JP6362053B2 - アニロックスロール洗浄装置 - Google Patents

Description

この発明は、フレキソ印刷機において、インキ調量ローラとして用いられるアニロックスロールを洗浄するためのアニロックスロール洗浄装置に係り、詳しくは、アニロックスロールのロール面を覆うセル（インキ溜め用の小孔）を洗浄再生するアニロックスロール洗浄装置に関する。

フレキソ印刷機では、図１５に示すように、凸版状の柔軟な版胴１に転移するインキの膜厚・粘度・均等性を決めるインキ調量手段として、アニロックスロール２が広く採用されている。
この種のアニロックスロール２は、そのロール面が、セラミック被膜又はクロムメッキで覆われた円筒体で、ロール面には、常に一定のインキを版胴に供給できるように、略同一形状、同一深さを有する多数のセルが、微小インキ溜めとして、たとえば、１インチあたり２００〜１２００セルの割合で均等に配列されていている。

なお、図１５において、符号３は、インキパンに吊下げられ、アニロックスロール２にインキを与えるゴムロール（ファウンテンロール）、符号４は、版胴１に適切な印圧を与え段ボールやフィルムや布などの被印刷体５にインキを転移させる圧胴、また、符号６は搬送ロールである。

このようなアニロックスロール２では、ゴムロール３から与えられたインキは、セル内部にだけ保持されるので、版胴１へのインキ供給量（転移量）は、セル容積によってコントロールされるので、版胴１に転移するインキの膜厚・粘度を均等に決めることができる。

ところで、アニロックスロールは、そのロール面のメンテナンスを怠ると、インキやニスの残滓が固化してセル内に目詰まりが発生する、という不具合がある。目詰まりすると、セルのインキ収容量が減るので、版胴へのインキ供給量、ひいては、段ボールなどの被印刷体に対する印刷濃度の低下を引き起こす。それゆえ、アニロックスロールの優れた性能を充分に活かすためには、印刷後の定期的なロール面洗浄が必要不可欠である。

アニロックスロールのロール面洗浄には、最近、溶剤洗浄方式に代えて、溶剤フリーで環境にやさしいドライアイス洗浄方式が普及してきている（非特許文献１）。ドライアイス洗浄とは、コンプレッサの圧縮空気を使い、洗浄物の表面にドライアイスの粒を噴射して洗浄する方法である（非特許文献２）。

http://www.pm-service.co.jp/service/service2.html アニロックスロール洗浄 https://ja.wikipedia.org/wiki/ドライアイス洗浄

しかしながら、ドライアイス洗浄方式では、次のような不都合がある。まず、大量の圧縮空気を使うため、それに対応する規模のコンプレッサや、ドライアイスペレットを保管する専用保冷容器が必要となるので、装置の小型化には限界がある。ノズル騒音も発生する。さらに、健康上の問題として、酸素欠乏だけでなく二酸化炭素が充満し易い構内環境では使用できないし、吹き付け時に発生する粉塵対策も必要不可欠である。さらに、被洗浄領域に対して、ドライアイスを的確に噴射するのが容易ではなく熟練を要する、という作業上の問題もある。

この発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、溶剤不要で、酸欠も二酸化炭素中毒もなく、騒音もなく、環境にやさしいアニロックスロール洗浄装置を提供することを第１の目的としている。
また、手軽に搬入できる上、周辺設備の稼働を邪魔せずに、洗浄作業を実施することができるアニロックスロール洗浄装置を提供することを第２の目的としている。
また、”アニロックスロールを印刷機から取り外す“煩雑な作業を不要とする、使い勝手の良いアニロックスロール洗浄装置を提供することを第３の目的としている。

また、母材に損傷を与えずに、セル内の残滓のみを高効率で、均一に除去できるアニロックスロール洗浄装置を提供することを第４の目的としている。
また、操作者に過度の肉体的負担を与えない、使い勝手の良い、安全・安心のアニロックスロール洗浄装置を提供することを第５の目的としている。

上記課題を解決するために、請求項１記載の発明は、所定の出力条件でレーザビームを出力する光源部と、該光源部から出力される前記レーザビームを集光させて高パワー密度のレーザスポットを生成する集光光学系と、多数のセルが配列されてなるアニロックスロールのロール面を前記レーザスポットで往復走査しながら照射して当該ロール面に付着しているインク残滓を蒸発又は昇華させて放出除去するスポット走査系とからなるレーザ照射ヘッドと、該レーザ照射ヘッドの駆動を制御する制御部とを備えてなるアニロックスロール洗浄装置に係り、前記スポット走査系が、前記往復走査の折り返し点及びその近傍で動作するときには、前記アニロックスロールのロール面への前記レーザスポットの照射を遮断し、あるいは、停止又は弱めるマスキング手段が設けられていることを特徴としている。
この発明でいうアニロックスロールとは、その名称の如何を問わず、ロール表面がセルで覆われたインキ調量ローラのすべてを指称する概念である。

また、請求項２記載の発明は、請求項１記載のアニロックスロール洗浄装置に係り、前記スポット走査系が、所定の周波数・所定の角度範囲で、ミラーを振って前記レーザスポットを前記往復走査させるためのガルバノスキャナからなるとともに、前記ミラーが最大触れ角及びその近傍に到達したときには、前記アニロックスロールのロール面への前記レーザスポットの照射を遮断し、あるいは、停止又は弱めるマスキング手段が備えられていることを特徴としている。

請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載のアニロックスロール洗浄装置に係り、前記マスキング手段が、電気信号系からなると共に、請求項１に記載の前記スポット走査系が、前記往復走査の折り返し点及びその近傍で動作するとき、又は、請求項２に記載の前記ガルバノスキャナの前記ミラーが最大触れ角及びその近傍に位置するときには、マスキング信号を生成して、前記レーザビームの出力を停止又は減少させることを特徴としている。

また、請求項４記載の発明は、請求項１又は２記載のアニロックスロール洗浄装置に係り、前記マスキング手段が、前記レーザスポットによる熱的損傷を受けにくいマスク部材からなると共に、請求項１に記載の前記スポット走査系が、前記往復走査の折り返し点及びその近傍で動作するとき、又は、請求項２に記載の前記ガルバノスキャナの前記ミラーが最大触れ角及びその近傍に位置するときには、前記マスク部材が、前記アニロックスロールのロール面へのレーザスポットの照射を遮断することを特徴としている。

また、請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のうちの何れか一に記載のアニロックスロール洗浄装置に係り、前記レーザ照射ヘッドには、操作者が手で持って洗浄作業を行うための取っ手が備えられていることを特徴としている。

また、請求項６記載の発明は、所定の出力条件でレーザビームを出力する光源部と、該光源部から出力される前記レーザビームを集光させて高パワー密度のレーザスポットを生成する集光光学系と、多数のセルが配列されてなるアニロックスロールのロール面を前記レーザスポットで走査しながら照射して当該ロール面に付着しているインク残滓を蒸発又は昇華させて放出除去するスポット走査系とからなるレーザ照射ヘッドと、該レーザ照射ヘッドの駆動を制御する制御部とを備えてなるアニロックスロール洗浄装置に係り、前記レーザ照射ヘッドを前記アニロックスロールのロール面の長さ方向に沿って案内移動させる案内レールが設けられていることを特徴としている。

また、請求項７記載の発明は、請求項６記載のアニロックスロール洗浄装置に係り、前記案内レールが、両端側で別個独立に高さ調節機能を備えた高架式レール機構からなることを特徴としている。

また、請求項８記載の発明は、所定の出力条件でレーザビームを出力する光源部と、該光源部から出力される前記レーザビームを集光させて高パワー密度のレーザスポットを生成する集光光学系と、多数のセルが配列されてなるアニロックスロールのロール面を前記レーザスポットで走査しながら照射して当該ロール面に付着しているインク残滓を蒸発又は昇華させて放出除去するスポット走査系とからなるレーザ照射ヘッドと、該レーザ照射ヘッドの駆動を制御する制御部とを備えてなるアニロックスロール洗浄装置に係り、前記レーザ照射ヘッドは、前記アニロックスロールのロール面に当接されてレーザ照射ヘッド本体を支える単数又は複数の回転体をさらに有し、前記スポット走査系は、前記回転体が前記アニロックスロールの回転に伴って従動回転する状態で、前記アニロックスロールの回転するロール面を前記レーザスポットで走査しながら照射する態様に構成されていることを特徴としている。

また、請求項９記載の発明は、請求項８記載のアニロックスロール洗浄装置に係り、前記アニロックスロールの洗浄時、前記回転体が、前記アニロックスロールのロール面から離れたとき、又は、前記アニロックスロールの回転が停止又は急減速したときには、前記レーザビームの出力を非常停止させる出力非常停止手段が設けられていることを特徴としている。

また、請求項１０記載の発明は、請求項９記載のアニロックスロール洗浄装置に係り、前記アニロックスロールの洗浄時、前記回転体が、前記ロール面から離れたこと、又は、前記アニロックスロールの回転が停止又は急減速したことを検知する非常時検知手段が設けられていることを特徴としている。

また、請求項１１記載の発明は、請求項１乃至１０のうちの何れか一に記載のアニロックスロール洗浄装置に係り、前記アニロックスロールの洗浄時、前記レーザ照射ヘッドの移動速度又は移動速度の程度を検知する移動検知手段を備えてなると共に、該移動検知手段の検知結果に基づいて、前記レーザ照射ヘッドの駆動を制御することを特徴としている。

また、請求項１２記載の発明は、請求項１１記載のアニロックスロール洗浄装置に係り、前記移動検知手段によって、移動速度が速いと検知されたときは、レーザ出力を高め、あるいは、走査周波数を上げ、移動速度が遅いと検知されたときは、レーザ出力を下げ、あるいは、走査周波数を下げる制御が行われることを特徴としている。

この発明の構成によれば、溶剤不要で、酸欠もガス中毒の心配もなく、騒音も発生しないので、周りの稼働に影響を与えない、環境にやさしいアニロックスロール洗浄装置を実現できる。
また、手軽に搬入でき、印刷機からアニロックスロールを取り外さずに、洗浄作業を簡便かつ短時間で実行完了できる。
また、母材に損傷を与えずに、セル内の残滓のみを溶融、蒸発又は昇華して除去できるので、洗浄効率の向上化を一段と図ることができる。
また、操作者に過度の肉体的負担を与えないので、使い勝手の良い、安全・安心のアニロックスロール洗浄装置を実現できる。
また、洗浄むらが起きないので、高品質の再生ロールを得ることができる。

この発明の第１の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置の概略構成を示す図であると共に、その使用状態の説明に供される図である。 フレキソ印刷機の全体構成を示す図であると共に、同アニロックスロール洗浄装置の使用状態の説明に供される図である。 アニロックスロールの軸方向に沿うセルの断面形状を模式的に示す模式的拡大図であり、同図（ａ）は、セルを洗浄する前の目詰まりの状態、同図（ｂ）は同アニロックスロール洗浄装置を用いて洗浄した後のセルの状態を示している。 同アニロックスロール洗浄装置の別の使用例を示す図である。 この発明の第２の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置の概略構成を示す図であると共に、その使用状態の説明に供される図である。 この発明の第３の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置の概略構成を示す図であると共に、その使用状態の説明に供される図である。 この発明の第４の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置の概略構成を示す斜視図である。 この発明の第５の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置に適用されるマスキング手段の機械的構成を概略示す斜視図であると共に、その動作の説明に供される図である。 同実施形態において、ガルバノスキャナの動作時、ミラーの振れ角が非線形に変化する区間で発生する過熱現象と、この過熱現象が母材に与える熱的弊害を克服するための動作説明に供される図である。 この発明の第６の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置に適用されるマスキング手段の電気的構成を概略示す電気的ブロック図である。 同実施形態の動作の説明に供されるタイムチャートである。 この発明の第７の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置の構成を示す斜視図である。 同実施形態の要部を拡大して示す斜視図である。 同実施形態の電気的構成を概略示す電気的ブロック図である。 背景技術の説明に供されるフレキソ印刷機の概略構成図である。

この発明の好適な実施形態では、レーザ照射ヘッドには、ヘッド本体を支持しながら、アニロックスロールのロール面上を滑走又は移動するための車輪が左右に設けられていて、各車輪は、ヘッド本体の下部に垂設された、所定の長さを有する脚部の先端部に取り付けられることで、集光光学系の集光レンズがレーザビームを集光させて、ロール面上にレーザスポットを結像させるに最適の光路長を確保できるように、光学的に配置構成されている。
また、スポット走査系が、所定の周波数・所定の角度範囲で、ミラーを振ってレーザを往復走査させるためのガルバノスキャナが採用されている。さらに、ガルバノスキャナミラーが最大触れ角及びその近傍に到達したときには、ロール面へのレーザスポットの照射を遮断し、あるいは、停止又は弱めるマスキング手段を備えている。

実施形態１

以下、図面を参照して、この発明の実施形態について詳細に説明する。
図１は、この発明の第１の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置の概略構成を示す図であると共に、その使用状態の説明に供される図、図２は、フレキソ印刷機の全体構成を示す図であると共に、同アニロックスロール洗浄装置の使用状態の説明に供される図、また、図３は、アニロックスロール２の軸方向に沿うセルの断面形状を模式的に示す模式的拡大図であり、同図（ａ）は、セルを洗浄する前の目詰まりの状態、同図（ｂ）は同アニロックスロール洗浄装置を用いて洗浄した後のセルの状態を示している。

まず、フレキソ印刷機は、図２に示すように、ゴムや合成樹脂などからなる柔軟な凸版状の印刷版を巻装された版胴１と、版胴１にインキを適当量転移するためのアニロックスロール２と、図示せぬインキパンに吊下げられ、アニロックスロール２のロール面（セル）にインキを与えるゴムロール（ファウンテンロール）３と、版胴１に適切な印圧を与え段ボールやフィルムや布などの被印刷体５にインキを転移させる圧胴４と、搬送ロール６とから概略構成されている。アニロックスロール２のロール径は、大小４０〜６００φｍｍのものが知られており、また、ロール面長は、長いもので、６００ｃｍのものもあるが、この発明は、どんな大きさ、どんな長さのアニロックスロール２にも適用できる。

この実施形態のアニロックスロール２は、図３に示すように、そのロール面が、セラミック被膜２１で覆われた円筒体で、ロール面には、微小インキ溜めとして形成されたセル２２、２２、…が、１００ミクロン程度の大きさで均等に配列されていている。

次に、この実施形態のアニロックスロール洗浄装置は、図１及び図２に示すように、フレキソ印刷機からアニロックスロール２を取り外すことなく、洗浄対象のアニロックスロール２と隣接ロール（版胴１及びゴムロール３）との接触状態を解除し、レーザビームＬでアニロックスロール２の洗浄施工部位（照射部位）２３を走査して洗浄再生する、持ち運び式の洗浄装置であって、ヘッド本体の開口部に集光レンズ７が設けられ、該集光レンズ７からアニロックスロール２の洗浄施工部位（ロール面、セル形成面）２３にレーザビームＬを高パワー密度に集光結像させてスポット照射するレーザ照射ヘッド８と、該レーザ照射ヘッド８の駆動を制御する制御ユニット９と、レーザビームによる高パワー密度のスポット照射によってセル２２、２２、…内から除去されたインキやニスの残滓Ｒ（図３）を吸引排気するためのバキュームクリーナ１０とを備えて概略構成されている。なお、バキュームクリーナ１０は、レーザ照射ヘッド（本体）８に間接的に又は直接的に結合されて、レーザ照射ヘッド８の動きに伴って動くように構成することもできる。

上記レーザ照射ヘッド８は、高エネルギ密度熱源としての図示せぬＹＡＧレーザ発振器（光源部）と、該レーザ発振器から出力される前記レーザビームＬを集光させて所定のパワー密度のレーザスポットを生成する集光光学系と、洗浄対象たるアニロックスロールのロール面（セル形成面）をレーザスポットで走査して照射部位を順次加熱するガルバノスキャナ（スポット走査系）とから概略構成されている（たとえば、波長１０６２ｎｍ、レーザ出力７０Ｗ／５０W／３８Ｗ、レーザパルス周波数１−１２０ｋHz、最大レーザスキャン幅６６／１０８／１７２ｍｍ、スキャン周波数範囲１−１，０００Ｈｚ（好適には、１００−６００Hz））。また、上記制御ユニット９は、各種条件設定により、アニロックスロール２のセル２２、２２、…内に付着したインキやニスの残滓Ｒを溶融、蒸発又は昇華させる一方、アニロックスロール２の表面を損傷させないように、レーザ照射ヘッド８を駆動制御する構成となっている。

この実施形態において、上記レーザ照射ヘッド８は、図１に示すように、操作者が手で持って洗浄作業をするための取っ手１１を備えるハンディタイプとして構成されている。
上記レーザ照射ヘッド８には、ヘッド本体の枠体四隅に、所定の長さの脚部１２、１２、…が垂設されている。各脚部１２の下端部には、ヘッド本体を支持しながら、アニロックスロール２のロール面上を滑走又は移動するための車輪（回転体）１３が設けられている。上記車輪１３としては、ロール面の母材を傷付けないためにも、緩衝性素材からなるもの、たとえば、ゴムタイヤが好ましい。
各車輪１３は、上記したように、ヘッド本体の下部四隅に垂設されたそれぞれの脚部の先端部に取り付けられることで、集光光学系の集光レンズがレーザビームを集光させて、ロール面上にレーザスポット結像面を形成させるに最適の光路長を確保できるように、光学的に配置構成されている。各記脚部１２の長さは、同一に設定され、車輪の形状や径も、同一に設定されている。

上記脚部１２は、洗浄対象となるアニロックスロール２のロール径に合わせて、スポット結像面をロール面上に形成できるように、長さ調節可能（伸縮可能又は屈折可能）に構成されるのが好ましい。また、上記脚部１２の長さを変える代わりに、車輪１３が脚部１２に取り付けられる位置を上下に変動可能な構成としても良い。なお、脚部１２に代えて、枠体又は支持板に車輪１３、１３、…を取り付けるようにしても良い。また、上記車輪１３はゴムタイヤに限らず、必要に応じて、金属車輪や合成樹脂車輪を用いても良い。

ここで、移動方向左側の前輪１３と後輪１３は、同一の第１の仮想直線上を滑走又は移動できるように配置され、同様に、移動方向右側の前輪１３と後輪１３は、同一の第２の仮想直線上を滑走又は移動できるように配置されると共に、レーザビーム照射用の開口部である集光レンズ７の光軸が、第１及び第２の仮想直線との中点を結ぶ仮想線上を通る位置に配置されるのが好ましいが、これに限定されない。さらには、４輪の車輪１３、１３、…を、仮想矩形の各角部（頂点）に位置するように設けると共に、集光レンズ７の光軸を、車輪の回転軸と直交する、仮想矩形の中心線上を通る位置に配置するのが好ましいが、これに限定されない。

次に、上記構成のアニロックスロール洗浄装置を用いて、アニロックスロール２を洗浄するには、図２に示すように、洗浄対象のアニロックスロール２と隣接ロール（版胴１及びゴムロール３）との接触状態を解除し、図示せぬ操作者が取っ手１１を把持して、図１に示すように、レーザ照射ヘッド（本体）８を回転停止状態のアニロックスロール２の洗浄施工部位（ロール面、セル形成面）２３に載置する。このとき、車輪の進行する向きは、アニロックスロール２の軸方向にあわせるようにする。すべての車輪１３、１３、…が、アニロックスロール２の表面に接触しているときが、レーザ照射ヘッド８の（ガルバノスキャナの振れ角が０ときの）光軸が、アニロックスロール２の表面の法線方向と一致するときであるので、レーザビームが左右のどちらかに偏ることもなく、レーザ走査を左右均等に行うことができる。それゆえ、高品質の洗浄を実行できる。

アニロックスロールの洗浄施工時、操作者は、図１の矢印Ａで示すように、ロール面の長手方向一端側から他端側に向けて、車輪１３、１３、…を滑走させながら、駆動中のレーザ照射ヘッド８を所定の速度で移動させると、設定された走査幅で決まる帯状の洗浄施工部位２３の洗浄が移動速度に応じて長手方向に進行する。ロール面の長手方向他端まで洗浄が終了すると、アニロックスロール２を所定量回転させて、隣りの帯状の洗浄施工部位２３に移り、上記した施工作業を行い、これを繰り返して、アニロックスロール２のセル形成面全体の洗浄を完了させる。

この構成によれば、溶剤不要で、酸欠もガス中毒の心配もなく、騒音も発生しないので、周りの稼働に影響を与えない、環境にやさしいアニロックスロール洗浄装置を実現できる。また、手軽に搬入でき、印刷機からアニロックスロールを取り外さずに、洗浄作業を簡便かつ短時間で実行完了できる。また、母材に損傷を与えずに、セル内の残滓のみを溶融、蒸発又は昇華して除去できるので、洗浄効率の向上化を一段と図ることができる。また、操作者に過度の肉体的負担を与えないので、使い勝手の良い、安全・安心のアニロックスロール洗浄装置を実現できる。

図４は、同アニロックスロール洗浄装置の別の使用例を示す図である。図４の使用例が、図１の使用例と異なるところは、図１の使用例が、アニロックスロール２を静止させた状態で、ロール面の円周方向に沿う往復スポット走査を、ロール面の長手方向に進めて行き、他端まで到着したら、隣りの洗浄部位にシフトして、洗浄を繰り返すヘッド移動方式を採用しているのに対して、図４の使用例では、アニロックスロール２を定速空転させながら、ロール面の長手方向に沿う往復スポット走査をロール面の長手方向に低速で移しながら行うロール回転方式を採用している点である。
この使用例の車輪１３、１３、…は、ロール面に当接されると、アニロックスロールの定速空転（アイドリング）によって従動回転する従動回転体として機能し、レーザ照射ヘッド８は、洗浄施工時、車輪１３、１３、…がアニロックスロールのロール面に当接されて従動回転する状態で、ロール面の照射部位にレーザスポットを生成して走査させる、構成になされている。

この使用例によれは、操作者は、空転（アイドリング）状態のアニロックスロール２のロール面にレーザ照射ヘッド８を載せて把持しているだけで、洗浄施工部位２３の洗浄が輪帯状に進行するので、過度の肉体的負担から免れることができる。それゆえ、使い勝手の良い、安全・安心のアニロックスロール洗浄装置を実現できる。

実施形態２

図５は、この発明の第２の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置の概略構成を示す図であると共に、その使用状態の説明に供される図である。
この実施形態のレーザ照射ヘッド８ａが、図１のレーザ照射ヘッド８と構成が異なるところは、脚部１２ａ、１２ａ、…が、できるだけ、アニロックスロール２の軸心に向かって、傾斜して、配設されている点である。このように配置すれば、車輪１３ａ、１３ａ、…を安定回転させることができ、洗浄品質を向上できる。

実施形態３

図６は、この発明の第３の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置の概略構成を示す図であると共に、その使用状態の説明に供される図である。
この実施形態では、レーザ照射ヘッド８をアニロックスロール２の長さ方向に沿って案内移動させる案内レール１４を備えている。この案内レール１４は、オン／オフ式の図示せぬ強力吸着マグネットによって、安定した基体（たとえば、印刷設備の堅固なフレームなど）に固定される構成となっている。案内レール１４には、レーザ照射ヘッド８を支えるスタンド１５が案内レール１４上を摺動可能に立設されている。スタンド１５には、アーム１６が屈曲自在に横方向に延設されている。上記アーム１６は、伸張自在な構成としても良いし、屈曲自在の２関節アームとしても良く、また、高さ調節可能にスタンド１５に取り付けられるのが好ましい。案内レール１４に沿ってレーザ照射ヘッド８を移動させるには、必要に応じて、手動で移動させる構成としても良いし、手動に頼らず、モータ駆動で走行できる構成とすることもできる。

上記構成において、操作者は、スタンド１５から伸びるアーム１６にレーザ照射ヘッド８を最適傾斜角度で把持させた状態で、車輪１３、１３、…をロール面に当接する。この姿態で、レーザ照射ヘッド８を駆動して、アニロックスロール２を洗浄再生する。
この洗浄作業では、図１に示すように、アニロックスロール２を静止させて、レーザ照射ヘッド８に、ロール面の円周方向に往復スポット走査させるヘッド移動方式に適用することもできるし、図４に示すように、アニロックスロール２を定速空転させながら、レーザ照射ヘッド８に、ロール面の長手方向に往復スポット走査させるロール回転方式に適用することもできる。いずれの式でも、往復スポット走査しながら、案内レール１４に沿ってレーザ照射ヘッド８をロール面の長手方向に移動させる。ロール回転方式において、ロール面の周速度を比較的高速（たとえば、８００ｍｍ／ｓｅｃ）に設定し、レーザ照射ヘッド８の案内レール１４に沿う長手方向移動速度を、比較的低速度（たとえば、５ｍｍ／ｓｅｃ）に設定すれば、洗浄作業はロール面上で螺旋軌跡を描いて進行する。

この実施形態によれば、操作者の肉体的負担を一層軽減できる。
なお、この実施形態の変形例として、移動用の車輪機構（図６）を廃し、スタンド１５とアーム１６とで、レーザ照射ヘッド８の照射姿勢を支えることもできる。この変形例では、レーザ照射ヘッド８を、ロール面に非接触で対峙させた状態で、案内レール１４上を移動させることで、洗浄作業が展開される。

実施形態４

図７は、この発明の第４の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置の概略構成を示す斜視図である。
この実施形態では、同図に示すように、高架式レール機構１７が採用され、高架式の案内レール１８に洗浄装置本体１９を懸垂式に垂設するようにした点で、図６に示す第３の実施形態と相異している。
まず、洗浄装置本体１９は、高架式の案内レール１８上を正進逆進自在に自走できる走行機構部２０と、ヘッド部２１と、車輪部２２と、保護カバー部２３とから概略構成されている。上記ヘッド部２１と、保護カバー部２３と、車輪部２２とは、この順序で、走行機構部２０から垂下する態様で、配設されている。
上記走行機構部２０は、図示せぬ移動制御部から出力される制御信号に従って駆動する正逆自在の駆動モータと、駆動モータから動力を受けて案内レール１８上を走行する駆動車輪と、従動車輪とこれら各部を装着するための上部枠体２４とを有して構成されている。

上記ヘッド部２１は、レーザ発振器（光源部）と集光光学系とガルバノスキャナ（スポット走査系）とを備えるレーザ照射ヘッド２５と、該レーザ照射ヘッド２５から出力されるレーザビームを通過させる開口が設けられ、レーザ照射ヘッド２５を着脱自在に装着載置するための載置用枠体２６とから概略構成されている。ここで、レーザ照射ヘッド２５は、第１の実施形態（図１）で採用されるレーザ照射ヘッド８と同一構成性、同一性能特性のものでも良いし、異なるものでも良い。
上記車輪部２２は、アニロックスロールのロール面に当接して、アニロックスロールの回転に従って従動回転する４本の円筒形（又は円柱形）のローラ１３ｂと、これらのロールを軸支するための下部枠体２７とから構成されている。

また、上記保護カバー部２３は、レーザビームの光路を覆う遮光板であるとともに、ヘッド部２１から垂下する車輪部２２を支える支持部材でもある。
ここで、保護カバー部２３の垂直方向長さは、集光光学系の集光レンズがレーザビームを集光させて、ロール面上にレーザスポットの結像面を形成させるに最適の距離に設定されている。

次に、高架式レール機構１７は、案内レール１８を架設するための一対の支持柱体２８、２８と、支持柱体２８、２８を安定した基体（たとえば、印刷設備の堅固なフレームなど）に固定するためのオン／オフ式の強力吸着マグネット２９、２９とを備えて構成されている。上記支持柱体２８、２８には、架設の便宜のために、別個独立に架設高さを調節するための高さ調節機能３０、３０を備えている。
この実施形態によっても、第３の実施形態において上記したと同様の効果を得ることができる。加えて、第３の実施形態では、レーザ照射ヘッド２５とともに、アームやスタンドも移動したが、この実施形態では、アームやスタンドを走行させなくて良いので、駆動モータの負荷を著しく軽減できる。

実施形態５

図８は、この発明の第５の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置に適用されるマスキング手段の機械的構成を概略示す斜視図であると共に、その動作の説明に供される図、また、図９は、同実施形態において、ガルバノスキャナの動作時、ミラーの振れ角が非線形に変化する区間で発生する過熱現象と、この過熱現象が母材に与える熱的弊害を克服するための動作説明に供される図である。

この実施形態のアニロックスロール洗浄装置は、第１乃至第４の実施形態（図１、図４−図７）のいずれの使用例にも適用でき、便宜上図４の符号を参照して説明すれば、所定の出力条件でレーザビームLを出力するレーザ発振器と、該レーザ発振器から出力されるレーザビームLを集光させて所定のパワー密度のレーザスポットを生成する集光光学系と、洗浄対象たる多数のセルが配列されてなるアニロックスロール２のロール面をレーザスポットで走査して照射部位を順次加熱するスポット走査系とからなるレーザ照射ヘッド８と、該レーザ照射ヘッド８の駆動を制御する制御ユニット（制御部）９とを備えて概略構成されている。なお、レーザ発振器は、増幅媒質、励起モ−ド、波長、発振条件などが、第１の実施形態と同一のものでも良いし、異なるものでも良い。集光光学系やスポット走査系についても、第１の実施形態と同一構成でも良いし、異なる構成のものを用いても良い。

上記スポット走査系は、所定の周波数・所定の角度範囲で、ミラーを振ってレーザを往復走査させるためのガルバノスキャナからなるとともに、この実施形態の装置には、ミラーが最大触れ角及びその近傍（非線形区間）に到達したときには、図８に示すように、アニロックスロール２のロール面へのレーザスポットLSの照射を遮断するためのマスク部材３１、３１が備えられている。この実施形態のマスク部材３１、３１は、図中左右一対に設けられ、離隔間隔は、走査幅に応じて調整できる構成となっている。

このようなマスク部材３１、３１は、洗浄施工時、できる限り、ロール面（レーザスポットの照射部位）に近接する部位に配設されるのが好ましく、具体的には、ロール面との接触事故の防止の観点から、ロール面から１ｍｍ以上１０ｍｍ以下離隔する位置に配設されることが好ましい。

マスク部材３１、３１には、レーザスポットによる熱的損傷を受けにくい材質を用いることが好ましく、たとえば、ステンレスなどの基板に、セルを形成する母材と同質のセラミック被膜又はクロムメッキを施して形成しても良い。なお、マスク部材３１、３１は、消耗品と考え、取り替え可能に装着されるならば、たとえば、ステンレスなどのむきだしの基板から構成しても良い。

次に、図９を参照して、ガルバノスキャナを用いるレーザスポットの往復走査による照射両端部の過熱現象について説明する。
ガルバノスキャナでは、ミラーの角速度は線形（一定）であるが（同図（ｂ））、ミラー折り返し点（同図（ａ））に近づくほど、角速度は非線形に遅くなり、最大触れ角（同図（ａ））では、角速度０（同図（ｂ））となる。そこで、この明細書においては、ミラーの角速度が一定の区間で照射されるロール面の照射領域を線形照射領域と称し、ミラーが折り返し点及びその近傍に位置して、ミラーの角速度が非線形に遅くなる区間で照射されるロール面の照射領域を非線形照射領域と称することにする。

この種のレーザ加熱では、各照射部位において、レーザスポットのパワー密度が一定でも、照射時間が長ければ、それだけ照射部位にエネルギーが吸収され、照射部位の表面温度が、母材に熱的損傷を与えるほど、急激に上昇する。この結果、何ら対策を講じなければ、角速度が急激に遅くなる結果、照射時間が長くなる帯状の照射部位の両端部（非線形照射領域）において、母材が熱的に損傷するという、不具合が発生する。

そこで、この実施形態では、マスク部材３１、３１が、非線形照射領域に配置されることで、同図（ｃ）に示すように、スポット走査系のミラーが折り返し点（最大触れ角）及びその近傍に位置するときには、ロール面へのレーザスポットの照射を遮断する構成となっている。

以上述べたように、この実施形態によれば、帯状の照射部位の両端部（非線形に照射されることとなる領域）への照射は阻止され、線形照射領域のみが走査洗浄されるため、母材に熱的損傷を与えず、洗浄むらも起きず、したがって、高品質の再生ロールを得ることができる。

実施形態６

図１０は、この発明の第６の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置に適用されるマスキング手段の電気的構成を概略示す電気的ブロック図、また、図１１は、同実施形態の動作の説明に供されるタイムチャートである。
この第６の実施形態が、第５の実施形態と大きく異なるところは、第５の実施形態では、ミラーの振れ角が非線形に変化する区間（非線形変化区間）に対しては、レーザスポットの照射を阻止するマスキング手段として、マスク部材３１、３１（ハードマスキング）を用いるようにしたのに対して、この実施形態では、レーザビームのON／OFF制御（ソフトマスキング）を行うようにした点である。この実施形態のアニロックスロール洗浄装置は、第３の実施形態で述べたと同様に、第１乃至第４の実施形態（図１、図４−図７）のいずれの使用例にも適用できる。

この実施形態のソフトマスキング手段は、図１０に示すように、ガルバノスキャナを構成するミラーの駆動を制御するスキャン制御回路３２と、ミラーの折り返し動作に同期するリターン信号を生成するリターン信号生成回路３３と、入力されるリターン信号に基づいてマスキング信号（レーザ出力停止信号）を生成するＴＴＬ構成のマスキング回路３４と、入力されるマスキング信号に基づいてレーザ出力のＯＮ／ＯＦＦを制御する出力制御回路３５とから概略構成されている。

マスキング回路３４は、リターン信号生成回路３３からリターン信号を受けるタイミングでマスキング信号を生成する（図１１（ｃ））。出力制御回路３５は、マスキング回路３４からマスキング信号を受けている期間、レーザの出力をＯＦＦとする制御を行う（図１１（ｄ））。
レーザ出力OF／OFF期間は、アニロックスロールのロール面は、スポット照射にさらされないので、母材は、熱的損傷を免れる。

このように、この実施形態によっても、帯状の照射部位の両端部（非線形に照射されることとなる領域）への照射は阻止され、線形照射領域のみが走査洗浄されるため、母材に熱的損傷を与えず、洗浄むらも起きず、したがって、高品質の再生ロールを得ることができる。

なお、レーザビームのON／OFF制御によるソフトマスキング手段としては、図１０の回路構成に限らず、他の回路構成を用いて具現してもよく、また、ハードウエア構成に代えて、ソフトウエア構成で具現しても良い。
また、この実施形態では、出力制御回路３５が、マスキング回路３４からマスキング信号を受けている期間、レーザの出力をＯＦＦとする制御を行う構成としたが、母材に熱的損傷を与えない範囲で、レーザの出力を弱める構成（出力低下制御）としても良い。また、マスキング幅については、あらかじめ実験などで定めることができるが、マスキング幅調整回路を付加するようにすれば、操作者が、適宜、設定変更入力することができる。

実施形態７

図１２は、この発明の第７の実施形態であるアニロックスロール洗浄装置の構成を示す斜視図、図１３は、同実施形態の要部を拡大して示す斜視図、また、図１４は、同実施形態の電気的構成を概略示す電気的ブロック図である。
この実施形態が、図７に示す第４の実施形態と大きく異なるところは、ロール面洗浄時、洗浄装置本体１９最下部の車輪部２２に配設され、回転するロール面に接触して従動回転する円筒形（又は円柱形）のローラ１３ｂが、ロール面から離れたとき、又は、アニロックスロールの回転が停止又は減速したときに、レーザビームの出力を非常停止させる出力非常停止手段を設けるようにした点である。なお、図１２及び図１３において、図７の構成部分と同一の又は対応する各部については、同一の符号を付して、その説明を省略又は簡略化する。

上記出力非常停止手段は、ロール面の洗浄作業中に、ローラ１３ｂの従動回転を監視又は計測することにより、ローラ１３ｂが、ロール面２Sから離れたこと、又は、アニロックスロール２の回転が停止又は減速したことを検知する非常時検知手段を有している。上記非常時検知手段は、図１２及び図１３に示すように、少なくとも、中継ローラ３６と、エンコーダローラ３７と、ロータリエンコーダ３８とを有して、その機械的部分が構成されている。ロータリエンコーダ３８の機械的構成各部（中継ローラ３６、エンコーダローラ３７、ロータリエンコーダ３８など）は、下部枠体２７に軸支保持されている。

この実施形態では、アニロックスロール2の回転するロール面２Sに当接して従動回転する４本の円筒形（又は円柱形）のローラ１３ｂのうちの、任意の１本（たとえば、図１３中の手前右車輪）が、中継ローラ３６として用いられる。
中継ローラ３６は、アニロックスロール２のロール面２Sの回転をエンコーダローラ３７に伝える伝動輪の役割を有している。
エンコーダローラ３７は、その円周面が中継ローラ３６の円周面に当接される態様で配設されて、中継ローラ３６の回転に従って従動回転することで、アニロックスロール２のロール面２Sの回転変位をロータリエンコーダ３８に伝える構成となっている。エンコーダローラ３７や中継ローラ３６の円周面材質としては、たとえば、硬質ウレタンゴムを用いるのが好ましいが、これに限定されない。
ロータリエンコーダ３８は、エンコーダローラ３７の軸（入力軸）にカプリングを用いて結合され、エンコーダローラ３７の軸の回転変位量をデジタル電気信号に変換して、アニロックスロール２の速度を検出する構成となっている。

上記構成において、アニロックスロール２のロール面２Sの洗浄作業中、ロール面２Sが正常回転しているときは、ロータリエンコーダ３８は、中継ローラ３６、エンコーダローラ３７を介して、ロール面２Sの正常速度を検出し、一方、ロール面２Sが回転停止したとき、あるいは、減速又は増速したときは、中継ローラ３６、エンコーダローラ３７を介して、ロール面２Sの回転停止、減速又は増速（異常速度）を検出し、検出値に応じたデジタル電気信号を出力する。なお、ロール面２Sが正常回転しているときでも、何らかの要因で、中継ローラ３６（ローラ１３ｂ）がアニロックスロール２のロール面２Sから離れる不測の事態が発生したときは、中継ローラ３６の回転は停止又は減速ずるので、ロータリエンコーダ３８は、入力軸の回転停止又は減速（異常速度）を検出し、異常検出値に応じたデジタル電気信号を出力する。

次に、図１４を参照して、出力非常停止手段の電気的構成について説明する。
この実施形態の出力非常停止手段は、同図に示すように、ロータリエンコーダ３８によって検出された速度検出値を出力するロータリエンコーダ出力回路３９と、ロータリエンコーダ出力回路３９から入力される速度検出値に基づいて、洗浄作業に異常事態が発生したか否かを判定し、異常事態が発生したときは異常発生信号を生成する異常判定回路４０と、異常判定回路４０から異常発生信号を受けたときは、レーザ出力を非常停止させる出力非常停止回路４１とから概略構成されている。

次に、この実施形態の動作について説明する。
図１２乃至図１４において、アニロックスロール２のロール面２Sの洗浄作業中、ロール面２Sが正常回転しており、かつ、中継ローラ３６がロール面２Sに当接しているときは、ロータリエンコーダ３８は、中継ローラ３６、エンコーダローラ３７を介して、ロール面２Sの正常速度を検出し、ロータリエンコーダ出力回路３９から、速度検出値に応じたデジタル電気信号が出力される。異常判定回路４０は、入力された速度検出値とあらかじめ設定されている速度基準値とを比較し、入力された速度検出値が速度基準値を上回れば、正常回転、正常接触していると判定され、異常発生信号を生成しない。このケースでは、正常回転、正常接触しているので、異常発生信号は生成されない。したがって、レーザ出力は、ON状態が維持される。

次に、何らかの原因で、アニロックスロール２の回転が停止したときは、ロータリエンコーダ３８は、中継ローラ３６、エンコーダローラ３７を介して、ロール面２Sの速度停止を検出し、ロータリエンコーダ出力回路３９から、速度検出値に応じたデジタル電気信号が出力される。異常判定回路４０は、入力された速度検出値と速度基準値とを比較し、このケース（異常停止の事態）では、入力された速度検出値が速度基準値を下回るので、異常発生信号を生成する。出力非常停止回路４１は、異常判定回路４０から異常発生信号を受けたときは、レーザ出力を非常停止させる。レーザ出力を非常停止させる理由は、ロール面２Sが停止した状態で、レーザのスポット照射を行えば、ロール面２S上の局部領域が長時間集中して加熱され、この結果、母材の焦げつきや、溶融が進行し、アニロックスロール２が損傷してしまうからである。

次に、何らかの原因で、アニロックスロール２の回転が減速したときは、ロータリエンコーダ３８は、中継ローラ３６、エンコーダローラ３７を介して、ロール面２Sの減速を検出し、ロータリエンコーダ出力回路３９から、速度検出値に応じたデジタル電気信号が出力される。異常判定回路４０は、入力された速度検出値と速度基準値とを比較し、このケース（異常停止の事態）では、入力された速度検出値が速度基準値を下回れば、異常発生信号を生成する。出力非常停止回路４１は、異常判定回路４０から異常発生信号を受けたときは、レーザ出力を非常停止させる。レーザ出力を非常停止させる理由は、アニロックスロール２の回転が停止したケースにおいて、上記したと同様である。

次に、アニロックスロール２のロール面２Sの洗浄作業中、ロール面２Sが正常回転しているにもかかわらず、中継ローラ３６がロール面２Sから離れたとき（異常離脱）は、中継ローラ３６の回転は、減速し停止してしまうので、ロータリエンコーダ３８は、ロール面２Sの正常速度を検出できず、中継ローラ３６の減速・停止を検出し、ロータリエンコーダ出力回路３９から、異常検出値に応じたデジタル電気信号が出力される。異常判定回路４０は、入力された速度検出値と速度基準値とを比較し、このケース（異常事態）では、入力された速度検出値が速度基準値を下回るので、異常発生信号を生成する。出力非常停止回路４１は、異常判定回路４０から異常発生信号を受けたときは、レーザ出力を非常停止させる。レーザ出力を非常停止させる理由は、受光面が集光レンズの結像面から光軸方向にずれている状態でのデフォーカス照射が続けば、洗浄品質を著しく損なうことになるためである。

この実施形態によれば、母材に損傷を与えかねない不測の事態を回避できる。加えて、洗浄むらが起きない、高品質の再生ロールを得ることができる。

なお、上記実施形態では、アニロックスロール２の回転が停止又は減速する場合について述べたが、アニロックスロール２の回転が増加する場合についても、レーザ出力を停止又は弱めるように構成しても良い。加えて、上記実施形態では、出力非常停止回路４１が、異常発生時、レーザ出力を非常停止させる構成としたが、母材に熱的損傷を与えない範囲で、レーザ出力を弱める構成（出力低下制御）としても良い。
また、出力非常停止手段としては、図１４の回路構成に限らず、他の回路構成を用いて具現してもよく、また、ハードウエア構成に代えて、ソフトウエア構成で具現しても良い。
ロータリエンコーダは、たとえば、カプリングを用いる接触式のものに限らず、たとえば、電磁結合方式を採用する非接触式のものを用いるようにしても良い。また、中継ローラ３６を用いずに、エンコーダローラ３７を直接アニロックスロール２のロール面２Sに当接する構成としても良い。

以上、この発明の実施形態を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれる。たとえば、上述の実施形態では、高エネルギ密度熱源としてＹＡＧレーザを用いたが、これに限らず、たとえば、CO2レーザなどの気体レーザ、ArFレーザ、KrFレーザなどのエキシマレーザ、YVO４などの固体レーザ、増幅媒質にファイバを利用したファイバレーザを用いるようにしても良い。また、上述の実施形態では、ガルバノスキャナを用いるようにしたが、これに限らず、たとえば、往復運動形モータスキャナを用いるようにしても良い。

また、レーザ照射ヘッド８の滑走／移動手段として、方向固定型の車輪を用いるようにしたが、これに代えて、方向自在型の車輪、又は自在ボール（ボールキャスタ）を用いても良い。たとえば、自在ボールを用いるようにすれば、アニロックスロールのロール面上を円周方向だけ又は長手方向だけに限らず、円周方向にも長手方向にも自在にシフト移動できるので、洗浄作業を円滑に行うことができる。また、車輪や自在ボールは、４輪（４ボール）に限らず、簡便性が望まれるなら、２輪、３輪でも良く、単輪でも良い。また、車輪として、図８に示すように、円筒形（又は円柱形）のローラ１３ｂを用いれば、ロール面への着地を一段と安定させることができる。また、上述の実施形態では、マスク部材を左右一対設けるようにしたが、これに限らず、たとえば、基体に、走査幅に応じたスリットを設けて構成しても良い、

また、非常時検知手段についても、図１２、図１３に示すロータリエンコーダ構成のものに限らない。たとえば、光センサや圧力センサなどを用いて構成することもできる。

また、レーザ照射ヘッドの移動速度又は移動速度の程度を検知する移動検知手段を設け、操作者が、レーザ照射ヘッドを手で持って、又は、案内レール上をアニロックスロールの軸方向に移動させて洗浄作業をしている際、移動検知手段の検知結果に基づいて、レーザ照射ヘッドの駆動を制御するようにすれば、一段と均一で高品位の洗浄を実現できる。この移動検知手段は、たとえば、上記したようなロータリエンコーダを用いて構成することができる。
ここで、上記移動検知手段によって、移動速度が速いと検知されたときは、レーザ出力を高め、あるいは、走査周波数を上げ、移動速度が遅いと検知されたときは、レーザ出力を下げ、あるいは、走査周波数を下げる制御を行う。

この発明は、フレキソ印刷で使用されるアニロックスロールに限らず、たとえば、フレキソ印刷以外の凸版印刷、オフセット印刷、グラビア印刷でもアニロックスロールがインキ調量手段として使用される限り、その洗浄にも適用できる。

２ アニロックスロール
２１ セラミック被膜
２２ セル
２３ 洗浄施工部位
Ｒ インキやニスの残滓
７ 集光レンズ
８、２５ レーザ照射ヘッド
Ｌ レーザビーム
９ 制御ユニット（制御部）
１１、１１ａ 取っ手
１２、１２ａ 脚部
１３、１３ａ、１３ｂ 車輪（滑走／移動手段）
１４、１８ 案内レール
３０ 高さ調節機能
３１ マスク部材（マスキング手段）
３３ リターン信号生成回路（マスキング手段）
３４ マスキング回路（マスキング手段）
３５ 出力制御回路（マスキング手段）
３７ エンコーダローラ（非常時検知手段）
４０ 異常事態判定回路（出力非常停止手段）
４１ 出力非常停止回路（出力非常停止手段）

Claims (12)

1. 所定の出力条件でレーザビームを出力する光源部と、該光源部から出力される前記レーザビームを集光させて高パワー密度のレーザスポットを生成する集光光学系と、多数のセルが配列されてなるアニロックスロールのロール面を前記レーザスポットで往復走査しながら照射して当該ロール面に付着しているインク残滓を蒸発又は昇華させて放出除去するスポット走査系とからなるレーザ照射ヘッドと、
   該レーザ照射ヘッドの駆動を制御する制御部とを備えてなるアニロックスロール洗浄装置であって、
   前記スポット走査系が、前記往復走査の折り返し点及びその近傍で動作するときには、前記アニロックスロールのロール面への前記レーザスポットの照射を遮断し、あるいは、停止又は弱めるマスキング手段が設けられていることを特徴とするアニロックスロール洗浄装置。
2. 前記スポット走査系は、所定の周波数・所定の角度範囲で、ミラーを振って前記レーザスポットを前記往復走査させるためのガルバノスキャナからなるとともに、
   前記ミラーが最大触れ角及びその近傍に到達したときには、前記アニロックスロールのロール面への前記レーザスポットの照射を遮断し、あるいは、停止又は弱めるマスキング手段が備えられていることを特徴とする請求項１記載のアニロックスロール洗浄装置。
3. 前記マスキング手段は、電気信号系からなると共に、請求項１に記載の前記スポット走査系が、前記往復走査の折り返し点及びその近傍で動作するとき、又は、請求項２に記載の前記ガルバノスキャナの前記ミラーが最大触れ角及びその近傍に位置するときには、マスキング信号を生成して、前記レーザビームの出力を停止又は減少させることを特徴とする請求項１又は２記載のアニロックスロール洗浄装置。
4. 前記マスキング手段は、前記レーザスポットによる熱的損傷を受けにくいマスク部材からなると共に、請求項１に記載の前記スポット走査系が、前記往復走査の折り返し点及びその近傍で動作するとき、又は、請求項２に記載の前記ガルバノスキャナの前記ミラーが最大触れ角及びその近傍に位置するときには、前記マスク部材が、前記アニロックスロールのロール面へのレーザスポットの照射を遮断することを特徴とする請求項１又は２記載のアニロックスロール洗浄装置。
5. 前記レーザ照射ヘッドには、操作者が手で持って洗浄作業を行うための取っ手が備えられていることを特徴とする請求項１乃至４のうちの何れか一に記載のアニロックスロール洗浄装置。
6. 所定の出力条件でレーザビームを出力する光源部と、該光源部から出力される前記レーザビームを集光させて高パワー密度のレーザスポットを生成する集光光学系と、多数のセルが配列されてなるアニロックスロールのロール面を前記レーザスポットで走査しながら照射して当該ロール面に付着しているインク残滓を蒸発又は昇華させて放出除去するスポット走査系とからなるレーザ照射ヘッドと、
   該レーザ照射ヘッドの駆動を制御する制御部とを備えてなるアニロックスロール洗浄装置であって、
   前記レーザ照射ヘッドを前記アニロックスロールのロール面の長さ方向に沿って案内移動させる案内レールが設けられていることを特徴とするアニロックスロール洗浄装置。
7. 前記案内レールは、両端側で別個独立に高さ調節機能を備えた高架式レール機構からなることを特徴とする請求項６記載のアニロックスロール洗浄装置。
8. 所定の出力条件でレーザビームを出力する光源部と、該光源部から出力される前記レーザビームを集光させて高パワー密度のレーザスポットを生成する集光光学系と、多数のセルが配列されてなるアニロックスロールのロール面を前記レーザスポットで走査しながら照射して当該ロール面に付着しているインク残滓を蒸発又は昇華させて放出除去するスポット走査系とからなるレーザ照射ヘッドと、
   該レーザ照射ヘッドの駆動を制御する制御部とを備えてなるアニロックスロール洗浄装置であって、
   前記レーザ照射ヘッドは、前記アニロックスロールのロール面に当接されてレーザ照射ヘッド本体を支える単数又は複数の回転体をさらに有し、
   前記スポット走査系は、前記回転体が前記アニロックスロールの回転に伴って従動回転する状態で、前記アニロックスロールの回転するロール面を前記レーザスポットで走査しながら照射する態様に構成されていることを特徴とするアニロックスロール洗浄装置。
9. 前記アニロックスロールの洗浄時、前記回転体が、前記アニロックスロールのロール面から離れたとき、又は、前記アニロックスロールの回転が停止又は急減速したときには、前記レーザビームの出力を非常停止させる出力非常停止手段が設けられていることを特徴とする請求項８記載のアニロックスロール洗浄装置。
10. 前記回転体の回転を監視又は計測することにより、前記アニロックスロールの洗浄時、前記回転体が、前記ロール面から離れたこと、又は、前記アニロックスロールの回転が停止又は急減速したことを検知する非常時検知手段が設けられていることを特徴とする請求項９記載のアニロックスロール洗浄装置。
11. 前記アニロックスロールの洗浄時、前記レーザ照射ヘッドの移動速度又は移動速度の程度を検知する移動検知手段を備えてなると共に、該移動検知手段の検知結果に基づいて、前記レーザ照射ヘッドの駆動を制御することを特徴とする請求項１乃至１０のうちの何れか一に記載のアニロックスロール洗浄装置。
12. 前記移動検知手段によって、移動速度が速いと検知されたときは、レーザ出力を高め、あるいは、走査周波数を上げ、移動速度が遅いと検知されたときは、レーザ出力を下げ、あるいは、走査周波数を下げる制御が行われることを特徴とする請求項１１記載のアニロックスロール洗浄装置。

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