JP6364093B2 - 過酸化水素分解用触媒およびその製造方法ならびに該触媒を用いた過酸化水素を分解する方法 - Google Patents
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Description
特許文献1は、金属板の表面に多孔質アルミナ被膜を形成し、該多孔質アルミナ被膜に、粒子径が5nm以下の貴金属コロイド粒子を担持した過酸化水素分解触媒を開示している。
特許文献2は、液相中の過酸化水素を水と酸素に分解するための過酸化水素分解触媒であって、気孔を有する無機酸化物材料からなる担体と、前記担体に担持されたPt、Pd、Ir、Ru、Rh及びOsからなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を含む活性金属と、を備え、前記担体の表面近傍において前記活性金属が担持されている層の厚さが0.01〜0.25mmである触媒を開示している。
特許文献4は、有機多孔質アニオン交換体に、平均粒子径1〜100nmの白金族金属のナノ粒子が、担持されている白金族金属担持触媒であり、該有機多孔質アニオン交換体は、互いにつながっているマクロポアとマクロポアの壁内に平均直径が乾燥状態で1〜1000μmの共通の開口(メソポア)を有する連続気泡構造を有し、全細孔容積が1〜50ml/gであり、アニオン交換基が均一に分布しており、アニオン交換容量が0.5〜5.0mg当量/g乾燥多孔質体であること、該白金族金属の担持量が、乾燥状態で0.004〜20重量%であること、を特徴とする白金族金属担持触媒を開示している。
すなわち本発明は、以下の通りである。
2.前記基材上に中間層を介して前記触媒層が形成されてなる、前項1に記載の過酸化水素分解用触媒。
3.前記白金族金属と前記第6族元素の金属の質量含有比率が、99:1〜70:30である、前項1または2に記載の過酸化水素分解用触媒。
4.前記白金族金属が、Pt、Pd、Ru、Ir、Rhからなる群より選ばれる少なくとも1つの金属である、前項1〜3のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
5.前記第6族元素の金属が、Mo、Wからなる群より選ばれる少なくとも1つの金属である、前項1〜4のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
6.前記非晶質性の触媒層が、PdとMo、RuとMo、PtとW、及びIrとWのいずれか1つの組み合わせを有する金属から形成される、前項1〜5のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
7.前記基材が、Ta、Nb、Zr及びTiからなる群より選ばれる少なくとも1つの金属を含有する、前項1〜6のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
8.前記基材の形状が、板状、網状、パンチングメタル、またはエキスパンドメタルのいずれか1の形状である、前項1〜7のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
9.前記中間層が貴金属を有する前項2〜8のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
10.前記貴金属が、白金族金属またはAuである、前項9に記載の過酸化水素分解用触媒。
11.前記中間層の厚みが、0.1μm以上10μm以下である、前項2〜10のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
12.前項1〜11のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒を用いて、被処理水中に含まれる過酸化水素を分解する方法。
13.前記被処理水の前記過酸化水素濃度が、0.1質量%以上10質量%以下である、前項12に記載の過酸化水素を分解する方法。
14.前記被処理水中の酸の濃度が、5質量%以上75質量%以下である、前項12または13に記載の過酸化水素を分解する方法。
15.前記酸が硫酸である、前項14に記載の過酸化水素を分解する方法。
16.基材上に、メッキ法により被膜を形成させ、触媒機能を有する白金族金属及び第6族元素の金属で非晶質性の触媒層を形成させる工程を含む、過酸化水素分解用触媒の製造方法。
17.基材上に、メッキ法により被膜を形成させ、中間層を形成する工程をさらに含み、該中間層上に非晶質性の触媒層を形成させる、前項16に記載の過酸化水素分解用触媒の製造方法。
本発明の触媒は、酸を含む被処理水中の過酸化水素の分解に用いる、基材上に、触媒機能を有する白金族金属及び第6族元素の金属で非晶質性の触媒層が形成された、過酸化水素分解用触媒である。
非晶質性の触媒層は、触媒機能を有する白金族金属及び第6族元素の金属で形成される。
本発明における第6族元素の金属としては、触媒活性の観点から、Mo、Wからなる群より選ばれる少なくとも1つの金属が挙げられる。
なお、中間層の厚みは、被処理水中の酸濃度に応じて種々変更することができる。
また、中間層は、一層で構成されていてもよいし、複数の層で構成されていてもよい。
本発明の触媒は、例えば基材上にメッキ法、スパッタリング法または蒸着法により被膜を形成させ、非晶質性の触媒層、具体的には非晶質性の金属を含む触媒層を形成させる工程を経て製造することができる。基材上に被膜を形成する方法としては、メッキ法が好ましい。基材の腐食を防止するための被膜を短時間で厚く(1〜10μm)被覆することができるためである。メッキ法には、電気メッキ法、無電解メッキ法等が挙げられ、中でも電気メッキ法が好ましい。以下、本発明の好適な電気メッキ法について説明する。
電気メッキ条件は用いる元素の種類により適宜調整すればよいが、例えば電流密度は0.1A/dm2以上5A/dm2以下であり、メッキ時間は1分以上30分以下であり、メッキ温度は40℃以上80℃以下である。
例えば、電気メッキ法の場合は、メッキ液中の貴金属濃度は、0.5質量%以上1.0質量%以下が好ましい。また、前記メッキ液のpHは、1.5以上10以下が好ましい。メッキ条件は、例えば電流密度は0.2A/dm2以上2A/dm2以下であり、時間は5分以上40分以下であり、温度は50℃以上70℃以下である。メッキ後は、基材を水洗、乾燥することが好ましい。
本発明の触媒は、被処理水に酸および過酸化水素が併存する場合であっても、過酸化水素を効率よく分解できるとともに、過酸化水素分解後は酸を回収することによりこれを再利用することもできる。
酸としては、硫酸等が挙げられる。
本発明において、被処理水中の硫酸濃度は、5質量%以上70質量%以下であっても、70質量%以上75%質量%以下もの高濃度の硫酸濃度であることもできる。高濃度の硫酸中であっても、過酸化水素を効率よく分解でき、効果が大きいという観点から、被処理水中の硫酸濃度が5質量%以上75質量%以下であることが好ましく、50質量%以上75質量%以下であることがより好ましい。
本発明の触媒によって過酸化水素は、分解された水と酸素を発生する。
過酸化水素が分解された後の被処理水は、そのまま、硫酸としてリサイクル(再利用または売却)することができる。
(基材)
縦50mm×横70mm×厚み1mmの矩形状のZr製板を基材とした。
Ptを0.3質量%、Wを6.0質量%含有する、pH=7のメッキ液を調製した。なおメッキ液は、Ptは塩化白金酸として、Wはタングステン酸Naとして水に溶解させたものである。
メッキ液は、EEJA製中性液(製品 テンペレックスシリーズのAuめっき液)を使用した。
前記基材に対し、市販のアルカリによる脱脂およびフッ化物系の酸での浸漬処理を順次行い、基材表面を活性化処理した。
前記前処理した基材に対し、前記中間層形成用のメッキ液を用いた電気メッキを行った。電気メッキ条件は、電流密度0.5A/dm2であり、時間3分、温度60℃とした。基材表面上に厚さ3μmの中間層が形成された。
前記中間層が形成された基材に対し、乾燥しないで引き続き水洗後、前記触媒層形成用メッキ液を用いた電気メッキを行った。電気メッキ条件は、電流密度0.5A/dm2であり、時間5分、温度65℃とした。電気メッキ完了後、基材を水洗、乾燥した。中間層上に厚さ0.3μmの触媒層が形成されたことを確認した。
以上のようにして本発明の触媒を作製した。
なお、触媒層をXRD(Rigaku社製 ULTIMA IV)により分析したところ、触媒層は非晶質性の金属層からなることが確認された。結果を図1に示す。
図1によると、実施例1の触媒層は、波形でPtの各結晶面でのピークの半値幅が広がっていることから、実施例1の触媒層は非晶質性であることがわかる。
図2に示す廃液処理システム100によって、本発明の触媒における過酸化水素分解能の確認を行った。
処理水中の過酸化水素残存濃度の結果を表2及び図4に示す。
実施例1と同様に、縦50mm×横70mm×厚み1mmの矩形状のZr製板を基材とした。
Ptを0.5質量%含有する、pH=1の市販のメッキ液を調製した。
実施例1と同様、前記基材に対し、市販のアルカリ脱脂およびフッ化物系の酸での浸漬処理等を順次行い、基材表面を活性化処理した。
前記活性化処理した基材に対し、前記触媒層形成用メッキ液を用いた電気メッキを行った。電気メッキ条件は、電流密度0.5A/dm2であり、時間60分、温度60℃とした。電気メッキ完了後、基材を水洗、乾燥した。基材上に厚さ2μmの触媒層が形成されたことを確認した。
なお、触媒層をXRD(Rigaku社製 ULTIMA IV)により分析したところ、触媒層は結晶性の金属層からなることが確認された。結果を図1に示す。
図1によると、比較例1の触媒層は、波形でPtの各結晶面でのピークの半値幅が狭くシャープになっていることから比較例1の触媒層は結晶性であることがわかる。
触媒を比較例1で作成した結晶性の触媒を使用したこと、過酸化水素濃度が1.78質量%である被処理水を使用したことを除いては、実施例1と同様に、触媒の過酸化水素分解性能の確認を行った。
結果を表2及び図4に示す。
被処理水中の硫酸濃度が表3に示す濃度であること、触媒表面積が表3に示す表面積で行ったことを除いては、実施例1と同様の方法で、触媒の過酸化水素分解性能の確認を行った。結果を表3に示す。
(基材)
縦48mm×横80mm×厚み0.7mmの矩形状に、3mmφ穴が6mm間隔でパンチング加工されたZr製板(パンチングメタル)を基材とした。
実施例1と同様に、Ptを0.3質量%、Wを6.0質量%含有する、pH=7のメッキ液を調製した。なおメッキ液は、Ptは塩化白金酸として、Wはタングステン酸Naとして水に溶解させたものである。
メッキ液は、酸性Ptめっき液とEEJA製中性Auめっき液(製品 テンペレックス401)を使用した。
前記基材に対し、市販のアルカリによる脱脂およびフッ化物系の酸での浸漬処理等を順次行い、基材表面を活性化処理した。
前記前処理した基材に対し、前記中間層形成は2段層にして、一段目は前記Ptメッキ液を用いた電気メッキを行った。電気メッキ条件は、電流密度0.5A/dm2であり、時間8分、温度50℃とした。基材表面上に厚さ0.3μmの第一段中間層が形成された。二段目は前記Auメッキ液を用いた電気メッキを行った。電気メッキ条件は、電流密度0.3A/dm2であり、時間5分、温度60℃とした。基材表面上で厚さ0.5μmの第二段中間層が形成された。
前記中間層が形成された基材に対し、乾燥しないで引き続き水洗後、前記触媒層形成用メッキ液を用いた電気メッキを行った。電気メッキ条件は、電流密度0.5A/dm2であり、時間5分、温度65℃とした。電気メッキ完了後、基材を水洗、乾燥した。中間層上に厚さ0.3μmの触媒層が形成されたことを確認した。
以上のようにして本発明の触媒を作製した。
図5に示す廃液処理システム200によって、本発明の触媒における過酸化水素分解能の確認を行った。
処理水中の過酸化水素残存濃度の結果を表5に示す。
(基材)
縦48mm×横80mm×厚み0.7mmのTi製エキスパンドメタルを基材とした。
実施例1と同様に、Ptを0.3質量%、Wを6.0質量%含有する、pH=7のメッキ液を調製した。なおメッキ液は、Ptは塩化白金酸として、Wはタングステン酸Naとして水に溶解させたものである。
メッキ液は、酸性Ptメッキ液とEEJA製中性Auメッキ液(製品 オーロボンドTN)を使用した。
前記基材に対し、市販のアルカリによる脱脂およびフッ化物系の酸での浸漬処理等を順次行い、基材表面を活性化処理した。
前記前処理した基材に対し、前記中間層形成用のPtメッキ液を用いた電気メッキを行った。電気メッキ条件は、電流密度0.5A/dm2であり、時間40分、温度50℃とした。基材表面上に厚さ1μmの中間層が形成された。さらに、1μmのPtメッキ中間層の上に、前期中間層形成用のAuメッキ液を用いた電気フラッシュメッキを行った。電圧5V、時間0.5分、温度60℃とした。
前記中間層が形成された基材に対し、乾燥しないで引き続き水洗後、前記触媒層形成用メッキ液を用いた電気メッキを行った。電気メッキ条件は、電流密度0.5A/dm2であり、時間5分、温度65℃とした。電気メッキ完了後、基材を水洗、乾燥した。中間層上に厚さ0.3μmの触媒層が形成されたことを確認した。
以上のようにして本発明の触媒を作製した。
実施例1と同様に、図2に示す廃液処理システム100によって、本発明の触媒における過酸化水素分解能の確認を行った。
処理水中の過酸化水素残存濃度の結果を表7に示す。
(基材)
縦46mm×横70mm×厚み0.7mmの矩形状のNb製板を基材とした。
実施例1と同様に、Ptを0.3質量%、Wを6.0質量%含有する、pH=7のメッキ液を調製した。なおメッキ液は、Ptは塩化白金酸として、Wはタングステン酸Naとして水に溶解させたものである。
メッキ液は、酸性Ptメッキ液を使用した。
前記基材に対し、市販のアルカリによる脱脂、フッ化物系の酸での浸漬処理等を順次行い、基材表面を活性化処理した。
前記前処理した基材に対し、前記中間層形成用のPtメッキ液を用いた電気メッキを行った。電気メッキ条件は、電流密度0.5A/dm2であり、時間40分、温度50℃とした。基材表面上に厚さ1μmの中間層が形成された。
前記中間層が形成された基材に対し、乾燥しないで引き続き水洗後、前記触媒層形成用メッキ液を用いた電気メッキを行った。電気メッキ条件は、電流密度0.5A/dm2であり、時間5分、温度65℃とした。電気メッキ完了後、基材を水洗、乾燥した。中間層上に厚さ0.3μmの触媒層が形成されたことを確認した。
以上のようにして本発明の触媒を作製した。
実施例1と同様に、図2に示す廃液処理システム100によって、本発明の触媒における過酸化水素分解能の確認を行った。
処理水中の過酸化水素残存濃度の結果を表9に示す。
20、120.廃液処理装置
21.導入口
22.仕切り板
23.触媒
24.触媒同士の間隔
25.液面
26.排出口
30、130.第2の貯留槽
100、200.廃液処理システム
121.筐体
122.邪魔板
124.仕切り板
Claims (17)
- 酸を含む被処理水中の過酸化水素の分解に用いる、基材上に、触媒機能を有する白金族金属及び第6族元素の金属で非晶質性の触媒層が形成された、過酸化水素分解用触媒。
- 前記基材上に中間層を介して前記触媒層が形成されてなる、請求項1に記載の過酸化水素分解用触媒。
- 前記白金族金属と前記第6族元素の金属の質量含有比率が、99:1〜70:30である、請求項1または2に記載の過酸化水素分解用触媒。
- 前記白金族金属が、Pt、Pd、Ru、Ir、Rhからなる群より選ばれる少なくとも1つの金属である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
- 前記第6族元素の金属が、Mo、Wからなる群より選ばれる少なくとも1つの金属である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
- 前記非晶質性の触媒層が、PdとMo、RuとMo、PtとW、及びIrとWのいずれか1つの組み合わせを有する金属から形成される、請求項1〜5のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
- 前記基材が、Ta、Nb、Zr及びTiからなる群より選ばれる少なくとも1つの金属を含有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
- 前記基材の形状が、板状、網状、パンチングメタル、またはエキスパンドメタルのいずれか1の形状である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
- 前記中間層が貴金属を有する請求項2〜8のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
- 前記貴金属が、白金族金属またはAuである、請求項9に記載の過酸化水素分解用触媒。
- 前記中間層の厚みが、0.1μm以上10μm以下である、請求項2〜10のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒。
- 請求項1〜11のいずれか1項に記載の過酸化水素分解用触媒を用いて、被処理水中に含まれる過酸化水素を分解する方法。
- 前記被処理水の前記過酸化水素濃度が、0.1質量%以上10質量%以下である、請求項12に記載の過酸化水素を分解する方法。
- 前記被処理水中の酸の濃度が、5質量%以上75質量%以下である、請求項12または13に記載の過酸化水素を分解する方法。
- 前記酸が硫酸である、請求項14に記載の過酸化水素を分解する方法。
- 基材上に、メッキ法により被膜を形成させ、触媒機能を有する白金族金属及び第6族元素の金属で非晶質性の触媒層を形成させる工程を含む、過酸化水素分解用触媒の製造方法。
- 基材上に、メッキ法により被膜を形成させ、中間層を形成する工程をさらに含み、該中間層上に非晶質性の触媒層を形成させる、請求項16に記載の過酸化水素分解用触媒の製造方法。
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