JP6397506B2 - エレクトロウェッティング装置の電極 - Google Patents
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-
- H—ELECTRICITY
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- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
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Description
条項
1. エレクトロウェッティング素子を備えるエレクトロウェッティング表示装置であって、
第1の支持板及び第2の支持板と、
前記第1の支持板と前記第2の支持板との間に配置される第1の流体及び第2の流体であって、前記第1の流体が、前記第2の流体と混和できない、前記第1の流体及び前記第2の流体と、
前記第1の支持板に位置される第1の電極、及び、前記第1の電極と前記第2の流体との間に電圧を印加するために、前記第2の流体と電気的に接触する第2の電極と
を含み、
前記第1の電極及び前記第2の電極の少なくとも1つが半導体材料を含む、
前記エレクトロウェッティング表示装置。
2. 条項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記半導体材料が、真性半導体材料、非縮退半導体材料、非金属半導体材料、有機ポリマー、または、少なくとも1つのメタロイド元素を含む材料の1つまたは複数である、前記エレクトロウェッティング表示装置。
3. 条項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記半導体材料が、ガリウム、インジウムガリウム酸化亜鉛、ポリフルオレンポリマー、ポリ(メタクリル酸メチル)、または、グラフェンを含む半導体材料の1つまたは複数である、前記エレクトロウェッティング表示装置。
4. 条項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記半導体材料が、多結晶シリコン、低温多結晶シリコン、または、微結晶シリコンの1つまたは複数を含む、前記エレクトロウェッティング表示装置。
5. 条項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記半導体材料が、約50から100,000オーム/スクエアの範囲内のシート抵抗を有する多結晶シリコンを含む、前記エレクトロウェッティング表示装置。
6. 条項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の電極が、互いに対して実質的に平行の、2つの実質的に平坦な面を有する前記半導体材料の層を含み、前記半導体材料の前記層の厚さが、前記実質的に平坦な面のうちの1つの平面と垂直の方向に規定され、前記厚さが、約25から200ナノメートル、約25から150ナノメートル、約25から100ナノメートル、約25から75ナノメートル、または、約25から50ナノメートルの1つまたは複数の範囲内にある、前記エレクトロウェッティング表示装置。
7. 条項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の支持板が、前記第1の電極に対する電位の印加を制御するトランジスタを含み、前記トランジスタが、ソース端子、前記第1の電極に電気的に接続されるドレイン端子、前記ソース端子を前記ドレイン端子に接続するチャンネル、及び、誘電材料により前記チャンネルから分離されるゲート端子を含み、前記チャンネルを介した前記ソース端子と前記ドレイン端子との間の電流の流れが、前記ゲート端子に対する電位の印加により制御可能であり、前記チャンネルが前記半導体材料を含む、前記エレクトロウェッティング表示装置。
8. 条項7に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記チャンネルが前記半導体材料の層を含み、前記第1の電極が前記半導体材料の層を含み、各前記層が、互いに対して実質的に平行の2つの実質的に平坦な面を有し、各前記層の厚さが実質的に同一であり、各前記層の前記厚さが、前記実質的に平坦な面のうちの1つの平面と垂直の方向に規定される、前記エレクトロウェッティング表示装置。
9. 条項8に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、各前記層の前記厚さが、約25から200ナノメートル、約25から150ナノメートル、約25から100ナノメートル、約25から75ナノメートル、または、約25から50ナノメートルの1つまたは複数の範囲内にある、前記エレクトロウェッティング表示装置。
10. 条項7に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の電極が前記半導体材料を含み、前記チャンネル及び第1の電極の前記半導体材料の堆積構造が実質的に同一である、前記エレクトロウェッティング表示装置。
11. 条項7に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の電極が前記半導体材料を含み、前記電極及び前記チャンネルが、化学気相成長、プラズマ励起化学気相成長、または、物理気相成長の1つまたは複数を使用して形成される、前記エレクトロウェッティング表示装置。
12. 条項7に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の電極が前記半導体材料を含み、前記第1の支持板が、前記誘電材料を含み、且つ、前記チャンネル及び前記第1の電極が位置決めされる面を有する、層を備え、前記誘電材料を含む前記層の少なくとも一部が、前記チャンネルから前記ゲート端子を分離する、前記エレクトロウェッティング表示装置。
13. 条項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の支持板が、前記第1の電極の面上に位置決めされ、且つ、前記第1の流体と隣接する面を有する、流体隣接層を備え、前記流体隣接層が、実質的にゼロ電圧が前記第1の電極と前記第2の電極との間に印加されるとき、前記第2の流体に対してよりも、前記第1の流体に対して湿潤性が大きい材料を含む、前記エレクトロウェッティング表示装置。
14. 条項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第2の支持板が、前記第2の電極が位置決めされる面を有する基板を備え、前記第2の電極が前記半導体材料を含む、前記エレクトロウェッティング表示装置。
15. 条項14に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第2の電極が、前記基板の前記面上に層を含む、前記エレクトロウェッティング表示装置。
16. エレクトロウェッティング素子用の第1の支持板及び第2の支持板の1つの製造方法であって、
面を提供することと、
半導体材料を提供することと、
前記面上に、前記提供された半導体材料から、第1の電極及び第2の電極の1つを形成すること
を含む、前記方法。
17. 条項16に記載の前記第1の支持板の形成方法であって、
前記面上に、前記提供された半導体材料から、前記第1の電極を形成することと、
前記面上に、前記半導体材料からチャンネルを形成することであって、前記チャンネルが、トランジスタのソース端子をドレイン端子に接続するチャンネルとして形成される、前記形成すること
を含む、前記方法。
18. 条項17に記載の方法であって、化学気相成長、プラズマ励起化学気相成長、または、物理気相成長の1つまたは複数を使用して、前記半導体材料から、前記第1の電極及び前記チャンネルを形成することを含む、前記方法。
19. 条項17に記載の方法であって、同一の堆積技法を使用して、前記半導体材料から前記チャンネルを形成する場合、前記半導体材料から前記第1の電極を形成することを含む、前記方法。
20. エレクトロウェッティング素子を備えるエレクトロウェッティング表示装置のための第1の支持板であって、
前記第1の支持板及び第2の支持板と、
前記第1の支持板と前記第2の支持板との間に配置される第1の流体及び第2の流体であって、前記第1の流体が前記第2の流体と混和できない、前記第1の流体及び前記第2の流体と、
前記第1の支持板に位置される第1の電極、及び、前記第1の電極と前記第2の流体との間に電圧を印加するために、前記第2の流体と電気的に接触する第2の電極と
を含み、
前記第1の支持板が、半導体材料を含む前記第1の電極を備える、
前記第1の支持板。
Claims (15)
- エレクトロウェッティング素子を備えるエレクトロウェッティング表示装置であって、
第1の支持板及び第2の支持板と、
前記第1の支持板と前記第2の支持板との間に配置される第1の流体及び第2の流体であって、前記第1の流体が、前記第2の流体と混和できない、前記第1の流体及び前記第2の流体と、
前記第1の支持板に位置される第1の電極、及び、前記第1の電極と前記第2の流体との間に電圧を印加するために、前記第2の流体と電気的に接触する第2の電極と
を含み、
前記第1の電極及び前記第2の電極の少なくとも1つが低温多結晶シリコン含有の半導体材料を含む、
前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記半導体材料が、真性半導体材料である前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記半導体材料が、非金属半導体材料である前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記半導体材料が、多結晶シリコン、または、微結晶シリコンの1つまたは複数を含む、前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記半導体材料が、約50から100,000オーム/スクエアの範囲内のシート抵抗を有する多結晶シリコンを含む、前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の電極が、互いに対して実質的に平行の、2つの実質的に平坦な面を有する前記半導体材料の層を含み、前記半導体材料の前記層の厚さが、前記実質的に平坦な面のうちの1つの平面と垂直の方向に規定され、前記厚さが、約25から200ナノメートル、約25から150ナノメートル、約25から100ナノメートル、約25から75ナノメートル、または、約25から50ナノメートルの1つまたは複数の範囲内にある、前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の支持板が、前記第1の電極に対する電位の印加を制御するトランジスタを含み、前記トランジスタが、ソース端子、前記第1の電極に電気的に接続されるドレイン端子、前記ソース端子を前記ドレイン端子に接続するチャンネル、及び、誘電材料により前記チャンネルから分離されるゲート端子を含み、前記チャンネルを介した前記ソース端子と前記ドレイン端子との間の電流の流れが、前記ゲート端子に対する電位の印加により制御可能であり、前記チャンネルが前記半導体材料を含む、前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項7に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記チャンネルが前記半導体材料の層を含み、前記第1の電極が前記半導体材料の層を含み、各前記層が、互いに対して実質的に平行の2つの実質的に平坦な面を有し、各前記層の厚さが実質的に同一であり、各前記層の前記厚さが、前記実質的に平坦な面のうちの1つの平面と垂直の方向に規定される、前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項8に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、各前記層の前記厚さが、約25から200ナノメートル、約25から150ナノメートル、約25から100ナノメートル、約25から75ナノメートル、または、約25から50ナノメートルの1つまたは複数の範囲内にある、前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項7に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の電極が前記半導体材料を含み、前記チャンネル及び前記第1の電極の前記半導体材料の堆積構造が実質的に同一である、前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項7に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の電極が前記半導体材料を含み、前記第1の電極及び前記チャンネルが、化学気相成長、プラズマ励起化学気相成長、または、物理気相成長の1つまたは複数を使用して形成される、前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項7に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の電極が前記半導体材料を含み、前記第1の支持板が、前記誘電材料を含み、且つ、前記チャンネル及び前記第1の電極が位置決めされる面を有する、層を備え、前記誘電材料を含む前記層の少なくとも一部が、前記チャンネルから前記ゲート端子を分離する、前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第1の支持板が、前記第1の電極の面上に位置決めされ、且つ、前記第1の流体と隣接する面を有する、流体隣接層を備え、前記流体隣接層が、実質的にゼロ電圧が前記第1の電極と前記第2の電極との間に印加されるとき、前記第2の流体に対してよりも、前記第1の流体に対して湿潤性が大きい材料を含む、前記エレクトロウェッティング表示装置。
- 請求項1に記載のエレクトロウェッティング表示装置であって、前記第2の支持板が、前記第2の電極が位置決めされる面を有する基板を備え、前記第2の電極が前記半導体材料を含む、前記エレクトロウェッティング表示装置。
- エレクトロウェッティング素子を備えるエレクトロウェッティング表示装置のための第1の支持板であって、
前記第1の支持板及び第2の支持板と、
前記第1の支持板と前記第2の支持板との間に配置される第1の流体及び第2の流体であって、前記第1の流体が前記第2の流体と混和できない、前記第1の流体及び前記第2の流体と、
前記第1の支持板に位置される第1の電極、及び、前記第1の電極と前記第2の流体との間に電圧を印加するために、前記第2の流体と電気的に接触する第2の電極と
を含み、
前記第1の支持板が、低温多結晶シリコン含有の半導体材料を含む前記第1の電極を備える、
前記第1の支持板。
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