JP6406571B2 - Glass - Google Patents

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Description

本発明は、ガラスに関し、具体的には、光散乱機能を有する分相ガラスに関する。   The present invention relates to glass, and more specifically, to a phase separation glass having a light scattering function.

近年、家電製品の普及、大型化、多機能化等の理由から、家庭等の生活空間で消費されるエネルギーが増えている。特に、照明機器のエネルギー消費が多くなっている。このため、高効率の照明が活発に検討されている。   In recent years, energy consumed in living spaces such as homes has increased due to the widespread use, increase in size, and multifunctionality of home appliances. In particular, the energy consumption of lighting equipment is increasing. For this reason, highly efficient illumination is actively studied.

照明用光源は、限られた範囲を照らす「指向性光源」と、広範囲を照らす「拡散光源」とに分けられる。LED照明は、「指向性光源」に相当し、白熱球の代替として採用されつつある。その一方で、「拡散光源」に相当する蛍光灯の代替光源が望まれており、その候補として、有機EL(エレクトロルミネッセンス)照明が有力である。   Illumination light sources are classified into “directional light sources” that illuminate a limited range and “diffuse light sources” that illuminate a wide range. LED lighting corresponds to a “directional light source” and is being adopted as an alternative to an incandescent bulb. On the other hand, an alternative light source for a fluorescent lamp corresponding to a “diffusion light source” is desired, and organic EL (electroluminescence) illumination is a promising candidate.

有機EL素子は、ガラス板と、陽極である透明導電膜と、電流の注入によって発光するエレクトロルミネッセンスを呈する有機化合物からなる一層又は複数層の発光層を含む有機EL層と、陰極とを備えた素子である。有機EL素子に用いられる有機EL層として、低分子色素系材料、共役高分子系材料等が用いられており、発光層を形成する場合、ホール注入層、ホール輸送層、電子輸送層、電子注入層等との積層構造が形成される。このような積層構造を有する有機EL層を、陽極と陰極の間に配置し、陽極と陰極に電界を印加することにより、陽極である透明電極から注入された正孔と、陰極から注入された電子とが、発光層内で再結合し、その再結合エネルギーによって発光中心が励起されて、発光する。   The organic EL element includes a glass plate, a transparent conductive film as an anode, an organic EL layer including an organic compound exhibiting electroluminescence that emits light by current injection, and a cathode, and a cathode. It is an element. As the organic EL layer used in the organic EL element, a low molecular dye material, a conjugated polymer material or the like is used. When forming a light emitting layer, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection A laminated structure with layers and the like is formed. An organic EL layer having such a laminated structure is disposed between the anode and the cathode, and by applying an electric field to the anode and the cathode, holes injected from the transparent electrode that is the anode and those injected from the cathode The electrons recombine in the light emitting layer, and the emission center is excited by the recombination energy to emit light.

有機EL素子は、携帯電話、ディスプレイ用途として検討が進められており、一部では既に実用化されている。また、有機EL素子は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の薄型テレビと同等の発光効率を有している。   Organic EL elements have been studied for use in mobile phones and displays, and some have already been put into practical use. In addition, the organic EL element has a luminous efficiency equivalent to that of a thin television such as a liquid crystal display or a plasma display.

しかし、有機EL素子を照明用光源に適用するためには、輝度が未だ実用レベルに到達しておらず、更なる発光効率の改善が必要である。   However, in order to apply the organic EL element to the light source for illumination, the luminance has not yet reached the practical level, and further improvement of the light emission efficiency is necessary.

ガラス板と空気の屈折率差に起因して、ガラス板内に光が閉じ込められることが輝度低下の原因の一つである。例えば、屈折率n1.5のガラス板を用いた場合、空気の屈折率nは1.0であるため、臨界角はスネルの法則より42°と計算される。よって、この臨界角以上の入射角の光は、全反射を起こし、ガラス板内に閉じ込められて、空気中に取り出されないことになる。 One reason for the decrease in luminance is that light is confined in the glass plate due to the difference in refractive index between the glass plate and air. For example, when a glass plate having a refractive index n d of 1.5 is used, since the refractive index n d of air is 1.0, the critical angle is calculated as 42 ° according to Snell's law. Therefore, light having an incident angle greater than the critical angle causes total reflection, is confined in the glass plate, and is not extracted into the air.

特開2012−25634号公報JP 2012-25634 A

上記問題を解決するために、透明導電膜等とガラス板の間に、光取り出し層を形成することが検討されている。例えば、特許文献1には、ソーダガラス板の表面に、高屈折率のガラスフリットを焼結させた光取り出し層を形成すると共に、光取り出し層内に散乱物質を分散させることにより、光取り出し効率を高めることも記載されている。   In order to solve the above problem, it has been studied to form a light extraction layer between a transparent conductive film or the like and a glass plate. For example, in Patent Document 1, a light extraction layer in which a glass frit having a high refractive index is sintered is formed on the surface of a soda glass plate, and a scattering substance is dispersed in the light extraction layer, thereby reducing the light extraction efficiency. It is also described to increase.

しかし、ガラス板の表面に光取り出し層を形成するためには、ガラス板の表面にガラスペーストを塗布する印刷工程が必要になり、この工程は生産コストの高騰を招く。更に、ガラスフリット中に散乱粒子を分散させる場合、散乱粒子自体の吸収により光取り出し層の透過率が低くなる。更に、特許文献1に記載のガラスフリットは、Nb等のレアメタル酸化物を多量に含むため、原料コストが高価である。 However, in order to form the light extraction layer on the surface of the glass plate, a printing step of applying a glass paste to the surface of the glass plate is required, and this step causes an increase in production cost. Further, when the scattering particles are dispersed in the glass frit, the transmittance of the light extraction layer is lowered due to the absorption of the scattering particles themselves. Furthermore, since the glass frit described in Patent Document 1 contains a large amount of rare metal oxide such as Nb 2 O 5 , the raw material cost is high.

本発明は、上記事情に鑑み成されたものであり、その技術的課題は、焼結体からなる光取り出し層を形成しなくても、有機EL素子の光取り出し効率を高めることができ、しかも生産性に優れるガラス板を創案することである。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and its technical problem is that the light extraction efficiency of the organic EL element can be increased without forming a light extraction layer made of a sintered body, and The idea is to create a glass plate with excellent productivity.

本発明者等は、鋭意検討の結果、特定の分相ガラスを用いることにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、本発明として提案するものである。すなわち、本発明のガラスは、少なくとも第一の相と第二の相を含む分相構造を有すると共に、第一の相中のSiOの含有量が、第二の相中のSiOの含有量よりも多く、且つ有機ELデバイスに用いることを特徴とする。なお、「有機ELデバイス」には、有機EL照明のみならず、有機ELディスプレイ等が含まれる。また、第一の相と第二の相の形成に伴う光散乱は、目視で確認可能である。また、例えば1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後の試料表面を走査型電子顕微鏡で観察することにより、各相を詳細に確認可能である。 As a result of intensive studies, the present inventors have found that the above technical problem can be solved by using a specific phase-separated glass, and propose the present invention. That is, the glass of the present invention has a phase separation structure comprising at least a first phase and a second phase, the content of SiO 2 in the first phase, containing SiO 2 in the second phase It is more than the amount and is used for an organic EL device. The “organic EL device” includes not only organic EL lighting but also an organic EL display. Moreover, the light scattering accompanying formation of a 1st phase and a 2nd phase can be confirmed visually. For example, each phase can be confirmed in detail by observing the surface of the sample after being immersed in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes with a scanning electron microscope.

本発明のガラスは、少なくとも第一の相と第二の相を含む分相構造を有すると共に、第一の相中のSiOの含有量が、第二の相中のSiOの含有量よりも多いことを特徴とする。このようにすれば、有機ELデバイスに適用した場合に、有機EL層からガラス板へ入射した光が、第一の相と第二の相の界面で散乱し、有機EL素子の光取り出し効率を高めることができる。 The glass of the present invention has a phase separation structure including at least a first phase and a second phase, and the content of SiO 2 in the first phase is higher than the content of SiO 2 in the second phase. It is also characterized by many. In this way, when applied to an organic EL device, light incident on the glass plate from the organic EL layer is scattered at the interface between the first phase and the second phase, and the light extraction efficiency of the organic EL element is increased. Can be increased.

第二に、本発明のガラスは、少なくとも第一の相と第二の相を含む分相構造を有すると共に、第二の相中のBの含有量が、第一の相中のBの含有量よりも多く、且つ有機ELデバイスに用いることを特徴とする。このようにすれば、有機ELデバイスに適用した場合に、有機EL層からガラス板へ入射した光が、第一の相と第二の相の界面で散乱し、有機EL素子の光取り出し効率を高めることができる。 Secondly, the glass of the present invention has a phase separation structure including at least a first phase and a second phase, and the content of B 2 O 3 in the second phase is in the first phase. It is more than the content of B 2 O 3 and is characterized by being used for an organic EL device. In this way, when applied to an organic EL device, light incident on the glass plate from the organic EL layer is scattered at the interface between the first phase and the second phase, and the light extraction efficiency of the organic EL element is increased. Can be increased.

第三に、本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO 30〜75%、B 0.1〜50%、Al 0〜35%を含有することが好ましい。このようにすれば、分相ガラスを作製し易くなり、またガラス板の生産性を高めることもできる。 Third, the glass of the present invention preferably contains, as a glass composition, 30% to 75% of SiO 2, 0.1 to 50% of B 2 O 3 , and 0 to 35% of Al 2 O 3 as a glass composition. . If it does in this way, it will become easy to produce phase separation glass and productivity of a glass plate can also be improved.

第四に、本発明のガラスは、ガラス組成中に、実質的にレアメタル酸化物を含まないことが好ましい。ここで、本発明でいう「レアメタル酸化物」は、La、Nd、Gd、CeO等の希土類酸化物、Y、Nb、Taを指す。また、「実質的にレアメタル酸化物を含まない」とは、ガラス組成中のレアメタル酸化物の含有量が0.1質量%以下の場合を指す。 Fourthly, it is preferable that the glass of this invention does not contain a rare metal oxide substantially in a glass composition. Here, the “rare metal oxide” referred to in the present invention is a rare earth oxide such as La 2 O 3 , Nd 2 O 3 , Gd 2 O 3 , CeO 2 , Y 2 O 3 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O. 5 points. Further, “substantially no rare metal oxide” means that the content of the rare metal oxide in the glass composition is 0.1% by mass or less.

第五に、本発明のガラスは、屈折率nが1.50超であることが好ましい。輝度を低下させる原因の一つとして、屈折率の不整合の問題が挙げられる。具体的には、透明導電膜の屈折率nは1.9〜2.0であり、有機EL層の屈折率nは1.8〜1.9である。これに対して、ガラス板の屈折率nは、通常、1.5程度である。よって、従来の有機ELデバイスは、ガラス板と透明導電膜等の屈折率差が大きいことに起因して、有機EL層から入射した光がガラス板と透明導電膜等の界面で反射し、光取り出し効率が低下するという問題があった。そこで、上記のようにガラスの屈折率nを規制すれば、ガラス板と透明導電膜等の屈折率差が小さくなり、有機EL層から入射した光がガラス板と透明導電膜等の界面で反射し難くなる。ここで、「屈折率n」は、屈折率測定器で測定したd線の値を指す。例えば、まず25mm×25mm×約3mmの直方体試料を作製し、(徐冷点Ta+30℃)から(歪点Ps−50℃)までの温度域を0.1℃/分の冷却速度で徐冷処理した後、屈折率nが整合する浸液を浸透させながら、島津製作所製の屈折率測定器KPR−2000により測定可能である。 Fifth, the glass of the present invention preferably has a refractive index n d is 1.50 greater. One of the causes of lowering the brightness is a problem of refractive index mismatch. Specifically, the refractive index n d of the transparent conductive film is 1.9 to 2.0, the refractive index n d of the organic EL layer is 1.8 to 1.9. In contrast, the refractive index n d of the glass plate is usually about 1.5. Therefore, in the conventional organic EL device, light incident from the organic EL layer is reflected at the interface between the glass plate and the transparent conductive film due to a large difference in the refractive index between the glass plate and the transparent conductive film. There was a problem that the extraction efficiency was lowered. Therefore, if regulating the refractive index n d of the glass as described above, the refractive index difference between such a glass plate and a transparent conductive film is reduced, the light incident from the organic EL layer at the interface, such as a glass plate and a transparent conductive film It becomes difficult to reflect. Here, “refractive index n d ” refers to the value of the d-line measured by a refractive index measuring device. For example, a rectangular parallelepiped sample of 25 mm × 25 mm × about 3 mm is first prepared, and is slowly cooled at a cooling rate of 0.1 ° C./min in the temperature range from (annealing point Ta + 30 ° C.) to (strain point Ps−50 ° C.). after, while penetration of immersion the refractive index n d are aligned, it can be measured by the refractive index measuring instrument KPR-2000 manufactured by Shimadzu Corporation.

第六に、本発明のガラスは、平板形状、つまりガラス板であることが好ましい。   Sixth, it is preferable that the glass of the present invention has a flat plate shape, that is, a glass plate.

第七に、本発明のガラスは、オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。このようにすれば、ガラス板の表面精度を高めることができる。ここで、「オーバーフローダウンドロー法」は、耐熱性の樋状構造物の両側から、溶融ガラスを溢れさせて、樋状構造物の下端で合流させながら、下方に延伸成形してガラス板を成形する方法である。   Seventh, the glass of the present invention is preferably formed by an overflow down draw method. If it does in this way, the surface accuracy of a glass plate can be raised. Here, the “overflow down draw method” is a method in which molten glass overflows from both sides of a heat-resistant bowl-shaped structure, and is stretched downward to form a glass plate while joining at the lower end of the bowl-like structure. It is a method to do.

第八に、本発明のガラスは、別途の熱処理工程を経ていないことが好ましく、成形工程で分相しているか、或いは成形直後の徐冷(冷却)工程で分相していることが好ましい。このようにすれば、ガラスの製造工程数が減少し、ガラスの生産性を高めることができる。   Eighth, the glass of the present invention is preferably not subjected to a separate heat treatment step, and is preferably phase-separated in the molding step or phase-separated in the slow cooling (cooling) step immediately after molding. If it does in this way, the number of manufacturing processes of glass will decrease and glass productivity can be raised.

第九に、本発明のガラスは、有機EL照明に用いることが好ましい。   Ninth, the glass of the present invention is preferably used for organic EL lighting.

第十に、本発明のガラスは、分相粘度が107.0dPa・s以下であることが好ましい。このようにすれば、成形工程及び/又は徐冷工程でガラスが分相し易くなり、フロート法又はオーバーフローダウンドロー法で分相構造を有するガラス板を成形し易くなる。結果として、ガラス板を成形した後に、別途の熱処理工程が不要になり、ガラス板の製造コストを低減し易くなる。なお、本発明のガラスは、成形工程及び/又は徐冷工程でガラスが分相することが好ましいが、これらの工程以外でも、溶融工程でガラスが分相していてもよい。ここで、「分相粘度」とは、分相温度におけるガラスの粘度を白金引き上げ法で測定した値を指す。「分相温度」とは、ガラスを白金ボートに入れ、1400℃でリメルトした後、白金ボートを温度勾配炉に移し、温度勾配炉中で5分間保持した時に、白濁が明確に認められる温度を指す。 Tenth, the glass of the present invention preferably has a phase separation viscosity of 10 7.0 dPa · s or less. If it does in this way, it will become easy to phase-separate glass at a formation process and / or a slow cooling process, and it will become easy to shape a glass plate which has a phase separation structure by a float process or an overflow down draw method. As a result, after forming the glass plate, a separate heat treatment step becomes unnecessary, and the manufacturing cost of the glass plate can be easily reduced. In addition, although it is preferable that the glass of this invention phase-separates in a shaping | molding process and / or a slow cooling process, glass may be phase-separated by the fusion | melting process besides these processes. Here, the “phase separation viscosity” refers to a value obtained by measuring the viscosity of the glass at the phase separation temperature by the platinum pulling method. “Phase separation temperature” refers to a temperature at which white turbidity is clearly recognized when glass is placed in a platinum boat, remelted at 1400 ° C., then transferred to a temperature gradient furnace, and held in the temperature gradient furnace for 5 minutes. Point to.

第十一に、本発明のガラスは、波長435nm、546nm及び700nmにおけるヘイズ値が1〜100%であることが好ましい。このようにすれば、ガラス中で光が散乱し易くなるため、光を外部に取り出し易くなり、結果として、光取り出し効率を高め易くなる。ここで、「ヘイズ値」は、(拡散透過率)×100/(全光線透過率)で算出される値である。「拡散透過率」は、分光光度計(例えば、島津製作所製UV−2500PC)により厚み方向で測定した値であり、例えば、両表面が鏡面研磨されたガラスを測定試料とすることができる。「全光線透過率」は、分光光度計(例えば、島津製作所製UV−2500PC)により厚み方向で測定した値であり、例えば、両表面が鏡面研磨されたガラスを測定試料とすることができる。   Eleventh, the glass of the present invention preferably has a haze value of 1 to 100% at wavelengths of 435 nm, 546 nm and 700 nm. If it does in this way, since it will become easy to scatter light in glass, it will become easy to take out light outside, and it will become easy to raise light extraction efficiency as a result. Here, the “haze value” is a value calculated by (diffuse transmittance) × 100 / (total light transmittance). “Diffusion transmittance” is a value measured in the thickness direction with a spectrophotometer (for example, UV-2500PC manufactured by Shimadzu Corporation). For example, glass whose both surfaces are mirror-polished can be used as a measurement sample. The “total light transmittance” is a value measured in the thickness direction with a spectrophotometer (for example, UV-2500PC manufactured by Shimadzu Corporation). For example, glass whose both surfaces are mirror-polished can be used as a measurement sample.

第十二に、本発明のガラスは、有機EL素子に組み込んだ時に、電流効率が、屈折率nが同程度の分相していないガラスよりも高くなることが好ましい。ここで、「電流効率」は、ガラスを用いて有機EL素子を作製した後、ガラスの厚み方向に対して垂直な方向に輝度計を設置し、ガラスの正面輝度を測定することで算出することができる。「屈折率nが同程度」とは、屈折率nが±0.2の範囲内であることを指す。 Twelfth, the glass of the present invention, when incorporated into the organic EL element, current efficiency, the refractive index n d is preferably made higher than the glass that is not phase separation of the same extent. Here, “current efficiency” is calculated by preparing a luminance meter in a direction perpendicular to the thickness direction of the glass after measuring the organic EL element using glass and measuring the front luminance of the glass. Can do. “The refractive index nd is about the same” means that the refractive index nd is within a range of ± 0.2.

第十三に、本発明の有機ELデバイスは、上記のガラスを備えてなることを特徴とする。   Thirteenth, the organic EL device of the present invention is characterized by comprising the above glass.

第十四に、本発明の複合基板は、ガラス板と基板を接合した複合基板であって、ガラス板が、上記のガラスからなることを特徴とする。このようにすれば、ガラス板が光散乱層として機能するため、基板と複合化するだけで、有機EL素子の光取り出し効率を高めることができる。更に、ガラス板と基板を接合し、ガラス板を空気と接する側に配置すると、複合基板の耐傷性を高めることができる。   14thly, the composite substrate of this invention is a composite substrate which joined the glass plate and the board | substrate, Comprising: A glass plate consists of said glass, It is characterized by the above-mentioned. In this way, since the glass plate functions as a light scattering layer, the light extraction efficiency of the organic EL element can be increased only by combining with the substrate. Furthermore, if the glass plate and the substrate are joined and the glass plate is disposed on the side in contact with the air, the scratch resistance of the composite substrate can be improved.

第十五に、本発明の複合基板は、基板がガラス基板であることが好ましい。ガラス基板は、樹脂基板や金属基板に比べて、透過性、耐候性、耐熱性に優れている。   Fifteenth, in the composite substrate of the present invention, the substrate is preferably a glass substrate. A glass substrate is superior in permeability, weather resistance, and heat resistance compared to a resin substrate or a metal substrate.

第十六に、本発明の複合基板は、基板の屈折率nが1.50超であることが好ましい。このようにすれば、有機EL層と基板の界面での反射が抑制されるため、基板中の光を空気中に取り出し易くなる。 The sixteenth, the composite substrate of the present invention, it preferably has a refractive index n d of the substrate is 1.50 greater. In this way, since reflection at the interface between the organic EL layer and the substrate is suppressed, light in the substrate can be easily taken out into the air.

第十七に、本発明の複合基板は、ガラス板と基板がオプティカルコンタクトにより接合されていることが好ましい。このようにすれば、接合に際し、粘着テープや硬化剤が不要になるため、複合基板の透過率が向上すると共に、ガラス板と基板を簡便に接合することができる。なお、ガラス板と基板の接合側の表面の表面精度(平坦性)が高い程、オプティカルコンタクトの接合強度が向上する。   Seventeenth, in the composite substrate of the present invention, it is preferable that the glass plate and the substrate are joined by optical contact. In this way, since the adhesive tape and the curing agent are not required for joining, the transmittance of the composite substrate is improved, and the glass plate and the substrate can be joined easily. Note that the higher the surface accuracy (flatness) of the surface on the bonding side of the glass plate and the substrate, the higher the bonding strength of the optical contact.

第十八に、本発明の複合基板は、有機ELデバイスに用いることが好ましい。   Eighteenth, the composite substrate of the present invention is preferably used for an organic EL device.

[実施例2]に係る試料No.2を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 2 is an image obtained by immersing 2 in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes and then observing the obtained surface with a scanning electron microscope. [実施例2]に係る試料No.9を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 9 is an image obtained by immersing 9 in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes and then observing the obtained surface with a scanning electron microscope. [実施例2]に係る試料No.10を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 10 is an image obtained by immersing 10 in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes and then observing the obtained surface with a scanning electron microscope. [実施例2]に係る試料No.11を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 11 is an image obtained by immersing 11 in a 1 M hydrochloric acid solution for 10 minutes and then observing the obtained surface with a scanning electron microscope. [実施例2]に係る試料No.12を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 12 is an image obtained by immersing 12 in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes and then observing the obtained surface with a scanning electron microscope. [実施例2]に係る試料No.13を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 13 is an image obtained by observing the obtained surface with a scanning electron microscope after dipping 13 in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes. [実施例2]に係る試料No.14を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 14 is an image obtained by observing the obtained surface with a scanning electron microscope after 14 was immersed in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes. [実施例2]に係る試料No.15を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 15 is an image obtained by observing the obtained surface with a scanning electron microscope after dipping 15 in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes. [実施例2]に係る試料No.16を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 16 is an image obtained by immersing 16 in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes and then observing the obtained surface with a scanning electron microscope. [実施例2]に係る試料No.17を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 17 is an image obtained by immersing 17 in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes and then observing the obtained surface with a scanning electron microscope. [実施例2]に係る試料No.18を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 18 is an image obtained by immersing 18 in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes and then observing the obtained surface with a scanning electron microscope. [実施例2]に係る試料No.19を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 19 is an image obtained by immersing 19 in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes and then observing the obtained surface with a scanning electron microscope. [実施例2]に係る試料No.20を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、得られた表面を走査型電子顕微鏡で観察した像である。Sample No. 2 according to [Example 2] 20 is an image obtained by immersing 20 in a 1 M hydrochloric acid solution for 10 minutes and then observing the obtained surface with a scanning electron microscope. [実施例4]に係る試料No.12と比較例を対比するための電流効率曲線を示すデータである。According to Sample No. 4 related to [Example 4]. 12 is a data showing a current efficiency curve for comparing 12 with a comparative example.

本発明のガラスは、少なくとも第一の相と第二の相を含む分相構造を有すると共に、第一の相中のSiOの含有量が、第二の相中のSiOの含有量よりも多く、また第二の相中のBの含有量が、第一の相中のBの含有量よりも多い。このようにすれば、第一の相と第二の相の屈折率が相違し易くなり、ガラスの散乱機能を高めることができる。 The glass of the present invention has a phase separation structure including at least a first phase and a second phase, and the content of SiO 2 in the first phase is higher than the content of SiO 2 in the second phase. many, also the content of B 2 O 3 in the second phase is greater than the content of B 2 O 3 in the first phase. If it does in this way, the refractive index of a 1st phase and a 2nd phase will become easy to differ, and the scattering function of glass can be improved.

少なくとも一方の相(第一の相及び/又は第二の相)の分相粒子の平均粒子径は0.1〜5μmが好ましい。分相粒子の平均粒子径が0.1μmより小さいと、有機EL層から放射した光が、第一の相と第二の相の界面で散乱し難くなる。またレイリー散乱によって波長に依存して異なる散乱強度を示し、結果として、白色OLEDを作製する際に発光層の素子構成の最適化が必要になる。一方、分相粒子の平均粒子径が5μmより大きいと、散乱強度が強くなり過ぎて、全光線透過率が低下する虞がある。   The average particle size of the phase-separated particles of at least one phase (first phase and / or second phase) is preferably 0.1 to 5 μm. If the average particle size of the phase-separated particles is smaller than 0.1 μm, the light emitted from the organic EL layer is difficult to scatter at the interface between the first phase and the second phase. Further, due to Rayleigh scattering, different scattering intensities are shown depending on the wavelength. As a result, it is necessary to optimize the element configuration of the light emitting layer when manufacturing a white OLED. On the other hand, if the average particle size of the phase-separated particles is larger than 5 μm, the scattering intensity becomes too strong and the total light transmittance may be lowered.

本発明のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO 30〜75%、B 0.1〜50%、Al 0〜35%を含有することが好ましく、SiO 39超〜75%、B 10〜40%、Al 10〜23%未満を含有することが特に好ましい。このようにすれば、分相性が向上し、光散乱機能を高め易くなる。以下、上記のように各成分を限定した理由を説明する。なお、各成分の含有範囲の説明において、%表示は、質量%を意味する。 The glass of the present invention preferably contains, as a glass composition, 30 to 75% of SiO 2, 0.1 to 50% of B 2 O 3 , and 0 to 35% of Al 2 O 3 , and SiO 2 39 ultra ~75%, B 2 O 3 10~40 %, and particularly preferably contains Al less than 2 O 3 10~23%. If it does in this way, phase separation will improve and it will become easy to raise a light-scattering function. Hereinafter, the reason why each component is limited as described above will be described. In addition, in description of the containing range of each component,% display means the mass%.

SiOの含有量は30〜75%が好ましい。SiOの含有量が多くなると、溶融性、成形性が低下し易くなり、また屈折率が低下し易くなる。よって、SiOの好適な上限範囲は75%以下、70%以下、65%以下、特に60%以下である。一方、SiOの含有量が少なくなると、ガラス網目構造を形成し難くなり、ガラス化が困難になる。またガラスの粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、SiOの好適な下限範囲は30%以上、35%以上、38%以上、39%超、特に40%以上である。 The content of SiO 2 is preferably 30 to 75%. When the content of SiO 2 increases, the meltability and moldability tend to decrease, and the refractive index tends to decrease. Therefore, the preferable upper limit range of SiO 2 is 75% or less, 70% or less, 65% or less, and particularly 60% or less. On the other hand, when the content of SiO 2 decreases, it becomes difficult to form a glass network structure, and vitrification becomes difficult. Further, the viscosity of the glass is excessively lowered, and it becomes difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Therefore, the preferable lower limit range of SiO 2 is 30% or more, 35% or more, 38% or more, more than 39%, particularly 40% or more.

の含有量は0.1〜50%が好ましい。Bは、分相性を高める成分であるが、Bの含有量が多過ぎると、ガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなることに加えて、耐酸性が低下し易くなる。よって、Bの好適な上限範囲は50%以下、40%以下、30%以下、特に25%以下であり、好適な下限範囲は0.1%以上、0.5%以上、1%以上、4%以上、7%以上、10%以上、12%以上、14%以上、16%以上、18%以上、20%以上、特に22%以上である。 The content of B 2 O 3 is preferably 0.1 to 50%. B 2 O 3 is a component that enhances phase separation, but if the content of B 2 O 3 is too large, the component balance of the glass composition is impaired, and devitrification resistance is likely to decrease. The acid resistance tends to decrease. Therefore, the preferable upper limit range of B 2 O 3 is 50% or less, 40% or less, 30% or less, particularly 25% or less, and the preferable lower limit range is 0.1% or more, 0.5% or more, 1%. These are 4% or more, 7% or more, 10% or more, 12% or more, 14% or more, 16% or more, 18% or more, 20% or more, particularly 22% or more.

Alの含有量は0〜35%が好ましい。Alは、耐失透性を高める成分であるが、Alの含有量が多過ぎると、分相性が低下し易くなることに加えて、ガラス組成の成分バランスが損なわれて、逆に耐失透性が低下し易くなる。また耐酸性が低下し易くなる。よって、Alの好適な上限範囲は35%以下、30%以下、25%以下、23%未満、特に20%以下であり、好適な下限範囲は0.1%以上、3%以上、5%以上、8%以上、10%以上、12%以上、14%以上、特に15%以上である。 The content of Al 2 O 3 is preferably 0 to 35%. Al 2 O 3 is a component that enhances devitrification resistance. However, if the content of Al 2 O 3 is too large, the phase separation is liable to decrease, and the component balance of the glass composition is impaired. Conversely, devitrification resistance tends to decrease. Moreover, acid resistance tends to decrease. Therefore, the preferred upper limit range of Al 2 O 3 is 35% or less, 30% or less, 25% or less, less than 23%, particularly 20% or less, and the preferred lower limit range is 0.1% or more, 3% or more, 5% or more, 8% or more, 10% or more, 12% or more, 14% or more, particularly 15% or more.

耐失透性と分相性を両立させる観点から、SiO−Al−Bの含有量は、好ましくは−10〜30%、−5〜25%、特に0〜20%であり、Al+Bの含有量は、好ましくは25〜50%、29〜45%、特に32〜40%であり、質量比SiO/(Al+B)は、好ましくは0.7〜2.6、0.8〜2、特に0.85〜1.6である。なお、「SiO−Al−B」は、SiOの含有量からAlの含有量を減じ、更にBの含有量を減じたものである。「Al+B」は、AlとBの合計含有量である。「SiO/(Al+B)」は、SiOの含有量をAlとBの合計含有量で除した値である。 From the viewpoint of achieving both devitrification resistance and phase separation, the content of SiO 2 —Al 2 O 3 —B 2 O 3 is preferably −10 to 30%, −5 to 25%, particularly 0 to 20%. Yes, the content of Al 2 O 3 + B 2 O 3 is preferably 25 to 50%, 29 to 45%, particularly 32 to 40%, and the mass ratio SiO 2 / (Al 2 O 3 + B 2 O 3 ) Is preferably 0.7 to 2.6, 0.8 to 2, in particular 0.85 to 1.6. “SiO 2 —Al 2 O 3 —B 2 O 3 ” is obtained by reducing the content of Al 2 O 3 from the content of SiO 2 and further reducing the content of B 2 O 3 . “Al 2 O 3 + B 2 O 3 ” is the total content of Al 2 O 3 and B 2 O 3 . “SiO 2 / (Al 2 O 3 + B 2 O 3 )” is a value obtained by dividing the content of SiO 2 by the total content of Al 2 O 3 and B 2 O 3 .

上記成分以外にも、例えば、以下の成分を導入することができる。   In addition to the above components, for example, the following components can be introduced.

LiOの含有量は0〜30%が好ましい。LiOは、分相性を高める成分であるが、LiOの含有量が多過ぎると、液相粘度が低下し易くなり、また歪点が低下し易くなる。更に、酸によるエッチング工程において、アルカリ成分が溶出し易くなる。よって、LiOの好適な上限範囲は30%以下、20%以下、10%以下、5%以下、1%以下、特に0.5%以下である。 The content of Li 2 O is preferably 0 to 30%. Li 2 O is a component that enhances phase separation. However, if the content of Li 2 O is too large, the liquid phase viscosity tends to decrease and the strain point tends to decrease. Furthermore, the alkali component is easily eluted in the acid etching step. Therefore, the preferable upper limit range of Li 2 O is 30% or less, 20% or less, 10% or less, 5% or less, 1% or less, particularly 0.5% or less.

NaOの含有量は0〜30%が好ましい。NaOは、分相性を高める成分であるが、NaOの含有量が多過ぎると、液相粘度が低下し易くなり、また歪点が低下し易くなる。更に、酸によるエッチング工程において、アルカリ成分が溶出し易くなる。よって、NaOの好適な上限範囲は30%以下、20%以下、10%以下、5%以下、1%以下、特に0.5%以下である。 The content of Na 2 O is preferably 0 to 30%. Na 2 O is a component that enhances the phase separation. However, when the content of Na 2 O is too large, the liquid phase viscosity tends to decrease and the strain point tends to decrease. Furthermore, the alkali component is easily eluted in the acid etching step. Therefore, the preferable upper limit range of Na 2 O is 30% or less, 20% or less, 10% or less, 5% or less, 1% or less, particularly 0.5% or less.

Oの含有量は0〜30%が好ましい。KOは、分相性を高める成分であるが、KOの含有量が多過ぎると、液相粘度が低下し易くなり、また歪点が低下し易くなる。更に、酸によるエッチング工程において、アルカリ成分が溶出し易くなる。よって、KOの好適な上限範囲は30%以下、20%以下、10%以下、5%以下、1%以下、特に0.5%以下である。 The content of K 2 O is preferably 0 to 30%. K 2 O is a component that enhances phase separation. However, if the content of K 2 O is too large, the liquid phase viscosity tends to decrease and the strain point tends to decrease. Furthermore, the alkali component is easily eluted in the acid etching step. Therefore, a preferable upper limit range of K 2 O is 30% or less, 20% or less, 10% or less, 5% or less, 1% or less, particularly 0.5% or less.

MgOの含有量は0〜30%が好ましい。MgOは、屈折率、ヤング率、歪点を高める成分であると共に、高温粘度を低下させる成分であるが、MgOを多量に含有させると、液相温度が上昇して、耐失透性が低下したり、密度が高くなり過ぎる虞がある。よって、MgOの好適な上限範囲は30%以下、20%以下、特に10%以下であり、好適な下限範囲は0.1%以上、1%以上、3%以上、特に5%以上である。   The content of MgO is preferably 0 to 30%. MgO is a component that raises the refractive index, Young's modulus, and strain point and lowers the high-temperature viscosity. However, when MgO is contained in a large amount, the liquidus temperature rises and devitrification resistance decreases. Or the density may become too high. Therefore, a preferable upper limit range of MgO is 30% or less, 20% or less, particularly 10% or less, and a preferable lower limit range is 0.1% or more, 1% or more, 3% or more, particularly 5% or more.

CaOの含有量は0〜30%が好ましい。CaOは、高温粘度を低下させる成分であるが、CaOの含有量が多くなると、密度が高くなり易く、またガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなる。よって、CaOの好適な上限範囲は30%以下、20%以下、10%以下、5%以下、特に3%以下であり、好適な下限範囲は0.1%以上、0.5%以上、特に1%以上である。   The content of CaO is preferably 0 to 30%. CaO is a component that lowers the high-temperature viscosity. However, when the content of CaO increases, the density tends to increase, and the balance of components of the glass composition is impaired, and devitrification resistance tends to decrease. Therefore, a preferable upper limit range of CaO is 30% or less, 20% or less, 10% or less, 5% or less, particularly 3% or less, and a preferable lower limit range is 0.1% or more, 0.5% or more, particularly 1% or more.

SrOの含有量は0〜30%が好ましい。SrOの含有量が多くなると、屈折率、密度が高くなり易く、またガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなる。よって、SrOの好適な上限範囲は30%以下、20%以下、特に10%以下であり、好適な下限範囲は1%以上、3%以上、特に5%以上である。   The content of SrO is preferably 0 to 30%. If the SrO content is increased, the refractive index and the density are likely to be increased, and the balance of components of the glass composition is impaired, so that the devitrification resistance is likely to be lowered. Therefore, the preferable upper limit range of SrO is 30% or less, 20% or less, particularly 10% or less, and the preferable lower limit range is 1% or more, 3% or more, particularly 5% or more.

BaOは、アルカリ土類金属酸化物の中ではガラスの粘性を極端に低下させずに、屈折率を高める成分である。BaOの含有量が多くなると、屈折率、密度が高くなり易く、またガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなる。よって、BaOの好適な上限範囲は40%以下、30%以下、20%以下、10%以下、特に5%以下であり、好適な下限範囲は0.1%以上、特に1%以上である。   BaO is a component that increases the refractive index of alkaline earth metal oxides without extremely reducing the viscosity of the glass. When the content of BaO is increased, the refractive index and the density are likely to be increased, and the component balance of the glass composition is impaired, and the devitrification resistance is likely to be lowered. Therefore, the preferable upper limit range of BaO is 40% or less, 30% or less, 20% or less, 10% or less, particularly 5% or less, and the preferable lower limit range is 0.1% or more, particularly 1% or more.

ZnOは、屈折率、歪点を高める成分であると共に、高温粘度を低下させる成分であるが、ZnOを多量に導入すると、液相温度が上昇して、耐失透性が低下し易くなる。よって、ZnOの好適な上限範囲は20%以下、10%以下、5%以下、特に3%以下であり、好適な下限範囲は0.1%以上、特に1%以上である。   ZnO is a component that raises the refractive index and strain point and is a component that lowers the high-temperature viscosity. However, when ZnO is introduced in a large amount, the liquidus temperature rises and devitrification resistance tends to be lowered. Therefore, a preferable upper limit range of ZnO is 20% or less, 10% or less, 5% or less, particularly 3% or less, and a preferable lower limit range is 0.1% or more, particularly 1% or more.

TiOは、屈折率を高める成分であり、その含有量は0〜20%が好ましい。しかし、TiOの含有量が多くなると、ガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなる。また全光線透過率が低下する虞がある。よって、TiOの好適な上限範囲は20%以下、10%以下、特に5%以下であり、好適な下限範囲は0.001%以上、0.01%以上、0.1%以上、1%以上、2%以上、特に3%以上である。 TiO 2 is a component that increases the refractive index, and its content is preferably 0 to 20%. However, when the content of TiO 2 is increased, the component balance of the glass composition is impaired, and the devitrification resistance is easily lowered. In addition, the total light transmittance may be reduced. Therefore, the preferable upper limit range of TiO 2 is 20% or less, 10% or less, particularly 5% or less, and the preferable lower limit range is 0.001% or more, 0.01% or more, 0.1% or more, 1%. Above, 2% or more, especially 3% or more.

ZrOは、屈折率を高める成分であり、その含有量は0〜20%が好ましい。しかし、ZrOの含有量が多くなると、ガラス組成の成分バランスが損なわれて、耐失透性が低下し易くなる。よって、ZrOの好適な上限範囲は20%以下、10%以下、特に5%以下であり、好適な下限範囲は0.001%以上、0.01%以上、0.1%以上、1%以上、2%以上、特に3%以上である。 ZrO 2 is a component that increases the refractive index, and its content is preferably 0 to 20%. However, when the content of ZrO 2 increases, the component balance of the glass composition is impaired, and the devitrification resistance is likely to decrease. Therefore, the preferable upper limit range of ZrO 2 is 20% or less, 10% or less, particularly 5% or less, and the preferable lower limit range is 0.001% or more, 0.01% or more, 0.1% or more, 1%. Above, 2% or more, especially 3% or more.

Laは、屈折率を高める成分であり、その含有量は0〜10%が好ましい。Laの含有量が多くなると、密度が高くなり易く、また耐失透性や耐酸性が低下し易くなる。更に原料コストが上昇して、ガラス板の製造コストが高騰し易くなる。よって、Laの好適な上限範囲は10%以下、5%以下、3%以下、2.5%以下、1%以下、特に0.1%以下である。 La 2 O 3 is a component that increases the refractive index, and its content is preferably 0 to 10%. When the content of La 2 O 3 increases, the density tends to increase, and the devitrification resistance and acid resistance easily decrease. Furthermore, the raw material cost rises, and the manufacturing cost of the glass plate is likely to rise. Therefore, a suitable upper limit range of La 2 O 3 is 10% or less, 5% or less, 3% or less, 2.5% or less, 1% or less, particularly 0.1% or less.

Nbは、屈折率を高める成分であり、その含有量は0〜10%が好ましい。Nbの含有量が多くなると、密度が高くなり易く、また耐失透性が低下し易くなる。更に原料コストが上昇して、ガラス板の製造コストが高騰し易くなる。よって、Nbの好適な上限範囲は10%以下、5%以下、3%以下、2.5%以下、1%以下、特に0.1%以下である。 Nb 2 O 5 is a component that increases the refractive index, and its content is preferably 0 to 10%. When the content of Nb 2 O 5 increases, the density tends to increase and the devitrification resistance tends to decrease. Furthermore, the raw material cost rises, and the manufacturing cost of the glass plate is likely to rise. Therefore, a preferable upper limit range of Nb 2 O 5 is 10% or less, 5% or less, 3% or less, 2.5% or less, 1% or less, particularly 0.1% or less.

Gdは、屈折率を高める成分であり、その含有量は0〜10%が好ましい。Gdの含有量が多くなると、密度が高くなり過ぎたり、ガラス組成の成分バランスを欠いて、耐失透性が低下したり、高温粘性が低下し過ぎて、高い液相粘度を確保し難くなる。よって、Gdの好適な上限範囲は10%以下、5%以下、3%以下、2.5%以下、1%以下、特に0.1%以下である。 Gd 2 O 3 is a component that increases the refractive index, and its content is preferably 0 to 10%. When the content of Gd 2 O 3 is increased, the density becomes too high, the component balance of the glass composition is lacking, the devitrification resistance is lowered, the high temperature viscosity is lowered too much, and a high liquid phase viscosity is secured. It becomes difficult to do. Therefore, a suitable upper limit range of Gd 2 O 3 is 10% or less, 5% or less, 3% or less, 2.5% or less, 1% or less, particularly 0.1% or less.

La+Nbの含有量は0〜10%が好ましい。La+Nbの含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、また耐失透性が低下し易くなり、更には高い液相粘度を確保し難くなる。更に原料コストが上昇して、ガラス板の製造コストが高騰し易くなる。よって、La+Nbの好適な上限範囲は10%以下、8%以下、5%以下、3%以下、1%以下、0.5%以下、特に0.1%以下である。ここで、「La+Nb」は、LaとNbの合計含有量を指す。 The content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is preferably 0 to 10%. When the content of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is increased, the density and the thermal expansion coefficient are likely to be increased, the devitrification resistance is likely to be lowered, and further, it is difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Furthermore, the raw material cost rises, and the manufacturing cost of the glass plate is likely to rise. Therefore, a suitable upper limit range of La 2 O 3 + Nb 2 O 5 is 10% or less, 8% or less, 5% or less, 3% or less, 1% or less, 0.5% or less, particularly 0.1% or less. . Here, “La 2 O 3 + Nb 2 O 5 ” refers to the total content of La 2 O 3 and Nb 2 O 5 .

レアメタル酸化物の含有量は合量で0〜10%が好ましい。レアメタル酸化物の含有量が多くなると、密度、熱膨張係数が高くなり易く、また耐失透性や耐酸性が低下し易くなり、高い液相粘度を確保し難くなる。更に原料コストが上昇して、ガラス板の製造コストが高騰し易くなる。よって、レアメタル酸化物の好適な上限範囲は10%以下、5%以下、3%以下、特に1%以下であり、実質的に含まないことが望ましい。   The total content of rare metal oxides is preferably 0 to 10%. When the content of the rare metal oxide is increased, the density and the thermal expansion coefficient are likely to be increased, and the devitrification resistance and the acid resistance are liable to be lowered, so that it is difficult to ensure a high liquid phase viscosity. Furthermore, the raw material cost rises, and the manufacturing cost of the glass plate is likely to rise. Therefore, the preferable upper limit range of the rare metal oxide is 10% or less, 5% or less, 3% or less, particularly 1% or less, and it is desirable that the rare metal oxide is not substantially contained.

清澄剤として、下記酸化物換算で、As、Sb、SnO、Fe、F、Cl、SO、CeOの群から選択された一種又は二種以上を0〜3%導入することができる。特に、清澄剤として、SnO、Fe及びCeOが好ましい。一方、AsとSbは、環境的観点から、その使用を極力控えることが好ましく、各々の含有量は0.3%未満、特に0.1%未満が好ましい。ここで、「下記酸化物換算」は、表記の酸化物とは価数が異なる酸化物であっても、表記の酸化物に換算した上で取り扱うことを意味する。 As a refining agent, one or two or more selected from the group of As 2 O 3 , Sb 2 O 3 , SnO 2 , Fe 2 O 3 , F, Cl, SO 3 , and CeO 2 are converted into the following oxides. ~ 3% can be introduced. In particular, SnO 2 , Fe 2 O 3 and CeO 2 are preferable as the fining agent. On the other hand, it is preferable to refrain from using As 2 O 3 and Sb 2 O 3 as much as possible from an environmental viewpoint, and the content of each is preferably less than 0.3%, particularly preferably less than 0.1%. Here, “the following oxide conversion” means that an oxide having a valence different from the indicated oxide is handled after being converted to the indicated oxide.

SnOの含有量は、好ましくは0〜1%、0.001〜1%、特に0.01〜0.5%である。 The content of SnO 2 is preferably 0 to 1%, 0.001 to 1%, particularly 0.01 to 0.5%.

Feの好適な下限範囲は0.05%以下、0.04%以下、0.03%以下、特に0.02%以下であり、好適な下限範囲は0.001%以上である。 Suitable lower limit ranges of Fe 2 O 3 are 0.05% or less, 0.04% or less, 0.03% or less, particularly 0.02% or less, and a preferred lower limit range is 0.001% or more.

CeOの含有量は0〜6%が好ましい。CeOの含有量が多くなると、耐失透性が低下し易くなる。よって、CeOの好適な上限範囲は6%以下、5%以下、3%以下、2%以下、1%以下、特に0.1%以下である。一方、CeOの含有量が少なくなると、清澄性が低下し易くなる。よって、CeOを導入する場合、CeOの好適な下限範囲は0.001%以上、特に0.01%以上である。 The content of CeO 2 is preferably 0 to 6%. When the content of CeO 2 is increased, the devitrification resistance is likely to be lowered. Therefore, the preferable upper limit range of CeO 2 is 6% or less, 5% or less, 3% or less, 2% or less, 1% or less, particularly 0.1% or less. On the other hand, when the CeO 2 content is reduced, the clarity is likely to be lowered. Therefore, when CeO 2 is introduced, a preferable lower limit range of CeO 2 is 0.001% or more, particularly 0.01% or more.

PbOは、高温粘性を低下させる成分であるが、環境的観点から、その使用を極力控えることが好ましい。PbOの含有量は0.5%以下が好ましく、実質的に含まないことが望ましい。ここで、「実質的にPbOを含まない」とは、ガラス組成中のPbOの含有量が0.1%未満の場合を指す。   PbO is a component that lowers the high-temperature viscosity, but it is preferable to refrain from using it as much as possible from an environmental point of view. The content of PbO is preferably 0.5% or less, and is desirably substantially free. Here, “substantially does not contain PbO” refers to a case where the content of PbO in the glass composition is less than 0.1%.

上記成分以外にも、他の成分を合量で好ましくは10%(望ましくは5%)まで導入してもよい。   In addition to the above components, other components may be introduced in a total amount of preferably 10% (desirably 5%).

本発明のガラスにおいて、屈折率nは、好ましくは1.50超、1.51以上、1.52以上、1.53以上、1.54以上、1.55以上、1.56以上、特に1.57以上である。屈折率nが1.50以下になると、ガラス板と透明導電膜等の界面の反射によって光を効率良く取り出すことが困難になる。一方、屈折率nが高過ぎると、ガラス板と空気の界面での反射率が高くなり、光を外部に取り出し難くなる。よって、屈折率nは、好ましくは2.30以下、2.20以下、2.10以下、2.00以下、1.90以下、1.80以下、特に1.75以下である。 In the glass of the present invention, the refractive index nd is preferably more than 1.50, 1.51 or more, 1.52 or more, 1.53 or more, 1.54 or more, 1.55 or more, 1.56 or more, particularly 1.57 or more. When the refractive index nd is 1.50 or less, it becomes difficult to efficiently extract light due to reflection at the interface between the glass plate and the transparent conductive film. On the other hand, when the refractive index nd is too high, the reflectance at the interface between the glass plate and the air becomes high, and it becomes difficult to extract light to the outside. Therefore, the refractive index n d is preferably 2.30 or less, 2.20 or less, 2.10 or less, 2.00 or less, 1.90 or less, 1.80 or less, particularly 1.75 or less.

密度は、好ましくは5.0g/cm以下、4.5g/cm以下、3.0g/cm以下、特に2.8g/cm以下である。このようにすれば、デバイスを軽量化することができる。 The density is preferably 5.0 g / cm 3 or less, 4.5 g / cm 3 or less, 3.0 g / cm 3 or less, particularly 2.8 g / cm 3 or less. In this way, the device can be reduced in weight.

歪点は、好ましくは450℃以上、500℃以上、特に550℃以上である。透明導電膜を高温で形成する程、透明性が高く、電気抵抗が低くなり易い。しかし、従来のガラス板は、耐熱性が不十分であるため、透明導電膜を高温で成膜することが困難であった。そこで、歪点を上記範囲とすれば、透明導電膜の透明性と低電気抵抗の両立が可能になり、更にはデバイスの製造工程において、熱処理によりガラス板が熱収縮し難くなる。   The strain point is preferably 450 ° C. or higher, 500 ° C. or higher, particularly 550 ° C. or higher. The higher the temperature of the transparent conductive film, the higher the transparency and the lower the electrical resistance. However, since the conventional glass plate has insufficient heat resistance, it has been difficult to form a transparent conductive film at a high temperature. Therefore, when the strain point is in the above range, it is possible to achieve both transparency of the transparent conductive film and low electric resistance, and further, in the device manufacturing process, the glass plate is hardly thermally contracted by heat treatment.

102.5dPa・sにおける温度は、好ましくは1600℃以下、1560℃以下、1500℃以下、特に1450℃以下である。このようにすれば、溶融性が向上するため、ガラス板の生産性が向上する。 The temperature at 10 2.5 dPa · s is preferably 1600 ° C. or lower, 1560 ° C. or lower, 1500 ° C. or lower, particularly 1450 ° C. or lower. If it does in this way, since a meltability will improve, productivity of a glass plate will improve.

液相温度は、好ましくは1300℃以下、1250℃以下、1200℃以下、特に1150℃以下である。また、液相粘度は、好ましくは102.5dPa・s以上、103.0dPa・s以上、103.5dPa・s以上、103.8dPa・s以上、104.0dPa・s以上、104.4dPa・s以上、特に104.6dPa・s以上である。このようにすれば、成形時にガラスが失透し難くなり、例えば、フロート法又はオーバーフローダウンドロー法でガラス板を成形し易くなる。ここで、「液相温度」は、ガラスを粉砕し、標準篩30メッシュ(篩目開き500μm)を通過し、50メッシュ(篩目開き300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持して、結晶の析出する温度を測定した値を指す。また「液相粘度」は、液相温度における各ガラスの粘度を示す。 The liquidus temperature is preferably 1300 ° C. or lower, 1250 ° C. or lower, 1200 ° C. or lower, particularly 1150 ° C. or lower. The liquid phase viscosity is preferably 10 2.5 dPa · s or more, 10 3.0 dPa · s or more, 10 3.5 dPa · s or more, 10 3.8 dPa · s or more, 10 4.0 dPa or more. S or more, 10 4.4 dPa · s or more, particularly 10 4.6 dPa · s or more. If it does in this way, it will become difficult to devitrify glass at the time of shaping | molding, for example, it will become easy to shape | mold a glass plate by the float method or the overflow downdraw method. Here, “liquid phase temperature” refers to a temperature gradient furnace in which glass is crushed, passed through a standard sieve 30 mesh (a sieve opening of 500 μm), and glass powder remaining in a 50 mesh (a sieve opening of 300 μm) is placed in a platinum boat. It is held for 24 hours and indicates the value at which the temperature at which crystals precipitate is measured. The “liquid phase viscosity” indicates the viscosity of each glass at the liquid phase temperature.

分相温度は、好ましくは800℃以上、特に900℃以上である。また、分相粘度は、好ましくは107.0dPa・s以下、特に103.0〜106.0dPa・sである。このようにすれば、成形工程及び/又は徐冷工程でガラスが分相し易くなり、フロート法又はオーバーフローダウンドロー法で分相構造を有するガラス板を成形し易くなる。結果として、ガラス板を成形した後に、別途の熱処理工程が不要になり、ガラス板の製造コストを低減し易くなる。 The phase separation temperature is preferably 800 ° C. or higher, particularly 900 ° C. or higher. The phase separation viscosity is preferably 10 7.0 dPa · s or less, particularly 10 3.0 to 10 6.0 dPa · s. If it does in this way, it will become easy to phase-separate glass at a formation process and / or a slow cooling process, and it will become easy to shape a glass plate which has a phase separation structure by a float process or an overflow down draw method. As a result, after forming the glass plate, a separate heat treatment step becomes unnecessary, and the manufacturing cost of the glass plate can be easily reduced.

波長435nmにおける全光線透過率は、好ましくは5%以上、10%以上、特に30〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。   The total light transmittance at a wavelength of 435 nm is preferably 5% or more, 10% or more, particularly 30 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved.

波長546nmにおける全光線透過率は、好ましくは5%以上、10%以上、30%以上、特に50〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。   The total light transmittance at a wavelength of 546 nm is preferably 5% or more, 10% or more, 30% or more, particularly 50 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved.

波長700nmにおける全光線透過率は、好ましくは5%以上、10%以上、30%以上、50%以上、特に70〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。   The total light transmittance at a wavelength of 700 nm is preferably 5% or more, 10% or more, 30% or more, 50% or more, particularly 70 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved.

波長435nmにおける拡散透過率は、好ましくは5%以上、特に10〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。   The diffuse transmittance at a wavelength of 435 nm is preferably 5% or more, particularly 10 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved.

波長546nmにおける拡散透過率は、好ましくは5%以上、10%以上、特に20〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。   The diffuse transmittance at a wavelength of 546 nm is preferably 5% or more, 10% or more, particularly 20 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved.

波長700nmにおける拡散透過率は、好ましくは1%以上、5%以上、特に10〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。   The diffuse transmittance at a wavelength of 700 nm is preferably 1% or more, 5% or more, particularly 10 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved.

波長435nmにおけるヘイズ値は、好ましくは5%以上、10%以上、30%以上、50%以上、特に70〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。なお、「ヘイズ値」は、拡散透過率/全光線透過率×100の値である。   The haze value at a wavelength of 435 nm is preferably 5% or more, 10% or more, 30% or more, 50% or more, particularly 70 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved. The “haze value” is a value of diffuse transmittance / total light transmittance × 100.

波長546nmにおけるヘイズ値は、好ましくは5%以上、10%以上、30%以上、50%以上、特に70〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。   The haze value at a wavelength of 546 nm is preferably 5% or more, 10% or more, 30% or more, 50% or more, particularly 70 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved.

波長700nmにおけるヘイズ値は、好ましくは1%以上、5%以上、特に10〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。   The haze value at a wavelength of 700 nm is preferably 1% or more, 5% or more, particularly 10 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved.

波長435nm、546nm及び700nmにおける全光線透過率は、好ましくは1%以上、3%以上、特に10〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。   The total light transmittance at wavelengths of 435 nm, 546 nm and 700 nm is preferably 1% or more, 3% or more, particularly 10 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved.

波長435nm、546nm及び700nmにおける拡散透過率は、好ましくは1%以上、3%以上、特に10〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。   The diffuse transmittance at wavelengths of 435 nm, 546 nm and 700 nm is preferably 1% or more, 3% or more, particularly 10 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved.

波長435nm、546nm及び700nmにおけるヘイズ値は、好ましくは1%以上、3%以上、特に10〜100%である。このようにすれば、有機EL素子を組み立てた際に光取り出し効率を高めることができる。   The haze values at wavelengths of 435 nm, 546 nm and 700 nm are preferably 1% or more, 3% or more, particularly 10 to 100%. If it does in this way, when an organic EL element is assembled, light extraction efficiency can be improved.

本発明のガラスにおいて、厚み(平板形状の場合、板厚)は、好ましくは1.5mm以下、1.3mm以下、1.1mm以下、0.8mm以下、0.6mm以下、0.5mm以下、0.3mm以下、0.2mm以下、特に0.1mm以下である。板厚が小さい程、可撓性が高まり、意匠性に優れた有機EL照明を作製し易くなるが、板厚が極端に小さくなると、ガラスが破損し易くなる。よって、板厚は、好ましくは10μm以上、特に30μm以上である。   In the glass of the present invention, the thickness (in the case of a flat plate) is preferably 1.5 mm or less, 1.3 mm or less, 1.1 mm or less, 0.8 mm or less, 0.6 mm or less, 0.5 mm or less, 0.3 mm or less, 0.2 mm or less, particularly 0.1 mm or less. The smaller the plate thickness, the higher the flexibility and the easier it is to produce an organic EL illumination with excellent design, but the glass tends to break when the plate thickness becomes extremely small. Therefore, the plate thickness is preferably 10 μm or more, particularly 30 μm or more.

本発明のガラスは、平板形状を有することが好ましく、つまりガラス板であることが好ましい。このようにすれば、有機ELデバイスに適用し易くなる。平板形状を有する場合、少なくとも一方の表面に未研磨面を有すること(特に、少なくとも一方の表面の有効面全体が未研磨面であること)が好ましい。ガラスの理論強度は、非常に高いが、理論強度よりも遥かに低い応力でも破壊に至ることが多い。これは、ガラスの表面にグリフィスフローと呼ばれる小さな欠陥が成形後の工程、例えば研磨工程等で生じるからである。よって、ガラス板の表面を未研磨にすれば、本来の機械的強度を損ない難くなるため、ガラス板が破壊し難くなる。また、研磨工程を簡略化又は省略し得るため、ガラス板の製造コストを低廉化することができる。   The glass of the present invention preferably has a flat plate shape, that is, a glass plate. If it does in this way, it will become easy to apply to an organic EL device. When it has a flat plate shape, it is preferable to have an unpolished surface on at least one surface (in particular, the entire effective surface of at least one surface is an unpolished surface). The theoretical strength of glass is very high, but breakage often occurs even at a stress much lower than the theoretical strength. This is because a small defect called Griffith flow is generated on the surface of the glass in a post-molding process such as a polishing process. Therefore, if the surface of the glass plate is unpolished, the original mechanical strength is hardly lost, and thus the glass plate is difficult to break. Further, since the polishing step can be simplified or omitted, the manufacturing cost of the glass plate can be reduced.

平板形状を有する場合、少なくとも一方の表面(特に未研磨面)の表面粗さRaは0.01〜1μmが好ましい。表面粗さRaが1μmより大きいと、その面に透明導電膜等を形成する場合、透明導電膜の品位が低下して、均一な発光を得難くなる。表面粗さRaの好適な上限範囲は1μm以下、0.8μm以下、0.5μm以下、0.3μm以下、0.1μm以下、0.07μm以下、0.05μm以下、0.03μm以下、特に10nm以下である。   When it has a flat plate shape, the surface roughness Ra of at least one surface (particularly the unpolished surface) is preferably 0.01 to 1 μm. When the surface roughness Ra is larger than 1 μm, when a transparent conductive film or the like is formed on the surface, the quality of the transparent conductive film is lowered and it becomes difficult to obtain uniform light emission. Suitable upper limit ranges of the surface roughness Ra are 1 μm or less, 0.8 μm or less, 0.5 μm or less, 0.3 μm or less, 0.1 μm or less, 0.07 μm or less, 0.05 μm or less, 0.03 μm or less, particularly 10 nm. It is as follows.

本発明のガラスは、ダウンドロー法、特にオーバーフローダウンドロー法で成形されてなることが好ましい。このようにすれば、未研磨で表面品位が良好なガラス板を製造することができる。その理由は、オーバーフローダウンドロー法の場合、表面になるべき面は樋状耐火物に接触せず、自由表面の状態で成形されるからである。樋状構造物の構造や材質は、所望の寸法や表面精度を実現できる限り、特に限定されない。また、下方への延伸成形を行うために、溶融ガラスに対して、力を印加する方法も特に限定されない。例えば、充分に大きい幅を有する耐熱性ロールを溶融ガラスに接触させた状態で回転させて延伸する方法を採用してもよいし、複数の対になった耐熱性ロールを溶融ガラスの端面近傍のみに接触させて延伸する方法を採用してもよい。なお、オーバーフローダウンドロー法以外にも、スロットダウンドロー法を採用することができる。このようにすれば、板厚が小さいガラス板を作製し易くなる。ここで、「スロットダウンドロー法」は、略矩形の隙間から溶融ガラスを流し出しながら、下方に延伸成形して、ガラス板を成形する方法である。   The glass of the present invention is preferably formed by a downdraw method, particularly an overflow downdraw method. In this way, it is possible to produce a glass plate that is unpolished and has good surface quality. The reason is that, in the case of the overflow down draw method, the surface to be the surface is not in contact with the bowl-shaped refractory and is molded in a free surface state. The structure and material of the bowl-shaped structure are not particularly limited as long as desired dimensions and surface accuracy can be realized. Further, there is no particular limitation on the method for applying force to the molten glass in order to perform downward stretching. For example, a method of rotating and stretching a heat-resistant roll having a sufficiently large width in contact with the molten glass may be adopted, or a plurality of pairs of heat-resistant rolls may be used only in the vicinity of the end face of the molten glass. You may employ | adopt the method of making it contact and extending | stretching. In addition to the overflow downdraw method, a slot downdraw method can be employed. If it does in this way, it will become easy to produce a glass plate with small board thickness. Here, the “slot down draw method” is a method of forming a glass plate by drawing downward from a substantially rectangular gap while drawing molten glass.

上記成形方法以外にも、例えば、リドロー法、フロート法、ロールアウト法等を採用することができる。特に、フロート法は、大型のガラス板を効率良く作製することができる。   In addition to the above molding method, for example, a redraw method, a float method, a roll-out method, or the like can be employed. In particular, the float process can efficiently produce a large glass plate.

本発明のガラス板は、平板形状を有する場合、少なくとも一方の表面を粗面化面としてもよい。粗面化面を有機EL照明等の空気と接する側に配置すれば、ガラス板の散乱効果に加えて、粗面化面の無反射構造により、有機EL層から放射した光が有機EL層内に戻り難くなり、結果として、光の取り出し効率を高めることができる。粗面化面の表面粗さRaは、好ましくは10Å以上、20Å以上、30Å以上、特に50Å以上である。粗面化面は、HFエッチング、サンドブラスト等で形成することができる。また、リプレス等の熱加工により、ガラス板の表面に凹凸形状を形成してもよい。このようにすれば、ガラス表面に正確な無反射構造を形成することができる。凹凸形状は、屈折率nを考慮しながら、その間隔と深さを調整すればよい。 When the glass plate of the present invention has a flat plate shape, at least one surface may be a roughened surface. If the roughened surface is arranged on the side in contact with air such as organic EL lighting, in addition to the scattering effect of the glass plate, the non-reflective structure of the roughened surface allows light emitted from the organic EL layer to be within the organic EL layer. As a result, the light extraction efficiency can be increased. The surface roughness Ra of the roughened surface is preferably 10 mm or more, 20 mm or more, 30 mm or more, particularly 50 mm or more. The roughened surface can be formed by HF etching, sandblasting, or the like. Moreover, you may form an uneven | corrugated shape in the surface of a glass plate by heat processing, such as a repress. In this way, an accurate non-reflective structure can be formed on the glass surface. Uneven shape, taking into account the refractive index n d, may be adjusted the spacing and depth.

また、大気圧プラズマプロセスにより粗面化面を形成することもできる。このようにすれば、ガラス板の一方の表面の表面状態を維持した上で、他方の表面に対して、均一に粗面化処理を行うことができる。また、大気圧プラズマプロセスのソースとして、Fを含有するガス(例えば、SF、CF)を用いることが好ましい。このようにすれば、HF系ガスを含むプラズマが発生するため、粗面化面を効率良く形成することができる。 Further, the roughened surface can be formed by an atmospheric pressure plasma process. In this way, it is possible to uniformly roughen the other surface while maintaining the surface state of one surface of the glass plate. Moreover, it is preferable to use a gas containing F (for example, SF 6 , CF 4 ) as a source of the atmospheric pressure plasma process. In this way, since plasma containing HF gas is generated, the roughened surface can be formed efficiently.

更に、ガラス板の成形時に、少なくとも一方の表面に粗面化面を形成することもできる。このようにすれば、別途独立した粗面化処理が不要になり、粗面化処理の効率が向上する。   Furthermore, a roughened surface can be formed on at least one surface during molding of the glass plate. This eliminates the need for a separate roughening process and improves the efficiency of the roughening process.

なお、ガラス板に粗面化面を形成せずに、所定の凹凸形状を有する樹脂フィルムをガラス板の表面に貼り付けてもよい。   In addition, you may affix the resin film which has a predetermined uneven | corrugated shape on the surface of a glass plate, without forming a roughening surface in a glass plate.

本発明のガラスは、別途の熱処理工程を経ていないことが好ましく、成形工程で分相しているか、或いは成形直後の徐冷(冷却)工程で分相していることが好ましい。特に、オーバーフローダウンドロー法でガラス板を成形する場合、樋状構造物内で分相現象が生じていてもよく、延伸成形時や徐冷時に分相現象が生じていてもよい。このようにすれば、ガラスの製造工程数が減少し、ガラスの生産性を高めることができる。なお、分相現象は、ガラス組成、成形条件、徐冷条件等により制御することができる。   The glass of the present invention is preferably not subjected to a separate heat treatment step, and is preferably phase-separated in the molding step or phase-separated in the slow cooling (cooling) step immediately after molding. In particular, when a glass plate is formed by the overflow downdraw method, a phase separation phenomenon may occur in the bowl-shaped structure, or a phase separation phenomenon may occur during stretch molding or slow cooling. If it does in this way, the number of manufacturing processes of glass will decrease and glass productivity can be raised. The phase separation phenomenon can be controlled by the glass composition, molding conditions, slow cooling conditions, and the like.

本発明のガラスは、有機EL素子に組み込んだ時に、電流効率が、分相していないガラスよりも高くなることが好ましい。例えば、10mA/cmにおける電流効率が、分相していないガラスと比較して5%以上、10%以上、20%以上、30%以上、特に40%以上高くなることが好ましい。このようにすれば、有機ELデバイスの輝度を高めることができる。 When the glass of the present invention is incorporated in an organic EL device, the current efficiency is preferably higher than that of a glass that is not phase-separated. For example, the current efficiency at 10 mA / cm 2 is preferably 5% or more, 10% or more, 20% or more, 30% or more, particularly 40% or more higher than that of glass that has not undergone phase separation. In this way, the brightness of the organic EL device can be increased.

本発明のガラスは、有機EL素子に組み込んだ時に、電流効率が、屈折率nが同程度の分相していないガラスよりも高くなることが好ましい。例えば、10mA/cmにおける電流効率が、屈折率nが同程度の分相していないガラスと比較して5%以上、10%以上、20%以上、30%以上、特に40%以上高くなることが好ましい。このようにすれば、有機ELデバイスの輝度を高めることができる。特に、既存のガラス組成を大幅に変更しなくても、分相を誘起する成分を導入するだけで有機ELデバイスの輝度を高めることができる。 The glass of the present invention, when incorporated into the organic EL element, current efficiency, the refractive index n d is preferably made higher than the glass that is not phase separation of the same extent. For example, the current efficiency at 10 mA / cm 2 is the refractive index n d of 5% or more as compared to the glass that is not phase separation of comparable, more than 10%, 20% or more, 30% or more, particularly 40% higher It is preferable to become. In this way, the brightness of the organic EL device can be increased. In particular, even if the existing glass composition is not significantly changed, the luminance of the organic EL device can be increased only by introducing a component that induces phase separation.

本発明の複合基板は、ガラス板と基板を接合した複合基板であって、ガラス板が、上記のガラスからなることを特徴とする。このようにすれば、ガラス板が光散乱層として機能するため、基板と複合化するだけで、有機EL素子の光取り出し効率を高めることができる。更に、ガラス板と基板を接合し、ガラス板を空気と接する側に配置すると、複合基板の耐傷性を高めることができる。   The composite substrate of the present invention is a composite substrate obtained by bonding a glass plate and a substrate, and the glass plate is made of the above glass. In this way, since the glass plate functions as a light scattering layer, the light extraction efficiency of the organic EL element can be increased only by combining with the substrate. Furthermore, if the glass plate and the substrate are joined and the glass plate is disposed on the side in contact with the air, the scratch resistance of the composite substrate can be improved.

本発明の複合基板において、ガラス板の板厚は、好ましくは0.7mm以下、0.5mm以下、0.4mm以下、0.3mm以下、0.2mm以下、特に0.01〜0.1mmである。このようにすれば、複合基板の総板厚を低減することができる。   In the composite substrate of the present invention, the thickness of the glass plate is preferably 0.7 mm or less, 0.5 mm or less, 0.4 mm or less, 0.3 mm or less, 0.2 mm or less, particularly 0.01 to 0.1 mm. is there. In this way, the total thickness of the composite substrate can be reduced.

基板として、種々の材料を使用することが可能であり、例えば、樹脂基板、金属基板、ガラス基板を使用することが可能である。その中でも、透過性、耐候性、耐熱性の観点から、ガラス基板が好ましい。ガラス基板として、種々の材料が使用可能であり、例えば、ソーダライムガラス基板、アルミノシリケートガラス基板、無アルカリガラス基板が使用可能である。   Various materials can be used as the substrate. For example, a resin substrate, a metal substrate, or a glass substrate can be used. Among these, a glass substrate is preferable from the viewpoints of permeability, weather resistance, and heat resistance. Various materials can be used as the glass substrate. For example, a soda lime glass substrate, an aluminosilicate glass substrate, and an alkali-free glass substrate can be used.

ガラス基板の厚みは、強度を維持する観点から、好ましくは0.3〜3.0mm、0.4〜2.0mm、特に0.5超〜1.8mmである。   The thickness of the glass substrate is preferably 0.3 to 3.0 mm, 0.4 to 2.0 mm, particularly more than 0.5 to 1.8 mm from the viewpoint of maintaining strength.

ガラス基板の屈折率nは、好ましくは1.50超、1.51以上、1.52以上、1.53以上、特に1.54以上である。ガラス基板の屈折率が低過ぎると、ガラス基板と透明導電膜等の界面の反射によって光を効率良く取り出すことが困難になる。一方、屈折率nが高過ぎると、ガラス基板とガラス板の界面での反射率が高くなり、ガラス基板中の光を空気中に取り出し難くなる。よって、屈折率nは、好ましくは2.30以下、2.20以下、2.10以下、2.00以下、1.90以下、1.80以下、特に1.75以下である。 Refractive index n d of the glass substrate is preferably 1.50 greater, 1.51 or more, 1.52 or more, 1.53 or more, particularly 1.54 or more. If the refractive index of the glass substrate is too low, it becomes difficult to efficiently extract light by reflection at the interface of the glass substrate and the transparent conductive film. On the other hand, if the refractive index nd is too high, the reflectance at the interface between the glass substrate and the glass plate becomes high, and it becomes difficult to extract the light in the glass substrate into the air. Therefore, the refractive index n d is preferably 2.30 or less, 2.20 or less, 2.10 or less, 2.00 or less, 1.90 or less, 1.80 or less, particularly 1.75 or less.

ガラス基板の少なくとも一方の表面(特に未研磨面)の表面粗さRaは0.01〜1μmが好ましい。表面の表面粗さRaが大き過ぎると、オプティカルコンタクトで複合基板を作製し易くなることに加えて、その表面に透明導電膜等を形成する場合、透明導電膜の品位が低下して、均一な発光を得難くなる。よって、少なくとも一方の表面の表面粗さRaの好適な上限範囲は1μm以下、0.8μm以下、0.5μm以下、0.3μm以下、0.1μm以下、0.07μm以下、0.05μm以下、0.03μm以下、特に10nm以下である。   As for surface roughness Ra of at least one surface (especially unpolished surface) of a glass substrate, 0.01-1 micrometer is preferable. If the surface roughness Ra of the surface is too large, it becomes easy to produce a composite substrate by optical contact. In addition, when a transparent conductive film or the like is formed on the surface, the quality of the transparent conductive film is lowered and uniform. It becomes difficult to obtain luminescence. Therefore, the preferable upper limit range of the surface roughness Ra of at least one surface is 1 μm or less, 0.8 μm or less, 0.5 μm or less, 0.3 μm or less, 0.1 μm or less, 0.07 μm or less, 0.05 μm or less, 0.03 μm or less, particularly 10 nm or less.

ガラス板と基板を接合する方法として、種々の方法が利用可能である。例えば、粘着テープ、粘着シート、接着剤、硬化剤等により接合する方法、オプティカルコンタクトで接合する方法が利用可能である。その中でも、複合基板の透過率を高める観点から、オプティカルコンタクトで接合する方法が好ましい。   Various methods can be used as a method of bonding the glass plate and the substrate. For example, a method of joining with an adhesive tape, an adhesive sheet, an adhesive, a curing agent, or the like, or a method of joining with an optical contact can be used. Among these, from the viewpoint of increasing the transmittance of the composite substrate, a method of joining with an optical contact is preferable.

以下、実施例に基づいて、本発明を詳細に説明する。なお、以下の実施例は単なる例示である。本発明は、以下の実施例に何ら限定されない。   Hereinafter, based on an Example, this invention is demonstrated in detail. The following examples are merely illustrative. The present invention is not limited to the following examples.

表1、2は、試料No.1〜20を示している。   Tables 1 and 2 show Sample No. 1 to 20 are shown.

まず、表1、2に記載のガラス組成になるように、ガラス原料を調合した後、得られたガラスバッチをガラス溶融炉に供給して1500℃で8時間溶融した。次に、得られた溶融ガラスをカーボン板の上に流し出し、板状に成形した後、歪点より室温まで10時間かけて徐冷処理を行った。最後に、得られたガラス板について、必要に応じて加工を行い、種々の特性を評価した。   First, after preparing a glass raw material so that it might become a glass composition of Table 1, 2, the obtained glass batch was supplied to the glass melting furnace, and it melted at 1500 degreeC for 8 hours. Next, the obtained molten glass was poured onto a carbon plate, formed into a plate shape, and then slowly cooled from the strain point to room temperature over 10 hours. Finally, the obtained glass plate was processed as necessary to evaluate various properties.

密度ρは、周知のアルキメデス法で測定した値である。   The density ρ is a value measured by a known Archimedes method.

歪点Psは、ASTM C336−71に記載の方法で測定した値である。なお、歪点Psが高い程、耐熱性が高くなる。   The strain point Ps is a value measured by the method described in ASTM C336-71. In addition, heat resistance becomes high, so that the strain point Ps is high.

徐冷点Ta、軟化点Tsは ASTM C338−93に記載の方法で測定した値である。   The annealing point Ta and the softening point Ts are values measured by the method described in ASTM C338-93.

高温粘度104.0dPa・s、103.0dPa・s、102.5dPa・s及び102.0dPa・sにおける温度は、白金球引き上げ法で測定した値である。なお、高温粘度が低い程、溶融性に優れる。 The temperatures at high temperature viscosities of 10 4.0 dPa · s, 10 3.0 dPa · s, 10 2.5 dPa · s, and 10 2.0 dPa · s are values measured by the platinum ball pulling method. In addition, it is excellent in a meltability, so that high temperature viscosity is low.

液相温度TLは、ガラスを粉砕し、標準篩30メッシュ(篩目開き500μm)を通過し、50メッシュ(篩目開き300μm)に残るガラス粉末を白金ボートに入れ、温度勾配炉中に24時間保持して、結晶の析出する温度を測定したものである。   The liquid phase temperature TL is obtained by crushing glass, passing through a standard sieve 30 mesh (a sieve opening of 500 μm), and putting the glass powder remaining in 50 mesh (a sieve opening of 300 μm) in a platinum boat and placing it in a temperature gradient furnace for 24 hours The temperature at which the crystals are deposited is measured.

液相粘度logηTLは、液相温度における各ガラスの粘度を示す。   The liquid phase viscosity log ηTL indicates the viscosity of each glass at the liquid phase temperature.

分相温度TPは、各ガラスを白金ボートに入れ、1400℃でリメルトした後、白金ボートを温度勾配炉に移し、温度勾配炉中で5分間保持した時に、白濁が明確に認められる温度を測定したものである。   The phase separation temperature TP is measured at a temperature at which white turbidity is clearly observed when each glass is put into a platinum boat, remelted at 1400 ° C., then transferred to a temperature gradient furnace and held in the temperature gradient furnace for 5 minutes. It is a thing.

分相粘度logηTPは、分相温度における各ガラスの粘度を白金球引き上げ法で測定したものである。   The phase separation viscosity logηTP is obtained by measuring the viscosity of each glass at the phase separation temperature by the platinum ball pulling method.

屈折率nは、島津製作所製の屈折率測定器KPR−2000により測定したd線の値である。まず25mm×25mm×約3mmの直方体試料を作製し、(徐冷点Ta+30℃)から(歪点Ps−50℃)までの温度域を0.1℃/分の冷却速度で徐冷処理した後、屈折率nが整合する浸液を浸透させて測定した値である。 Refractive index n d is the value of the d-line as determined by the refractive index measuring instrument KPR-2000 manufactured by Shimadzu Corporation. First, a rectangular parallelepiped sample of 25 mm × 25 mm × about 3 mm is prepared, and then subjected to a slow cooling treatment at a cooling rate of 0.1 ° C./min in a temperature range from (slow cooling point Ta + 30 ° C.) to (strain point Ps−50 ° C.). a value refractive index n d was measured by penetration of immersion liquid to be aligned.

成形後の分相性は、各試料について、溶融ガラスを成形した後に上記のように徐冷処理し、得られた試料を目視観察したところ、分相による白濁が認められたものを「○」、分相による白濁が認められず、透明であったものを「×」として評価した。なお、成形後の分相性が「×」の評価であっても、徐冷条件を調整すれば、徐冷工程でガラスを分相させることが可能であると考えられる。   The phase separation after the molding, for each sample, after slowly forming the molten glass, as described above, and visually observing the obtained sample, "○" An evaluation of “x” was given to a sample that was not transparent due to phase separation and was transparent. Even if the phase separation after molding is evaluated as “x”, it is considered that the glass can be phase-separated in the slow cooling step by adjusting the slow cooling conditions.

熱処理後の分相性は、成形後の各試料を熱処理(900℃5分間)、延伸成形して、歪点測定用試料を作製した後、得られた試料を目視観察したところ、分相による白濁が認められたものを「○」、分相による白濁が認められず、透明であったものを「×」として評価した。   The phase separation after the heat treatment was carried out by heat-treating each sample after molding (900 ° C. for 5 minutes), stretching and forming a strain point measurement sample, and then the obtained sample was visually observed. Was evaluated as “◯”, and those that were not transparent due to phase separation and were transparent were evaluated as “x”.

上記熱処理を行っていない試料No.2、9〜20を1Mの塩酸溶液に10分間浸漬させた後、試料表面を走査型電子顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ社製S−4300SE)により観察した。その結果を図1〜13にそれぞれ示す。図1〜13は、試料No.2、9〜20の表面の走査型電子顕微鏡の像をそれぞれ示している。その結果、試料No.2、9、10、12〜20は、分相構造を有しており、Bに富む相(第二の相:SiOに乏しい層)が塩酸溶液により溶出していた。なお、Bに富む相が塩酸溶液により溶出し、SiOに富む相が塩酸溶液に溶出しない。 Sample No. not subjected to the above heat treatment. 2, 9 to 20 were immersed in a 1M hydrochloric acid solution for 10 minutes, and then the sample surface was observed with a scanning electron microscope (S-4300SE, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation). The results are shown in FIGS. 1 to 13 show Sample No. 2 and 9 to 20 show scanning electron microscope images, respectively. As a result, sample no. 2, 9, 10, and 12 to 20 had a phase separation structure, and a phase rich in B 2 O 3 (second phase: a layer poor in SiO 2 ) was eluted with a hydrochloric acid solution. Note that the phase rich in B 2 O 3 is eluted by the hydrochloric acid solution, and the phase rich in SiO 2 is not eluted in the hydrochloric acid solution.

板厚が1.0mm又は0.7mmになるように、上記熱処理を行っていない試料No.2、12、19を加工した後、両表面を鏡面研磨し、表中の波長について、分光光度計(島津製作所製分光光度計UV−2500PC)により、厚み方向の全光線透過率及び拡散透過率を測定した。その結果を表3〜5に示す。   Sample No. which was not subjected to the heat treatment so that the plate thickness was 1.0 mm or 0.7 mm. After processing 2, 12, and 19, both surfaces were mirror-polished and the total light transmittance and diffuse transmittance in the thickness direction were measured with a spectrophotometer (Shimadzu spectrophotometer UV-2500PC) for the wavelengths in the table. Was measured. The results are shown in Tables 3-5.

表2の試料No.12に係るガラス板(板厚0.7mm:成形後に熱処理していないもの)を作製し、該ガラス板表面上に、マスクを用いて透明電極層としてITO(厚み100nm)を蒸着させた。続いて、ガラス板上に、正孔注入層として高分子PEDOT−PSS(厚み40nm)、正孔輸送層としてα−NPD(厚み50nm)、有機発光層としてIr(ppy)を6質量%ドープしたCBP(厚み30nm)、正孔阻止層BAlq(厚み10nm)、電子輸送層Alq(厚み30nm)、電子注入層としてLiF(厚み0.8nm)、対向電極としてAl(厚み150nm)を形成した後、内部を封止して、有機EL素子を作製した。得られた有機EL素子について、発光面に垂直な方向に輝度計(株式会社トプコン社製BM−9)を配置し、正面輝度を測定し、電流効率を評価した。比較例として試料No.12と同程度の屈折率nを有する分相していないガラス板(板厚0.7mm)を組み込んで有機EL素子を作製した場合についても、同様にして正面輝度を測定し、電流効率を評価した。その結果を表6、図3に示す。なお、比較例のガラスは、ガラス組成として、質量%で、SiO 49.8%、Al 23%、B 14%、MgO 6.4%、CaO 1.5%、ZrO 2.7%、TiO 2.6%を含有しており、屈折率nが1.54である。 Sample No. in Table 2 A glass plate according to No. 12 (plate thickness 0.7 mm: not heat-treated after molding) was produced, and ITO (thickness 100 nm) was deposited as a transparent electrode layer on the surface of the glass plate using a mask. Subsequently, a polymer PEDOT-PSS (thickness 40 nm) as a hole injection layer, α-NPD (thickness 50 nm) as a hole transport layer, and Ir (ppy) 3 as an organic light emitting layer are doped by 6% by mass on a glass plate. After forming CBP (thickness 30 nm), hole blocking layer BAlq (thickness 10 nm), electron transport layer Alq (thickness 30 nm), LiF (thickness 0.8 nm) as an electron injection layer, and Al (thickness 150 nm) as a counter electrode The inside was sealed and the organic EL element was produced. About the obtained organic EL element, the luminance meter (BM-9 by Topcon Co., Ltd.) was arrange | positioned in the direction perpendicular | vertical to a light emission surface, front luminance was measured, and current efficiency was evaluated. As a comparative example, Sample No. 12 a glass plate that does not undergo phase separation have comparable refractive index n d for the case of manufacturing the organic EL device incorporates (thickness 0.7 mm) is also measured front luminance in the same manner, the current efficiency evaluated. The results are shown in Table 6 and FIG. The glass of the comparative example, as a glass composition, in mass%, SiO 2 49.8%, Al 2 O 3 23%, B 2 O 3 14%, 6.4% MgO, CaO 1.5%, ZrO 2 2.7%, and contains TiO 2 2.6% refractive index n d is 1.54.

表6、図3から分かるように、試料No.12は、有機EL素子を作製した時に、電流効率が比較例よりも高かった。例えば10mA/cmにおいて電流効率が約46%高かった。 As can be seen from Table 6 and FIG. No. 12 had higher current efficiency than the comparative example when the organic EL element was produced. For example, the current efficiency was about 46% higher at 10 mA / cm 2 .

[実施例4]の比較例の分相していないガラス板(板厚0.7mm)を用いて、有機EL素子基板を作製した。次に、この基板上に、屈折率nが1.54の浸液を介して表2の試料No.12に係るガラス板(板厚0.7mm:成形後に熱処理していないもの)を配置した後、積分球を用いて発光面の発光強度を測定したところ、試料No.12に係るガラス板を配置していない場合と比較して、520nmのピーク波長の強度が1.2倍であった。 An organic EL element substrate was produced using the glass plate (plate thickness 0.7 mm) of the comparative example of [Example 4] that was not phase-separated. Next, on this substrate, a sample of refractive index n d via the immersion liquid 1.54 Table 2 No. 12 was disposed (thickness 0.7 mm: not heat-treated after molding), and the emission intensity of the light emitting surface was measured using an integrating sphere. Compared with the case where the glass plate concerning No. 12 is not arranged, the intensity of the peak wavelength of 520 nm was 1.2 times.

Claims (18)

ガラス組成として、質量%で、SiO 30〜75%、B 14〜40%、Al 0.1〜35%を含有し、
少なくとも第一の相と第二の相を含む分相構造を有し、
且つ第一の相中のSiOの含有量が、第二の相中のSiOの含有量よりも多く、且つ有機ELデバイスに用いることを特徴とするガラス。
As a glass composition, in mass%, contains SiO 2 30~75%, B 2 O 3 14~40%, the Al 2 O 3 0.1 to 35%,
Have a phase separation structure comprising at least a first phase and a second phase,
And the content of SiO 2 in the first phase, more than the content of SiO 2 in the second phase, and glass, which comprises using the organic EL device.
ガラス組成として、質量%で、SiO 30〜75%、B 14〜40%、Al 0.1〜35%を含有し、
少なくとも第一の相と第二の相を含む分相構造を有し、
且つ第二の相中のBの含有量が、第一の相中のBの含有量よりも多く、且つ有機ELデバイスに用いることを特徴とするガラス。
As a glass composition, in mass%, contains SiO 2 30~75%, B 2 O 3 14~40%, the Al 2 O 3 0.1 to 35%,
Have a phase separation structure comprising at least a first phase and a second phase,
And content of the second of B 2 O 3 in the phases, more than the content of B 2 O 3 in the first phase, and glass, which comprises using the organic EL device.
ガラス組成として、質量%で、SiO 30〜75%、B 1630%、Al 〜35%を含有することを特徴とする請求項1又は2に記載のガラス。 The glass according to claim 1, wherein the glass composition contains, by mass%, SiO 2 30 to 75%, B 2 O 3 16 to 30 %, and Al 2 O 3 5 to 35%. ガラス組成中に、実質的にレアメタル酸化物を含まないことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のガラス。   The glass according to any one of claims 1 to 3, wherein the glass composition contains substantially no rare metal oxide. 屈折率nが1.50超であることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のガラス。 Glass according to claim 1, the refractive index n d is equal to or is 1.50 greater. 平板形状であることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載のガラス。   It is flat plate shape, Glass in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. オーバーフローダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする請求項1〜6の何れかに記載のガラス。   The glass according to any one of claims 1 to 6, which is formed by an overflow downdraw method. 別途の熱処理工程を経ていないことを特徴とする請求項1〜7の何れかに記載のガラス。   The glass according to any one of claims 1 to 7, which has not undergone a separate heat treatment step. 有機EL照明に用いることを特徴とする請求項1〜8の何れかに記載のガラス。   It uses for organic electroluminescent illumination, The glass in any one of Claims 1-8 characterized by the above-mentioned. 分相粘度が107.0dPa・s以下であることを特徴とする請求項1〜9の何れかに記載のガラス。 The glass according to any one of claims 1 to 9, wherein the phase separation viscosity is 10 7.0 dPa · s or less. 波長435nm、546nm及び700nmにおけるヘイズ値が1〜100%であることを特徴とする請求項1〜10の何れかに記載のガラス。   The glass according to any one of claims 1 to 10, wherein haze values at wavelengths of 435 nm, 546 nm, and 700 nm are 1 to 100%. 有機EL素子に組み込んだ時に、電流効率が、屈折率nが同程度の分相していないガラスよりも高くなることを特徴とする請求項1〜11の何れかに記載のガラス。 The glass according to any one of claims 1 to 11, wherein when incorporated in an organic EL device, the current efficiency is higher than that of a non-phase-separated glass having the same refractive index n d . 請求項1〜12の何れかに記載のガラスを備えてなることを特徴とする有機ELデバイス。 The organic EL device characterized in that it comprises a glass according to any one of claims 1 to 12. ガラス板と基板を接合した複合基板であって、
ガラス板が、請求項1〜12の何れかに記載のガラスからなることを特徴とする複合基板。
A composite substrate in which a glass plate and a substrate are joined,
A composite substrate, wherein the glass plate is made of the glass according to claim 1.
基板がガラス基板であることを特徴とする請求項14に記載の複合基板。   The composite substrate according to claim 14, wherein the substrate is a glass substrate. 基板の屈折率nが1.50超であることを特徴とする請求項14又は15に記載の複合基板。 Composite substrate according to claim 14 or 15 refractive index n d of the substrate is characterized by a 1.50 greater. ガラス板と基板がオプティカルコンタクトにより接合されていることを特徴とする請求項14〜16の何れかに記載の複合基板。   The composite substrate according to any one of claims 14 to 16, wherein the glass plate and the substrate are joined by optical contact. 有機ELデバイスに用いることを特徴とする請求項14〜17の何れかに記載の複合基板。   The composite substrate according to claim 14, which is used for an organic EL device.
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