JP6295095B2 - 過酸化水素ガス殺菌システムのガス濃度モニタリング装置 - Google Patents
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- Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
Description
(1)充填包装機械の過酸化水素ガス殺菌システムにおける過酸化水素ガス濃度のリアルタイムモニタリング装置であって、前記過酸化水素ガス殺菌システムが、過酸化水素水のガス化装置、該ガス化装置により生成する過酸化水素ガスとガス化用エアとが混合した過酸化水素含有エアのガス噴出口部、ガス化装置とガス噴出口部とを連通する主流搬送ライン、及び、ガス噴出口部が開口する殺菌室を備え、前記モニタリング装置が、分岐ラインと希釈ラインと過酸化水素ガス濃度検出部とを備え、前記分岐ラインが、前記主流搬送ライン又は殺菌室から過酸化水素含有エアの一部をサンプリングガスとして分取するため、主流搬送ライン又は殺菌室に内設又は配設されたガス分取開口端部と、サンプリングガスを希釈ライン内で希釈するため、希釈ラインに内設又は配設されたガス導出開口端部をその両端に有し、前記希釈ラインが、その一端が高圧エア源に接続された、一定流量の希釈用エアの供給口部と、前記分岐ラインのガス導出開口端部において、サンプリングガスを希釈用エアにより希釈・混合するミキシング部と、希釈・混合されたサンプリングガスを過酸化水素ガス濃度検出部に送出する送出部とを備え、希釈ライン内の圧力を主流搬送ライン又は殺菌室内の圧力より低下させることによって、主流搬送ライン又は殺菌室内の過酸化水素含有エアの一定量をサンプリングガスとして、前記分岐ラインを介して、希釈ライン内に吸引することを特徴とするモニタリング装置。
(2)分岐ラインに、オリフィス又は流量調整ニードルが設けられていることを特徴とする上記(1)記載のモニタリング装置。
(3)分岐ラインのガス分取開口端が、過酸化水素含有エアの噴出口部の上流近傍の主流搬送ラインに内設されていることを特徴とする上記(1)又は(2)記載のモニタリング装置。
(4)分岐ラインのガス分取開口端が、過酸化水素含有エア流の下流に向かって開口するように配設されていることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれか記載のモニタリング装置。
(5)ガス化装置におけるガス化用エア量が200〜500L/分であることを特徴とする上記(1)〜(4)のいずれか記載のモニタリング装置。
(6)希釈用エア量が100〜120L/分であることを特徴とする上記(5)記載のモニタリング装置。
(7)希釈用エア量と吸引量の関係から算出することができる希釈倍率が30〜40倍であることを特徴とする上記(1)〜(6)のいずれか記載のモニタリング装置。
ガス化装置のヒーターはOFFの状態、エア温度20℃で行った。ガス化装置に所定のエアおよびガス希釈用エアを所定量供給したときの容器殺菌用ガス化装置ライン(主流)からガス濃度測定ライン(支流)に吸引される量をSMCフロースイッチで測定した。結果を[表1]に示す。その結果、希釈用エア量が増加することで吸引量が増えていることがわかる。
ガス化装置に所定のエアおよびガス希釈用エアを所定量供給したときの容器殺菌用ガス化装置ライン(主流)からガス濃度測定ライン(支流)に吸引される量をSMCフロースイッチで測定した。ガス化装置のヒーターを各温度に設定し、吸引される量を測定した。また、希釈用エア量は80L/分で固定した。結果を[表2]に示す。その結果、ヒーターをON=エア温度が上昇しても吸引量にはほとんど影響を及ぼさないことがわかる。
ガス化装置に所定のエアおよびガス希釈用エアを所定量供給したときの容器殺菌用ガス化装置ライン(主流)からガス濃度測定ライン(支流)に吸引される量をSMCフロースイッチで測定した。ガス化装置のヒーターを各温度に設定し、吸引される量を測定した。また、希釈用エア量は100L/分で固定した。結果を[表3]に示す。その結果、ヒーターをON=エア温度が上昇しても吸引量にはほとんど影響を及ぼさないことがわかる。
希釈倍率を、表1のデータより次式により求めた。
希釈倍率={(希釈用エア量+吸引量)÷吸引量}
算出結果を[表4]に示す。その結果、ガス希釈用エア量は100〜120L/分、ガス化トータルエア量200〜500L/分で管理することが好ましいことがわかる。
微粒子化用エア量=20L/分で固定、ガス化用エア量=400L/分で固定、ガス化用トータルエア量=420L/分、H2O2流量=約10ml/分の条件下、ガス希釈用エア量、ガス化用ヒーター温度を変え、分岐ラインに設置したガス濃度センサー表示値よりガス濃度を換算した。結果を[表5]に示す。その結果、ガス希釈用エア量100〜120L/分において、ガス濃度計表示値は非常に近値となっており、ガス濃度管理として使用可能であり、理論上のガス濃度値からのズレは10%程度であることがわかる。
H2O2量、希釈用エア量、ガス化用ヒーター温度一定条件の下、すなわち、希釈用エア量=100L/分で固定、H2O2流量=10ml/分で固定、ガス化用ヒーター温度=300℃で固定、H2O2濃度=35.4%の条件下、ガス化用エア量を変化させ、分岐ラインに設置したガス濃度センサーにて濃度を測定した。結果を[表6]に示す。その結果、ガス化用エア量を変化させた場合、ガス濃度もそれに追随し反応していることがわかる。
ガス化用エア量、ガス化用ヒーター温度、希釈用エア量一定条件の下、すなわち、希釈用エア量=100L/分で固定、ガス化用エア量=400L/分で固定、ガス化用ヒーター温度=300℃で固定の条件下、H2O2量を可変し、分岐ラインに設置したガス濃度センサーにて濃度を測定した。結果を[表7]に示す。その結果、H2O2量を変化させた場合、ガス濃度もそれに追随し反応していることが分かる。
ヒーター温度、希釈用エア量、ガス化用エア量等を[表8]に示す一定条件下、H2O2量を変化させ、分岐ラインに設置したガス濃度センサー(ATI社製過酸化水素ガス濃度計)にて濃度を測定した。結果を[表9]に示す。その結果、H2O2設定値に対し、±3mlの幅でインターロックを設定すれば、ガス濃度管理用として十分な機能を有していることがわかった。すなわち、設定値に対して±3ml/分で上下限値を設けてやれば、例えば15ml/分を設定値(正常値)、12ml/分を下限値、18ml/分を上限値とすると、ガス濃度センサーで十分管理できることがわかる。
2 H2O2水貯留タンク
3 H2O2水送液パイプ
4 H2O2水送液ポンプ
5 計量計
6 ガス温度測定用熱電対
7 主流搬送ライン
8 過酸化水素含有エアのガス噴出口部
10 ガス化装置
11 H2O2微粒子化エア量管理用フローメータ
12 H2O2微粒子化エアパイプ
13 微粒子化用の気液混合二重管構造の噴霧ノズル
14 ブロワー
15 ヒータ
16 ヒータ制御用熱電対
17 H2O2ガス化用エアパイプ(熱風管)
18 ガス化タンク
20 分岐ライン
21 ガス分取開口端部
22 ガス導出開口端部
23 流量調整ニードル
24 吸引量測定用フロースイッチ
30 希釈ライン
31 希釈用エア量調整用レギュレータ
32 希釈用エア量管理用フローメータ
33 除菌フィルタ
34 希釈用エアの供給口部
35 ミキシング部
36 送出部
37 低濃度低温H2O2ガス分解用ハニカム触媒
40 過酸化水素ガス濃度検出部
41 H2O2ガス濃度計センサ
42 H2O2ガス濃度計表示部
50 チャンバー
51 殺菌室
52 容器外面殺菌装置
53 容器内面殺菌装置
C 容器
Claims (5)
- 充填包装機械の過酸化水素ガス殺菌システムにおける過酸化水素ガス濃度のリアルタイムモニタリング装置であって、
前記過酸化水素ガス殺菌システムが、過酸化水素水のガス化装置、該ガス化装置により生成する過酸化水素ガスとガス化用エアとが混合した過酸化水素含有エアのガス噴出口部、ガス化装置とガス噴出口部とを連通する主流搬送ライン、及び、ガス噴出口部が開口する殺菌室を備え、
前記モニタリング装置が、分岐ラインと希釈ラインと過酸化水素ガス濃度検出部とを備え、
前記分岐ラインが、前記主流搬送ライン又は殺菌室から過酸化水素含有エアの一部をサンプリングガスとして分取するため、主流搬送ライン又は殺菌室に内設又は配設されたガス分取開口端部と、サンプリングガスを希釈ライン内で希釈するため、希釈ラインに内設又は配設されたガス導出開口端部をその両端に有し、
前記希釈ラインが、その一端が高圧エア源に接続された、一定流量の希釈用エアの供給口部と、前記分岐ラインのガス導出開口端部において、サンプリングガスを希釈用エアにより希釈・混合するミキシング部と、希釈・混合されたサンプリングガスを過酸化水素ガス濃度検出部に送出する送出部とを備え、
希釈ライン内の圧力を主流搬送ライン又は殺菌室内の圧力より低下させることによって、主流搬送ライン又は殺菌室内の過酸化水素含有エアの一定量をサンプリングガスとして、前記分岐ラインを介して、希釈ライン内に吸引することを特徴とするモニタリング装置。 - 分岐ラインに、オリフィス又は流量調整ニードルが設けられていることを特徴とする請求項1記載のモニタリング装置。
- 分岐ラインのガス分取開口端が、過酸化水素含有エアの噴出口部の上流近傍の主流搬送ラインに内設されていることを特徴とする請求項1又は2記載のモニタリング装置。
- 分岐ラインのガス分取開口端が、過酸化水素含有エア流の下流に向かって開口するように配設されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか記載のモニタリング装置。
- 請求項1〜4のいずれか記載のモニタリング装置を用いて、
ガス化装置におけるガス化用エア量を200〜500L/分とし、希釈用エア量を100〜120L/分とし、希釈用エア量と吸引量の関係から算出することができる希釈倍率を30〜40倍とすることを特徴とする、充填包装機械の過酸化水素ガス殺菌システムにおける過酸化水素ガス濃度をモニタリングする方法。
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