JP6425520B2 - マーキングフィルム用基材フィルム及びマーキングフィルム - Google Patents
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Description
本発明は、マーキングフィルム用基材フィルム、及び、このマーキングフィルム用基材フィルムを用いたマーキングフィルムに関する。
従来から、着色された塩化ビニル系樹脂フィルム等の基材フィルムの一面に接着剤層が積層されているマーキングフィルムが、装飾用途における塗装代替品として様々な分野で使用されている。
このようなマーキングフィルムを構成する基材フィルムは、意匠性を付与するために、表面をエンボス加工面とすることが行われている（例えば、特許文献１参照）。
エンボス加工は、例えば、カレンダー成形により塩化ビニル系樹脂フィルムを製膜した直後に、得られたフィルムをエンボスロールとゴムロールとで挟み込み、エンボスロールの凹凸をフィルムに転写することにより行われる。
このようなマーキングフィルムを構成する基材フィルムは、意匠性を付与するために、表面をエンボス加工面とすることが行われている（例えば、特許文献１参照）。
エンボス加工は、例えば、カレンダー成形により塩化ビニル系樹脂フィルムを製膜した直後に、得られたフィルムをエンボスロールとゴムロールとで挟み込み、エンボスロールの凹凸をフィルムに転写することにより行われる。
一方、基材フィルムでは、作製されたフィルムにフィッシュアイと称される微細な欠陥が生じていたり、作製したフィルムにエアー抜き用の穴として微細な貫通孔を形成したりすることがある。このようなフィッシュアイや貫通孔は、意匠性を損なうおそれがあることから目立たないことが望まれている。
また、基材フィルムでは、意匠性を付与するために、表面に高い光沢度が求められることもある。
また、基材フィルムでは、意匠性を付与するために、表面に高い光沢度が求められることもある。
上述したように、マーキングフィルムに用いられる基材フィルム（マーキングフィルム用基材フィルム）では、フィルムに生じたフィッシュアイやフィルムに形成した貫通孔を目立たなくすることが要求されている。このような要求を満足するための方策として、エンボス加工面の凹凸を大きくする（深度の深い凹凸とする）ことが考えられた。
一方、上述したようにマーキングフィルム用基材フィルムは、その表面に高い光沢度が求められることがある。しかしながら、マーキングフィルム用基材フィルムに形成されたエンボス加工面の深度が深くなるほど、そのエンボス加工面の光沢度は低下する傾向にある。
そのため、マーキングフィルム用基材フィルムにおいて、フィッシュアイやフィルムに形成した貫通孔を目立たなくすべくエンボス加工面の凹凸の深度を深くしつつ、そのエンボス加工面において高い光沢度を確保することは困難であった。
一方、上述したようにマーキングフィルム用基材フィルムは、その表面に高い光沢度が求められることがある。しかしながら、マーキングフィルム用基材フィルムに形成されたエンボス加工面の深度が深くなるほど、そのエンボス加工面の光沢度は低下する傾向にある。
そのため、マーキングフィルム用基材フィルムにおいて、フィッシュアイやフィルムに形成した貫通孔を目立たなくすべくエンボス加工面の凹凸の深度を深くしつつ、そのエンボス加工面において高い光沢度を確保することは困難であった。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、マーキングフィルム用基材フィルムの表面を、特定の凹凸形状を有するエンボス加工面とすることにより、深度の深い凹凸と高い表面光沢度を両立することができるとともに、単にエンボス加工面の凹凸の深度を深くした場合に比べて、フィッシュアイや貫通孔がより目立ちにくいエンボス加工面となることを見出し、本発明を完成した。
第１の本発明のマーキングフィルム用基材フィルムは、塩化ビニル系樹脂組成物からなり、片面にエンボス加工が施されたエンボス加工面を備えたマーキングフィルム用基材フィルムであって、
上記エンボス加工面は、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７であり、
上記エンボス加工面を、凹凸の最大高低差の中央値をしきい値として凹部と凸部とに区分けした場合、上記凹部に区分けされる領域の個数が５００μｍ四方あたり、６〜２５個であることを特徴とする。
上記エンボス加工面は、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７であり、
上記エンボス加工面を、凹凸の最大高低差の中央値をしきい値として凹部と凸部とに区分けした場合、上記凹部に区分けされる領域の個数が５００μｍ四方あたり、６〜２５個であることを特徴とする。
第１の本発明のマーキングフィルム用基材フィルムでは、上記エンボス加工面において、上記凹部に区分けされる領域の平均面積が５．０×１０３〜２．５×１０４μｍ２であることが好ましい。
第１の本発明のマーキングフィルム用基材フィルムにおいて、上記塩化ビニル系樹脂組成物は、塩化ビニル系樹脂、可塑剤、アクリル系加工助剤及びカーボンブラックを含有することが好ましい。
第２の本発明のマーキングフィルム用基材フィルムは、塩化ビニル系樹脂組成物からなり、片面にエンボスロールを用いたエンボス加工が施されたエンボス加工面を備えたマーキングフィルム用基材フィルムであって、
上記エンボス加工面は、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７であり、
上記エンボスロールの表面は、十点平均粗さＲｚが９．５〜１２．０μｍで、かつ、６０°グロス値が７５〜１１０であることを特徴とする。
上記エンボス加工面は、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７であり、
上記エンボスロールの表面は、十点平均粗さＲｚが９．５〜１２．０μｍで、かつ、６０°グロス値が７５〜１１０であることを特徴とする。
第３の本発明のマーキングフィルムは、第１又は第２の本発明のマーキングフィルム用基材フィルムと、上記マーキングフィルム用基材フィルムの片面に積層された接着剤層とを備えることを特徴とする。
第１及び第２の本発明のマーキングフィルム用基材フィルムによれば、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍとなる深度の深い凹凸と高い表面光沢度とを両立するともに、エンボス加工面の凹凸形状が所定の形状を有しているため、マーキングフィルム用基材フィルムにフィッシュアイが生じたり、貫通孔が形成されたりしてもその貫通孔が目立ちにくいとの優れた効果を奏する。
第３の本発明のマーキングフィルムは、本発明のマーキングフィルム用基材フィルムを備えるため、優れた意匠性を有する。
第３の本発明のマーキングフィルムは、本発明のマーキングフィルム用基材フィルムを備えるため、優れた意匠性を有する。
まず、第１の本発明のマーキングフィルム用基材フィルム（以下、単に第１発明の基材フィルムともいう）について説明する。
第１発明の基材フィルムは、塩化ビニル系樹脂組成物からなり、片面にエンボス加工が施されたエンボス加工面を備えたマーキングフィルム用基材フィルムであって、
上記エンボス加工面は、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７であり、
上記エンボス加工面を、凹凸の最大高低差の中央値をしきい値として凹部と凸部とに区分けした場合、上記凹部に区分けされる領域の個数が５００μｍ四方あたり、６〜２５個であることを特徴とする。
第１発明の基材フィルムは、塩化ビニル系樹脂組成物からなり、片面にエンボス加工が施されたエンボス加工面を備えたマーキングフィルム用基材フィルムであって、
上記エンボス加工面は、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７であり、
上記エンボス加工面を、凹凸の最大高低差の中央値をしきい値として凹部と凸部とに区分けした場合、上記凹部に区分けされる領域の個数が５００μｍ四方あたり、６〜２５個であることを特徴とする。
第１発明の基材フィルムは、塩化ビニル系樹脂組成物からなるフィルムであり、その片面にエンボス加工面を備えている。
上記エンボス加工面は、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７である。第１発明の基材フィルムは、十点平均粗さＲｚで２．０μｍを超えるような深度の深い凹凸を有するエンボス加工面で、６０°グロス値で２７〜３７という高い表面光沢度を有していることが特徴の１つである。
上記エンボス加工面は、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７である。第１発明の基材フィルムは、十点平均粗さＲｚで２．０μｍを超えるような深度の深い凹凸を有するエンボス加工面で、６０°グロス値で２７〜３７という高い表面光沢度を有していることが特徴の１つである。
上記十点平均粗さＲｚは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（１９９４）に準拠して測定された値である。
上記エンボス加工面の十点平均粗さＲｚの上限は、４．０μｍである。上記Ｒｚが４．０μｍを超えると、６０°グロス値で２７を超えるような高い表面光沢度との両立が困難となるからである。
一方、上記Ｒｚが２．０μｍ未満では、そもそも高い光沢度を達成する困難性に乏しく、また、フィッシュアイや貫通孔を目立ちにくくする効果に劣る。
上記エンボス加工面の十点平均粗さＲｚの上限は、４．０μｍである。上記Ｒｚが４．０μｍを超えると、６０°グロス値で２７を超えるような高い表面光沢度との両立が困難となるからである。
一方、上記Ｒｚが２．０μｍ未満では、そもそも高い光沢度を達成する困難性に乏しく、また、フィッシュアイや貫通孔を目立ちにくくする効果に劣る。
上記エンボス加工面の(受光角)６０°グロス値は、エンボス加工面の光沢の度合を示す指標であり、上記エンボス加工面の６０°グロス値が２７〜３７であると、マーキングフィルム用基材フィルムとして、光沢感の高いマーキングフィルム用基材フィルムとなる。
上記６０°グロス値は、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に準拠して測定された値である。具体的には、例えば、光沢度計（株式会社村上色彩技術研究所社製、ＧＭＸ-１０２）により測定することができる。
上記６０°グロス値は、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に準拠して測定された値である。具体的には、例えば、光沢度計（株式会社村上色彩技術研究所社製、ＧＭＸ-１０２）により測定することができる。
第１発明の基材フィルムでは、上記エンボス加工面を、凹凸の最大高低差の中央値をしきい値として凹部と凸部とに区分けした場合、上記凹部に区分けされる領域の個数が５００μｍ四方あたり、６〜２５個である。
この場合、上記エンボス加工面の凹部に着目すると、各凹部が比較的大きな平面視形状（底部）を有していることとなる。そのため、上記フィッシュアイや貫通孔が上記凹部に位置しやすく、凹部に位置した場合は上記フィッシュアイや貫通孔がより目立ちにくくなる。
一方、上記凹部に区分けされる領域の個数が、６個未満では凹凸の間隔が広くなりすぎるため、また、２５個を超えると凹凸が細かくなりすぎるため、何れの場合でも、高い光沢度を維持しつつ、フィッシュアイや貫通孔が目立たなくなる効果を享受できなくなる。
この場合、上記エンボス加工面の凹部に着目すると、各凹部が比較的大きな平面視形状（底部）を有していることとなる。そのため、上記フィッシュアイや貫通孔が上記凹部に位置しやすく、凹部に位置した場合は上記フィッシュアイや貫通孔がより目立ちにくくなる。
一方、上記凹部に区分けされる領域の個数が、６個未満では凹凸の間隔が広くなりすぎるため、また、２５個を超えると凹凸が細かくなりすぎるため、何れの場合でも、高い光沢度を維持しつつ、フィッシュアイや貫通孔が目立たなくなる効果を享受できなくなる。
上記エンボス加工面において、凹凸の最大高低差の中央値をしきい値として凹部と凸部とに区分けした場合に上記凹部に区分けされる領域の５００μｍ四方あたりの個数は、レーザ顕微鏡を用いて計測することができる。
これについて、以下に詳述する。
これについて、以下に詳述する。
ここでは、キーエンス社製、形状測定レーザーマイクロスコープＶＫ−Ｘ２００を使用する場合を例に説明する。
まず、上記基材フィルムのエンボス加工面の所定の領域（５００μｍ×５００μｍ）の表面形状を観察する。
次に、観察領域内の最も高い部分と最も低い部分とを特定し、その後、両者の高さの中点（中央値）を算出する。
次に、上記中央値をしきい値として、エンボス加工面の所定の領域内の上記中央値よりも高い部分を凸部に、上記中央値よりも低い部分を凹部に区分し、その周囲を凹部又は測定領域の外縁に囲まれた連続した部分を１個の凹部としてカウントする。
このような手法を用いることにより、上記エンボス加工面において、上記凹部に区分けされる領域の５００μｍ四方あたりの個数を計測することができる。
ここで、しきい値の設定、凸部と凹部との区分け、及び、凹部のカウントは市販の解析ソフト（例えば、キーエンス社製、ＶＫ Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｖｅｒ．３．３）等）を使用して行ってもよい。
まず、上記基材フィルムのエンボス加工面の所定の領域（５００μｍ×５００μｍ）の表面形状を観察する。
次に、観察領域内の最も高い部分と最も低い部分とを特定し、その後、両者の高さの中点（中央値）を算出する。
次に、上記中央値をしきい値として、エンボス加工面の所定の領域内の上記中央値よりも高い部分を凸部に、上記中央値よりも低い部分を凹部に区分し、その周囲を凹部又は測定領域の外縁に囲まれた連続した部分を１個の凹部としてカウントする。
このような手法を用いることにより、上記エンボス加工面において、上記凹部に区分けされる領域の５００μｍ四方あたりの個数を計測することができる。
ここで、しきい値の設定、凸部と凹部との区分け、及び、凹部のカウントは市販の解析ソフト（例えば、キーエンス社製、ＶＫ Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｖｅｒ．３．３）等）を使用して行ってもよい。
第１発明の基材フィルムのエンボス加工面において、上記凹部に区分けされる領域の平均面積は、５．０×１０３〜２．５×１０４μｍ２が好ましい。
上記凹部に区分けされる領域の平均面積が５．０×１０３μｍ２未満では、凹凸が細かくなり、一方、２．５×１０４μｍ２を超えると凹凸の間隔が広くなりすぎるため、何れの場合も、高い光沢度を維持しつつ、フィッシュアイや貫通孔を目立たなくする効果を享受できなくなることがある。
上記凹部に区分けされる領域の平均面積が５．０×１０３μｍ２未満では、凹凸が細かくなり、一方、２．５×１０４μｍ２を超えると凹凸の間隔が広くなりすぎるため、何れの場合も、高い光沢度を維持しつつ、フィッシュアイや貫通孔を目立たなくする効果を享受できなくなることがある。
第１発明の基材フィルムは、塩化ビニル系樹脂組成物からなる。
上記塩化ビニル系樹脂組成物は、塩化ビニル樹脂を含有する。
上記塩化ビニル系樹脂としては、例えば、塩化ビニルの単独重合体、塩化ビニルとこれと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。
上記共重合可能な他の単量体としては、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル、エチレン、プロピレン、スチレン等のオレフィン、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸エステル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジエチル等のマレイン酸ジエステル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジエチル等のフマル酸ジエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル等のハロゲン化ビニル、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
上記共重合可能な他の単量体の共重合体における含有量は、通常、５０重量％以下であり、好ましくは１０重量％以下である。
上記塩化ビニル系樹脂組成物は、塩化ビニル樹脂を含有する。
上記塩化ビニル系樹脂としては、例えば、塩化ビニルの単独重合体、塩化ビニルとこれと共重合可能な他の単量体との共重合体等が挙げられる。
上記共重合可能な他の単量体としては、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル、エチレン、プロピレン、スチレン等のオレフィン、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸エステル、マレイン酸ジブチル、マレイン酸ジエチル等のマレイン酸ジエステル、フマル酸ジブチル、フマル酸ジエチル等のフマル酸ジエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル、塩化ビニリデン、臭化ビニル等のハロゲン化ビニル、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等のビニルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
上記共重合可能な他の単量体の共重合体における含有量は、通常、５０重量％以下であり、好ましくは１０重量％以下である。
上記塩化ビニル系樹脂の平均重合度は特に限定されないが、８００〜１５００であることが好ましい。
なお、本発明において、塩化ビニル系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２１「塩化ビニル樹脂試験方法」に準拠して測定した平均重合度を意味する。
なお、本発明において、塩化ビニル系樹脂の平均重合度は、ＪＩＳ Ｋ ６７２１「塩化ビニル樹脂試験方法」に準拠して測定した平均重合度を意味する。
上記塩化ビニル系樹脂組成物は、可塑剤を含有してもよい。
上記可塑剤としては特に限定されず、従来から塩化ビニル系樹脂組成物に使用されているものを用いることができ、具体例としては、例えば、フタル酸オクチル（ジ−２−エチルヘキシルフタレート）、フタル酸ジブチル、フタル酸ジノニル等のフタル酸ジエステル、アジピン酸ジオクチル、セバシン酸ジオクチル等の脂肪族二塩基酸ジエステル、トリクレジルホスフエート、トリオクチルホスフエート等のリン酸トリエステル、エポキシ化大豆油やエポキシ樹脂等エポキシ系可塑剤、高分子ポリエステル可塑剤等が挙げられる。
上記可塑剤としては特に限定されず、従来から塩化ビニル系樹脂組成物に使用されているものを用いることができ、具体例としては、例えば、フタル酸オクチル（ジ−２−エチルヘキシルフタレート）、フタル酸ジブチル、フタル酸ジノニル等のフタル酸ジエステル、アジピン酸ジオクチル、セバシン酸ジオクチル等の脂肪族二塩基酸ジエステル、トリクレジルホスフエート、トリオクチルホスフエート等のリン酸トリエステル、エポキシ化大豆油やエポキシ樹脂等エポキシ系可塑剤、高分子ポリエステル可塑剤等が挙げられる。
上記高分子ポリエステル可塑剤としては、例えば、フタル酸のポリエチレングリコールジエステル、ポリプロピレングリコールジエステル、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールジエステル等のポリアルキレングリコールジエステルや、アジピン酸、セバシン酸等の脂肪族二塩基酸のポリエチレングリコールジエステル、ポリプロピレングリコールジエステル、ポリエチレングリコールポリプロピレングリコールジエステル等のポリアルキレングリコールジエステルが挙げられる。
これらの可塑剤は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの可塑剤は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
上記可塑剤の含有量は、上記塩化ビニル系樹脂１００重量部に対して、５〜１００重量部が好ましく、１０〜６０重量部がより好ましい。
上記可塑剤の含有量が５重量部未満では、フィルムが硬く、加工性が悪くなる場合があり、一方、１００重量部を超えると、柔らかすぎて加工がしにくい場合がある。
上記可塑剤の含有量が５重量部未満では、フィルムが硬く、加工性が悪くなる場合があり、一方、１００重量部を超えると、柔らかすぎて加工がしにくい場合がある。
塩化ビニル系樹脂組成物は、加工助剤を含有していてもよい。
上記加工助剤としては、例えば、アクリル系加工助剤、ポリエステル系加工助剤等が挙げられる。
これらのなかでは、アクリル系加工助剤が好ましい。その理由は、フィルムの表面状態が特に良好になるためである。
上記加工助剤としては、例えば、アクリル系加工助剤、ポリエステル系加工助剤等が挙げられる。
これらのなかでは、アクリル系加工助剤が好ましい。その理由は、フィルムの表面状態が特に良好になるためである。
上記アクリル系加工助剤としては、例えば、アクリル酸−ｎ−ブチル／メタクリル酸メチル共重合体、アクリル酸−２−エチルヘキシル／メタクリル酸メチル共重合体、アクリル酸−２−エチルヘキシル／メタクリル酸メチル／メタクリル酸−ｎ−ブチル共重合体、等が挙げられる。
上記アクリル系加工助剤の含有量は、上記塩化ビニル系樹脂１００重量部に対して、０．２〜５．０重量部が好ましい。
上記アクリル系加工助剤の含有量が、０．２重量部未満では、フローマークの目立ちが大きくなる。一方、５．０重量部を超えると、例えば、上記基材フィルムをカレンダー加工にて製膜する場合に、カレンダー表面がべたついて加工が出来ないことがある。
上記アクリル系加工助剤の含有量が、０．２重量部未満では、フローマークの目立ちが大きくなる。一方、５．０重量部を超えると、例えば、上記基材フィルムをカレンダー加工にて製膜する場合に、カレンダー表面がべたついて加工が出来ないことがある。
第１発明の基材フィルムは、黒色であることが好ましい。マーキングフィルムとして黒色の要望が高く、かつ、本発明の効果を享受するのに適した色だからである。
上記基材フィルムが黒色の場合、上記塩化ビニル系樹脂組成物は、カーボンブラックを含有することが好ましい。
上記カーボンブラックとしては特に限定されず、チャンネルブラック、ファーネスブラック等の従来公知のカーボンブラックを用いることができる。
上記基材フィルムが黒色の場合、上記塩化ビニル系樹脂組成物は、カーボンブラックを含有することが好ましい。
上記カーボンブラックとしては特に限定されず、チャンネルブラック、ファーネスブラック等の従来公知のカーボンブラックを用いることができる。
上記塩化ビニル系樹脂組成物は、必要に応じて、安定剤、帯電防止剤、着色剤、紫外線吸収材、滑剤、改質剤、充填剤、希釈剤等の塩化ビニル樹脂系樹脂組成物に一般的に使用される各種添加剤を更に含有してもよい。
第１発明の基材フィルムの厚さは特に限定されず、マーキングフィルムの使用目的等に応じて適宜選択することができるが、通常、その厚さは、０．０５〜０．１５ｍｍであることが好ましい。０．０５ｍｍ未満では、フィルムの耐久性が低くなり、フィルムが破損しやすくなることがある。一方、０．１５ｍｍを超えると、１８０°折り返して使用する場合に、折り返し部がシワになりやすくなる。
第１発明の基材フィルムは、片面に所定の形状のエンボス加工面を備えたフィルムである。
上記エンボス加工面は、例えば、上記塩化ビニル系樹脂組成物を従来公知の方法で製膜した後、得られた樹脂フィルムを、表面に所定の凹凸が形成されたエンボスロールとバックロールとの間に挿入して上記樹脂フィルムにエンボス加工を施すことにより形成することができる。
上記エンボス加工面は、例えば、上記塩化ビニル系樹脂組成物を従来公知の方法で製膜した後、得られた樹脂フィルムを、表面に所定の凹凸が形成されたエンボスロールとバックロールとの間に挿入して上記樹脂フィルムにエンボス加工を施すことにより形成することができる。
上記エンボスロールとしては、上述した所定の形状のエンボス加工面を形成することができるものであればよく、具体的には、例えば、後述する第２の本発明マーキングフィルム用基材フィルムのエンボス加工面の形成に用いられるエンボスロール等を用いることができる。
上記塩化ビニル系樹脂組成物の製膜は、例えば、塩化ビニル系樹脂組成物の構成成分（塩化ビニル系樹脂、可塑剤、及び、必要に応じて配合される添加剤）を各所定量、連続混練機、バンバリーミキサー、ニーダー、押出機等を用いて溶融混練して塩化ビニル樹脂組成物とした後、この塩化ビニル樹脂組成物をカレンダー成形、押出成形、射出成形等によって製膜する方法により行うことができる。
この場合、カレンダー成形により製膜することが好ましい。樹脂フィルムの厚さを均一にし易く、塩化ビニル樹脂組成物の組成を問わず製膜することができ、更に大きいサイズ等種々のサイズの基材を製膜するのにも適しており、加えて小ロットへの対応も容易だからである。
また、カレンダー成形で塩化ビニル系樹脂組成物を製膜した場合、製膜直後に樹脂フィルムをエンボスロールに導くことが好ましい。カレンダー成形による製膜直後の樹脂フィルムは、まだカレンダーロールの熱で柔らかくなっており、エンボスロールの表面の凹凸を転写するのに適しているからである。
この場合、カレンダー成形により製膜することが好ましい。樹脂フィルムの厚さを均一にし易く、塩化ビニル樹脂組成物の組成を問わず製膜することができ、更に大きいサイズ等種々のサイズの基材を製膜するのにも適しており、加えて小ロットへの対応も容易だからである。
また、カレンダー成形で塩化ビニル系樹脂組成物を製膜した場合、製膜直後に樹脂フィルムをエンボスロールに導くことが好ましい。カレンダー成形による製膜直後の樹脂フィルムは、まだカレンダーロールの熱で柔らかくなっており、エンボスロールの表面の凹凸を転写するのに適しているからである。
上記カレンダー成形に用いられるカレンダー形式としては、例えば、逆Ｌ型、Ｚ型、直立２本型、Ｌ型、傾斜３本型等が挙げられる。
また、カレンダー成形時のロール温度は、塩化ビニル樹脂組成物の組成に応じて適宜選択すれば良く、通常、１４０〜１９０℃であり、好ましくは１６０〜１８０℃である。
なお、第１発明の基材フィルムにおいて、上記エンボス加工面と反対側の面は、平滑面であっても良いし、エンボス加工等が施された面であってもよい。
また、カレンダー成形時のロール温度は、塩化ビニル樹脂組成物の組成に応じて適宜選択すれば良く、通常、１４０〜１９０℃であり、好ましくは１６０〜１８０℃である。
なお、第１発明の基材フィルムにおいて、上記エンボス加工面と反対側の面は、平滑面であっても良いし、エンボス加工等が施された面であってもよい。
次に、第２の本発明のマーキングフィルム用基材フィルム（以下、単に第２発明の基材フィルムともいう）について説明する。
第２発明の基材フィルムは、塩化ビニル系樹脂組成物からなり、片面にエンボスロールを用いたエンボス加工が施されたエンボス加工面を備えたマーキングフィルム用基材フィルムであって、
上記エンボス加工面は、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７であり、
上記エンボスロールの表面は、十点平均粗さＲｚが９．５〜１２．０μｍで、かつ、６０°グロス値が７５〜１１０であることを特徴とする。
第２発明の基材フィルムは、塩化ビニル系樹脂組成物からなり、片面にエンボスロールを用いたエンボス加工が施されたエンボス加工面を備えたマーキングフィルム用基材フィルムであって、
上記エンボス加工面は、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７であり、
上記エンボスロールの表面は、十点平均粗さＲｚが９．５〜１２．０μｍで、かつ、６０°グロス値が７５〜１１０であることを特徴とする。
第２発明の基材フィルムもまた、第１発明の基材フィルムと同様、塩化ビニル系樹脂組成物からなるフィルムであり、その片面にエンボス加工面を備えている。
第２発明の基材フィルムにおいて、上記エンボス加工面の十点平均粗さＲｚ及び６０°グロス値は、第１発明のエンボス加工面と同様である。
よって、第２発明の基材フィルムもまた、十点平均粗さＲｚで２．０μｍを超えるような深度の深い凹凸を有するエンボス加工面が、６０°グロス値で２７〜３７という高い表面光沢度を有していることとなる。
第２発明の基材フィルムにおいて、上記エンボス加工面の十点平均粗さＲｚ及び６０°グロス値は、第１発明のエンボス加工面と同様である。
よって、第２発明の基材フィルムもまた、十点平均粗さＲｚで２．０μｍを超えるような深度の深い凹凸を有するエンボス加工面が、６０°グロス値で２７〜３７という高い表面光沢度を有していることとなる。
第２発明の基材フィルムのエンボス加工面は、所定の表面形状を有するエンボスロールを用いたエンボス加工により形成された面であり、上記エンボスロールの表面は、十点平均粗さＲｚが９．５〜１２．０μｍで、かつ、６０°グロス値が７５〜１１０である。
このようなエンボスロールを用いることにより、深い深度の凹凸と高い表面光沢度とを両立するともに、マーキングフィルム用基材フィルムにフィッシュアイが生じたり、貫通孔が形成されたりしてもその貫通孔が目立ちにくいとの優れた効果を奏する基材フィルムとすることができる。
このようなエンボスロールを用いることにより、深い深度の凹凸と高い表面光沢度とを両立するともに、マーキングフィルム用基材フィルムにフィッシュアイが生じたり、貫通孔が形成されたりしてもその貫通孔が目立ちにくいとの優れた効果を奏する基材フィルムとすることができる。
一方、上記エンボスロールの表面の十点平均粗さＲｚが９．５μｍ未満では、転写したフィルム（第２発明の基材フィルム）の表面の凹凸が浅くなり、グロスが高くなりすぎる、及び／又は、フィッシュアイや貫通孔が目立ってしまう。
一方、上記十点平均粗さＲｚが１２．０μｍを超えると、転写フィルム（第２発明の基材フィルム）の凹凸が深くなりすぎ、フィルム表面のグロス値が下がってしまう。
上記エンボスロールの表面の好ましい十点平均粗さＲｚは、９．５〜１２．０μｍである。
上記エンボスロールの表面の十点平均粗さＲｚは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（１９９４）に準拠して測定された値である。
一方、上記十点平均粗さＲｚが１２．０μｍを超えると、転写フィルム（第２発明の基材フィルム）の凹凸が深くなりすぎ、フィルム表面のグロス値が下がってしまう。
上記エンボスロールの表面の好ましい十点平均粗さＲｚは、９．５〜１２．０μｍである。
上記エンボスロールの表面の十点平均粗さＲｚは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１（１９９４）に準拠して測定された値である。
また、上記エンボスロールの表面の６０°グロス値が７５未満では、転写したフィルム（第２発明の基材フィルム）のグロスが低くなりすぎる。
一方、６０°グロス値が１１０を超えると、転写したフィルム（第２発明の基材フィルム）のグロスが高くなりすぎる。また、エンボスロールの十点平均粗さＲｚが９．５μｍ未満となるおそれもある。
上記エンボスロールの表面の好ましい６０°グロス値は、７５〜１１０μｍである。
上記エンボスロールの表面の６０°グロス値は、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に準拠して測定された値であり、例えば、光沢度計（株式会社村上色彩技術研究所社製、ＧＭＸ-１０２）により測定することができる。
一方、６０°グロス値が１１０を超えると、転写したフィルム（第２発明の基材フィルム）のグロスが高くなりすぎる。また、エンボスロールの十点平均粗さＲｚが９．５μｍ未満となるおそれもある。
上記エンボスロールの表面の好ましい６０°グロス値は、７５〜１１０μｍである。
上記エンボスロールの表面の６０°グロス値は、ＪＩＳ Ｚ ８７４１に準拠して測定された値であり、例えば、光沢度計（株式会社村上色彩技術研究所社製、ＧＭＸ-１０２）により測定することができる。
このような十点平均粗さＲｚ及び６０°グロス値を有するエンボスロールについて詳述する。
図１（ａ）は従来のエンボスロールの表面形状の一例を模式的に示す断面図であり、（ｂ）は第２の本発明で用いるエンボスロールの表面形状の一例を模式的に示す断面図である。
図２（ａ）は表面を研磨する前の従来のエンボスロールの表面の一部の写真であり、（ｂ）は、表面を研磨した後のエンボスロールの表面の一部の写真である。
図１（ａ）は従来のエンボスロールの表面形状の一例を模式的に示す断面図であり、（ｂ）は第２の本発明で用いるエンボスロールの表面形状の一例を模式的に示す断面図である。
図２（ａ）は表面を研磨する前の従来のエンボスロールの表面の一部の写真であり、（ｂ）は、表面を研磨した後のエンボスロールの表面の一部の写真である。
エンボスロールは、例えば、竹中鐵工株式会社製の筒状体の表面に、ガラスビーズを用いたサンドブラスト処理を施した後、その表面にめっき処置を施し、めっき膜（Ｚｎめっき膜）を形成して製造する。
このような方法で製造したエンボスロールは、その表面が、図１（ａ）に模式的に示したエンボスロール１１や図２（ａ）に示した写真のように、平坦部がない凹凸形状を有している。
そして、このような凹凸形状を有するエンボスロールでは、表面の十点平均粗さＲｚを９．５〜１２．０μｍとすると、表面の６０°グロス値を７５〜１１０とすることが困難であるのが通常である。
このような方法で製造したエンボスロールは、その表面が、図１（ａ）に模式的に示したエンボスロール１１や図２（ａ）に示した写真のように、平坦部がない凹凸形状を有している。
そして、このような凹凸形状を有するエンボスロールでは、表面の十点平均粗さＲｚを９．５〜１２．０μｍとすると、表面の６０°グロス値を７５〜１１０とすることが困難であるのが通常である。
そこで、十点平均粗さＲｚが９．５〜１２．０μｍで、表面の６０°グロス値が７５〜１１０であるエンボスロールは、例えば、上述した方法で製造したエンボスロール１１の表面に対し、凸部の頂点をバフ研磨等により削り落とす研削処理を施す。これにより、図１（ｂ）、図２（ｂ）に示すような凸部の頂点の平坦な凹凸形状を有するエンボスロール１２とすることができる。
このとき、例えば、十点平均粗さＲｚが１５．０〜２０．０μｍで、表面の６０°グロス値が１１５以上のエンボスロール１１を出発材料とし、このエンボスロール１１に上記研削処理を施すことにより、十点平均粗さＲｚが９．５〜１２．０μｍで、表面の６０°グロス値が７５〜１１０であるエンボスロール１２とすることができる。
このとき、例えば、十点平均粗さＲｚが１５．０〜２０．０μｍで、表面の６０°グロス値が１１５以上のエンボスロール１１を出発材料とし、このエンボスロール１１に上記研削処理を施すことにより、十点平均粗さＲｚが９．５〜１２．０μｍで、表面の６０°グロス値が７５〜１１０であるエンボスロール１２とすることができる。
第２発明の基材フィルムのエンボス加工面は、このようなエンボスロール１２を用いてエンボス加工が施された面である。
図３は、第２発明の基材フィルムのエンボス加工面と、この基材フィルムのエンボス加工面を形成するためのエンボスロールを模式的に示す断面図である。
図３に示すように、エンボスロール１２を用いてエンボス加工を行った場合、基材フィルム２１の表面には、凸部２１ａ及び凹部２１ｂを有するエンボス加工面が形成される。
このとき、エンボス加工面の凹部２１ｂには平坦な底部が形成され、従来のエンボスロールを用いてエンボス加工面を形成した場合に比べて、凹部の占める割合が増大することとなる。
そして、このような凹凸形状のエンボス加工面を有する、エンボスロール１２を用いてエンボス加工が施された第２発明の基材フィルムは、深い深度の凹凸と高い表面光沢度とが両立されるともに、マーキングフィルム用基材フィルムにフィッシュアイが生じたり、貫通孔が形成されたりしてもその貫通孔が目立ちにくい基材フィルムである。
図３は、第２発明の基材フィルムのエンボス加工面と、この基材フィルムのエンボス加工面を形成するためのエンボスロールを模式的に示す断面図である。
図３に示すように、エンボスロール１２を用いてエンボス加工を行った場合、基材フィルム２１の表面には、凸部２１ａ及び凹部２１ｂを有するエンボス加工面が形成される。
このとき、エンボス加工面の凹部２１ｂには平坦な底部が形成され、従来のエンボスロールを用いてエンボス加工面を形成した場合に比べて、凹部の占める割合が増大することとなる。
そして、このような凹凸形状のエンボス加工面を有する、エンボスロール１２を用いてエンボス加工が施された第２発明の基材フィルムは、深い深度の凹凸と高い表面光沢度とが両立されるともに、マーキングフィルム用基材フィルムにフィッシュアイが生じたり、貫通孔が形成されたりしてもその貫通孔が目立ちにくい基材フィルムである。
第２発明の基材フィルムは、塩化ビニル系樹脂組成物からなるものであり、上記塩化ビニル系樹脂組成物としては、第１発明の塩化ビニル系樹脂組成物と同様のものを用いることができる。
第２発明の基材フィルムの好ましい厚さは、第一発明の基材フィルムと同様である。
第２発明の基材フィルムの好ましい厚さは、第一発明の基材フィルムと同様である。
第２発明の基材フィルムは、所定のエンボスロールを用いてエンボス加工を施すことにより、エンボス加工面を形成する以外は、第１発明の基材フィルムと同様の方法により製造することができる。
次に、第３の本発明のマーキングフィルムについて説明する。
上記マーキングフィルムは、第１又は第２の本発明のマーキングフィルム用基材フィルムと、上記マーキングフィルム用基材フィルムの片面に積層された接着剤層とを備えることを特徴とする。
上記接着剤層としては特に限定されず、マーキングフィルムに使用される従来公知の接着剤を用いて形成されたものであればよく、上記接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリウレタン系接着剤、エポキシ系接着剤等が挙げられる。
上記マーキングフィルムは、上記接着剤層の上記基材フィルムと反対側の面に、更にセパレータが積層されていてもよい。
上記マーキングフィルムは、第１又は第２の本発明のマーキングフィルム用基材フィルムと、上記マーキングフィルム用基材フィルムの片面に積層された接着剤層とを備えることを特徴とする。
上記接着剤層としては特に限定されず、マーキングフィルムに使用される従来公知の接着剤を用いて形成されたものであればよく、上記接着剤としては、例えば、アクリル系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリウレタン系接着剤、エポキシ系接着剤等が挙げられる。
上記マーキングフィルムは、上記接着剤層の上記基材フィルムと反対側の面に、更にセパレータが積層されていてもよい。
上記マーキングフィルムは、製品に意匠を付与するためのマーキングフィルムとして好適に使用することができ、例えば、自動車等の車両の内装品、床材や壁材等の建築部材、
電化製品等、その表面に模様や図柄、文字などの意匠で加飾された種々の加飾成形品に使用することができる。
電化製品等、その表面に模様や図柄、文字などの意匠で加飾された種々の加飾成形品に使用することができる。
以下、本発明について実施例を掲げてさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
（実施例１〜３及び比較例１〜５）
塩化ビニル系樹脂（株式会社カネカ社製、Ｓ−１００１Ｎ：平均重合度１０５０）１００重量部に対し、可塑剤（株式会社ＡＤＥＫＡ社製、ＰＮ７５３５）２０００重量部、アクリル系加工助剤（三菱レイヨン株式会社製、Ｐ−５３０）１．０重量部及びカーボンブラック（日弘ビックス株式会社製、ＢＷ１７５２ブラック）５．０重量部を配合し、バンバリーミキサーで溶融混錬し、塩化ビニル系樹脂組成物を調製した。その後、逆Ｌ型カレンダー装置の各ロール（ロール温度、１７０〜１９０℃）を通して厚さ０．１０μｍの樹脂フィルムを製膜し、続いて、得られた樹脂フィルムを所定のエンボスロールとバックロールとの間に挿入し、樹脂フィルムの片面にエンボス加工面を形成し、マーキングフィルム用基材フィルムを完成した。
塩化ビニル系樹脂（株式会社カネカ社製、Ｓ−１００１Ｎ：平均重合度１０５０）１００重量部に対し、可塑剤（株式会社ＡＤＥＫＡ社製、ＰＮ７５３５）２０００重量部、アクリル系加工助剤（三菱レイヨン株式会社製、Ｐ−５３０）１．０重量部及びカーボンブラック（日弘ビックス株式会社製、ＢＷ１７５２ブラック）５．０重量部を配合し、バンバリーミキサーで溶融混錬し、塩化ビニル系樹脂組成物を調製した。その後、逆Ｌ型カレンダー装置の各ロール（ロール温度、１７０〜１９０℃）を通して厚さ０．１０μｍの樹脂フィルムを製膜し、続いて、得られた樹脂フィルムを所定のエンボスロールとバックロールとの間に挿入し、樹脂フィルムの片面にエンボス加工面を形成し、マーキングフィルム用基材フィルムを完成した。
各実施例及び比較例で使用したエンボスロールは以下の通りである。
実施例１：株式会社樽井鉄工製作所製の筒状体の表面に、ガラスビーズ（１００μｍ及び１５０μｍ）を用いたサンドブラスト処理を施した後、その表面にめっき処置を施し、厚さ１０〜２０μｍのＺｎめっき膜を形成し、未研磨のエンボスロールを作製した（十点平均粗さＲｚが１５．０〜２０．０μｍ、６０°グロス値が１１５以上）。
次に、上記未研磨のエンボスロールにバフ研磨により凸部の頂点を削り落とすように研削処理を施し、十点平均粗さＲｚが１０．４μｍ、６０°グロス値が１０３のエンボスロールを作製した。
実施例１：株式会社樽井鉄工製作所製の筒状体の表面に、ガラスビーズ（１００μｍ及び１５０μｍ）を用いたサンドブラスト処理を施した後、その表面にめっき処置を施し、厚さ１０〜２０μｍのＺｎめっき膜を形成し、未研磨のエンボスロールを作製した（十点平均粗さＲｚが１５．０〜２０．０μｍ、６０°グロス値が１１５以上）。
次に、上記未研磨のエンボスロールにバフ研磨により凸部の頂点を削り落とすように研削処理を施し、十点平均粗さＲｚが１０．４μｍ、６０°グロス値が１０３のエンボスロールを作製した。
実施例２：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが１１．８μｍ、６０°グロス値が８２のエンボスロールを作製した。
実施例３：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが９．７μｍ、６０°グロス値が１０８のエンボスロールを作製した。
実施例３：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが９．７μｍ、６０°グロス値が１０８のエンボスロールを作製した。
比較例１：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが１３．２μｍ、６０°グロス値が３６のエンボスロールを作製した。
比較例２：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが１１．６μｍ、６０°グロス値が６５のエンボスロールを作製した。
比較例３：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが８．５μｍ、６０°グロス値が８３のエンボスロールを作製した。
比較例４：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが７．８μｍ、６０°グロス値が１０２のエンボスロールを作製した。
比較例５：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが５．３μｍ、６０°グロス値が９０のエンボスロールを作製した。
比較例２：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが１１．６μｍ、６０°グロス値が６５のエンボスロールを作製した。
比較例３：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが８．５μｍ、６０°グロス値が８３のエンボスロールを作製した。
比較例４：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが７．８μｍ、６０°グロス値が１０２のエンボスロールを作製した。
比較例５：研削条件を変更した以外は、実施例１と同様にして、十点平均粗さＲｚが５．３μｍ、６０°グロス値が９０のエンボスロールを作製した。
（エンボス加工面の形状測定）
（１）十点平均粗さＲｚ
株式会社ミツトヨ製ＳＪ−３１０を使用したＪＩＳ Ｂ ０６０１（１９９４）に準拠して測定により、マーキングフィルム用基材フィルムのエンボス加工面の十点平均粗さＲｚを測定した。結果を表１に示した。
（１）十点平均粗さＲｚ
株式会社ミツトヨ製ＳＪ−３１０を使用したＪＩＳ Ｂ ０６０１（１９９４）に準拠して測定により、マーキングフィルム用基材フィルムのエンボス加工面の十点平均粗さＲｚを測定した。結果を表１に示した。
（２）６０°グロス値
光沢度計（株式会社村上色彩技術研究所社製、ＧＭＸ-１０２）を使用し、６０°グロス値を測定した。結果を表１に示した。
光沢度計（株式会社村上色彩技術研究所社製、ＧＭＸ-１０２）を使用し、６０°グロス値を測定した。結果を表１に示した。
（３）エンボス加工面の凹凸形状
（３−１）凹部に区分けされる領域の個数
（３−２）凹部に区分けされる領域の平均面積、
（３−１）〜（３−２）の計測は、キーエンス社製、形状測定レーザーマイクロスコープＶＫ−Ｘ２００を用いてエンボス加工面を観測し、得られた観測結果を解析ソフト（キーエンス社製、ＶＫ Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｖｅｒ．３．３））で解析することにより行った。結果を表１に示した。
このとき、（３−１）〜（３−３）の各計測において、１回の計測領域は、５００μｍ×５００μｍの領域とした。また、各評価サンプル（マーキングフィルム用基材フィルム）につき、計測箇所は、３箇所とした。
（３−１）凹部に区分けされる領域の個数
（３−２）凹部に区分けされる領域の平均面積、
（３−１）〜（３−２）の計測は、キーエンス社製、形状測定レーザーマイクロスコープＶＫ−Ｘ２００を用いてエンボス加工面を観測し、得られた観測結果を解析ソフト（キーエンス社製、ＶＫ Ａｎａｌｙｚｅｒ（Ｖｅｒ．３．３））で解析することにより行った。結果を表１に示した。
このとき、（３−１）〜（３−３）の各計測において、１回の計測領域は、５００μｍ×５００μｍの領域とした。また、各評価サンプル（マーキングフィルム用基材フィルム）につき、計測箇所は、３箇所とした。
また、図４には、実施例１のマーキングフィルム用基材フィルムについて、上記（３−１）〜（３−３）の評価に使用した観察画像の１つを示した。
さらに、図５には、比較例１のマーキングフィルム用基材フィルムについて、上記（３−１）〜（３−３）の評価に使用した観察画像の１つを示した。
さらに、図５には、比較例１のマーキングフィルム用基材フィルムについて、上記（３−１）〜（３−３）の評価に使用した観察画像の１つを示した。
（４）貫通孔の視認性
実施例及び比較例のそれぞれのマーキングフィルム用基材フィルムに、レーザ加工機を用いて、直径０．０５μｍの貫通孔を形成した。その後、各マーキングフィルム用基材フィルムに形成された貫通孔の視認性を下記の基準で評価した。結果を表１に示した。
○：日照下及び垂直に当てた投光下で痕跡が全く視認できない
×：日照下及び垂直に当てた投光下で痕跡が視認できる
実施例及び比較例のそれぞれのマーキングフィルム用基材フィルムに、レーザ加工機を用いて、直径０．０５μｍの貫通孔を形成した。その後、各マーキングフィルム用基材フィルムに形成された貫通孔の視認性を下記の基準で評価した。結果を表１に示した。
○：日照下及び垂直に当てた投光下で痕跡が全く視認できない
×：日照下及び垂直に当てた投光下で痕跡が視認できる
また、図６（ａ）には、貫通孔を形成した比較例５のマーキングフィルム用基材フィルムの写真を、図６（ｂ）には、貫通孔を形成した実施例１のマーキングフィルム用基材フィルム写真を、それぞれ示した。
表１に示した結果の通り、本発明に係るマーキングフィルム用基材フィルムでは、深い深度の凹凸と高い表面光沢度とが両立されるともに、貫通孔が形成されてもその貫通孔が目立ちにくいことが明らかとなった。
１１、１２ エンボスロール
２１ マーキングフィルム用基材フィルム
２１ａ 凸部
２１ｂ 凹部
２１ マーキングフィルム用基材フィルム
２１ａ 凸部
２１ｂ 凹部
Claims (6)
- 塩化ビニル系樹脂組成物からなり、片面にエンボス加工が施されたエンボス加工面を備えたマーキングフィルム用基材フィルムであって、
前記エンボス加工面は、十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７であり、
前記エンボス加工面を、凹凸の最大高低差の中央値をしきい値として凹部と凸部とに区分けした場合、前記凹部に区分けされる領域の個数が５００μｍ四方あたり、６〜２５個であることを特徴とするマーキングフィルム用基材フィルム。 - 前記エンボス加工面において、前記凹部に区分けされる領域の平均面積が５．０×１０３〜２．５×１０４μｍ２である請求項１に記載のマーキングフィルム用基材フィルム。
- 前記塩化ビニル系樹脂組成物は、塩化ビニル系樹脂、可塑剤、アクリル系加工助剤及びカーボンブラックを含有する請求項１又は２に記載のマーキングフィルム用基材フィルム。
- 塩化ビニル系樹脂組成物からなり、片面に十点平均粗さＲｚが２．０〜４．０μｍで、かつ、６０°グロス値が２７〜３７であるエンボス加工面を備えたマーキングフィルム用基材フィルムを製造する方法であって、
表面に凹凸が形成されたエンボスロールとバックロールとの間に、前記塩化ビニル系樹脂組成物からなる樹脂フィルムを挿入し、当該樹脂フィルムにエンボス加工を施す工程を含み、
前記エンボスロールの表面は、十点平均粗さＲｚが９．５〜１２．０μｍで、かつ、６０°グロス値が７５〜１１０である
ことを特徴とするマーキングフィルム用基材フィルムの製造方法。 - 請求項１〜３のいずれかに記載のマーキングフィルム用基材フィルムと、前記マーキングフィルム用基材フィルムの片面に積層された接着剤層とを備えることを特徴とするマーキングフィルム。
- マーキングフィルム用基材フィルムと、前記マーキングフィルム用基材フィルムの片面に積層された接着剤層とを備えるマーキングフィルムを製造する方法であって、
請求項４に記載の製造方法によってマーキングフィルム用基材フィルムを製造した後、前記マーキングフィルム用基材フィルムの片面に接着剤層を積層するマーキングフィルムの製造方法。
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