JP6293762B2 - 雑音を低減した位置監視システム - Google Patents
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- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 title claims description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 94
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 78
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 claims description 66
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 35
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 35
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 34
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 27
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 18
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 claims description 11
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims description 10
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 10
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 8
- BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N bis(2-ethylhexyl) phthalate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC(CC)CCCC BJQHLKABXJIVAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 6
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 4
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 4
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 2
- 241000849798 Nita Species 0.000 claims 3
- 230000001934 delay Effects 0.000 claims 3
- 210000004185 liver Anatomy 0.000 claims 3
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 13
- 230000006870 function Effects 0.000 description 9
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 4
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 4
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 4
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 238000001393 microlithography Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 2
- 235000012097 Eugenia cumini Nutrition 0.000 description 1
- 244000078732 Syzygium cumini Species 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 210000001520 comb Anatomy 0.000 description 1
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- BTCSSZJGUNDROE-UHFFFAOYSA-N gamma-aminobutyric acid Chemical compound NCCCC(O)=O BTCSSZJGUNDROE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000000819 phase cycle Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/0209—Low-coherence interferometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02041—Interferometers characterised by particular imaging or detection techniques
- G01B9/02044—Imaging in the frequency domain, e.g. by using a spectrometer
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02062—Active error reduction, i.e. varying with time
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/02062—Active error reduction, i.e. varying with time
- G01B9/02064—Active error reduction, i.e. varying with time by particular adjustment of coherence gate, i.e. adjusting position of zero path difference in low coherence interferometry
- G01B9/02065—Active error reduction, i.e. varying with time by particular adjustment of coherence gate, i.e. adjusting position of zero path difference in low coherence interferometry using a second interferometer before or after measuring interferometer
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/0207—Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/0207—Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer
- G01B9/02072—Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer by calibration or testing of interferometer
- G01B9/02074—Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer by calibration or testing of interferometer of the detector
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B2290/00—Aspects of interferometers not specifically covered by any group under G01B9/02
- G01B2290/60—Reference interferometer, i.e. additional interferometer not interacting with object
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B9/00—Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
- G01B9/02—Interferometers
- G01B9/02055—Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
- G01B9/0207—Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer
- G01B9/02072—Error reduction by correction of the measurement signal based on independently determined error sources, e.g. using a reference interferometer by calibration or testing of interferometer
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Description
i)広帯域スペクトル光源と、
ii)少なくとも1つのセンサモジュールであって、各センサモジュールは、光源から生成された光を受け取り、光の部分を別個のパスに沿って向け、続けて光の部分を再結合するように構成される干渉計を備え、パスの少なくとも1つは物体に接触し、各センサモジュールは、再結合された光の部分を測定し、センサ出力信号を生成するように構成される検出器をさらに備える、少なくとも1つのセンサモジュールと、
iii)少なくとも1つの強度モニタであって、各強度モニタは、光源から生成された追加の光の強度を測定し、モニタ出力信号を生成するように構成される検出器を備える、少なくとも1つの強度モニタと、
iv)センサ出力信号及びモニタ出力信号を受信し、モニタ出力信号に基づいてセンサ出力信号を処理し、光源によって出力される光の強度変動を特定し、物体の位置変化についての情報を特定するように構成される電子処理モジュールと、
を含む。
特定の実施形態では、強度モニタは、複数の異なるスペクトルチャネルでの強度を測定して、波長の関数として強度変動を特徴付けるように構成することができる。例えば、複数の異なるスペクトルチャネルでの強度を測定するように構成される強度モニタは、プリズム、波長フィルタ、回折格子、走査型ファブリーペローエタロン、固定型エタロン、又は追加の干渉計を含むことができる。
補償を適用して、補正済み距離測定値を生成する前に、第1の複数のモニタキャビティによって検出される強度値を処理して測定距離をも取得することと、
をさらに含むことができる。
本明細書に記載される趣旨の1つ又は複数の実施形態の詳細は、添付図面及び以下の詳細な説明に記載される。趣旨の特徴、態様、及び利点は、説明、図面、及び特許請求の範囲から明らかになろう。
開示される技法は、性能が光源強度雑音によって制限される任意の干渉法距離測定システムの改良に関する。例えば、開示される技法は、スペクトル広帯域光源の強度雑音を低減することができる。
図5は、物体550の距離の測定に使用される例示的な分散光ファイバ結合キャビティ型干渉システム(distributed fiber-optic, coupled-cavity type interferometric system)500を示し、これは、本願の所有者が所有し、参照により本願に援用される米国特許7,826,064号明細書、同第7,639,367号明細書、及び同第7,636,166号明細書(064号特許)に記載されている。図5では、図4の結合キャビティ干渉計400と同様に、光源510を光学遅延差によって2つの区別可能なアームに分離する変調器システム520がある。さらに、図4の文脈で説明したように、2つのチャネル間にヘテロダイン周波数シフトがある。064号特許によれば、OPDはセンサのそれぞれ1つで補償され、対応する検出器で干渉信号を生成する。図5は、2つ以上の中心波長を選択するフィルタ532を含むフィルタセクション530も示す。これらの中心波長のそれぞれで、フィルタ532は、変調器システム520のOPDよりも小さなコヒーレンス長を有する、スペクトル広帯域光と見なし得るものを透過させる。波長毎の強度雑音の影響は064号特許では対処されていない。光学増幅器525が、波長フィルタセクション530と変調器システム520との間に位置決めされる。干渉システム500は、波長モニタ570及び参照キャビティ560も含み、これらは両方とも温度制御される。
開示される技法は、式(2)に示される以下のパラメータを確立する装置及び方法を提供する:
1)縞可視度(fringe visibility)V、
2)寄与2kiLの波長依存性を特定するための公称距離L、
3)公称寄与2kiLに関する相対波長独立位相オフセットφ、
4)各強度サンプルの最終的な干渉強度を構成する各波長λiの強度qi。
1)光学増幅器に光学的に結合された、フェムト秒レーザ又は他の装置等の広帯域コヒーレント光源、
2)広いスペクトル帯域幅にわたって高速調整されるレーザ、
3)位相ロックレーザのアレイ。
1)2つ以上の別個の強度モニタ、
2)複数の位相シフトでデータを同時に取得可能な強度モニタ、
3)測定干渉計それ自体と略同じ構造であるが、固定された物体位置を有する強度モニタ。
2.対象の信号(signal of interest)と同時にモニタからの信号を測定し(例えば、強度が各検出器で測定され)、
3.対象の信号を、モニタによって提供される信号に分解し、
4.測定された変動から補償項を構成し、その補償項を対象の信号に適用する。
1.N対のモニタキャビティが、2Nとして既知のOPD値での対象の干渉センサの測定範囲をサンプリングする。追加の強度モニタ(キャビティなし)を任意選択的に使用して、光源の全体強度変動(式6のδI0)を測定することができる。いくつかの実施形態では、モニタキャビティは、直交位相での各OPDでモニタキャビティ対を有する代わりに、各OPDで120°位相シフトによって隔てられる3つのモニタエタロン(three monitors etalons)として提供される。これらの2N+1個全てのモニタで、スペクトル分布が計算されるか、又は測定される。N対のキャビティは、わずかに異なるOPD値を有し、これにより、異なる干渉位相値になり、例えば、位相値は直交位相にあり得る。これは、後のフィッティング手順のために線形依存度がより低いフィッティング関数を提供するためである。
3.対象のセンサはまず、未補正距離測定値を提供し、これにより、センサが見るスペクトル分布の計算が可能になる。例えば、最小近似フィッティングを使用して、そのスペクトル分布は2N+1個のモニタスペクトルに分解され、2N+1個の係数cnが生成される。代替的には、分解を事前に行い、係数をルックアップテーブルで提供することができる。場合によっては、係数の解析的表現が存在し得る。
1.N対のモニタキャビティが、Nとして既知のOPD値での対象の干渉センサの測定範囲をサンプリングする。キャビティ対は、わずかに異なるOPD値を有して異なる干渉位相値になり、例えば、位相値は直交位相にあり得る。
3.対象のセンサはまず、未補正距離測定値Dを提供する。前回の測定値又は同じ若しくは同様の距離での測定シミュレーションに基づいて、光源雑音に起因するセンサの変動がモニタの変動にいかに相関付けられるかがわかる。実際に、対象のセンサの測定距離変動は、例えば、最小二乗フィッティングを使用してモニタによって報告される距離変動に分解することができる。その情報は表化され、この時点で、1組の係数cnとして提供される。
も含むか、又は大容量記憶装置と通信するように動作可能に結合され、そのような装置は、内部ハードディスク及びリムーバブルディスク等の磁気ディスク、磁気光学ディスク、及び光ディスクを含む。コンピュータプログラム命令及びデータの有形具現化に適する記憶装置は、EPROM、EEPROM、及びフラッシュメモリデバイス等の、例として半導体メモリデバイスを含む全ての形態の不揮発性メモリと、リムーバブルディスクと、磁気光学ディスクと、CD−ROM及びDVD−ROMディスクとを含む。プロセッサ及びメモリは、ASIC(特定用途向け集積回路)によって補足してもよく、又はASIC内に組み込まれてもよい。
Claims (72)
- 物体の位置変化を監視する干渉システムであって、
a.広帯域スペクトル光源と、
b.少なくとも1つのセンサモジュールであって、各センサモジュールは、前記光源から生成された光を受け取り、前記光の部分を別個のパスに沿って向け、該光の部分を再結合するように構成される干渉計を含み、前記パスの少なくとも1つは、前記物体に接触し、各センサモジュールは、再結合された光の部分を測定し、センサ出力信号を生成するように構成される検出器をさらに含む、前記少なくとも1つのセンサモジュールと、
c.少なくとも1つの強度モニタであって、各強度モニタは、前記光源から生成された追加の光の強度を測定し、モニタ出力信号を生成するように構成される検出器を含む、前記少なくとも1つの強度モニタと、
d.前記センサ出力信号及び前記モニタ出力信号を受信し、前記モニタ出力信号に基づいて前記センサ出力信号を処理し、前記光源によって出力される光の強度変動を特定し、前記物体の前記位置変化についての情報を特定するように構成される電子処理モジュールであって、前記強度モニタは、スペクトルに応じた方法で前記強度変動を特徴付けるように構成される、前記電子処理モジュールと、
を備える、干渉システム。 - 前記強度モニタは、複数の異なるスペクトルチャネルで前記強度を測定することにより、波長の関数として前記強度変動を特徴付けるように構成される、請求項1に記載の干渉システム。
- 前記少なくとも1つの強度モニタは、
固定光路長差を有する干渉計キャビティを含み、
前記センサモジュール内の前記干渉計の前記別個のパスによって定義される光路長差は、前記強度モニタ内の前記干渉計キャビティの前記固定光路長差を含む範囲にわたるように構成される、請求項1に記載の干渉システム。 - 前記モニタ出力信号は、
異なる位相オフセットでの前記固定光路長差の2つ以上の同時強度測定値を含み、
前記少なくとも1つの強度モニタは、各々、略同じ前記固定光路長差を有しかつ異なる位相オフセットを有する2つ以上の干渉計キャビティを含み、それにより、前記2つ以上の同時強度測定値を提供する、請求項3に記載の干渉システム。 - 前記少なくとも1つの強度モニタは、
前記固定光路長差とは異なる第2の固定光路長差を有する第2の干渉計キャビティを含み、
前記モニタ出力信号は、2つ以上の異なる位相オフセットでの第1及び第2の固定光路長差のそれぞれの同時強度測定値を含む、請求項3に記載の干渉システム。 - 電子プロセッサは、前記モニタ出力信号に基づいて前記センサ出力信号を処理して、前記強度モニタからの前記同時強度測定値の重み付け寄与に基づいて、補正値を特定することにより、前記光源によって出力される光の強度変動を特定するように構成され、
前記補正値は、補正済みセンサ出力及び補正済み距離測定値からなる群から選択され、
前記補正値が補正済み距離測定値である場合、前記補正済み距離測定値は、前記強度モニタ内の異なる干渉計キャビティの距離測定値変動の重み付け寄与に基づき、
前記異なる干渉計キャビティのそれぞれの前記距離測定値は、前記異なる位相オフセットでの各干渉計キャビティの前記同時強度測定値から導出される、請求項4に記載の干渉システム。 - 前記電子プロセッサは、前記センサ出力信号から導出される初期のセンサ出力又は初期の距離測定値に基づいて寄与を重み付けするように構成される、請求項6に記載の干渉システム。
- 前記干渉計は、マイケルソン、マッハツェンダー、フィゾー、トワイマングリーン、ミロー、ジャマン、又は他の光ファイバ干渉計を含む、請求項1に記載の干渉システム。
- 複数の異なるスペクトルチャネルで前記強度を測定するように構成される前記強度モニタは、プリズム、波長フィルタ、回折格子、走査型ファブリーペローエタロン、固定型エタロン、又は追加の干渉計を含む、請求項1に記載の干渉システム。
- 前記光源と、少なくとも1つのセンサモジュール及び少なくとも1つの強度モニタからなる群との間に光学的に位置決めされる結合キャビティをさらに備え、
前記結合キャビティは、前記光源からの光を2つの部分に分離し、前記2つの部分を別個のパスに沿って向け、前記2つの部分を再結合するように構成され、
前記干渉システムは、前記結合キャビティ内に位置決めされ、前記光の一方の部分の位相を、前記光の他方の部分に相対して可変シフトするように構成される位相変調器をさらに備える、請求項1に記載の干渉システム。 - 可変位相シフトは、セロダイン変調及び光の前記2つの部分間のヘテロダイン周波数シフトからなる群から選択される、請求項10に記載の干渉システム。
- 複数のセンサモジュールをさらに備え、
複数のセンサモジュールの各々は、干渉計を含み、少なくとも1つの光ファイバによって前記光源に結合される、請求項1に記載の干渉システム。 - 前記結合キャビティ内に位置決めされて、前記結合キャビティ内の前記光のスペクトル帯域幅に対応するコヒーレンス長よりも大きな量だけ、前記光の一方の部分を前記光の他方の部分に相対して遅延させる光学遅延線をさらに備え、
各センサモジュール内の干渉計は、前記結合キャビティ内の前記光学遅延線によって導入される量のコヒーレンス長の範囲内で光路長差を定義する、請求項10に記載の干渉システム。 - 前記光源と結合キャビティとの間に光学的に位置決めされる波長フィルタをさらに備え、
前記波長フィルタは、前記光源によって提供される広帯域光の選択可能な広帯域部分を通すように構成される、請求項12に記載の干渉システム。 - 前記光源と前記センサモジュールとの間に位置決めされる光学増幅器をさらに備える、請求項12に記載の干渉システム。
- 前記広帯域スペクトル光源は、0.1nmを超える帯域幅の範囲にわたる光を供給する、請求項1に記載の干渉システム。
- 前記物体は、マイクロリソグラフィ露光システムの構成要素である、請求項1に記載の干渉システム。
- 物体の位置変化を監視する干渉システムであって、
e.広帯域スペクトル光源と、
f.少なくとも1つのセンサモジュールであって、各センサモジュールは、前記光源から生成された光を受け取り、前記光の部分を別個のパスに沿って向け、該光の部分を再結合するように構成される干渉計を含み、前記パスの少なくとも1つは、前記物体に接触し、各センサモジュールは、再結合された光の部分を測定し、センサ出力信号を生成するように構成される検出器をさらに含む、前記少なくとも1つのセンサモジュールと、
g.少なくとも1つの強度モニタであって、各強度モニタは、前記光源から生成された追加の光の強度を測定し、モニタ出力信号を生成するように構成される検出器を備える、前記少なくとも1つの強度モニタと、
h.前記センサ出力信号及び前記モニタ出力信号を受信し、前記モニタ出力信号に基づいて前記センサ出力信号を処理し、前記光源によって出力される光の強度変動を特定し、前記物体の前記位置変化についての情報を特定するように構成される電子処理モジュールであって、前記広帯域スペクトル光源の前記強度変動はスペクトルに相関付けられる、前記電子処理モジュールとを備える、干渉システム。 - 前記広帯域スペクトル光源は、広帯域コヒーレント光源、広いスペクトル帯域幅にわたって高速調整されるレーザ、又は位相ロックレーザのアレイを含む、請求項18に記載の干渉システム。
- 前記電子処理モジュールは、前記物体の前記位置変化についての前記情報を特定する場合に、前記モニタ出力信号及びスペクトルとの相関付けについての情報に基づいて、前記センサ出力信号を処理するように構成される、請求項18に記載の干渉システム。
- 前記電子処理モジュールは、前記物体の位置についての情報を特定する場合に、前記モニタ出力信号及び前記出力される光の異なる波長にわたる前記相関付けについての情報に基づいて、前記センサ出力信号を処理するように構成される、請求項18に記載の干渉システム。
- 前記少なくとも1つの強度モニタは、固定光路長差を有する干渉計キャビティを含み、
前記センサモジュール内の前記干渉計の前記別個のパスによって定義される光路長差は、前記強度モニタ内の前記干渉計キャビティの前記固定光路長差を含む範囲にわたるように構成される、請求項18に記載の干渉システム。 - 電子プロセッサは、前記センサ出力信号から導出される初期のセンサ出力又は初期の距離測定値に基づいて寄与を重み付けするように構成される、請求項18に記載の干渉システム。
- 前記光源と前記センサモジュールとの間に光学的に位置決めされる結合キャビティをさらに含み、
前記結合キャビティは、前記光源からの光を2つの部分に分離し、前記2つの部分を別個のパスに沿って向け、該2つの部分を再結合するように構成され、
前記干渉システムは、前記結合キャビティ内に位置決めされ、前記光の一方の部分の位相を、前記光の他方の部分に相対して可変シフトするように構成される位相変調器をさらに備える、請求項18に記載の干渉システム。 - 可変位相シフトは、セロダイン変調及び光の前記2つの部分間のヘテロダイン周波数シフトからなる群から選択される、請求項24に記載の干渉システム。
- 前記結合キャビティ内に位置決めされて、前記結合キャビティ内の前記光のスペクトル帯域幅に対応するコヒーレンス長よりも大きな量だけ、前記光の一方の部分を前記光の他方の部分に相対して遅延させる光学遅延線をさらに備え、各センサモジュール内の前記干渉計は、前記結合キャビティ内の前記光学遅延線によって導入される量の前記コヒーレンス長の範囲内である光路長差を定義する、請求項24に記載の干渉システム。
- 物体の位置変化を監視する方法であって、
i)入力光を第1の複数のモニタキャビティに向けて、第1の複数の既知の光路差(OPD)値での干渉センサの測定範囲をサンプリングすることであって、前記第1の複数のモニタキャビティはそれぞれ強度値を検出する、前記入力光を第1の複数のモニタキャビティに向けること、及びii)物体を測定する干渉センサに入力光を向けることを同時に実行することと、
前記第1の複数のモニタキャビティによって検出される前記入力光のスペクトル分布の関連する特徴を特定することと、
前記干渉センサから未補正距離測定結果を導出して、前記干渉センサによって検出される前記スペクトル分布の関連する特徴を特定することと、
前記干渉センサによって検出される前記スペクトル分布を第2の複数の係数に分解することと、
前記第1の複数のモニタキャビティによって行われた測定値に基づいて、補償を特定することと、
前記補償を適用して、物体の補正済み距離測定値を取得し、前記第1の複数のモニタキャビティはそれぞれ、異なるOPD値に起因して異なる干渉位相値を生成することとを備える、方法。 - i)及びii)と同時に、追加の強度モニタを使用して前記入力光の全体強度変動を測定することをさらに備える、請求項27に記載の方法。
- 前記補償が適用されて、前記補正済み距離測定値を取得する前に、前記第1の複数のモニタ強度によって検出される前記強度値が処理されて、測定距離を取得する、請求項27に記載の方法。
- 物体の位置変化を監視する干渉システムであって、
a.広帯域スペクトル光源と、
b.少なくとも1つのセンサモジュールであって、各センサモジュールは、前記光源から生成された光を受け取り、前記光の部分を別個のパスに沿って向け、該光の部分を再結合するように構成される干渉計を備え、
前記パスの少なくとも1つは前記物体に接触し、各センサモジュールは、再結合された光の部分を測定し、センサ出力信号を生成するように構成される検出器をさらに備える、前記少なくとも1つのセンサモジュールと、
c.少なくとも1つの強度モニタであって、各強度モニタは、前記光源から生成された追加の光の強度を測定し、モニタ出力信号を生成するように構成される検出器を備える、前記少なくとも1つの強度モニタと、
d.前記センサ出力信号及び前記モニタ出力信号を受信し、前記モニタ出力信号に基づいて前記センサ出力信号を処理し、前記光源によって出力される光の強度変動を特定し、前記物体の前記位置変化についての情報を特定するように構成される電子処理モジュールとを備える、干渉システム。 - 前記強度モニタは、複数の異なるスペクトルチャネルで前記強度を測定して、波長の関数として前記強度変動を特徴付けるように構成される、請求項30に記載の干渉システム。
- 前記広帯域スペクトル光源の強度変動はスペクトルに相関付けられる、請求項30に記載の干渉システム。
- 前記広帯域スペクトル光源は、広帯域コヒーレント光源、広いスペクトル帯域幅にわたって高速調整されるレーザ、又は位相ロックレーザのアレイを含む、請求項32に記載の干渉システム。
- 前記電子処理モジュールは、前記物体の前記位置変化についての情報を特定する際、前記モニタ出力信号及びスペクトルとの相関付けについての情報に基づいて、前記センサ出力信号を処理して、出力される前記光の波長依存強度変動を特定するように構成される、請求項32に記載の干渉システム。
- 前記少なくとも1つの強度モニタは、固定光路長差を有する干渉計キャビティを備える、請求項30に記載の干渉システム。
- 前記センサモジュール内の前記干渉計の前記別個のパスによって定義される光路長差は、前記強度モニタ内の前記干渉計キャビティの前記固定光路長差を含む範囲にわたるように構成される、請求項35に記載の干渉システム。
- 前記モニタ出力信号は、異なる位相オフセットでの前記固定光路長差の2つ以上の同時強度測定値を含む、請求項35に記載の干渉システム。
- 前記少なくとも1つの強度モニタは、各々、略同じ固定光路長差を有しかつ異なる位相オフセットを有する2つの干渉計キャビティを含み、それにより、前記2つの同時強度測定値を提供する、請求項37に記載の干渉システム。
- 前記少なくとも1つの強度モニタは、前記固定光路長差とは異なる第2の固定光路長差を有する第2の干渉計キャビティを含む、請求項35に記載の干渉システム。
- 前記モニタ出力信号は、2つ以上の異なる位相オフセットでの第1及び第2の固定光路長差のそれぞれの同時強度測定値を含む、請求項39に記載の干渉システム。
- 電子プロセッサは、前記モニタ出力信号に基づいて前記センサ出力信号を処理して、前記強度モニタからの前記同時強度測定値の重み付け寄与に基づいて、補正済みセンサ出力を特定することにより、前記光源によって出力される光の強度変動を特定するように構成される、請求項40に記載の干渉システム。
- 前記電子プロセッサは、前記センサ出力信号から導出される初期のセンサ出力に基づいて寄与を重み付けするように構成される、請求項41に記載の干渉システム。
- 電子プロセッサは、前記モニタ出力信号に基づいて前記センサ出力信号を処理し、前記強度モニタ内の前記異なる干渉計キャビティの距離測定値の重み付け寄与に基づいて補正済み距離測定値を特定することにより、前記光源によって出力される光の強度変動を特定するように構成され、
前記異なる干渉計キャビティのそれぞれの前記距離測定値は、前記異なる位相オフセットでの各干渉計キャビティの前記同時強度測定値から導出される、請求項40に記載の干渉システム。 - 前記電子プロセッサは、前記センサ出力信号から導出される初期の距離測定値に基づいて寄与を重み付けするように構成される、請求項43に記載の干渉システム。
- 前記干渉計は、マイケルソン、マッハツェンダー、フィゾー、トワイマングリーン、ミロー、ジャマン、又は他の光ファイバ干渉計を含む、請求項30に記載の干渉システム。
- 複数の異なるスペクトルチャネルで前記強度を測定するように構成される前記強度モニタは、プリズム、波長フィルタ、回折格子、走査型ファブリーペローエタロン、固定型エタロン、又は追加の干渉計を含む、請求項31に記載の干渉システム。
- 前記光源と前記センサモジュールとの間に光学的に位置決めされる結合キャビティをさらに備える、請求項30に記載の干渉システム。
- 前記結合キャビティは、前記光源からの光を2つの部分に分離し、前記2つの部分を別個のパスに沿って向け、前記部分を再結合するように構成され、
前記システムは、前記結合キャビティ内に位置決めされ、前記光の一方の部分の位相を、前記光の他方の部分に相対して可変シフトするように構成される位相変調器をさらに備える、請求項47に記載の干渉システム。 - 可変位相シフトはセロダイン変調である、請求項48に記載の干渉システム。
- 可変位相シフトは、光の前記2つの部分間にヘテロダイン周波数シフトを導入する、請求項48に記載の干渉システム。
- 複数のセンサモジュールをさらに備え、
複数のセンサモジュールの各々は、干渉計を含み、少なくとも1つの光ファイバによって前記光源に結合される、請求項30に記載の干渉システム。 - 光学的に前記光源と前記センサモジュールとの間に位置決めされる結合キャビティをさらに備える、請求項51に記載の干渉システム。
- 前記結合キャビティは、前記光源からの光を2つの部分に分離し、前記2つの部分を別個のパスに沿って向け、前記部分を再結合するように構成され、
前記システムは、前記結合キャビティ内に位置決めされ、前記光の一方の部分の位相を、前記光の他方の部分に相対して可変シフトするように構成される位相変調器をさらに備える、請求項52に記載の干渉システム。 - 前記結合キャビティ内に位置決めされて、前記結合キャビティ内の前記光のスペクトル帯域幅に対応するコヒーレンス長よりも大きな量だけ、前記光の一方の部分を前記光の他方の部分に相対して遅延させる光学遅延線をさらに備える、請求項53に記載の干渉システム。
- 各センサモジュール内の干渉計は、前記結合キャビティ内の前記光学遅延線によって導入される前記量の前記コヒーレンス長の範囲内である光路長差を定義する、請求項54に記載の干渉システム。
- 光学的に前記光源と前記結合キャビティとの間に位置決めされ、前記光源によって提供される広帯域光の選択可能な広帯域部分を通すように構成される波長フィルタモジュールをさらに備える、請求項52に記載の干渉システム。
- 前記波長フィルタモジュールと前記結合キャビティとの間に位置決めされる光学増幅器をさらに備える、請求項56に記載の干渉システム。
- 前記強度モニタは、複数の異なるスペクトルチャネルで前記強度を測定して、波長の関数として前記強度変動を特徴付けるように構成される、請求項51〜57の何れか一項に記載の干渉システム。
- 前記広帯域スペクトル光源の前記強度変動は、前記光源によって出力される前記光の異なる波長にわたって相関付けられる、請求項51〜57の何れか一項に記載の干渉システム。
- 前記電子処理モジュールは、前記物体の位置についての情報を特定する場合、前記モニタ出力信号及び出力された前記光の前記異なる波長にわたる前記相関付けについての情報に基づいて、前記センサ出力信号を処理して、出力される前記光の波長依存強度変動を特定するように構成される、請求項59に記載の干渉システム。
- 前記少なくとも1つの強度モニタは、固定光路長差を有する干渉計キャビティを含む、請求項51〜57の何れか一項に記載の干渉システム。
- 前記センサモジュールのうちの第1のセンサモジュール内の干渉計の別個のパスによって定義される光路長差は、前記強度モニタ内の前記干渉計キャビティの前記固定光路長差を含む範囲にわたるように構成される、請求項61に記載の干渉システム。
- 前記モニタ出力信号は、異なる位相オフセットでの前記固定光路長差の2つ以上の同時強度測定値を含む、請求項62に記載の干渉システム。
- 前記少なくとも1つの強度モニタは、各々、略同じ前記固定光路長差を有しかつ異なる位相オフセットを有する2つの干渉計キャビティを含み、それにより、前記2つの同時強度測定値を提供する、請求項63に記載の干渉システム。
- 前記少なくとも1つの強度モニタは、前記固定光路長差とは異なる第2の固定光路長差を有する第2の干渉計キャビティを含む、請求項61に記載の干渉システム。
- 前記モニタ出力信号は、2つ以上の異なる位相オフセットでの第1及び第2の固定光路長差のそれぞれの同時強度測定値を含む、請求項65に記載の干渉システム。
- 電子プロセッサは、前記モニタ出力信号に基づいて第1のセンサ出力を処理して、前記強度モニタからの前記同時強度測定値の重み付け寄与に基づいて、補正済みの第1のセンサ出力を特定することにより、前記光源によって出力される光の強度変動を特定するように構成される、請求項66に記載の干渉システム。
- 前記電子プロセッサは、初期の第1のセンサ出力に基づいて寄与を重み付けするように構成される、請求項67に記載の干渉システム。
- 電子プロセッサは、前記モニタ出力信号に基づいて第1のセンサ出力を処理し、前記強度モニタ内の前記異なる干渉計キャビティの距離測定値の重み付け寄与に基づいて補正済み第1の距離測定値を特定することにより、前記光源によって出力される光の強度変動を特定するように構成され、
前記異なる干渉計キャビティのそれぞれの前記距離測定値は、前記異なる位相オフセットでの各干渉計キャビティの前記同時強度測定値から導出される、請求項66に記載の干渉システム。 - 前記センサ出力信号は、最初のセンサ出力信号であり、
前記電子プロセッサは、前記最初のセンサ出力信号から導出される初期の第1の距離測定値に基づいて、寄与を重み付けするように構成される、請求項43に記載の干渉システム。 - 前記広帯域スペクトル光源は、0.1nmを超える波長の範囲にわたる光を提供する、請求項30に記載の干渉システム。
- 前記物体はマイクロリソグラフィ露光システムの構成要素である、請求項30に記載の干渉システム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261709923P | 2012-10-04 | 2012-10-04 | |
US61/709,923 | 2012-10-04 | ||
PCT/US2013/063243 WO2014055749A1 (en) | 2012-10-04 | 2013-10-03 | Position monitoring system with reduced noise |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015530598A JP2015530598A (ja) | 2015-10-15 |
JP6293762B2 true JP6293762B2 (ja) | 2018-03-14 |
Family
ID=50432446
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015535780A Active JP6293762B2 (ja) | 2012-10-04 | 2013-10-03 | 雑音を低減した位置監視システム |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9115975B2 (ja) |
EP (1) | EP2904347B1 (ja) |
JP (1) | JP6293762B2 (ja) |
TW (1) | TWI487876B (ja) |
WO (1) | WO2014055749A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014006305B4 (de) * | 2014-04-30 | 2017-11-23 | Attocube Systems Ag | Optisches Längenmesssystem mit einem interferometrischen Wegsensor zur Integration in Werkzeugmaschinen und Halbleiter-Lithografiesystemen |
EP3182875B1 (en) * | 2014-08-23 | 2021-04-07 | Intuitive Surgical Operations, Inc. | Systems for display of pathological data in an image guided procedure |
EP3227633B1 (en) * | 2014-12-04 | 2020-02-05 | APRE Instruments, Inc. | Interferometric non-contact optical probe and measuring method |
US9864039B2 (en) * | 2015-06-26 | 2018-01-09 | Motorola Mobility Llc | Portable electronic device proximity sensors with multi-directional functionality |
TWI678513B (zh) * | 2016-06-08 | 2019-12-01 | 美商賽格股份有限公司 | 用於決定測試腔特性之干涉方法及系統 |
WO2018102356A1 (en) * | 2016-11-30 | 2018-06-07 | Apre Instruments, Llc | True heterodyne spectrally controlled interferometry |
JP7272652B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2023-05-12 | 国立大学法人電気通信大学 | 2次元分光法及び2次元分光装置 |
JP6847885B2 (ja) * | 2018-03-20 | 2021-03-24 | 株式会社東芝 | 情報処理装置、情報処理方法及びプログラム |
US10845251B2 (en) * | 2018-06-28 | 2020-11-24 | Zygo Corporation | Wavemeter using pairs of interferometric optical cavities |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS56115905A (en) * | 1980-02-19 | 1981-09-11 | Unitika Ltd | Measuring method for thickness of transparent film and device therefor |
US5404222A (en) * | 1994-01-14 | 1995-04-04 | Sparta, Inc. | Interferametric measuring system with air turbulence compensation |
IL113311A (en) * | 1995-04-10 | 1997-07-13 | Yeda Res & Dev | Method and apparatus for coherence observation by interference noise |
US20030035120A1 (en) * | 2001-08-14 | 2003-02-20 | Myatt Christopher J. | Multiple-interferometer device for wavelength measuring and locking |
US6842254B2 (en) * | 2002-10-16 | 2005-01-11 | Fiso Technologies Inc. | System and method for measuring an optical path difference in a sensing interferometer |
US7433045B2 (en) | 2003-10-10 | 2008-10-07 | Optoplan As | Active coherence reduction for interferometer interrogation |
JP5558005B2 (ja) * | 2006-01-23 | 2014-07-23 | ザイゴ コーポレーション | 物体をモニタする干渉計システム |
JP4897586B2 (ja) * | 2007-06-26 | 2012-03-14 | 株式会社神戸製鋼所 | 形状測定装置 |
JP5282929B2 (ja) * | 2007-08-29 | 2013-09-04 | 株式会社ミツトヨ | 多波長干渉計 |
WO2009064670A2 (en) | 2007-11-13 | 2009-05-22 | Zygo Corporation | Interferometer utilizing polarization scanning |
US8120781B2 (en) * | 2008-11-26 | 2012-02-21 | Zygo Corporation | Interferometric systems and methods featuring spectral analysis of unevenly sampled data |
EP2198771A1 (en) * | 2008-12-02 | 2010-06-23 | Optopol Technology S.A. | Method and apparatus for eye movement tracking in spectral optical coherence tomography (SD-OCT) |
JP5373485B2 (ja) * | 2009-06-10 | 2013-12-18 | カール ツァイス メディテック インコーポレイテッド | Oct装置及びその干渉信号レベル制御方法 |
JP5602538B2 (ja) * | 2010-03-03 | 2014-10-08 | キヤノン株式会社 | 光波干渉計測装置 |
-
2013
- 2013-10-03 TW TW102135792A patent/TWI487876B/zh active
- 2013-10-03 WO PCT/US2013/063243 patent/WO2014055749A1/en active Application Filing
- 2013-10-03 US US14/045,134 patent/US9115975B2/en active Active
- 2013-10-03 JP JP2015535780A patent/JP6293762B2/ja active Active
- 2013-10-03 EP EP13844118.3A patent/EP2904347B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2904347A4 (en) | 2016-07-27 |
JP2015530598A (ja) | 2015-10-15 |
US9115975B2 (en) | 2015-08-25 |
EP2904347B1 (en) | 2018-07-18 |
EP2904347A1 (en) | 2015-08-12 |
TW201428229A (zh) | 2014-07-16 |
US20140098375A1 (en) | 2014-04-10 |
TWI487876B (zh) | 2015-06-11 |
WO2014055749A1 (en) | 2014-04-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160706 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170424 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
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