JP6428096B2 - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents

Description

本発明は、塗布装置および塗布方法に関する。特に、連続体状の被塗布体上に塗料を塗布する塗布装置および塗布方法に関する。

連続体状の箔などの被塗布体上に塗料を塗布する一般的な塗布装置に関して、断面図（図８）と斜視図（図９）を示す。

一般的な塗布装置は、バックアップローラ７０１上を搬送される箔７０３に塗料を塗布する塗布ダイ１００を備える。貯蔵タンク３００に貯蔵された塗料３０１は、ポンプ３０３が発生させる圧力によって、貯蔵タンク３００から塗布ダイ１００へと送液配管３０５を通じて送液され、スリット１０１を介して吐出口１０３から吐出される。塗布ダイ１００に送液される塗料３０１の流れは、送液配管３０５に配置された開閉弁５００の開閉量によって制御される。

一般的な塗布装置は、塗布膜７０５の膜厚の均一性を求める構造を有しており、開閉弁５００の開閉量を調整して塗料３０１の流量を制御することによって、連続体状の箔７０３に吐出する塗料の量を可変とすることができる。これまでの一般的な塗布装置では、塗布膜７０５の膜厚を変える段付塗布を行う場合、開閉弁５００の開閉量を瞬時に変えて塗料３０１の流量を調整して行っていた。

図１０は、塗布ダイ１００の吐出口１０３近傍の断面図である。塗料が吐出口１０３よりも箔７０３の搬送方向の上流側に押し出されていない場合（Ｌ＜０）、塗布膜７０５に気泡が巻き込まれてしまう。気泡が混入しないように塗布膜７０５を形成するためには、吐出口１０３から吐出された塗料が吐出口１０３の下方に押し出されて十分なＬ寸法が確保されるとともに（Ｌ＞０）、塗料自体に十分な圧力がかかっている必要がある。

図１０においては、吐出口１０３近傍の断面図の右側に、スリット１０１の中心線を基準とした箔７０３上の位置に対応させて、塗料に印可されている圧力を示すグラフ（圧力分布）を示している。図１０の例では、十分なＬ寸法が確保されるとともに、塗料に十分な圧力が印可されている。

ここで、バックアップローラ７０１に搬送される箔７０３との距離は一定であるため、塗布膜７０５の膜厚を薄くするために塗料３０１の流量を減らすと、図１１のようにＬ寸法部分の塗料の量が減少してしまう。その結果、塗料自体に印可される圧力も減少し、気泡を巻き込み易い状態になる。

特許文献１には、スリットダイによって塗液を基板表面に均一に塗布し、薄膜を形成する塗布装置について開示されている。特許文献１の塗布装置は、塗液吐出用スリットを有するスリットダイにおいて、塗液吐出用スリットに対して、上流側に近接させて減圧室を設けてあるとともに、減圧室と連通する整流室を設けてある。

特許文献１の塗布装置によれば、箔の流れ方向の上流側に減圧室を設けることによって、連続体状の箔に均一に塗布膜を形成する際に、塗液吐出用スリットと平行な方向における全範囲にわたって均一な減圧効果を得ることができる。

特許第４６７３２６１号公報

一般的な塗布装置においては、バックアップローラ上を搬送される箔と塗布ダイの吐出口との距離は、塗料の流量に関係なく一定である。そのため、塗布膜の膜厚を薄くするために塗料の流量を減少させると、塗布ダイの吐出口先端にある塗料自体の圧力が低下して空気を巻き込む恐れがあった。その結果、塗布された塗布膜の表面に気泡が現れ、塗布品質を低下させるという問題点があった。

特許文献１の塗布装置によれば、減圧効果を得るために吸引を行なっているため、塗料を吐出した際に周囲の塵を引き寄せることによって塗料および箔を汚染する可能性があるという問題点があった。

本発明の目的は、上述の課題を解決するため、被塗布体上に塗布した塗布膜の塗布品質を向上させ、歩留まりを向上することを可能とする塗布装置を提供することである。

本発明の塗布装置は、ローラ上を搬送される被塗布体に塗料を塗布する塗布装置であって、スリットに供給された塗料を吐出口から被塗布体に対して吐出する塗布ダイと、被塗布体に塗布する塗料の量に応じて、吐出口と被塗布体との距離を制御する制御手段とを備える。

本発明の塗布方法は、ローラ上を搬送される被塗布体に塗料を塗布する塗布方法であって、被塗布体に対して塗料を吐出する塗布ダイの吐出口と被塗布体との距離を被塗布体に塗布する塗料の量に応じて制御する。

本発明によれば、塗布膜を薄く塗布しても気泡の混入をなくすことによって、被塗布体上に塗布した塗布膜の塗布品質を向上させ、歩留まりを向上することを可能とする塗布装置を提供することが可能になる。

本発明の第１の実施形態に係る塗布装置の断面構造を含めた概念図である。 本発明の第１の実施形態に係る塗布装置の塗布ダイの側面図である。 本発明の第１の実施形態に係る塗布装置の塗布ダイの正面図である。 本発明の第１の実施形態に係る塗布装置の吐出口近傍の断面図である。 本発明の第１の実施形態に係る塗布装置の吐出口近傍の断面図である。 本発明の第１の実施形態に係る塗布装置において段付塗布を行った際における塗布膜の膜厚の変化を示す概念図である。 本発明の第２の実施形態に係る塗布装置の断面構造を含めた概念図である。 一般的な塗布装置の断面図である。 一般的な塗布装置の斜視図である。 一般的な塗布装置によって箔表面に塗料を塗布する際の吐出口近傍の断面図である。 一般的な塗布装置によって箔表面に塗料を塗布する際の吐出口近傍の断面図である。

以下に、本発明を実施するための形態について図面を用いて説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい限定がされているが、発明の範囲を以下に限定するものではない。

（第１の実施形態）
（構成）
まず、本発明の第１の実施形態に係る塗布装置の構成について、図面を参照しながら説明する。

図１は、本実施形態に係る塗布装置の断面図を含む概念図である。図２は、本実施形態に係る塗布装置の塗布ダイ１０と、塗布ダイ１０に配置された隙間可変機構２０の構造を示す側面図である。図３は、図２の矢視Ａから見た塗布ダイ１０の正面図である。

図１のように、本実施形態に係る塗布装置は、塗布ダイ１０、隙間可変機構２０、貯蔵タンク３０、開閉弁５０、制御手段６０を備える。また、本実施形態に係る塗布装置は、貯蔵タンク３０から塗布ダイ１０への塗料３１の送液手段としてポンプ３３と送液配管３５とを備える。

＜塗布ダイ＞
まず、塗料を吐出するための塗布ダイ１０について説明する。

塗布ダイ１０は、スリット１１、吐出口１３、下流側リップ１７、上流側リップ１５を有する。塗布ダイ１０には、ポンプ３３によって印可された圧力によって、貯蔵タンク３０から送液配管３５を経由して塗料３１が供給される。塗布ダイ１０は、被塗布体である箔７３に吐出口１３から塗料を吐出し、箔７３の表面に塗布膜７５を形成させる。

スリット１１は、貯蔵タンク３０から送液された塗料３１を吐出口１３に供給するための経路である。

吐出口１３は、スリット１１から供給された塗料３１を箔７３の表面に吐出するための開口部である。スリット１１を経て吐出口１３に供給された塗料３１は、開閉弁５０の開閉状態に応じた圧力が印可され、被塗布体である箔７３に吐出される。

下流側リップ１７は、上流側リップ１５とともに吐出口１３を形成する部材であり、箔７３の搬送方向に関して下流側に位置する。上流側リップ１５は、下流側リップ１７とともに吐出口１３を形成する部材であり、箔７３の搬送方向に関して上流側に位置する。下流側リップ１７と上流側リップ１５との間の開口部が吐出口１３を形成する。なお、本実施形態においては、後述する突出しプレート２１の先端面も吐出口１３を形成する部位となる。

上流側リップ１５には、制御手段６０によって制御される隙間可変機構２０が配置される。

＜隙間可変機構＞
次に、吐出口１３と箔７３との間の隙間を可変とする隙間可変機構２０について説明する。

隙間可変機構２０は、上流側リップ１５に配置され、バックアップローラ７１上を搬送される箔７３と塗布ダイ１０との間の隙間を調整する可変機構である。なお、バックアップローラ７１とは、箔７３を搬送するローラ（ｒｏｌｌｅｒ）の一形態である。また、吐出口１３と箔７３との間の隙間とは、バックアップローラ７１上を搬送される箔７３と吐出口１３とが最接近した箇所に形成される隙間のことをいう。

隙間可変機構２０は、塗布ダイ１０の両側面に配置される。隙間可変機構２０は、突出しプレート２１、ガイドブロック２３、プレートホルダ２５、アクチュエータ２７およびブラケット２８を有する。

突出しプレート２１は、上流側リップ１５の下面に沿って配置される。突出しプレート２１は、上流側リップ１５の下面とガイドブロック２３とによって挟み込まれ、塗布ダイ１０の両側面に設けられた２つのアクチュエータ２７によって動作する。

突出しプレート２１は、上流側リップ１５の下面に沿って動作する。なお、突出しプレート２１の動作方向と箔７３の被塗布面とがなす角は、任意に設定できる。例えば、突出しプレート２１の動作方向と箔７３の被塗布面とがなす角は、４５度に設定することができる。

突出しプレート２１は、上流側リップ１５の端部から、吐出口１３よりも先に突き出す先端部を有する。突出しプレート２１の先端部は、突出しプレート２１が押し出された際に、上流側リップ１５のスリット１１の形成面からスリット１１の開口側に進入しないように制御されることが好ましい。

突出しプレート２１の突出し量は、被塗布体である箔７３と吐出口１３との距離に基づいて制御することができる。例えば、突出しプレート２１の突出し量は、上流側リップ１５および下流側リップ１７によって形成されるスリット１１の開口部と箔７３との間の距離の半分を上限として設定することができる。ただし、突出しプレート２１の突出し量は、箔７３を突き破らない程度に設定されればよい。

突出しプレート２１の先端部は、バックアップローラ７１上を搬送される箔７３の被塗布面に面する先端面を有する。突出しプレート２１は、先端面が被塗布体である箔７３に触れないように制御される。先端面の厚さは、突出しプレート２１を突き出した際に、箔７３上に吐出された塗料を突出しプレート２１の下面に食み出ない程度であればよい。

突出しプレート２１の先端面は、バックアップローラ７１上を搬送される箔７３に対して完全に平行でなくてもよく、ある程度の傾きをもっていてもよい。なお、突出しプレート２１の先端面は、平面であることが好ましいが、複数の平面が組み合わされた面であってもよいし、少なくとも一つの曲率を有する曲面であってもよい。

突出しプレート２１の先端部に対して反対側の端部は、プレートホルダ２５によって固定される。突出しプレート２１は、例えばネジなどの固着具によってプレートホルダ２５に固定される。

なお、本実施形態においては、突出しプレート２１も吐出口１３を構成する一要素とみなす。すなわち、突出しプレート２１が突き出されることによって、被塗布体である箔７３と吐出口１３との距離が近くなり、箔７３と吐出口１３との間の隙間が小さくなる。

ガイドブロック２３は、突出しプレート２１を上流側リップ１５の下面と挟み込む。ガイドブロック２３は、バックアップローラ７１上を搬送される箔７３に対して、突出しプレート２１の先端面が平行になるように動作を規制している。突出しプレート２１は、上流側リップ１５とガイドブロック２３との間を摺動する。

プレートホルダ２５は、突出しプレート２１の先端部に対して反対側の端部を固定する。

アクチュエータ２７は、塗布ダイ１０の両側面において、ブラケット２８を介して塗布ダイ１０に固定される第１の駆動装置である。アクチュエータ２７は、制御手段６０によって制御される可動部を有する。アクチュエータ２７の可動部先端にはプレートホルダ２５が固定されている。アクチュエータ２７は数値制御可能であり、吐出する塗料の量に応じて、突出しプレート２１を動作させる。

上流側リップ１５の下面と突出しプレート２１との間には、シール構造が設けられている。具体的には、上流側リップ１５の下面に溝加工が施されており、溝加工された箇所にシール材２９が挿入されている。

＜送液機構＞
次に、塗料３１を塗布ダイ１０に送液する送液機構について説明する。送液機構は、貯蔵タンク３０、ポンプ３３、送液配管３５を含む。

貯蔵タンク３０は、塗料３１を貯蔵するための容器である。貯蔵タンク３０には、貯蔵された塗料３１を送液するための送液配管３５が接続される。

ポンプ３３は、送液配管３５に配置される。ポンプ３３は、貯蔵タンク３０から塗布ダイ１０へと塗料３１を供給する際に、送液配管３５中の塗料３１に圧力を印可する。ポンプ３３は、貯蔵タンク３０から塗布ダイ１０へと向かう方向に塗料３１が送液されるように圧力を印可する。

送液配管３５は、塗料３１が貯蔵タンク３０から塗布ダイ１０に供給される際の経路である。送液配管３５は、貯蔵タンク３０と開閉弁５０とを接続する。送液配管３５には、ポンプ３３が配置される。

＜開閉弁＞
次に、スリット１１内の塗料３１に印可される圧力を制御するための開閉弁５０について説明する。

開閉弁５０は、送液配管３５に配置され、塗料３１の流れを遮断／開放することによって、スリット１１内に供給される塗料３１の流量を調節する弁である。開閉弁５０は、弁箱５１、弁体５２、弁棒５３、弁座５４、軸シール５６、アクチュエータ５７を有する。

弁箱５１は、開閉弁５０の筐体である。弁箱５１の内部には、円柱状の内部空間を有する。弁箱５１の上部は塗布ダイ１０に接続され、側方部はポンプ３３が配置される送液配管３５に接続される。なお、弁箱５１の形状は円柱状に限定されず、任意の形状であってよい。

弁体５２は、弁箱５１の内部に配置される円盤状の部材である。弁体５２は弁棒５３の一端に固定され、アクチュエータ５７の動作によって、弁箱５１内で上下に動く。弁体５２と弁座５４とによって形成される間隙から塗料３１が塗布ダイ１０に向けて供給される。

弁棒５３は、細長い棒状であり、一端は弁体５２に固定され、他端はアクチュエータ５７に接続される。弁棒５３は、アクチュエータ５７の動作を弁体５２に伝え、弁体５２を上下に動かす。

弁座５４は、円環面状の部材である。弁座５４の外周は弁箱５１の内壁に固定され、内円には弁棒５３が挿入される。弁座５４と弁体５２との間に形成される間隙から塗料３１が塗布ダイ１０に向けて供給される。

弁体５２と弁座５４との間に形成される間隙が最小のとき、すなわち弁体５２と弁座５４とが最接近したときに開閉弁５０は遮断される。弁体５２と弁座５４との間に形成される間隙が最小ではないとき、すなわち弁体５２と弁座５４との間に間隙があるときに、開閉弁５０は弁体５２と弁座５４との隙間の大きさに応じた塗料３１を塗布ダイ１０に供給する。

軸シール５６は、例えばアクチュエータ５７側の弁棒５３の端部近傍においてシール構造を形成し、アクチュエータ５７によって動かされる弁棒５３と弁箱５１との間から塗料３１が漏れることを防ぐ。軸シール５６としては、例えばＯリングを用いることができる。

アクチュエータ５７は、制御手段６０によって制御される可動部を有する第２の駆動装置である。アクチュエータ５７は、制御手段６０の制御に応じて動作し、弁体５２を上下動させる。アクチュエータ５７の可動部には弁棒５３が固定されている。アクチュエータ５７は数値制御可能であり、吐出する塗料３１の量に応じて、弁体５２を動作させる。

＜制御手段＞
制御手段６０は、隙間開閉機構２０および開閉弁５０を制御する。すなわち、制御手段６０は、開閉弁５０のアクチュエータ５７を制御する際に、隙間開閉機構２０のアクチュエータ２７を連動させて制御する。なお、制御手段６０は、隙間開閉機構２０のみを制御するように構成してもよい。

制御手段６０は、開閉弁５０の開閉速度と、隙間開閉機構２０の突出しプレート２１の移動速度とを連動させるようにアクチュエータ５７およびアクチュエータ２７を制御する。制御手段６０は、例えばマイクロコンピュータによって実現される。

塗布膜７５の膜厚を厚くする場合、すなわち塗料の吐出量を増やす場合、制御手段６０は、開閉弁５０を開く制御をするともに、突出しプレート２１を引っ込める方向に制御をする。塗布膜７５の膜厚を薄くする場合、すなわち塗料の吐出量を減らす場合、制御手段６０は、開閉弁５０を閉じる制御をするともに、突出しプレート２１を突き出す方向に制御をする。制御手段６０は、開閉弁５０の開閉量と、突出しプレート２１の突出し量とを連動させて数値制御する。

なお、吐出口１３と箔７３との距離が大きくなりすぎると、吐出口１３から吐出された塗料が塗布装置の下方に漏れ出てしまう。そのため、制御手段６０は、吐出口１３から吐出された塗料が塗布装置の下方に漏れ出ないように制御する。

以上が、本発明の第１の実施形態に係る塗布装置についての説明である。

（動作）
次に、本発明の第１の実施形態に係る塗布装置の動作について説明する。

塗料３１は、ポンプ３３の圧力によって送液配管３５を経由して貯蔵タンク３０から塗布ダイ１０に送液され、塗布ダイ１０の吐出口１３からバックアップローラ７１上を搬送される箔７３に向かって吐出される。

ポンプ３３と塗布ダイ１０の間に位置する開閉弁５０は、弁体５２の上下動によって開閉量を制御して塗料３１の流量を決定する。

開閉弁５０は、未塗布時には遮蔽される。

開閉弁５０は、塗布時には吐出する塗料の量に応じて開放される。開閉弁５０の遮蔽／開放の動作は、アクチュエータ５７によって動作する弁体５２と弁座５４との位置関係によって決定される。

開閉弁５０の開放度と連動されるように、隙間可変機構２０の突出しプレート２１は、アクチュエータ２７の動作によって適切な位置に移動する。

図４は、塗布ダイ１０の吐出口１３近傍の拡大断面図である。図４は、塗布膜７５の膜厚が最大となる状態を示す。図４においては、上流側リップ１５のＬ寸法と、塗料３１自体に印可される圧力が確保されている。

図４においては、吐出口１３近傍の拡大断面図の右側に、スリット１１の中心線を基準とした箔７３上の位置に対応させて、塗料に印可されている圧力を示すグラフ（圧力分布）を示している。図４の例では、十分なＬ寸法が確保されるとともに、塗料に十分な圧力が印可されている。そのため、箔７３上に形成される塗布膜７５に気泡が巻き込まれにくい安定した状態になる。

塗布膜７５の膜厚を薄くする場合、すなわち塗料の吐出量を減少させる場合、制御手段６０は、開閉弁５０の弁体５２は閉じる方向に動作させるように制御する。

このとき、制御手段６０は、塗料３１の流量を減少させるとともに、隙間可変機構２０の突出しプレート２１を箔７３の方向に前進させ、吐出口１３と箔７３との隙間を狭くする制御をする。

図５は、塗布膜７５の膜厚を薄くする例である。

塗布膜７５を薄くする場合は、制御手段６０の制御によって、開閉弁５０からスリット１１に供給される塗料３１の流量が減少する。

一般的な塗布装置のように、上流側リップ１５とバックアップローラ７１上を搬送される箔７３と吐出口１３との間に形成される流路断面が変化しない場合、吐出口１３から吐出される塗料３１自体に印可される圧力が低下してしまう。

それに対し、本実施形態に係る塗布装置では、突出しプレート２１を前進させて箔７３と吐出口１３との間の隙間を縮めることによって流路断面を減少させ、塗料３１自体に印可される圧力を上昇させることによって吐出された塗料のＬ寸法を確保できる。その結果、気泡を巻き込みにくい安定した状態になる。

図５においては、吐出口１３近傍の拡大断面図の右側に、スリット１１の中心線を基準とした箔７３上の位置に対応させて、塗料に印可されている圧力を示すグラフ（圧力分布）を示している。図５の例では、突出しプレート２１の先端が突出することによって、十分なＬ寸法が確保されるとともに、塗料に十分な圧力が印可されている。そのため、箔７３上に形成される塗布膜７５に気泡が巻き込まれにくい安定した状態になる。

そして、塗布膜７５の膜厚を厚くする場合、すなわち塗料の吐出量を増加させる場合、開閉弁５０の弁体５２は開く方向に動作させるように制御する。このとき、制御手段６０は、塗料３１の流量を増加させるとともに、隙間可変機構２０の突出しプレート２１を箔７３の方向から後退させ、吐出口１３と箔７３との隙間を広くする制御をする。

以上が、本実施形態に係る塗布装置の動作に関する説明である。

以上の本発明の第１の実施形態に係る塗布装置によれば、膜厚を薄くしても気泡の混入がない塗布品質のよい塗布膜を得ることできる。その結果、不良品をなくし、歩留まりを向上することができる。

（変形例）
本実施形態に係る塗布装置は、単に塗布膜７５の膜厚を変えるだけではなく、塗布膜７５の膜厚を切り替える際に、箔７３の表面に対して斜めに塗布膜７５が形成される部分の制御も可能とする。

図６には、塗布膜７５の膜厚を切り替える塗布（段付塗布）を行った際における塗布膜７５の膜厚の変化を示す概念図を示す。ａで示す箇所は塗布膜７５の膜厚が薄い部位であり、ｂで示す箇所は塗布膜７５の膜厚が厚い部位である。ｃで示す箇所が、塗布膜７５の膜厚を切り替える際に、塗布膜７５が斜めに形成される部位である。

例えば、斜めの部分（図６のｃの部位）を長くしたい場合、制御手段６０は、開閉弁５０の開閉がゆっくりと行われるように制御するとともに、突出しプレート２１の移動を開閉弁５０の開閉と連動させてゆっくりと行われるように制御する。それに対し、斜めの部分（図６のｃの部位）を短くしたい場合、制御手段６０は、開閉弁５０の開閉が速く行われるように制御するとともに、突出しプレート２１の移動を開閉弁５０の開閉と連動させて速く行われるように制御する。

すなわち、本実施形態に係る塗布装置の制御手段６０は、塗布膜７５の膜厚を変更する際に、開閉弁５０の開閉速度と、突出しプレート２１の移動速度とを連動させて制御することにより、箔７３の表面に対して傾斜を有する塗布膜７５を形成することができる。

（第２の実施形態）
続いて、本発明の第２の実施形態に係る塗布装置に関して説明する。第１の実施形態に係る塗布装置との違いは、突出しプレートの突出し量を制御する替わりに、塗布ダイの移動量を制御することによって、吐出口と箔との間の隙間を変化させることである。

図７は、本発明の第２の実施形態に係る塗布装置の断面構造を含めた概念図である。なお、送液機構や開閉弁５０の構成は第１の実施形態に係る塗布装置とほぼ同様であるため、詳細な説明は省略する。また、第１の実施形態に係る塗布装置と同様の構成をもつその他の構成要素についても、詳細な説明を省略する場合がある。

第２の実施形態に係る塗布装置は、塗布ダイ９０、貯蔵タンク３０、開閉弁５０、制御手段６１を備える。また、本実施形態に係る塗布装置は、貯蔵タンク３０から塗布ダイ９０への塗料の送液手段としてポンプ３３と送液配管３５とを備える。本実施形態に係る塗布装置においては、ポンプ３３と開閉弁５０とは、伸縮可能なフレキシブル配管３７によって接続される。

塗布ダイ９０は、スリット９１、吐出口９３を備えるととともに、ガイド９５およびアクチュエータ９７を有する。スリット９１および吐出口９３は、それぞれ第１の実施形態におけるスリット１１および吐出口１３と同じであるため、詳細な説明は省略する。

ガイド９５は、塗布ダイ９０を搭載し、吐出口９３と箔７３との距離の変更するために塗布ダイ９０を図面の左右方向に移動させることを可能とする。

ガイド９５に搭載された塗布ダイ９０は、数値制御可能なアクチュエータ９７と連結され、塗布ダイ９０の吐出口９３と箔７３との隙間をガイド９５上で可変可能な構成をもつ。なお、塗布ダイ９０が移動する際には、ポンプ３３と開閉弁５０との間のフレキシブル配管３７が伸縮する。

制御手段６１は、開閉弁５０のアクチュエータ５７と、塗布ダイ９０のアクチュエータ９７との動作を連動させて制御する。なお、制御手段６１は、塗布ダイ９０のアクチュエータ９７のみを制御するように構成してもよい。

塗布膜７５の膜厚を厚くする場合、すなわち塗料の吐出量を増やす場合、制御手段６１は、開閉弁５０を開く制御をするともに、塗布ダイ９０を箔７３から遠ざける制御をする。塗布膜７５の膜厚を薄くする場合、すなわち塗料の吐出量を減らす場合、制御手段６１は、開閉弁５０を閉じる制御をするともに、塗布ダイ９０を箔７３に近づける制御をする。制御手段６１は、開閉弁５０の開閉量と、塗布ダイ９０の移動量とを連動させて数値制御する。

本実施形態に係る塗布装置の動作に関しては、第１の実施形態に係る塗布装置の突出しプレート２０の突出し制御を、ガイド９５上の塗布ダイ９０の移動制御に置き換えればよいので、詳細な説明は省略する。

以上のように、本発明の第２の実施形態に係る塗布装置においては、塗料の吐出量に応じて、開閉弁の開閉量と塗布ダイの移動量とを連動させて制御する。その結果、第１の実施形態に係る塗布装置と同様の効果を得ることができる。なお、第１の実施形態に係る塗布装置の構成と、第２の実施形態に係る塗布装置の構成とを組み合わせてもよい。

以上、実施形態を参照して本発明を説明してきたが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、本発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。

１０ 塗布ダイ
１１ スリット
１３ 吐出口
１５ 上流側リップ
１７ 下流側リップ
２０ 隙間可変機構
２１ 突出しプレート
２３ ガイドブロック
２５ プレートホルダ
２７ アクチュエータ
２８ ブラケット
２９ シール材
３０ 貯蔵タンク
３１ 塗料
３３ ポンプ
３５ 送液配管
３７ フレキシブル配管
５０ 開閉弁
５１ 弁箱
５２ 弁体
５３ 弁棒
５４ 弁座
５６ 軸シール
５７ アクチュエータ
６０、６１ 制御手段
７１ バックアップローラ
７３ 箔
７５ 塗布膜
９０ 塗布ダイ
９１ スリット
９３ 吐出口

Claims (9)

1. ローラ上を搬送される被塗布体に塗料を塗布する塗布装置であって、
   スリットに供給された塗料を吐出口から前記被塗布体に対して吐出する塗布ダイと、
   前記被塗布体に塗布する塗料の量に応じて、前記吐出口と前記被塗布体との距離を制御する制御手段とを備え、
   前記塗布ダイは、
   前記ローラ上を搬送される前記被塗布体の搬送方向の上流側に位置する上流側リップと、前記ローラ上を搬送される前記被塗布体の搬送方向の下流側に位置する下流側リップとによって挟まれた前記スリットの開放部によって前記吐出口を形成し、
   前記吐出口と前記被塗布体との間の隙間に突出される突出しプレートを有する隙間可変機構が前記上流側リップに配置される塗布装置。
2. 前記隙間可変機構は、
   前記制御手段の制御に応じて前記突出しプレートを可変とする第１の駆動手段を有し、
   前記制御手段は、
   前記被塗布体に塗布された塗布膜の膜厚を薄くする場合、前記突出しプレートを突き出す方向に前記第１の駆動手段を制御し、
   前記被塗布体に塗布された塗布膜の膜厚を厚くする場合、前記突出しプレートを引っ込める方向に前記第１の駆動手段を制御する請求項１に記載の塗布装置。
3. 前記スリットに供給する塗料の流量を制御するために開閉量を可変とする第２の駆動手段を有する開閉弁を備え、
   前記制御手段は、
   前記被塗布体に塗布された塗布膜の膜厚を薄くする場合、前記開閉弁の開閉量を小さくするように前記第２の駆動手段を制御するとともに、前記突出しプレートを突き出す方向に前記第１の駆動手段を制御し、
   前記被塗布体に塗布された塗布膜の膜厚を厚くする場合、前記開閉弁の開閉量を大きくするように前記第２の駆動手段を制御するとともに、前記突出しプレートを引っ込める方向に前記第１の駆動手段を制御する請求項２に記載の塗布装置。
4. 前記制御手段は、
   前記被塗布体に塗布された塗布膜の膜厚を変更する際に、
   前記開閉弁の開閉速度と、前記突出しプレートの移動速度とを連動させて制御することによって前記被塗布体上に傾斜を有する塗布膜を形成する請求項３に記載の塗布装置。
5. 前記塗布ダイは、
   前記塗布ダイを移動可能に搭載するガイドと、
   前記制御手段の制御に応じて前記塗布ダイを搭載する前記ガイドを駆動させる第３の駆動手段を有する請求項１乃至４のいずれか一項に記載の塗布装置。
6. 前記制御手段は、
   前記被塗布体に塗布された塗布膜の膜厚を薄くする場合、前記吐出口と前記被塗布体との距離を小さくするように前記第３の駆動手段を制御し、
   前記被塗布体に塗布された塗布膜の膜厚を厚くする場合、前記吐出口と前記被塗布体との距離を大きくするように前記第３の駆動手段を制御する請求項５に記載の塗布装置。
7. 前記スリットに供給する塗料の流量を制御するために開閉量を可変とする第２の駆動手段を有する開閉弁を備え、
   前記制御手段は、
   前記被塗布体に塗布された塗布膜の膜厚を薄くする場合、前記開閉弁の開閉量を小さくするように前記第２の駆動手段を制御するとともに、前記吐出口と前記被塗布体との距離を小さくするように前記第３の駆動手段を制御し、
   前記被塗布体に塗布された塗布膜の膜厚を厚くする場合、前記開閉弁の開閉量を大きくするように前記第２の駆動手段を制御するとともに、前記吐出口と前記被塗布体との距離を大きくするように前記第３の駆動手段を制御する請求項６に記載の塗布装置。
8. 塗料を貯蔵する貯蔵タンクと、
   前記貯蔵タンクに貯蔵された塗料を前記塗布ダイに送液するための送液配管と、
   前記送液配管上に配置され、前記貯蔵タンクから前記塗布ダイに向けて塗料に圧力を印可するポンプとを備える請求項１乃至７のいずれか一項に記載の塗布装置。
9. ローラ上を搬送される被塗布体の搬送方向の上流側に位置する上流側リップと、前記ローラ上を搬送される前記被塗布体の搬送方向の下流側に位置する下流側リップとによって挟まれたスリットの開放部によって形成された吐出口と、前記吐出口と前記被塗布体との間の隙間に突出される突出しプレートを有する隙間可変機構とを有する塗布ダイを用いて、前記被塗布体に対して塗料を吐出する前記塗布ダイの前記吐出口と前記被塗布体との距離と、前記突出しプレートを前記吐出口と前記被塗布体との間に突出させる量とを前記被塗布体に塗布する塗料の量に応じて制御する塗布方法。

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