JP6424925B2 - めっき銅線、めっき撚線及び絶縁電線並びにめっき銅線の製造方法 - Google Patents
めっき銅線、めっき撚線及び絶縁電線並びにめっき銅線の製造方法 Download PDFInfo
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Description
[2]前記めっき層は、厚さが0.1μm以上1.0μm以下である前記[1]に記載のめっき銅線。
[3]4mass ppm以上55mass ppm以下のチタン、2mass ppm以上12mass ppm以下の硫黄、および2mass ppmを超えて30mass ppm以下の酸素を含み、残部が銅および不可避的不純物からなる銅線と、前記銅線の外周上のめっき層と、を備え、伸びが10%以上であり、0.2%耐力が140MPa以上190MPa以下であるめっき銅線が複数本撚り合わされているめっき撚線。
[4]複数本のめっき銅線が撚り合されているめっき撚線と、前記めっき撚線の外周に被覆された被覆層と、を備え、前記めっき銅線は、4mass ppm以上55mass ppm以下のチタン、2mass ppm以上12mass ppm以下の硫黄、および2mass ppmを超えて30mass ppm以下の酸素を含み、残部が銅および不可避的不純物からなる銅線と、前記銅線の外周上のめっき層と、を備え、伸びが10%以上であり、0.2%耐力が140MPa以上190MPa以下である、絶縁電線。
[5]前記[1]又は前記[2]に記載のめっき銅線の製造方法であって、4mass ppm以上55mass ppm以下のチタン、2mass ppm以上12mass ppm以下の硫黄、および2mass ppmを超えて30mass ppm以下の酸素を含み、残部が銅および不可避的不純物からなる銅系材料を伸線加工して硬質銅線を得る工程と、温度270℃以上350℃以下のめっき浴中に前記硬質銅線を0.1秒以上0.6秒以下浸漬して、その表面に前記めっき層を形成する工程とを有する、めっき銅線の製造方法。
[6]前記[1]又は前記[2]に記載のめっき銅線の製造方法であって、4mass ppm以上55mass ppm以下のチタン、2mass ppm以上12mass ppm以下の硫黄、および2mass ppmを超えて30mass ppm以下の酸素を含み、残部が銅および不可避的不純物からなる銅系材料を95%以上の伸線加工度で伸線加工して硬質銅線を得る工程と、温度270℃以上350℃以下のめっき浴中に前記硬質銅線を0.1秒以上0.6秒以下浸漬して、その表面にめっき層を形成する工程とを有する、めっき銅線の製造方法。
[7]伸線加工した前記硬質銅線は、半軟化温度が150℃以下である前記[5]又は前記[6]に記載のめっき銅線の製造方法。
図1は、本発明の実施の形態に係るめっき銅線の一例を示す横断面図である。
本発明の実施の形態に係るめっき銅線3は、4mass ppm以上55mass ppm以下のチタンと、2mass ppm以上12mass ppm以下の硫黄と、2mass ppmを超えて30mass ppm以下の酸素と、不可避的不純物とを含む銅線1と、銅線1の外周上のめっき層2とを備える。
図2は、本発明の実施の形態に係る絶縁電線の一例を示す横断面図である。
本発明の実施の形態に係るめっき撚線4は、本発明の実施の形態に係る上記めっき銅線3を複数本撚り合わせてなるものであり、絶縁電線10の芯線として用いられる。なお、めっき撚線4では、撚り合わせた後において、めっき銅線3の0.2%耐力が140MPa以上200MPa以下であり、伸びが10%以上である。図2に示す実施形態においては、めっき銅線3を7本撚り合わせているが、本数はこれに限られない。また、めっき撚線4は、複数本のめっき銅線3を撚り合わせた後にダイスなどを用いて円形圧縮させたものであってもよい。
本発明の実施の形態に係る絶縁電線10は、本発明の実施の形態に係る上記めっき撚線4と、めっき撚線4の外周に被覆された絶縁層5とを備える。絶縁電線10では、絶縁層5が被覆された後において、めっき銅線3が140MPa以上200MPa以下の0.2%耐力と10%以上の伸びとを有する。好ましくは、めっき銅線3は、絶縁層5が被覆された後において、160MPa以上200MPa以下の0.2%耐力と19%以上25%以下の伸びとを有する。なお、絶縁電線10では、めっき撚線4と絶縁層5との間に、ナイロンやポリエチレンテレフタレートからなるテープ等で構成される介在物を備えていてもよい。
本発明の実施の形態に係るめっき銅線3の製造方法は、4mass ppm以上55mass ppm以下のチタンと、2mass ppm以上12mass ppm以下の硫黄と、2mass ppmを超えて30mass ppm以下の酸素と、不可避的不純物とを含む銅系材料を伸線加工して硬質銅線を得る工程と、温度270℃以上350℃以下のめっき浴中に前記硬質銅線を0.1秒以上0.6秒以下浸漬して、その表面に前記めっき層を形成する工程とを有する。なお、めっき層を形成する工程では、複数本の硬質銅線を一度に1つのめっき浴中へ浸漬させ、その後、めっき浴から取り出されためっき層を有する複数本の硬質銅線を1つに束ねた状態でボビン等に巻き取られることが好ましい。
図3は、本発明の実施の形態に係る絶縁電線の製造工程フローである。
本発明の実施の形態に係る絶縁電線10の製造方法は、本発明の実施の形態に係る上記製造方法で得られためっき銅線3を複数本撚り合わせてめっき撚線4を製造する。その後、めっき撚線4の外周に絶縁層5を押出被覆して絶縁電線10を製造する。なお、めっき撚り線4の外周に絶縁層5を押出被覆する際に、めっき撚線4の外周にテープ等で構成される介在物を施し、この介在物の外周に絶縁層5を押出被覆して絶縁電線10を製造することでもよい。また、めっき撚線4を製造する際には、複数本のめっき銅線3が束になった状態で巻き取られているボビンを1つ以上準備し、このボビンに巻き取られている複数本のめっき銅線3を撚り合わせることでもよい。
<たわみ量の評価方法>
たわみ量の評価は、TPC(タフピッチ銅)の周囲にめっきを有する素線(表1の従来例A(No.27))を撚り合せした撚線を導体に適用した絶縁電線が所定量だけ撓んだときの荷重を基準(100%)とし、表1の実施例AであるNo.1〜13のそれぞれを撚り合せした撚線を導体に適用した絶縁電線が上記基準よりも大きい荷重であれば荷重増加(可とう性低下)、基準よりも小さい荷重であれば荷重低下(可とう性向上)と評価した。
図4は、たわみ量の試験方法の説明図である。
試験台21に絶縁電線10を載置して支点22で絶縁電線10を支持する。支点22から真っ直ぐに延伸する絶縁電線10に、支点22から距離L(200mm)の位置において、図4に示す正方向(左から右の方向)にたわみ量Dが120mmとなるように荷重センサ23で絶縁電線10を押すことによって撓ませる。たわみ量Dが120mmになったときに絶縁電線10にかかる荷重を測定する。
5:絶縁層、10:絶縁電線
21:試験台、22:支点、23:荷重センサ
Claims (7)
- 4mass ppm以上55mass ppm以下のチタン、2mass ppm以上12mass ppm以下の硫黄、および2mass ppmを超えて30mass ppm以下の酸素を含み、残部が銅および不可避的不純物からなる銅線と、
前記銅線の外周上のめっき層と、を備え、
伸びが10%以上であり、0.2%耐力が140MPa以上190MPa以下であるめっき銅線。 - 前記めっき層は、厚さが0.1μm以上1.0μm以下である請求項1に記載のめっき銅線。
- 4mass ppm以上55mass ppm以下のチタン、2mass ppm以上12mass ppm以下の硫黄、および2mass ppmを超えて30mass ppm以下の酸素を含み、残部が銅および不可避的不純物からなる銅線と、前記銅線の外周上のめっき層と、を備え、伸びが10%以上であり、0.2%耐力が140MPa以上190MPa以下であるめっき銅線が複数本撚り合わされているめっき撚線。
- 複数本のめっき銅線が撚り合されているめっき撚線と、
前記めっき撚線の外周に被覆された被覆層と、
を備え、
前記めっき銅線は、4mass ppm以上55mass ppm以下のチタン、2mass ppm以上12mass ppm以下の硫黄、および2mass ppmを超えて30mass ppm以下の酸素を含み、残部が銅および不可避的不純物からなる銅線と、前記銅線の外周上のめっき層と、を備え、伸びが10%以上であり、0.2%耐力が140MPa以上190MPa以下である、絶縁電線。 - 請求項1又は請求項2に記載のめっき銅線の製造方法であって、
4mass ppm以上55mass ppm以下のチタン、2mass ppm以上12mass ppm以下の硫黄、および2mass ppmを超えて30mass ppm以下の酸素を含み、残部が銅および不可避的不純物からなる銅系材料を伸線加工して硬質銅線を得る工程と、
温度270℃以上350℃以下のめっき浴中に前記硬質銅線を0.1秒以上0.6秒以下浸漬して、その表面に前記めっき層を形成する工程とを有する、めっき銅線の製造方法。 - 請求項1又は請求項2に記載のめっき銅線の製造方法であって、
4mass ppm以上55mass ppm以下のチタン、2mass ppm以上12mass ppm以下の硫黄、および2mass ppmを超えて30mass ppm以下の酸素を含み、残部が銅および不可避的不純物からなる銅系材料を95%以上の伸線加工度で伸線加工して硬質銅線を得る工程と、
温度270℃以上350℃以下のめっき浴中に前記硬質銅線を0.1秒以上0.6秒以下浸漬して、その表面にめっき層を形成する工程とを有する、めっき銅線の製造方法。 - 伸線加工した前記硬質銅線は、半軟化温度が150℃以下である請求項5又は請求項6に記載のめっき銅線の製造方法。
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