を有する化合物３（代表的には、下記構造式を有する）を得た。ＦＴ−ＩＲにて２２６０ｃｍ^−１のイソシアネートのピーク消失で反応の完了を確認した。

式中、ｎは約９である。

比較例１
滴下漏斗、撹拌機、温度計を備えた４ツ口フラスコにポリテトラメチレングリコール（分子量６５０）を１０．０ｇ、酢酸エチルを１０．０ｇ投入し、撹拌混合し、系内を均一にした。次いで、３−（トリエトキシシリル）プロピルイソシアネートを３．８０ｇ、および触媒としてのジ−ｎ−ブチルスズジラウレート０．０５ｇの混合物を滴下漏斗より滴下し、撹拌し室温にて１２時間反応させ、化合物４を得た。ＦＴ−ＩＲにて２２６０ｃｍ^−１のイソシアネートのピーク消失で反応の完了を確認した。

（表面処理層の形成）
実施例４
上記実施例１で得た化合物１を、濃度２０ｗｔ％の酢酸エチル溶液になるよう調製し、表面処理剤を調製した。表面処理剤を化学強化ガラス（コーニング社製、「ゴリラ」ガラス、厚さ０．７ｍｍ）上に真空蒸着（圧力３．０×１０^−３Ｐａ）した。化学強化ガラス１枚（５５ｍｍ×１００ｍｍ）あたり、表面処理剤２ｍｇ（即ち、実施例１の化合物１を０．４ｍｇ含有）を蒸着させた。その後、蒸着膜付き化学強化ガラスを、温度２０℃および湿度６５％の雰囲気下で２４時間静置した。これにより、蒸着膜が硬化して、表面処理層が形成された。

実施例５
実施例１の化合物に代えて、実施例２の化合物２を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

実施例６
実施例１の化合物に代えて、実施例３の化合物３を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

比較例２
実施例１の化合物に代えて、比較例１の化合物４を用いたこと以外は、実施例４と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。

試験例
・表面滑り性評価（動摩擦係数（ＣＯＦ）の測定）
上記の実施例４〜６および比較例２にて基材表面に形成された表面処理層について、表面性測定機（Ｌａｂｔｈｉｎｋ社製 ＦＰＴ−１）を用いて、摩擦子として紙を使用し、ＡＳＴＭ Ｄ４９１７に準拠し、動摩擦係数（−）を測定した。具体的には、表面処理層を形成した機材を水平配置し、摩擦子（２ｃｍ×２ｃｍ）を表面処理層の露出上面に接触させ、その上に２００ｇｆの荷重を付与し、その後、荷重を加えた状況で摩擦子を５００ｍｍ／秒の速度で平衡移動させて動摩擦係数を測定した。結果を表１に示す。

・視認性評価
上記の実施例４〜６および比較例２にて基材表面に形成された表面処理層について、付着した指紋の視認性、拭取り性を評価した。具体的には、指紋を付着させた処理基材をアルミ金属板の上に載せ、暗室内で基材に対し６０度の入射角で蛍光灯の光を当て、光源と逆側６０度の角度から基材に付着した指紋の見え方を目視にて確認、以下３段階で評価した。
１：指紋付着部が全く見えない。
２：指紋付着部がわずかに見える。
３：指紋付着部が白くくっきり見える。

・拭き取り性評価
指紋付着試験後の基材をキムワイプにて、１００ｇｆの荷重で拭取り指紋の拭取れ具合を目視で確認、以下３段階で評価した。
１：２往復以内の拭取りで指紋が見えなくなった。
２：３〜５往復の拭きとりで指紋が見えなくなった。
３：５往復でも指紋の跡が残った。

・接触角評価
水およびｎ−ヘキサデカンの静的接触角を、接触角計（協和界面科学社製、「ＤｒｏｐＭａｓｔｅｒ」）を用いて、それぞれ１μＬの液量で測定した。結果を表１に示す。

上記の結果から、本発明の化合物を含む表面処理剤により形成された表面処理層は、指紋が付着した場合であっても、指紋の視認性が低く、かつ、摩擦耐久性が高いことが確認された。

本発明は、種々多様な基材、特に透過性が求められる光学部材の表面に、表面処理層を形成するために好適に利用され得る。

Claims (19)

1. 下記一般式（Ａ１）または（Ａ２）：
   

   

   ［式中：
   Ｒ^１は、ＯＲ^４を表し；
   Ｒ^４は、水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表し；
   ＰＥ^１は、各出現においてそれぞれ独立して、式：
   −（Ｃ_ａＨ_２ａＯ）_ｂ−
   （式中：
   ａは、ｂを付して括弧でくくられた単位毎にそれぞれ独立して、１〜４の整数であり； ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、５〜２００の整数であり；
   ａが４である場合、−（Ｃ _４ Ｈ _８ Ｏ）−は、−（ＣＨ _２ ＣＨ _２ ＣＨ _２ ＣＨ _２ Ｏ）−であり；
   ａが３である場合、−（Ｃ _３ Ｈ _６ Ｏ）−は、−（ＣＨ _２ ＣＨ _２ ＣＨ _２ Ｏ）−であり；
   ａが２である場合、−（Ｃ _２ Ｈ _４ Ｏ）−は、−（ＣＨ _２ ＣＨ _２ Ｏ）である。）で表される基であり；
   Ｙは、各出現においてそれぞれ独立して、単結合または−ＣＯＮＨ−Ｒ^５−ＮＨＣＯＯ−を表し；
   Ｒ^５は、各出現においてそれぞれ独立して、二価の有機基を表し；
   ｎは、１〜５０の整数であり；
   ＰＥ^２は、単結合または上記−（Ｃ_ａＨ_２ａＯ）_ｂ−基を表し；
   Ｘは、それぞれ独立して、単結合または２〜１０価の有機基を表し；
   Ｒ^ａは、各出現においてそれぞれ独立して、−Ｚ−ＳｉＲ^７１ _ｐＲ^７２ _ｑＲ^７３ _ｒを表し；
   Ｚは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子またはＣ _１−６ アルキレン基、−（ＣＨ _２ ） _ｇ −Ｏ−（ＣＨ _２ ） _ｈ −（式中、ｇは、１〜６の整数であり、ｈは、１〜６の整数である）または、−フェニレン−（ＣＨ _２ ） _ｉ −（式中、ｉは、０〜６の整数である）を表し；
   Ｒ^７１は、各出現においてそれぞれ独立して、Ｒ^ａ’を表し；
   Ｒ^ａ’は、Ｒ^ａと同意義であり；
   Ｒ^ａ中、Ｚ基を介して直鎖状に連結されるＳｉは最大で５個であり；
   Ｒ^７２は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ） _２ 、−Ｎ（Ｒ） _２ 、−ＮＨＲ、またはハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）を表し；
   Ｒ^７３は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し；
   ｐは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｑは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｒは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   １つのＲ^ａにおいて、ｐ、ｑおよびｒの和は３であり；
   Ｒ^ｂは、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、−ＯＲ、−ＯＣＯＲ、−Ｏ−Ｎ＝Ｃ（Ｒ） _２ 、−Ｎ（Ｒ） _２ 、−ＮＨＲ、ハロゲン（これら式中、Ｒは、置換または非置換の炭素数１〜４のアルキル基を示す）を表し；
   Ｒ^ｃは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し；
   ｋは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｌは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   ｍは、各出現においてそれぞれ独立して、０〜３の整数であり；
   αを付して括弧でくくられた単位において、ｋ、ｌおよびｍの和は３であり；
   αは、それぞれ独立して、１〜９の整数であり；
   ただし、１つのＸに結合する（ＳｉＲ^ａ _ｋＲ^ｂ _ｌＲ^ｃ _ｍ）_α中には、Ｒ^ｂまたはＲ^７２を有するＳｉ原子が、合計で２つ以上存在する。］
   で表される化合物。
2. Ｘが、それぞれ独立して、３〜１０価の有機基を表し、αが、それぞれ独立して、２〜９の整数であることを特徴とする、請求項１に記載の化合物。
3. ｋが１〜３の整数であることを特徴とする、請求項１または２に記載の化合物。
4. 式（Ａ１）：
   

   

   ［式中、Ｒ^１、ＰＥ^１、ＰＥ^２、Ｘ、Ｙ、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、ｋ、ｌ、ｍ、ｎおよびαは、請求項１の記載と同意義である。］
   で表される、請求項１〜３のいずれか１項に記載の化合物。
5. ＰＥ^１およびＰＥ^２における−（Ｃ_ａＨ_２ａＯ）_ｂ−が、それぞれ独立して、式：
   −（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｄ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｅ−
   （式中：
   ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して、０〜２００の整数であり；
   ｃ、ｄおよびｅの和は５〜２００であり；
   添字ｃ、ｄまたはｅを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。）
   で表される基であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の化合物。
6. ＰＥ^１およびＰＥ^２が、各出現においてそれぞれ独立して、
   −（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−
   −（Ｃ_３Ｈ_６Ｏ）_ｄ−、および
   −（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｅ−
   （式中、ｃ、ｄおよびｅは、それぞれ独立して、１〜２００の整数である。）
   から選択される基であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の化合物。
7. ＰＥ^１およびＰＥ^２が、各出現においてそれぞれ独立して、式：
   −（Ｃ_４Ｈ_８Ｏ）_ｃ−
   （式中、ｃは、５〜２００の整数である。）
   で表される基であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の化合物。
8. Ｙが、下記式：
   −ＣＯＮＨ−Ｒ^５−ＮＨＣＯＯ−
   ［式中、Ｒ^５は、
   −（ＣＨ_２）_ｘ’− （式中、ｘ’は、１〜６の整数である。）；
   

   

   （式中、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜６の整数であり；
   ｚは、０〜１０の整数である。）；または
   

   

   （式中、ｘおよびｙは、それぞれ独立して、０〜６の整数であり；
   ｚは、０〜４の整数である。）
   で表される基である。］
   で表される基であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の化合物。
9. Ｘが、下記式：
   −ＣＯＮＨ−Ｒ^６１−Ｒ^６２（Ｒ^６１−ＮＨＣＯ−Ｒ^６３）_β−１
   ［式中：
   Ｒ^６１は、それぞれ独立して、二価の炭化水素基を表し；
   Ｒ^６２は、β価の有機基を表し；
   βは、２〜６の整数であり；
   Ｒ^６３は、−Ｏ−Ｒ^６７（ＯＲ^６８）_ｓ（Ｏ−Ｘ^１−）_ｔを表し；
   Ｒ^６７は、γ価の有機基を表し；
   γは、２〜８の整数であり；
   Ｒ^６８は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり；
   Ｘ^１は、二価の有機基を表し；
   ｓは、０〜６の整数であり；
   ｔは、１〜７の整数であり；
   ｓとｔの和は、γ−１である。］
   で表される基である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の化合物。
10. Ｘが、下記式：
    

    

    ［式中：
    Ｒ^６１は、それぞれ独立して、二価の炭化水素基を表し；
    Ｒ^６７は、それぞれ独立して、２〜８価の有機基を表し；
    Ｘ^１は、二価の有機基を表し；
    ｔは、それぞれ独立して、１〜７の整数である。］
    で表される基であることを特徴とする、請求項９に記載の化合物。
11. ＰＥ^１の数平均分子量が、５００〜１０，０００であることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の化合物。
12. ガラス転移温度が、−７０℃〜４０℃の範囲にあることを特徴とする、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の化合物。
13. 下記式：
    

    

    

    または
    

    

    ［式中、ｎは、５〜５０の整数である。］
    で表される化合物。
14. 請求項１〜１２のいずれか１項に記載の式（Ａ１）または式（Ａ２）で表される少なくとも１種の化合物または請求項１３に記載の化合物を含有する、表面処理剤。
15. さらに溶媒を含む、請求項１４に記載の表面処理剤。
16. さらに下記式：
    ＨＯ−（Ｃ_ａ’Ｈ_２ａ’Ｏ）_ｂ’−ＯＨ
    ［式中：
    ａ’は、ｂ’を付して括弧でくくられた単位毎にそれぞれ独立して、１〜６の整数であり；
    ｂ’は、各出現においてそれぞれ独立して、１〜３００の整数である。］
    で表されるポリオールを含む、請求項１４または１５に記載の表面処理剤。
17. 基材と、該基材の表面に、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
18. 前記物品が光学部材である、請求項１７に記載の物品。
19. 前記物品がディスプレイまたはタッチパネルである、請求項１７または１８に記載の物品。