JP6289404B2 - アニール装置 - Google Patents
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Description
まず、比較例としてのアニール装置について説明する。図5は、比較例に係るアニール装置200の構成を示す図である。アニール装置200は、レーザー光を使用する装置である。すなわち、アニール装置200は、レーザー式アニール装置である。
図1は、本発明の実施の形態1に係るアニール装置100の構成を示す図である。なお、図1には、説明のために、アニール装置100に含まれない被加熱部材W1も示される。被加熱部材W1は、前述したように、導電性を有する部材である。被加熱部材W1は、例えば、ウエハである。被加熱部材W1の構成は、前述した構成と同じである。被加熱部材W1の形状は、板状である。アニール装置100は、詳細は後述するが、被加熱部材W1を加熱する装置である。以下においては、アニール装置100が、被加熱部材W1を加熱する処理を、「加熱制御処理A」ともいう。
Claims (2)
- 被加熱部材を加熱するアニール装置であって、
導電性を有する複数の棒状部材と、
前記複数の棒状部材の各々が発熱するように、当該複数の棒状部材の各々に電流を流すための制御を行う電流制御部と、
発熱した前記複数の棒状部材が前記被加熱部材に接触するように、当該複数の棒状部材を移動させるための制御を行う移動制御部と、を備え、
発熱した前記複数の棒状部材が前記被加熱部材に接触するとき、当該複数の棒状部材の各々には前記電流が流れていない
アニール装置。 - 前記被加熱部材の形状は、板状であり、
前記被加熱部材は、前記各棒状部材が接触するための平面を有し、
前記アニール装置は、前記複数の棒状部材が設けられた基板をさらに備え、
前記基板は、前記各棒状部材が前記被加熱部材の平面に接触する際において当該平面と対向する主面を有し、
前記複数の棒状部材は、発熱した当該複数の棒状部材が前記被加熱部材の平面に接触した場合に当該平面全体が加熱されるように、前記基板の前記主面に分散して設けられる
請求項1に記載のアニール装置。
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