JP6332109B2 - ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法 - Google Patents
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請求項1:
透明基板上に、ケイ素を含有するターゲットと、窒素及び酸素の一方又は双方を含有する反応性ガスとを用い、反応性スパッタにより、ケイ素と、窒素及び酸素の一方又は双方とを含有するハーフトーン位相シフト膜を形成するハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法であって、
上記ハーフトーン位相シフト膜を第1の層及び第2の層を含む複数層で構成し、
上記ターゲットに印加する電力を一定として、チャンバー内に導入する反応性ガス流量を、増加させた後減少させることにより掃引したとき、上記反応性ガス流量と、該反応性ガス流量の掃引により測定されるターゲット電圧値又はターゲット電流値とにより形成されるヒステリシス曲線において、
上記第1の層及び第2の層のうち、一方の層のスパッタにおいては、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限以下の反応性ガス流量を、他方の層のスパッタにおいては、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限及び上限の双方より内側の反応性ガス流量を、各々設定して、上記第1の層及び第2の層を形成することを特徴とするハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。
請求項2
上記他方の層を、
ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限におけるターゲット電圧値VLと、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の上限におけるターゲット電圧値VHとの差に対し、反応性ガス流量の増加時に示されるターゲット電圧値VAと、反応性ガス流量の減少時に示されるターゲット電圧値VDとの差が±15%以内である反応性ガス流量、又は
ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限におけるターゲット電流値ILと、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の上限におけるターゲット電流値IHとの差に対し、反応性ガス流量の増加時に示されるターゲット電流値IAと、反応性ガス流量を減少させたときに示されるターゲット電流値IDとの差が±15%以内である反応性ガス流量
を設定して形成することを特徴とする請求項1記載のハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。
請求項3:
上記他方の層を、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限と上限との平均値以上である反応性ガス流量を設定して形成することを特徴とする請求項1又は2記載のハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。
請求項4:
上記反応性ガスが、窒素ガス(N2)又は酸素ガス(O2)を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。
請求項5:
上記ケイ素を含有するターゲットが、ケイ素のみからなるターゲットであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載のハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。
請求項6:
上記ハーフトーン位相シフト膜が、遷移金属を含有しないことを特徴とする請求項5記載のハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。
本発明においては、ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクを、石英基板等の透明基板上に、ケイ素を含有するターゲットと、窒素及び酸素の一方又は双方を含有する反応性ガスとを用い、反応性スパッタにより、ケイ素と、窒素及び酸素の一方又は双方とを含有するハーフトーン位相シフト膜を形成する。
反応性ガス流量増加時のターゲット電圧値をVA、反応性ガス流量減少時のターゲット電圧値をVDとしたとき、下記式(1−1)
(VA−VD)/{(VA+VD)/2}×100 (1−1)
で求められる変化率、又は
反応性ガス流量増加時のターゲット電流値をIA、反応性ガス流量減少時のターゲット電流値をIDとしたとき、下記式(1−2)
(ID−IA)/{(IA+ID)/2}×100 (1−2)
で求められる変化率
が、ヒステリシス領域の中央部から下限側又は上限側に向かって徐々に減少して、例えば2%以下となった点、特に、実質的にほとんどゼロになった点を、ヒステリシス領域の反応性ガスの量の下限又は上限とすることができる。
ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限におけるターゲット電圧値VLと、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の上限におけるターゲット電圧値VHとの差に対し、反応性ガス流量の増加時に示されるターゲット電圧値VAと、反応性ガス流量の減少時に示されるターゲット電圧値VDとの差が±15%以内(即ち、−15%〜+15%)、好ましくは±10%以内(即ち、−10%〜+10%)である反応性ガス流量、又は
ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限におけるターゲット電流値ILと、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の上限におけるターゲット電流値IHとの差に対し、反応性ガス流量の増加時に示されるターゲット電流値IAと、反応性ガス流量を減少させたときに示されるターゲット電流値IDとの差が±15%以内(即ち、−15%〜+15%)、好ましくは±10%以内(即ち、−10%〜+10%)である反応性ガス流量
を設定して形成することが好ましい。
ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限におけるターゲット電圧値VLと、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の上限におけるターゲット電圧値VHとから、下記式(2−1)
(VL−VH)/{(VL+VH)/2}×100 (2−1)
で求められる変化率、又は
ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限におけるターゲット電流値ILと、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の上限におけるターゲット電流値IHとから、下記式(2−2)
(IH−IL)/{(IL+IH)/2}×100 (2−2)
から求められる変化率
が15%以上であるヒステリシス曲線が形成される場合において、特に効果的である。
ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限におけるターゲット電圧値VLと、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の上限におけるターゲット電圧値VHとの差に対し、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限と上限との平均値における、反応性ガス流量の増加時に示されるターゲット電圧値VAと、反応性ガス流量の減少時に示されるターゲット電圧値VDとの差、又は
ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限におけるターゲット電流値ILと、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の上限におけるターゲット電流値IHとの差に対し、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限と上限との平均値における、反応性ガス流量の増加時に示されるターゲット電流値IAと、反応性ガス流量の減少時に示されるターゲット電流値IDとの差
が+10%以上又は−10%以下であるヒステリシス曲線が形成される場合において、特に効果的である。
スパッタ装置のチャンバー内に、152mm角、厚さ6.35mmの石英基板を設置し、スパッタターゲットとしてケイ素ターゲット、スパッタガスとしてアルゴンガス及び窒素ガスを用い、ターゲットに印加する電力及びアルゴンガスの流量を一定にし、窒素ガスの流量を変化させたときにターゲットに流れる電流を測定することにより、ヒステリシス曲線を得た。具体的には、ターゲットに印加する電力を1kWとし、アルゴンガスを17sccm、窒素ガスを5sccmチャンバー内に流した状態でスパッタを開始し、窒素ガス流量を毎秒0.1sccmずつ、最終的に窒素ガス流量を50sccmまで増加させ、その条件を30秒保持した後、今度は、逆に50sccmから毎秒0.1sccmずつ窒素流量を5sccmまで減少させた。得られたヒステリシス曲線を図1に示す。図1において、実線は、窒素ガス流量を増加させたときのターゲット電流、破線は窒素ガス流量を減少させたときのターゲット電流を示す。
・位相差の面内分布[%]=(PS(I)−PS(E))/{(PS(I)+PS(E))/2}×100 (3−1)
(式中、PS(I)は交点での位相差、PS(E)は上記任意の1点での位相差である。)
・透過率の面内分布[%]=(T(I)−T(E))/{(T(I)+T(E))/2}×100 (3−2)
(式中、T(I)は交点での透過率、T(E)は上記任意の1点での透過率である。)
実施例1で得られたヒステリシス曲線に基づき、152mm角、厚さ6.35mmの石英基板に、スパッタターゲットとしてケイ素ターゲットを用い、スパッタガスとして窒素ガスとアルゴンガスを用い、実施例1で得られたヒステリシス領域の窒素ガス流量の上下限より内側である遷移モードの条件(図1中、Bで示される条件:アルゴンガス流量:17.0sccm、窒素ガス流量:19.1sccm、ターゲット印加電力:1kW)のみで、組成比が原子比でSi:N=47:53である単層からなるSiNのハーフトーン位相シフト膜を形成した。得られたハーフトーン位相シフト膜の位相差は177deg、透過率は6.0%、膜厚は62nmであった。また、面内分布は位相差が−1.0%、透過率が−10.8%であり、面内均一性が悪かった。
Claims (6)
- 透明基板上に、ケイ素を含有するターゲットと、窒素及び酸素の一方又は双方を含有する反応性ガスとを用い、反応性スパッタにより、ケイ素と、窒素及び酸素の一方又は双方とを含有するハーフトーン位相シフト膜を形成するハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法であって、
上記ハーフトーン位相シフト膜を第1の層及び第2の層を含む複数層で構成し、
上記ターゲットに印加する電力を一定として、チャンバー内に導入する反応性ガス流量を、増加させた後減少させることにより掃引したとき、上記反応性ガス流量と、該反応性ガス流量の掃引により測定されるターゲット電圧値又はターゲット電流値とにより形成されるヒステリシス曲線において、
上記第1の層及び第2の層のうち、一方の層のスパッタにおいては、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限以下の反応性ガス流量を、他方の層のスパッタにおいては、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限及び上限の双方より内側の反応性ガス流量を、各々設定して、上記第1の層及び第2の層を形成することを特徴とするハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。 - 上記他方の層を、
ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限におけるターゲット電圧値VLと、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の上限におけるターゲット電圧値VHとの差に対し、反応性ガス流量の増加時に示されるターゲット電圧値VAと、反応性ガス流量の減少時に示されるターゲット電圧値VDとの差が±15%以内である反応性ガス流量、又は
ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限におけるターゲット電流値ILと、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の上限におけるターゲット電流値IHとの差に対し、反応性ガス流量の増加時に示されるターゲット電流値IAと、反応性ガス流量を減少させたときに示されるターゲット電流値IDとの差が±15%以内である反応性ガス流量
を設定して形成することを特徴とする請求項1記載のハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。 - 上記他方の層を、ヒステリシス領域の反応性ガス流量の下限と上限との平均値以上である反応性ガス流量を設定して形成することを特徴とする請求項1又は2記載のハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。
- 上記反応性ガスが、窒素ガス(N2)又は酸素ガス(O2)を含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項記載のハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。
- 上記ケイ素を含有するターゲットが、ケイ素のみからなるターゲットであることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項記載のハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。
- 上記ハーフトーン位相シフト膜が、遷移金属を含有しないことを特徴とする請求項5記載のハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP16160126.5A EP3086174B1 (en) | 2015-03-31 | 2016-03-14 | Method for preparing halftone phase shift photomask blank |
US15/078,114 US9778559B2 (en) | 2015-03-31 | 2016-03-23 | Method for preparing halftone phase shift photomask blank |
TW105110116A TWI634381B (zh) | 2015-03-31 | 2016-03-30 | 半色調相位移型空白光罩之製造方法 |
KR1020160038021A KR101900548B1 (ko) | 2015-03-31 | 2016-03-30 | 하프톤 위상 시프트형 포토마스크 블랭크의 제조 방법 |
CN201610195948.6A CN106019812B (zh) | 2015-03-31 | 2016-03-31 | 制备半色调相移光掩模坯的方法 |
SG10201602528SA SG10201602528SA (en) | 2015-03-31 | 2016-03-31 | Method For Preparing Halftone Phase Shift Photomask Blank |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015072925 | 2015-03-31 | ||
JP2015072925 | 2015-03-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016194626A JP2016194626A (ja) | 2016-11-17 |
JP6332109B2 true JP6332109B2 (ja) | 2018-05-30 |
Family
ID=57323536
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015074783A Active JP6332109B2 (ja) | 2015-03-31 | 2015-04-01 | ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランクの製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6332109B2 (ja) |
TW (1) | TWI634381B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6500791B2 (ja) * | 2016-01-22 | 2019-04-17 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク及びその製造方法 |
JP6672204B2 (ja) * | 2017-03-14 | 2020-03-25 | キヤノン株式会社 | 反応性スパッタリングの成膜装置、および成膜方法 |
JP6819546B2 (ja) * | 2017-11-13 | 2021-01-27 | 信越化学工業株式会社 | フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法 |
TWI676076B (zh) * | 2018-04-27 | 2019-11-01 | 台灣美日先進光罩股份有限公司 | 光罩、光罩的製造方法及半導體光罩基板 |
KR102254646B1 (ko) * | 2018-07-30 | 2021-05-21 | 호야 가부시키가이샤 | 포토마스크 수정 방법, 포토마스크의 제조 방법, 포토마스크, 및 표시 장치용 디바이스의 제조 방법 |
JP7192731B2 (ja) * | 2019-09-27 | 2022-12-20 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク、その製造方法、及びハーフトーン位相シフト型フォトマスク |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3064769B2 (ja) * | 1992-11-21 | 2000-07-12 | アルバック成膜株式会社 | 位相シフトマスクおよびその製造方法ならびにその位相シフトマスクを用いた露光方法 |
JP4486838B2 (ja) * | 2003-04-25 | 2010-06-23 | 旭硝子株式会社 | 酸化ケイ素膜の製造方法および光学多層膜の製造方法 |
JP4876619B2 (ja) * | 2006-02-21 | 2012-02-15 | ソニー株式会社 | 反応性スパッタリング装置及び成膜方法 |
US8936702B2 (en) * | 2006-03-07 | 2015-01-20 | Micron Technology, Inc. | System and method for sputtering a tensile silicon nitride film |
JP2009249677A (ja) * | 2008-04-04 | 2009-10-29 | Asahi Glass Co Ltd | マグネトロンスパッタ装置、成膜方法、及び光学部品の製造方法 |
JP5910361B2 (ja) * | 2011-07-14 | 2016-04-27 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法及びレジスト組成物 |
JP5746005B2 (ja) * | 2011-11-29 | 2015-07-08 | 信越化学工業株式会社 | ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 |
JP5739375B2 (ja) * | 2012-05-16 | 2015-06-24 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法 |
EP2913422B1 (en) * | 2012-10-23 | 2020-04-01 | Shincron Co., Ltd. | Thin film formation apparatus and method of forming thin film |
JP6373607B2 (ja) * | 2013-03-08 | 2018-08-15 | Hoya株式会社 | マスクブランクの製造方法および位相シフトマスクの製造方法 |
JP6264238B2 (ja) * | 2013-11-06 | 2018-01-24 | 信越化学工業株式会社 | ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク、ハーフトーン位相シフト型フォトマスク及びパターン露光方法 |
-
2015
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2016
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Publication number | Publication date |
---|---|
TWI634381B (zh) | 2018-09-01 |
TW201704845A (zh) | 2017-02-01 |
JP2016194626A (ja) | 2016-11-17 |
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