JP6288184B2 - Glass substrate and method for manufacturing glass substrate - Google Patents
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Description
本発明は、ガラス基板およびガラス基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a glass substrate and a method for producing the glass substrate.
ガラス基板を加工するときなど、ガラス基板のハンドリングの際に、ガラス基板を所定の位置および/または向きに固定させることが必要となる場合がある。そのようなガラス基板の位置決めを行う場合、バー状の金属部材などの位置決め冶具が使用される。例えば、スライド可能に構成された複数の位置決め冶具を用いた場合、ガラス基板をそのような位置決め冶具で挟み込み、ガラス基板の位置を定めることができる。 When processing the glass substrate, such as when processing the glass substrate, it may be necessary to fix the glass substrate in a predetermined position and / or orientation. When such a glass substrate is positioned, a positioning jig such as a bar-shaped metal member is used. For example, when a plurality of positioning jigs configured to be slidable are used, the glass substrate can be sandwiched by such positioning jigs to determine the position of the glass substrate.
位置決め冶具によるガラス基板の位置決め操作の際には、ガラス基板の端面が位置決め冶具に当接される。このため、しばしば、ガラス基板の端面にクラックが生じたり、端面からカレット(ガラス屑)が生じ、ガラス基板にカレットが付着したりする場合が認められる。そのようなクラックを有するガラス基板は、品質上問題がある。また、ガラス基板にカレットが付着していると、ガラス基板の搬送の際などに、ガラス基板が損傷を受ける可能性が高くなる。 During the positioning operation of the glass substrate by the positioning jig, the end surface of the glass substrate is brought into contact with the positioning jig. For this reason, the case where a crack arises in the end surface of a glass substrate often or a cullet (glass waste) arises from an end surface, and a cullet adheres to a glass substrate is recognized. A glass substrate having such a crack has a problem in quality. Further, when the cullet is attached to the glass substrate, the glass substrate is more likely to be damaged when the glass substrate is transported.
このため、位置決め操作の際に、クラックやカレットが生じ難いガラス基板が要望されている。 For this reason, there is a demand for a glass substrate that is less prone to cracks and carets during positioning operations.
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、位置決め操作の際に、端面にクラックが生じたり、端面からカレットが生じたりすることが有意に抑制されるガラス基板を提供することを目的とする。また、本発明では、位置決め操作の際に、端面にクラックが生じたり、端面からカレットが生じたりすることが有意に抑制されるガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a background, and in the present invention, a glass substrate in which cracks are generated on the end surface or cullet is generated from the end surface is significantly suppressed during the positioning operation. The purpose is to provide. Another object of the present invention is to provide a method for producing a glass substrate in which cracks on the end face and cullet from the end face are significantly suppressed during the positioning operation.
本発明では、2つの表面をつなぐ端面を有するガラス基板であって、
前記端面の少なくとも一部には、平滑領域が配置されており、該平滑領域は、前記端面のその他の領域に比べて平滑な表面を有し、
前記端面の前記その他の領域を一般領域と称し、
前記一般領域の算術平均粗さをRa(1)とし、前記平滑領域の算術平均粗さをRa(2)としたとき、比Ra(2)/Ra(1)は、0.8以下であることを特徴とするガラス基板が提供される。
In the present invention, a glass substrate having an end face connecting two surfaces,
A smooth region is disposed on at least a part of the end surface, and the smooth region has a smooth surface compared to other regions of the end surface,
The other region of the end face is referred to as a general region,
When the arithmetic average roughness of the general region is Ra (1) and the arithmetic average roughness of the smooth region is Ra (2), the ratio Ra (2) / Ra (1) is 0.8 or less. A glass substrate is provided.
また、本発明では、ガラス基板の製造方法であって、
(1)第1および第2の表面と、両表面を接続する端面とを有するガラス素材を準備する工程と、
(2)加工装置を用いて、前記ガラス素材の前記端面を研削および研磨する工程と、
を有し、
前記端面は、前記ガラス素材の上面視、開始点Sから終了点Eまでの被加工面として視認され、
前記加工装置は、第1の研削ホイールおよび第1の研磨ホイールと、第2の研削ホイールおよび第2の研磨ホイールとを有し、
前記第1および第2の研削ホイールは、移動方向と呼ばれる、前記開始点Sから前記終了点Eに向かう方向に、前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面を研削することができ、
前記第1の研磨ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面の、前記第1の研削ホイールにより研削された領域を研磨することができ、前記第2の研磨ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面の、前記第2の研削ホイールにより研削された領域を研磨することができ、
前記(2)の工程では、
(2−1)前記第1の研削ホイールは、第1研削開始点M1と呼ばれる前記被加工面の開始点Sおよび終了点Eを除く位置から、前記移動方向に沿って前記前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面には、第1研削領域と呼ばれる領域が形成され、
(2−2)前記第1の研磨ホイールは、第1研磨開始点P1と呼ばれる、前記第1研削領域内の第1研削開始点M1を除くいずれかの位置から、前記移動方向に沿って前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面には、第1研磨領域と呼ばれる領域が形成され、
(2−3)前記第2の研削ホイールは、第2研削開始点M2と呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第1移動完了点N1と呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第2研削開始点M2〜前記第1移動完了点N1までの、第2研削領域と呼ばれる領域が研削され、
前記第2研削開始点M2は、前記開始点S〜前記第1研削開始点M1の間に存在し、
前記第1移動完了点N1は、
(i)前記第1研磨開始点P1を除く、前記第1研削開始点M1〜前記第1研磨開始点P1の間に存在し、または
(ii)前記第1研磨開始点P1〜終了点Eの間に存在し、
(2−4)前記第2の研磨ホイールは、第2研磨開始点P2と呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第1研磨完了点Q1と呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第2研磨開始点P2〜前記第1研磨完了点Q1までの、第2研磨領域と呼ばれる領域が研磨され、
前記第2研磨開始点P2は、前記第2研削開始点M2〜前記第1研削開始点M1の間に存在し、
前記第1研磨完了点Q1は、前記(i)の場合、前記第1研磨開始点P1を除く、前記第1研磨領域内に存在し、前記(ii)の場合、前記第1研磨開始点P1〜前記第1移動完了点N1を除く、前記第1研磨領域内に存在し、
前記(i)の場合、前記端面の前記第1研磨開始点P1〜前記第1研磨完了点Q1の間に、前記第1および第2の研磨ホイールで研磨された、(第1の)重複研磨領域が形成され、
前記(ii)の場合、前記端面の前記第1移動完了点N1〜前記第1研磨完了点Q1の間に、前記第1および第2の研磨ホイールで研磨された、(第1の)重複研磨領域が形成される、ガラス基板の製造方法が提供される。
Further, in the present invention, a method for producing a glass substrate,
(1) preparing a glass material having first and second surfaces and end faces connecting both surfaces;
(2) A step of grinding and polishing the end face of the glass material using a processing apparatus;
Have
The end surface is viewed as a surface to be processed from a top view of the glass material, a start point S to an end point E,
The processing apparatus includes a first grinding wheel and a first polishing wheel, a second grinding wheel and a second polishing wheel,
The first and second grinding wheels move along the work surface in a direction from the start point S toward the end point E, which is referred to as a moving direction, thereby grinding the end face of the glass material. Can
The first grinding wheel can polish the region of the end face of the glass material ground by the first grinding wheel by moving along the work surface in the movement direction, The second polishing wheel can polish the region of the end face of the glass material ground by the second grinding wheel by moving along the workpiece surface in the moving direction,
In the step (2),
(2-1) said first grinding wheel, from said position except the start point S and end point E of the workpiece surface, the surface of the workpiece along the moving direction, called the first grinding start point M 1 Move and
Thereby, a region called a first grinding region is formed on the end face,
(2-2) said first grinding wheel, first polishing start point called P 1, from any position other than the first grinding start point M 1 of the first ground area, along the movement direction To move the workpiece surface,
Thereby, a region called a first polishing region is formed on the end face,
(2-3) the second grinding wheel from a position called the second grinding start point M 2, along the moving direction, the moving the workpiece surface to a position called the first movement completion point N 1 ,
Thus, the end surface is ground in a region called a second grinding region from the second grinding start point M 2 to the first movement completion point N 1 ,
It said second grinding start point M 2 is present between the starting point S~ the first grinding start point M 1,
The first movement completion point N 1 is
(I) exists between the first grinding start point M 1 and the first polishing start point P 1 excluding the first polishing start point P 1 , or (ii) the first polishing start point P 1- Exists between end points E,
(2-4) the second grinding wheel from the position called the second polishing start point P 2, along the moving direction, the moving the workpiece surface to a position called the first polishing end point Q 1 ,
Thus, the end surface is polished in a region called a second polishing region from the second polishing start point P 2 to the first polishing completion point Q 1 .
The second polishing start point P 2 is present between the second grinding start point M 2 ~ the first grinding start point M 1,
The first polishing end point Q 1 is the case of the (i), except for the first polishing start point P 1, present in the first polishing region, the case of the (ii), the first polishing start Existing in the first polishing region excluding the point P 1 to the first movement completion point N 1 ,
In the case of (i), polishing is performed by the first and second polishing wheels between the first polishing start point P 1 on the end surface and the first polishing completion point Q 1 (first). An overlapping polishing region is formed,
In the case of (ii), polishing is performed by the first and second polishing wheels between the first movement completion point N 1 to the first polishing completion point Q 1 of the end face (first). A method of manufacturing a glass substrate is provided in which an overlapping polishing region is formed.
本発明では、位置決め操作の際に、端面にクラックが生じたり、端面からカレットが生じたりすることが有意に抑制されるガラス基板を提供することができる。また、本発明では、位置決め操作の際に、端面にクラックが生じたり、端面からカレットが生じたりすることが有意に抑制されるガラス基板の製造方法を提供することができる。 In the present invention, it is possible to provide a glass substrate that is significantly suppressed from causing cracks at the end face and cullet from the end face during the positioning operation. Moreover, in this invention, in the case of positioning operation, the manufacturing method of the glass substrate which can suppress significantly that a crack arises in an end surface or a cullet arises from an end surface can be provided.
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。 Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
(本発明の一実施形態によるガラス基板)
図1および図2を参照して、本発明の一実施形態によるガラス基板の構成について説明する。図1には、本発明の一実施形態によるガラス基板(以下、単に「第1のガラス基板」と称する)の概略的な斜視図を示す。
(Glass substrate according to an embodiment of the present invention)
With reference to FIG. 1 and FIG. 2, the structure of the glass substrate by one Embodiment of this invention is demonstrated. FIG. 1 is a schematic perspective view of a glass substrate (hereinafter simply referred to as “first glass substrate”) according to an embodiment of the present invention.
図1に示すように、第1のガラス基板110は、相互に対向する第1の表面112および第2の表面114と、両表面を接続する4つの端面116A〜116Dとを有する。
As shown in FIG. 1, the
なお、図1の例では、第1のガラス基板110は、略矩形状であり、このため4つの端面116A〜116Dを有する。ただし、これは単なる一例あって、第1のガラス基板110は、いかなる形状であってもよく、その結果、端面の数は、いかなる値であってもよい。例えば、第1のガラス基板110が略ディスク状の場合、端面の数は一つとなる。また、第1のガラス基板110が略三角形状の場合、端面の数は三つとなる。第1のガラス基板110が五角形またはそれ以上の多角形の形状の場合も、同様に考えられる。
In the example of FIG. 1, the
ここで、第1のガラス基板110は、少なくとも一つの端面に、「平滑領域」を有するという特徴を有する。ここで、「平滑領域」とは、対象となる端面において、他の領域に比べて、算術平均粗さRaが小さい領域を意味する。なお、対象となる端面において、「平滑領域」以外の領域を「一般領域」とも称する。
Here, the
以下、第1のガラス基板110の第1の端面116Aがそのような「平滑領域」を有する場合を例に、本発明の効果について説明する。
Hereinafter, the effect of the present invention will be described by taking as an example the case where the
図2には、「平滑領域」を有する第1の端面116Aの形態を模式的に示す。 In FIG. 2, the form of 116 A of 1st end surfaces which have a "smooth area | region" is shown typically.
図2に示すように、第1の端面116Aの表面は、一般領域120と平滑領域122とに区分けされる。平滑領域122は、第1の端面116Aの略中央に、一般領域120に挟まれて存在している。
As shown in FIG. 2, the surface of the first end surface 116 </ b> A is divided into a
ただし、これは、単なる一例であって、平滑領域122の存在位置は、特に限られない。また、平滑領域122の数も特に限られない。例えば、平滑領域122は、第1の端面116Aに、2箇所以上存在してもよい。平滑領域122の設置位置および数は、第1のガラス基板110の位置決めハンドリングの際に当接される位置決め冶具との関係により定められる。
However, this is merely an example, and the position where the
また、図2では、一般領域120と平滑領域122の境界が、破線で誇張して示されている。しかしながら、通常の場合、一般領域120および平滑領域122、さらには両者の境界は、外見から判断することは難しいことに留意する必要がある。
In FIG. 2, the boundary between the
ここで、前述のように、平滑領域122は、一般領域120に比べて、小さな算術平均粗さRaを有する。特に、第1のガラス基板110では、一般領域120における算術平均粗さをRa(1)とし、平滑領域122における算術平均粗さをRa(2)としたとき、
Ra(2)/Ra(1)≦0.8 (1)式
を満たすという特徴を有する。
Here, as described above, the
Ra (2) / Ra (1) ≦ 0.8 (1) Formula
It has the characteristic of satisfying.
前述のように、位置決め冶具によるガラス基板の位置決め操作の際には、ガラス基板の端面が位置決め冶具に当接される。そして、この際に、ガラス基板の端面にクラックが生じたり、端面からカレット(ガラス屑)が生じたりする場合がある。 As described above, when the glass substrate is positioned by the positioning jig, the end surface of the glass substrate is brought into contact with the positioning jig. At this time, cracks may occur on the end face of the glass substrate, or cullet (glass waste) may be generated from the end face.
これに対して第1のガラス基板110では、端面の、少なくとも位置決め冶具と当接し得る位置に、平滑領域122が配置される。また、平滑領域122と一般領域120における算術平均粗さの間には、前述の(1)式の関係がある。このような凹凸が少ない平滑領域122は、位置決め冶具のような部材の当接に対して、一般領域120よりも良好な強度を示す。
On the other hand, in the
そのため、第1のガラス基板110では、位置決め冶具が第1の端面116Aの平滑領域122と当接しても、位置決め冶具が一般領域120に当接するよりも、第1の端面116Aにクラックが生じたり、そこからカレットが生じたりすることを有意に抑制することができる。また、位置決め冶具が凹凸が少ない平滑領域122と当接するため、位置決め部材の摩耗および発塵を有意に抑制することにもなる。
Therefore, in the
(一般領域120および平滑領域122)
次に、端面の一般領域120および平滑領域122について、より詳しく説明する。
(
Next, the
前述のように、平滑領域122における算術平均粗さRa(2)と一般領域120における算術平均粗さをRa(1)の比Ra(2)/Ra(1)は、0.8以下とされる。この比Ra(2)/Ra(1)は、0.7以下であることが好ましい。
As described above, the ratio Ra (2) / Ra (1) between the arithmetic average roughness Ra (2) in the
また、平滑領域122の算術平均粗さRa(2)は、好ましくは0.12μm以下であり、より好ましくは0.08μm以下である。
Further, the arithmetic average roughness Ra (2) of the
一方、一般領域120、すなわち、第1の端面116Aの平滑領域122を除く領域の算術平均粗さRa(1)は、例えば、0.2μm以下であることが好ましい。
On the other hand, the arithmetic average roughness Ra (1) of the
また、第1の端面116Aの平滑領域122の全長Lsは、1mm以上、30mm以下であることが好ましい。平滑領域122の全長Lsが1mm以上であると、平滑領域122に位置決め冶具を正確に接触させることが容易になる。また、平滑領域122の全長Lsが30mm以下であると、第1のガラス基板110の生産性の観点から好ましい。平滑領域122の全長Lsは、3mm以上、10mm以下であることがより好ましい。
The total length L s of the
ここで、平滑領域122の「全長(Ls)」は、以下のように定められる。
Here, the “full length (L s )” of the
対象となる端面の第1の長さをL1とし、第2の長さをL2とする。ここでL1≧L2である。例えば、図2に示した第1の端面116Aの場合、X方向の寸法が長さL1となり、Z方向(厚さ方向)の寸法が長さL2となる。この場合、図2に示すように、平滑領域122の全長Lsは、第1の長さL1に沿った方向の平滑領域122の幅で規定される。
A first length of the end surface of interest and L 1, the second length and L 2. Here, L 1 ≧ L 2 . For example, if the
なお、ガラス基板が略ディスク状であって、曲面状の端面が一つだけ存在する場合、そのような端面の第1の長さL1は周の長さとなり、第2の長さL2はガラス基板の厚さに相当する。従って、平滑領域の全長Lsは、周に沿った平滑領域の長さとなる。 When the glass substrate is substantially disk-shaped and there is only one curved end surface, the first length L 1 of such an end surface is the circumference length and the second length L 2. Corresponds to the thickness of the glass substrate. Therefore, the total length L s of the smooth region is the length of the smooth region along the circumference.
前述のように、第1の端面116Aにおける平滑領域122の設置位置および設置数は、特に限られない。例えば、平滑領域122は、第1の端面116Aにおいて、2つ以上、等間隔に、または非等間隔で配置されてもよい。
As described above, the installation position and the number of installation of the
また、前述の例では、平滑領域122は、第1のガラス基板110の第1の端面116Aに配置されている。しかしながら、平滑領域122は、第1のガラス基板110のいかなる端面に配置されてもよい。
In the above example, the
例えば、平滑領域122は、第2の端面116B〜第4の端面116Dのいずれか一つの端面に配置されてもよく、第1の端面116Aおよび第2の端面116Bなど、2つの端面に配置されてもよく、第1の端面116A〜第3の端面116Cなど、3つの端面に配置されてもよく、第1の端面116A〜第4の端面116Dの全ての端面に配置されてもよい。また、この際に、各端面116A〜116Dにおいて、平滑領域122の設置位置および設置数は、相互に異なっていてもよい。
For example, the
(本発明の一実施形態によるガラス基板の製造方法)
次に、図3〜図7を参照して、本発明の一実施形態によるガラス基板の製造方法の一例について説明する。
(Method of manufacturing a glass substrate according to an embodiment of the present invention)
Next, with reference to FIGS. 3-7, an example of the manufacturing method of the glass substrate by one Embodiment of this invention is demonstrated.
図3には、本発明の一実施形態によるガラス基板の製造方法(以下、単に「第1の製造方法」と称する)のフローを模式的に示す。また、図4〜図7には、第1の製造方法における一工程の様子を模式的に示す。 FIG. 3 schematically shows a flow of a glass substrate manufacturing method (hereinafter simply referred to as “first manufacturing method”) according to an embodiment of the present invention. 4 to 7 schematically show the state of one step in the first manufacturing method.
図3に示すように、第1の製造方法は、
(1)第1および第2の表面と、両表面を接続する端面とを有するガラス素材を準備する工程(工程S110)と、
(2)加工装置を用いて、前記ガラス素材の前記端面を研削および研磨する工程(工程S120)と、
を有する。
As shown in FIG. 3, the first manufacturing method is:
(1) a step of preparing a glass material having first and second surfaces and an end face connecting both surfaces (step S110);
(2) Using a processing device, grinding and polishing the end face of the glass material (step S120);
Have
以下、図4〜図7を参照して、各工程について詳しく説明する。 Hereinafter, each step will be described in detail with reference to FIGS.
(工程S110)
まず、ガラス素材が準備される。図4に示すように、ガラス素材250は、第1の表面252および第2の表面254と、両表面を接続する4つの端面256A〜256Dとを有する。
(Process S110)
First, a glass material is prepared. As illustrated in FIG. 4, the
以降、説明の簡略化のため、ガラス素材250の上面視、第1の表面252の4つの端面256A〜256Dと対応する辺を、それぞれ、第1の辺260A、第2の辺260B、第3の辺260C、および第4の辺260Dと称する。
Hereinafter, for simplification of description, the top view of the
ガラス素材250の寸法は、特に限られない。例えば、液晶ディスプレイ用のガラス基板を製造する場合、ガラス素材250は、例えば、縦(第1の辺260Aおよび第3の辺260Cの長さ)1800mm〜3200mm×横(第2の辺260Bおよび第4の辺260Dの長さ)1500mm〜2900mm×厚さ0.10mm〜0.70mmの寸法を有してもよい。
The dimension of the
(工程S120)
次に、加工装置を用いて、ガラス素材250の端面が研削および研磨処理(以下、これらをまとめて「加工処理」ともいう)される。
(Process S120)
Next, the end surface of the
なお、ガラス素材250の加工処理される端面は、特に限られない。例えば、4つの端面256A〜256Dのうち、一つの端面のみが加工処理されてもよい。あるいは、4つの端面256A〜256Dのうち、2つ以上の端面、例えば全ての端面が加工処理されてもよい。
In addition, the end surface where the
ここでは、一例として、ガラス素材250の第1の端面256Aが加工処理される場合を例に説明する。
Here, as an example, a case where the
(加工装置)
図5には、第1の製造方法において使用され得る加工装置の構成を模式的に示す。
(Processing equipment)
FIG. 5 schematically shows a configuration of a processing apparatus that can be used in the first manufacturing method.
図5に示すように、加工装置300は、テーブル302と、第1および第2の研削ホイール380A、382Aと、第1および第2の研磨ホイール385B、387Bと、を備える。
As shown in FIG. 5, the
テーブル302は、上部にガラス素材250を設置するために使用される。また、第1および第2の研削ホイール380A、382Aと、第1および第2の研磨ホイール385B、387Bとは、いずれもガラス素材250の第1の端面256Aを加工するために使用される。
The table 302 is used for installing the
第1の研削ホイール380Aは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研削することができ、第1の研磨ホイール385Bは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研磨することができる。同様に、第2の研削ホイール382Aは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研削することができ、第2の研磨ホイール387Bは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研磨することができる。
The
第1の研削ホイール380Aと第1の研磨ホイール385Bは、組になっており、第1の研磨ホイール385Bは、第1の研削ホイール380Aの研削行程を、後から追従することができる。同様に、第2の研削ホイール382Aと第2の研磨ホイール387Bは、組になっており、第2の研磨ホイール387Bは、第2の研削ホイール382Aの研削行程を、後から追従することができる。
The
第1の研削ホイール380Aは、弾性変形が生じ難く、研削力の高い砥石で構成される。そのような砥石としては、例えばダイヤモンド又はCBNの砥粒を弾性変形が生じ難いメタルボンドにて固定したメタルボンド砥石を例示できる。同様に、ダイヤモンド砥粒を有する電着砥石も例示できる。
The
第2の研削ホイール382Aについても同様である。
The same applies to the
一方、第1の研磨ホイール385Bは、弾性を有し、研磨に適した砥石で構成される。そのような砥石としては、例えばダイヤモンド、CBN、緑色炭化ケイ素(GC)、アルミナ(Al2O3)、軽石、又はガーネット等の砥粒を弾性変形が生じやすい樹脂、又はブチルルゴム、天然ゴム等のボンドにて固定した砥石を例示できる。
On the other hand, the
第2の研磨ホイール387Bについても同様である。
The same applies to the
なお、本願において、「研削」とは、目的が基板を所定の寸法、所定の断面形状になるように削り込むことであり、「研磨」とは、目的が研削で生じたチッピング、クラックなどを除去すると共に研削面の粗さを低減させることである。 In the present application, “grinding” means that the purpose is to cut the substrate so as to have a predetermined dimension and a predetermined cross-sectional shape, and “polishing” means that the purpose is chipping, cracks, etc. caused by grinding. It is to remove and reduce the roughness of the grinding surface.
(具体的な加工工程)
工程S120では、ガラス素材250が加工装置300に設置され、ガラス素材250が加工処理される。
(Specific processing steps)
In process S120,
まず、図6に示すように、ガラス素材250は、第1の辺260Aが第1および第2の研削ホイール380A、382Aと対面するようにして、加工装置300のテーブル302の上に設置される。なお、ガラス素材250は、テーブル302に吸着固定されてもよい。
First, as shown in FIG. 6, the
次に、加工装置300の第1の研削ホイール380Aおよび第1の研磨ホイール385Bが所定回転数で回転される。また、加工装置300の第2の研削ホイール382Aおよび第2の研磨ホイール387Bが所定回転数で回転される。
Next, the
次に、図6に示すように、第1の研削ホイール380Aが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺(被加工面)260Aに沿って、矢印A1の方向に移動する。以下、この矢印A1の方向を、「移動方向」と称する。第1の研削ホイール380Aの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aが研削される。
Next, as shown in FIG. 6, the first grinding wheel 380 </ b> A is in contact with the first end surface 256 </ b> A of the
また、第1の研削ホイール380Aによる第1の端面256Aの研削が開始されてから暫くの後、第1の研磨ホイール385Bが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印A2の方向に移動する。矢印A2は、矢印A1と同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。
Further, after the
第1の研磨ホイール385Bの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aの、第1の研削ホイール380Aによって研削された領域が研磨される。
By the movement of the
また、第1の研削ホイール380Aによる第1の端面256Aの研削とほぼ同時に、あるいはその暫くの後、第2の研削ホイール382Aが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印A3の方向に移動する。矢印A3は、矢印A1と同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。第2の研削ホイール382Aの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aが研削される。
The
また、第2の研削ホイール382Aによる第1の端面256Aの研削が開始されてから暫くの後、第2の研磨ホイール387Bが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印A4の方向に移動する。矢印A4は、矢印A1と同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。
Further, after a while after the grinding of the
第2の研磨ホイール387Bの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aの、第2の研削ホイール382Aによって研削された領域が研磨される。
By the movement of the
ここで、第1の研削ホイール380Aは、ガラス素材250の第1の辺260Aの途中部分、例えば略中央部分から、研削を開始するように操作される。そして、第1の辺260Aの終了点Eまで研削を継続する。
Here, the first grinding wheel 380 </ b> A is operated so as to start grinding from an intermediate portion of the first side 260 </ b> A of the
また、第1の研磨ホイール385Bは、第1の辺260Aの第1の研削ホイール380Aによる研削が既に完了しているいずれかの位置から、研磨を開始するように操作される。そして、第1の辺260Aの終了点Eまで研磨を継続する。
Further, the
一方、第2の研削ホイール382Aは、ガラス素材250の第1の辺260Aの開始点Sから研削を開始するように操作される。そして、移動方向に沿って、第1の辺260Aの途中まで進行した時点で、研削が停止される。
On the other hand, the
この第2の研削ホイール382Aによる研削が停止される位置は、第1の辺260Aの第1の研削ホイール380Aによって既に研削された領域のいずれかの位置であれば良い。ただし、第2の研削ホイール382Aによる研削が停止される位置は、第1の研削ホイール380Aによって既に研削された領域のうち、第1の研磨ホイール385Bによる研磨が行われていない領域のいずれかの位置であることが好ましい。この場合、第1の研磨ホイール385Bによって研磨された領域が、第2の研削ホイール382Aによって研削されることを回避することができる。
The position where the grinding by the
また、第2の研磨ホイール387Bは、ガラス素材250の第1の辺260Aの開始点Sから、研磨を開始するように操作される。そして、第1の研磨ホイール385Bによる研磨が完了しているいずれかの位置まで、研磨を継続する。
Further, the
ただし、前述の第2の研削ホイール382Aによる研削の停止位置が、第1の研磨ホイール385Bによる研磨の開始位置を超えている場合、第2の研磨ホイール387Bは、この第2の研削ホイール382Aによる研削の停止位置を超える位置まで、研磨を継続する。
However, when the grinding stop position by the above-mentioned
これにより、ガラス素材250の第1の辺260A全体の研削および研磨処理が完了し、ガラス素材250の第1の端面256Aが加工された、ガラス基板が製造される。
Thereby, the grinding and polishing of the entire
このような第1の製造方法では、ガラス素材250の第1の端面256A内に、第1の研磨ホイール385Bと第2の研磨ホイール387Bの両方によって研磨された領域(以下、「重複研磨領域」という)が生じる。そのような重複研磨領域では、2回の研磨により、第1の端面256Aの他の領域に比べて、より平滑な表面が得られる。なお、重複研磨領域を第1の研磨ホイール385B及び第2の研磨ホイール387Bが研磨処理する際には、他の領域を研磨処理するときよりも研磨ホイールの移動速度を落としたり回転数を落としたりすることにより、平滑な表面が得られやすく好ましい。
In such a first manufacturing method, a region polished by both the
前述のように、凹凸が少ない平滑な表面は、位置決め冶具のような部材の当接に対して、比較的良好な強度を有する。従って、第1の製造方法によって製造されるガラス基板では、端面のそのような重複研磨領域を、位置決め冶具のような部材との当接場所として利用することにより、端面にクラックが生じたり、そこからカレットが生じたりすることを有意に抑制することが可能となる。 As described above, a smooth surface with few irregularities has a relatively good strength against contact with a member such as a positioning jig. Therefore, in the glass substrate manufactured by the first manufacturing method, such an overlapping polished region on the end surface is used as a contact place with a member such as a positioning jig, and the end surface is cracked, or there is It is possible to significantly suppress the occurrence of cullet.
(重複研磨領域の形成工程)
ここで、図7を参照して、上記重複研磨領域を形成する工程について、より詳しく説明する。
(Duplicate polishing area formation process)
Here, with reference to FIG. 7, the process of forming the said overlapping grinding | polishing area | region is demonstrated in detail.
図7には、第1の研削ホイール380A、第1の研磨ホイール385B、第2の研削ホイール382A、および第2の研磨ホイール387Bのそれぞれの移動軌跡を模式的に示す。図7(a)には、第1の研削ホイール380Aの模式的な移動軌跡F1が示されており、図7(b)には、第1の研磨ホイール385Bの模式的な移動軌跡F2が示されている。図7(c)には、第2の研削ホイール382Aの模式的な移動軌跡F3が示されている。また、図7(d)には、第2の研磨ホイール387Bの模式的な移動軌跡F4が示されている。
FIG. 7 schematically shows movement trajectories of the
また、図7において、第1の研削ホイール380A、第1の研磨ホイール385B、第2の研削ホイール382A、および第2の研磨ホイール387Bは、X方向(移動方向)に沿って移動し、これにより、ガラス素材250の第1の端面256Aは、Y方向に研削、研磨される(すなわち減肉される)ものとする。
In FIG. 7, the
従って、図7において、2つの位置を相対比較する場合、Xの値がより大きくなる方向(右側)にあるものを「前方(にある)」と称し、反対にXの値がより小さくなる方向(左側)のあるものを「後方(にある)」と称する。また、移動を停止するとは、ガラス素材250に接触した状態での移動を停止する意味であり、ガラス素材250から離れる方向への移動は許容する。
Therefore, in FIG. 7, when two positions are compared relatively, the one in the direction (right side) in which the value of X becomes larger is referred to as “front (in)”, and the direction in which the value of X becomes smaller. Those with (on the left) are referred to as “behind”. Further, to stop the movement means to stop the movement in a state where it is in contact with the
図7に示すように、ガラス素材250の第1の辺260Aは、開始点Sから終了点Eまで延伸する。
As shown in FIG. 7, the first side 260 </ b> A of the
図7(a)に示すように、第1の研削ホイール380Aは、第1の辺260Aの途中、すなわち第1研削開始点M1で第1の端面256Aと接触し、ここから第1の端面256Aの研削を開始する。そして、第1の研削ホイール380Aは、移動方向に沿って、第1の辺260Aの終了点Eまで研削を継続する。
As shown in FIG. 7 (a), the
その結果、ガラス素材250の第1の辺260Aに対応する第1の端面256Aは、第1研削開始点M1から終了点Eまでの領域が研削される。以下、この領域を、「第1研削領域(491)」という。
As a result, the
第1研削領域491において、第1の研削ホイール380Aによる第1の端面256Aの研削量(Y方向の減肉量)は、例えば、0.05mm〜0.50mmの範囲である。
In the first
一方、図7(b)に示すように、第1の研磨ホイール385Bは、第1の辺260Aの途中、すなわち第1研磨開始点P1で第1の端面256Aと接触し、ここから第1の端面256Aの研磨を開始する。そして、第1の研磨ホイール385Bは、移動方向に沿って、第1の辺260Aの終了点Eまで研磨を継続する。
On the other hand, as shown in FIG. 7 (b), the
その結果、ガラス素材250の第1の端面256Aは、第1研磨開始点P1から終了点Eまでの領域が研磨される。以下、この領域を、「第1研磨領域(492)」という。
As a result, the
ここで、第1研磨開始点P1は、第1研削開始点M1および終了点Eを除く、第1研削領域491の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。
Here, the first polishing start point P 1 may be any position within the range of the first
第1研磨領域492において、第1の研磨ホイール385Bによる第1の端面256Aの研磨量は、例えば、1μm〜30μmの範囲である。
In the
また、図7(c)に示すように、第2の研削ホイール382Aは、第1の辺260Aの開始点Sで第1の端面256Aに接触し、ここから移動方向に沿って、第1の辺260Aの第1移動完了点N1まで移動する。そして、第2の研削ホイール382Aは、第1移動完了点N1に到達した時点で、移動を停止する。
Further, as shown in FIG. 7C, the
第1移動完了点N1は、第1研削開始点M1およびそれよりも前方にある、いずれの位置であっても良い。特に第1研削開始点M1よりも前方であることが好ましい。ただし、図7(c)に示すように、第1移動完了点N1は、第1研削開始点M1〜第1研磨開始点P1の間の領域に設定されることが好ましい。 The first movement completion point N 1 is the first grinding start point M 1 and than in front, may be any position. It is especially preferred forwardly of the first grinding start point M 1. However, as shown in FIG. 7 (c), the first movement completion point N 1 is preferably set in a region between the first grinding start point M 1 ~ first polishing start point P 1.
これにより、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第2の研削ホイール382Aによって、開始点Sから第1移動完了点N1までの領域が研削される。以下、この領域を、「第2研削領域(493)」という。
Thus, the
第2研削領域493において、第2の研削ホイール382Aによる第1の端面256Aの研削量(Y方向の減肉量)は、第1の研削ホイール380Aによる第1研削領域491における研削量と実質的に等しくされる。
In the second
ただし、通常、第1研削開始点M1〜第1移動完了点N1の領域における研削量は、その他の領域における研削量の2倍にはならない。これは、第2の研削ホイール382Aは、前述のように、変形の生じ難い砥石で構成されているためである。すなわち、第1研削開始点M1〜第1移動完了点N1の領域では、既に、第1の研削ホイール380Aにより、第1の端面256Aは、Y方向に幾分減肉されている。このため、変形の生じ難い部材で構成された第2の研削ホイール382がこの領域を通過しても、再び第1の研削ホイール380Aと同量の研削を行うことは難しくなる。通常の場合、第2の研削ホイール382の通過後の第1研削開始点M1〜第1移動完了点N1の領域における研削量は、他の領域の研削量に比べて僅かに増加する程度である。
However, normally, the grinding amount in the region from the first grinding start point M 1 to the first movement completion point N 1 is not twice the grinding amount in the other regions. This is because the
また、図7(d)に示すように、第2の研磨ホイール387Bは、第1の辺260Aの開始点Sで第1の端面256Aに接触し、ここから移動方向に沿って、第1研磨完了点Q1まで移動する。そして、第2の研磨ホイール387Bは、第1研磨完了点Q1に到達した時点で、移動を停止する。
Further, as shown in FIG. 7 (d), the
その結果、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第2の研磨ホイール387Bによって、開始点Sから第1研磨完了点Q1までの領域が研磨される。以下、この領域を、「第2研磨領域(494)」という。
As a result, the
ここで、図7(c)に示すように、第1移動完了点N1が第1研削開始点M1〜第1研磨開始点P1の間の領域に設定される場合、第1研磨完了点Q1は、第1研磨開始点P1を除く、第1研磨領域492の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。
Here, as shown in FIG. 7 (c), when the first movement completion point N 1 is set in a region between the first grinding start point M 1 ~ first polishing start point P 1, the first polishing end The point Q 1 may be at any position as long as it is within the range of the
一方、第1移動完了点N1が第1研磨開始点P1よりも前方にある場合、第1研磨完了点Q1は、第1移動完了点N1よりも前方の位置に設定される。 On the other hand, the first movement completion point N 1 may in front than the first polishing start point P 1, the first polishing end point Q 1 is, is set to a position ahead of the first movement completion point N 1.
第2研磨領域494において、第2の研磨ホイール387Bによる第1の端面256Aの研磨量は、第1の研磨ホイール385Bによる第1研磨領域492における研磨量と実質的に等しくされる。
In the
以上の工程の結果、第1移動完了点N1が第1研削開始点M1〜第1研磨開始点P1の間の領域に設定される場合、図7(d)に示すように、第2研磨領域494のうち、第1研磨領域492と重複する領域、すなわち、第1研磨開始点P1〜第1研磨完了点Q1の領域では、第1の研磨ホイール385Bおよび第2の研磨ホイール387Bによる、2回の研磨処理が実施されることになる。従って、ここに重複研磨領域495が形成される。
As a result of the above steps, when the first movement completion point N 1 is set in the region between the first grinding start point M 1 and the first polishing start point P 1 , as shown in FIG. of the two polishing
一方、第1移動完了点N1が第1研磨開始点P1よりも前方にある場合は、第1移動完了点N1〜第1研磨完了点Q1の領域に、重複研磨領域495が形成される。
On the other hand, the first movement completion point N 1 may in front than the first polishing start point P 1 is the first region of the movement completion point N 1 ~ first polishing end point Q 1, overlap polishing
前述のように、重複研磨領域495では、第1の端面256Aの他の領域に比べて、より平滑な表面が得られる。
As described above, in the
例えば、第1の端面256Aの他の領域における算術平均粗さをRa(3)とし、重複研磨領域495における算術平均粗さをRa(4)としたとき、
Ra(4)/Ra(3)≦0.8 (2)式
が得られてもよい。
For example, when the arithmetic average roughness in the other region of the first end face 256A is Ra (3) and the arithmetic average roughness in the
Ra (4) / Ra (3) ≦ 0.8 (2) Formula
May be obtained.
(追加の工程)
以上の工程S110〜工程S120により、ガラス素材250から、第1の端面256Aに重複研磨領域495を有するガラス基板を製造することができる。
(Additional process)
Through the above steps S110 to S120, a glass substrate having the overlapping
ただし、第1の製造方法は、必要に応じて、以下の少なくとも一つの工程を追加で実施してもよい:
(a)ガラス素材250の第2の端面256Bの加工工程、
(b)ガラス素材250の第3の端面256Cの加工工程、および
(c)ガラス素材250の第4の端面256Dの加工工程。
However, the first manufacturing method may additionally perform at least one of the following steps as necessary:
(A) Processing step of
(B) Processing step for
このうち、(a)の加工工程を実施する際には、前述の図5および図6に示した加工装置300において、ガラス素材250を反時計回りに90゜回転させればよい。そのような状態で、前述の工程を実施することにより、第2の端面256Bに、重複研磨領域を形成することができる。
Among these, when the processing step (a) is performed, the
また、(b)の加工工程を実施する際には、前述の図5および図6に示した加工装置300において、ガラス素材250を(反)時計回りに180゜回転させればよい。そのような状態で、前述の工程を実施することにより、第3の端面256Cに、重複研磨領域を形成することができる。
Further, when the processing step (b) is performed, the
あるいは、加工装置300に、第1の研削ホイール380Aおよび第1の研磨ホイール385B、ならびに第2の研削ホイール382Aおよび第2の研磨ホイール387Bと同様の加工手段(例えば、第3の研削ホイールと第3の研磨ホイールの組、および第4の研削ホイールと第4の研磨ホイールの組)を設けてもよい。これらは、ガラス素材250の第3の辺260Cに対面するように配置される。
Alternatively, the
加工装置300がそのような構成を有する場合、ガラス素材250の第1の端面256Aおよび第3の端面256Cを、一度に加工することが可能となる。このため、加工速度が向上する。
When the
また、(c)の加工工程を実施する際には、前述の図6および図7に示した加工装置300において、ガラス素材250を時計回りに90゜回転させればよい。そのような状態で、前述の工程を実施することにより、第4の端面256Dに、重複研磨領域を形成することができる。
Further, when performing the processing step (c), the
さらに、(a)および(c)の加工工程においては、加工装置300が前述の第3の研削ホイールおよび第3の研磨ホイール、ならびに第4の研削ホイールおよび第4の研磨ホイールを有する場合、ガラス素材250を時計回りまたは反時計回りに90゜回転させればよい。
Further, in the processing steps (a) and (c), when the
この場合、ガラス素材250の第2の端面256Bおよび第4の端面256Dを、一度に加工することが可能となる。このため、加工速度が向上する。
In this case, the
以上、加工装置300を用いた第1の製造方法について説明した。しかしながら、上記説明は、単なる一例であって、第1の製造方法において、各種変更が可能である。
The first manufacturing method using the
例えば、前述の図7(a)に示した工程では、第1の研削ホイール380Aは、辺260Aに沿って、第1研削開始点M1から、辺260Aの終了点Eまで移動される。その結果、第1研削開始点M1〜終了点Eの領域に、第1研削領域491が形成される。
For example, in the step shown in FIG. 7 of the above (a), the
しかしながら、第1の研削ホイール380Aは、第1研削開始点M1〜終了点Eの間のいかなる位置で、第1の端面256Aの研削を停止してもよい。
However, the
また、図7(c)に示した工程では、第2の研削ホイール382Aは、辺260Aに沿って、開始点Sから、第1移動完了点N1まで移動される。その結果、開始点S〜第1移動完了点N1の間に、第2研削領域493が形成される。
Further, in the step shown in FIG. 7 (c), the
しかしながら、第2の研削ホイール382Aは、開始点S〜第1研削開始点M1の間のいかなる位置(ただし第1研削開始点M1は除く)から、第1の端面256Aの研削を開始してもよい。
However, the
同様に、前述の図7(b)に示した工程では、第1の研磨ホイール385Bは、辺260Aに沿って、第1研磨開始点P1から、辺260Aの終了点Eまで移動される。その結果、第1研磨開始点P1〜終了点Eの領域に、第1研磨領域492が形成される。
Similarly, in the step shown in FIG. 7 of the above (b), the
しかしながら、第1の研磨ホイール385Bは、第1研磨開始点P1〜終了点Eの間のいかなる位置で、第1の端面256Aの研磨を停止してもよい。
However, the
同様に、前述の図7(d)に示した工程では、第2の研磨ホイール387Bは、辺260Aに沿って、開始点Sから、第1研磨完了点Q1まで移動される。その結果、開始点S〜第1研磨完了点Q1の領域に、第2研磨領域494が形成される。
Similarly, in the step shown in FIG. 7 of the aforementioned (d), the
しかしながら、第2の研磨ホイール387Bは、開始点S〜第1研磨開始点P1の範囲のいかなる位置(ただし第1研磨開始点P1は除く)から、第1の端面256Aの研磨を開始してもよい。また、第2の研磨ホイール387Bは、第1移動完了点N1よりも前方であって、かつ第1研磨領域492の範囲内であればいかなる位置まで移動してもよい。
However, the
また、第2の研削ホイール382Aによる研削(第2の研削)は、第2の研削ホイールが第1の研削ホイールを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。同様に第2の研磨ホイール387Bによる研磨(第2の研磨)は、第2の研磨ホイールが第1の研磨ホイールを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。例えば、第2の研削の開始は、第1の研削ホイール380Aによる研削(第1の研削)と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。同様に、第2の研磨の開始は、第1の研磨ホイール385Bによる研磨(第1の研磨)と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。さらに、第2の研削ホイール382Aによる第2の研削は、第1の研磨ホイール385Bによる第1の研磨の開始前、同時、または実施中など完了前であることが好ましい。
Further, the grinding by the
つまり、図7(a)と(c)に示した工程が完了後に、図7(b)と(d)に示した工程を実施してもよいが、生産性の観点から、図7(a)と(c)の工程は同時、またはそれに近いタイミングで開始し、図7(a)と(c)の工程が完了する前に、図7(b)と(d)の工程を開始することが好ましい。 That is, after the steps shown in FIGS. 7A and 7C are completed, the steps shown in FIGS. 7B and 7D may be performed. From the viewpoint of productivity, FIG. ) And (c) start at the same time or close timing, and before the steps of FIGS. 7A and 7C are completed, the steps of FIGS. 7B and 7D are started. Is preferred.
また、一つの研削ホイールと、2つの研磨ホイールとを組にして、研削ホイールで研削した領域を、第1の研磨ホイールで研磨し、第1の研磨ホイールで研磨した領域の少なくとも一部が重複するように第2の研磨ホイールで研磨を実施してもよい。 In addition, one grinding wheel and two grinding wheels are paired, and a region ground with the grinding wheel is ground with the first grinding wheel, and at least a part of the region ground with the first grinding wheel overlaps. As described above, polishing may be performed with the second polishing wheel.
また、第1研磨開始点P1〜第1研磨完了点Q1の間で、2回目の研磨工程を実施してもよい。 Further, the second polishing step may be performed between the first polishing start point P 1 and the first polishing completion point Q 1 .
その他にも各種変更が可能であることは、当業者には容易に理解できる。 It will be readily apparent to those skilled in the art that other various modifications are possible.
(本発明の別の実施形態によるガラス基板の製造方法)
次に、本発明の別の実施形態によるガラス基板の製造方法(以下、「第2の製造方法」という)について説明する。
(Method of manufacturing a glass substrate according to another embodiment of the present invention)
Next, a glass substrate manufacturing method (hereinafter referred to as “second manufacturing method”) according to another embodiment of the present invention will be described.
前述の第1の製造方法では、ガラス素材250の少なくとも一つの端面(例えば第1の端面256A)に、一つの重複研磨領域495が形成される。これに対して、第2の製造方法では、ガラス素材の一つの端面に、複数の重複研磨領域が形成される。
In the first manufacturing method described above, one overlapping
以下、図8〜図11を参照して、第2の製造方法について説明する。 Hereinafter, the second manufacturing method will be described with reference to FIGS.
図8には、第2の製造方法のフローを模式的に示す。また、図9〜図11には、第2の製造方法における一工程の様子を模式的に示す。 FIG. 8 schematically shows a flow of the second manufacturing method. 9 to 11 schematically show the state of one step in the second manufacturing method.
図8に示すように、第2の製造方法は、
(1)第1および第2の表面と、両表面を接続する端面とを有するガラス素材を準備する工程(工程S210)と、
(2)第2の加工装置を用いて、前記ガラス素材の前記端面を研削および研磨する工程(工程S220)と、
を有する。
As shown in FIG. 8, the second manufacturing method is:
(1) a step of preparing a glass material having first and second surfaces and an end face connecting both surfaces (step S210);
(2) A step of grinding and polishing the end face of the glass material using a second processing apparatus (step S220);
Have
以下、図9〜図11を参照して、各工程について詳しく説明する。 Hereinafter, each step will be described in detail with reference to FIGS. 9 to 11.
(工程S210)
この工程S210は、前述の第1の製造方法における工程S110と同様である。従って、この工程の詳細は、省略する。なお、以下の説明では、明確化のため、ガラス素材の各部分を表す際に、図4に示した参照符号を使用する。
(Step S210)
This step S210 is the same as step S110 in the first manufacturing method described above. Therefore, details of this step are omitted. In the following description, the reference numerals shown in FIG. 4 are used for representing each part of the glass material for the sake of clarity.
(工程S220)
次に、第2の加工装置を用いて、ガラス素材250の端面が加工処理される。ここでは、一例として、ガラス素材250の第1の端面256Aが加工処理される場合を例に説明する。
(Step S220)
Next, the end surface of the
(第2の加工装置)
図9には、第2の製造方法に使用され得る第2の加工装置の構成を模式的に示す。
(Second processing equipment)
In FIG. 9, the structure of the 2nd processing apparatus which can be used for a 2nd manufacturing method is shown typically.
図9に示すように、第2の加工装置500は、テーブル502と、第1〜第3の研削ホイール580A〜584Aと、第1〜第3の研磨ホイール585B〜589Bと、を備える。
As shown in FIG. 9, the
このうち、テーブル502、第1および第2の研削ホイール580A、582A、ならびに第1および第2の研磨ホイール585B、587Bの構成および機能は、前述の加工装置300と同様である。そのため、ここでは詳細を省略する。
Among these, the configuration and functions of the table 502, the first and
第3の研削ホイール584Aは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研削することができる。また、第3の研磨ホイール589Bは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研磨することができる。
The third grinding wheel 584A can grind the
第1の研削ホイール580Aと第1の研磨ホイール585Bは、組になっており、第1の研磨ホイール585Bは、第1の研削ホイール580Aの研削行程を、後から追従することができる。同様に、第2の研削ホイール582Aと第2の研磨ホイール587Bは、組になっており、第2の研磨ホイール587Bは、第2の研削ホイール582Aの研削行程を、後から追従することができる。さらに、第3の研削ホイール584Aと第3の研磨ホイール589Bは、組になっており、第3の研磨ホイール589Bは、第3の研削ホイール584Aの研削行程を、後から追従することができる。
The
第3の研削ホイール584Aは、弾性変形が生じ難く、研削力の高い砥石で構成される。一方、第3の研磨ホイール589Bは、弾性を有し、研磨に適した砥石で構成される。 The third grinding wheel 584A is made of a grindstone that hardly undergoes elastic deformation and has a high grinding force. On the other hand, the third polishing wheel 589B is made of a grindstone having elasticity and suitable for polishing.
第2の加工装置500により、ガラス素材250の第1の端面256Aを加工する際には、図10に示すように、ガラス素材250が第2の加工装置500のテーブル502の上に設置される。この際には、ガラス素材250は、第1の辺260Aが第1〜第3の研削ホイール580A〜584Aと対面するようにして、テーブル302の上に設置される。
When the
次に、第2の加工装置500の第1の研削ホイール580Aおよび第1の研磨ホイール585Bが、所定回転数で回転される。また、第2の研削ホイール582Aおよび第2の研磨ホイール587Bが、所定回転数で回転される。さらに、第3の研削ホイール584Aおよび第3の研磨ホイール589Bが、所定回転数で回転される。
Next, the
次に、図10に示すように、第1の研削ホイール580Aが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺(被加工面)260Aに沿って、矢印A1の方向に移動する。以下、この矢印A1の方向を、「移動方向」と称する。第1の研削ホイール580Aの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aが研削される。
Next, as shown in FIG. 10, the
また、第1の研削ホイール580Aによる第1の端面256Aの研削が開始されてから暫くの後、第1の研磨ホイール585Bが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印A2の方向に移動する。ここで、矢印A2は、矢印A1と同じ方向、すなわち「移動方向」である。
Further, after the
第1の研磨ホイール585Bの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aの、第1の研削ホイール580Aによって研削された領域が研磨される。
By the movement of the
また、第1の研削ホイール580Aによる第1の端面256Aの研削とほぼ同時に、あるいはその暫くの後、第2の研削ホイール582Aが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印A3の方向に移動する。矢印A3は、矢印A1と同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。第2の研削ホイール382Aの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aが研削される。
The
また、第2の研削ホイール582Aによる第1の端面256Aの研削が開始されてから暫くの後、第2の研磨ホイール587Bが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印A4の方向に移動する。矢印A4は、矢印A1と同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。
Further, after a while after the grinding of the
第2の研磨ホイール587Bの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aの、第2の研削ホイール582Aによって研削された領域が研磨される。
By the movement of the
また、第2の研削ホイール582Aによる第1の端面256Aの研削とほぼ同時に、あるいはその暫くの後、第3の研削ホイール584Aが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印A5の方向に移動する。矢印A5は、矢印A1と同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。第3の研削ホイール584Aの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aが研削される。
In addition, the third grinding wheel 584A is in contact with the
また、第3の研削ホイール584Aによる第1の端面256Aの研削が開始されてから暫くの後、第3の研磨ホイール589Bが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印A6の方向に移動する。矢印A6は、矢印A1と同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。
Further, after a while after the grinding of the
第3の研磨ホイール589Bの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aの、第3の研削ホイール584Aによって研削された領域が研磨される。
By the movement of the third polishing wheel 589B, the region of the
これにより、ガラス素材250の第1の辺260A全体の研削および研磨処理が完了し、ガラス素材250の第1の端面256Aが加工された、ガラス基板が製造される。
Thereby, the grinding and polishing of the entire
図11には、第1の研削ホイール580A、第1の研磨ホイール585B、第2の研削ホイール582A、第2の研磨ホイール587B、第3の研削ホイール584A、および第3の研磨ホイール589Bのそれぞれの移動軌跡を模式的に示す。
FIG. 11 includes a
図11(a)には、第1の研削ホイール580Aの模式的な移動軌跡F1が示されており、図11(b)には、第1の研磨ホイール585Bの模式的な移動軌跡F2が示されており、図11(c)には、第2の研削ホイール582Aの模式的な移動軌跡F3が示されており、図11(d)には、第2の研磨ホイール587Bの模式的な移動軌跡F4が示されており、図11(e)には、第3の研削ホイール584Aの模式的な移動軌跡F5が示されており、図11(f)には、第3の研磨ホイール589Bの模式的な移動軌跡F6が示されている。
Figure 11 is (a), and schematic movement locus F 1 of the
図11において、第1の研削ホイール580Aおよび第1の研磨ホイール585B、第2の研削ホイール582Aおよび第2の研磨ホイール587B、ならびに第3の研削ホイール584Aおよび第3の研磨ホイール589Bは、いずれもX方向(移動方向)に沿って移動し、これにより、ガラス素材250の第1の端面260Aは、Y方向に研削、研磨される(すなわち減肉される)ものとする。
In FIG. 11, the
図11(a)に示すように、第1の研削ホイール580Aは、第1の辺260Aの途中、すなわち第1研削開始点M1で第1の端面256Aと接触し、ここから第1の端面256Aの研削を開始する。そして、第1の研削ホイール380Aは、移動方向に沿って、第1の辺260Aの終了点Eまで研削を継続する。
As shown in FIG. 11 (a), the
その結果、ガラス素材250の第1の辺260Aに対応する第1の端面256Aは、第1研削開始点M1から終了点Eまでの領域が研削される。以下、この領域を、「第1研削領域(691)」という。
As a result, the
一方、図11(b)に示すように、第1の研磨ホイール585Bは、第1の辺260Aの途中、すなわち第1研磨開始点P1で第1の端面256Aと接触し、ここから第1の端面256Aの研磨を開始する。そして、第1の研磨ホイール585Bは、移動方向に沿って、第1の辺260Aの終了点Eまで研磨を継続する。
On the other hand, as shown in FIG. 11 (b), the
その結果、ガラス素材250の第1の端面256Aは、第1研磨開始点P1から終了点Eまでの領域が研磨される。以下、この領域を、「第1研磨領域(692)」という。
As a result, the
ここで、第1研磨開始点P1は、第1研削開始点M1および終了点Eを除く、第1研削領域691の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。
Here, the first polishing start point P 1 may be any position within the range of the first
また、図11(c)に示すように、第2の研削ホイール582Aは、第1の辺260Aの途中、すなわち第2研削開始点M2で第1の端面256Aと接触し、ここから移動方向に沿って、第1の辺260Aの途中、すなわち第1移動完了点N1まで移動する。そして、第2の研削ホイール582Aは、第1移動完了点N1に到達した時点で、移動を停止する。
Further, as shown in FIG. 11 (c), the
ここで、第2研削開始点M2は、辺260Aの開始点Sおよび第1研削開始点M1を除く、開始点S〜第1研削開始点M1の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。また、第1移動完了点N1は、第1研削開始点M1およびそれよりも前方のいずれの位置であってもよい。特に第1研削開始点M1よりも前方であることが好ましい。ただし、図11(c)に示すように、第1移動完了点N1は、第1研削開始点M1〜第1研磨開始点P1の間の領域に設定されることが好ましい。 Here, the second grinding start point M 2 except the starting point S and the first grinding start point M 1 side 260A, as long as it is within the range of the start point S~ first grinding start point M 1, any position It may be. The first movement completion point N 1 may be any position of the forward first grinding start point M 1 and than that. It is especially preferred forwardly of the first grinding start point M 1. However, as shown in FIG. 11 (c), the first movement completion point N 1 it is preferably set in a region between the first grinding start point M 1 ~ first polishing start point P 1.
これにより、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第2の研削ホイール582Aによって、第2研削開始点M2から第1移動完了点N1までの領域が研削される。以下、この領域を、「第2研削領域(693)」という。
Thus, the
また、図11(d)に示すように、第2の研磨ホイール587Bは、第1の辺260Aの途中、すなわち第2研磨開始点P2で第1の端面256Aと接触し、ここから移動方向に沿って、第1の辺260Aの途中、すなわち第1研磨完了点Q1まで移動する。そして、第2の研磨ホイール587Bは、第1研磨完了点Q1に到達した時点で、移動を停止する。
Further, as shown in FIG. 11 (d), the
その結果、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第2の研磨ホイール587Bによって、第2研磨開始点P2から第1研磨完了点Q1までの領域が研磨される。以下、この領域を、「第2研磨領域(694)」という。
As a result, the
第2研磨開始点P2は、第2研削開始点M2および第1研削開始点M1を除く、第2研削開始点M2〜第1研削開始点M1の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。 Second polishing start point P 2 except the second grinding start point M 2 and the first grinding start point M 1, if the second range of grinding start point M 2 ~ first grinding start point M 1, any It may be the position.
ここで、図11(c)に示すように、第1移動完了点N1が第1研削開始点M1〜第1研磨開始点P1の間の領域に設定される場合、第1研磨完了点Q1は、第1研磨開始点P1を除く、第1研磨領域692の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。
Here, as shown in FIG. 11 (c), when the first movement completion point N 1 is set in a region between the first grinding start point M 1 ~ first polishing start point P 1, the first polishing end The point Q 1 may be at any position as long as it is within the range of the
一方、第1移動完了点N1が第1研磨開始点P1よりも前方にある場合、第1研磨完了点Q1は、第1移動完了点N1よりも前方の位置に設定される。 On the other hand, the first movement completion point N 1 may in front than the first polishing start point P 1, the first polishing end point Q 1 is, is set to a position ahead of the first movement completion point N 1.
第1移動完了点N1が第1研削開始点M1〜第1研磨開始点P1の間の領域に設定される場合、図11(d)に示すように、第2研磨領域694のうち、第1研磨領域692と重複する領域、すなわち、第1研磨開始点P1〜第1研磨完了点Q1の領域では、第1の研磨ホイール385Bおよび第2の研磨ホイール387Bによる、2回の研磨処理が実施されることになる。従って、ここに第1の重複研磨領域695が形成される。
When the first movement completion point N 1 is set in the region between the first grinding start point M 1 and the first polishing start point P 1 , as shown in FIG. In the region overlapping with the
一方、第1移動完了点N1が第1研磨開始点P1よりも前方にある場合は、第1移動完了点N1〜第1研磨完了点Q1の領域に、第1の重複研磨領域が形成される。 On the other hand, when the first movement completion point N 1 is at the front than the first polishing start point P 1 is the first region of the movement completion point N 1 ~ first polishing end point Q 1, the first overlap polishing region Is formed.
また、図11(e)に示すように、第3の研削ホイール584Aは、第1の辺260Aの開始点Sで第1の端面256Aに接触し、ここから移動方向に沿って、第1の辺260Aの第2移動完了点N2まで移動する。そして、第3の研削ホイール584Aは、第2移動完了点N2に到達した時点で、移動を停止する。
Further, as shown in FIG. 11 (e), the third grinding wheel 584A comes into contact with the
第2移動完了点N2は、第2研削開始点M2およびそれよりも前方にある、いずれの位置であっても良い。特に第2研削開始点M2よりも前方であることが好ましい。ただし、図11(e)に示すように、第2移動完了点N2は、第2研削開始点M2〜第2研磨開始点P2の間の領域に設定されることが好ましい。 The second movement completion point N 2, the second grinding start point M 2 and than in front, may be any position. It is especially preferred forward than the second grinding start point M 2. However, as shown in FIG. 11 (e), the second movement completion point N 2 is preferably set in a region between the second grinding start point M 2 ~ second polishing start point P 2.
これにより、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第3の研削ホイール584Aによって、開始点Sから第2移動完了点N2までの領域が研削される。以下、この領域を、「第3研削領域(696)」という。
Thus, the
また、図11(f)に示すように、第3の研磨ホイール589Bは、第1の辺260Aの開始点Sで第1の端面256Aに接触し、ここから移動方向に沿って、第2研磨完了点Q2まで移動する。そして、第3の研磨ホイール589Bは、第2研磨完了点Q2に到達した時点で、移動を停止する。
Further, as shown in FIG. 11 (f), the third polishing wheel 589B contacts the
その結果、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第3の研磨ホイール589Bによって、開始点Sから第2研磨完了点Q2までの領域が研磨される。以下、この領域を、「第3研磨領域(697)」という。
As a result, the
ここで、図11(e)に示すように、第2移動完了点N2が第2研削開始点M2〜第2研磨開始点P2の間の領域に設定される場合、第2研磨完了点Q2は、第2研磨開始点P2を除く、第2研磨領域694の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。
Here, as shown in FIG. 11 (e), when the second movement completion point N 2 is set in a region between the second grinding start point M 2 ~ second polishing start point P 2, the second polishing end point Q 2 are excluding second polishing start point P 2, as long as it is within range of the
一方、第2移動完了点N2が第2研磨開始点P2よりも前方にある場合、第2研磨完了点Q2は、第2移動完了点N2よりも前方の位置に設定される。 The second movement completion point N 2 cases in the front than the second polishing start point P 2, the second polishing end point Q 2 are set to a position ahead of the second movement completion point N 2.
第2移動完了点N2が第2研削開始点M2〜第2研磨開始点P2の間の領域に設定される場合、図11(f)に示すように、第3研磨領域697のうち、第2研磨領域694と重複する領域、すなわち、第2研磨開始点P2〜第2研磨完了点Q2の領域では、第2の研磨ホイール587Bおよび第3の研磨ホイール589Bによる、2回の研磨処理が実施されることになる。従って、ここに第2の重複研磨領域697が形成される。
When the second movement completion point N 2 is set in a region between the second grinding start point M 2 and the second polishing start point P 2 , as shown in FIG. In the region overlapping with the
一方、第1移動完了点N2が第2研磨開始点P2よりも前方にある場合は、第2移動完了点N2〜第2研磨完了点Q2の領域に、第2の重複研磨領域が形成される。 On the other hand, when the first movement completion point N 2 is ahead of the second polishing start point P 2 , the second overlapping polishing region is in the region of the second movement completion point N 2 to the second polishing completion point Q 2. Is formed.
以上の工程の結果、第1の端面256Aに、2箇所の重複研磨領域695、698を形成することができる。
As a result of the above steps, two overlapping
以上、第2の加工装置500を用いた第2の製造方法について説明した。しかしながら、上記説明は、単なる一例であって、第2の製造方法において、各種変更が可能である。
The second manufacturing method using the
例えば、前述の図11(a)に示した工程では、第1の研削ホイール580Aは、辺260Aに沿って、第1研削開始点M1から、辺260Aの終了点Eまで移動される。その結果、第1研削開始点M1〜終了点Eの領域に、第1研削領域691が形成される。
For example, in the step shown in FIG. 11 of the aforementioned (a), the
しかしながら、第1の研削ホイール580Aは、第1研削開始点M1〜終了点Eの間のいかなる位置で、第1の端面256Aの研削を停止してもよい。
However, the
また、前述の図11(b)に示した工程では、第1の研磨ホイール585Bは、辺260Aに沿って、第1研磨開始点P1から、辺260Aの終了点Eまで移動される。その結果、第1研磨開始点P1〜終了点Eの領域に、第1研磨領域692が形成される。
Further, in the step shown in FIG. 11 (b) described above, the
しかしながら、第1の研磨ホイール585Bは、第1研磨開始点P1〜終了点Eの間のいかなる位置で、第1の端面256Aの研磨を停止してもよい。
However, the
また、図11(e)に示した工程では、第3の研削ホイール584Aは、辺260Aに沿って、開始点Sから、第2移動完了点N2まで移動される。その結果、開始点S〜第2研削開始点M2の間に、第3研削領域696が形成される。
Further, in the step shown in FIG. 11 (e), the third grinding wheel 584A along the
しかしながら、第3の研削ホイール584Aは、開始点S〜第2研削開始点M2の範囲のいかなる位置から、第1の端面256Aの研削を開始してもよい。
However, the third grinding wheel 584A from any position of the start point S~ second range of grinding start point M 2, may start the grinding of the
また、前述の図11(f)に示した工程では、第3の研磨ホイール589Bは、辺260Aに沿って、開始点Sから、第2研磨完了点Q2まで移動される。その結果、開始点S〜第2研磨完了点Q2の領域に、第3研磨領域697が形成される。
Further, in the step shown in FIG. 11 of the aforementioned (f), the third grinding wheel 589B along the
しかしながら、第3の研磨ホイール589Bは、開始点S〜第2研磨開始点P2の範囲のいかなる位置(ただし第2研磨開始点P2は除く)から、第1の端面256Aの研磨を開始してもよい。
However, the third grinding wheel 589B from any position in the range of the start point S~ second polishing start point P 2 (excluding the second polishing start point P 2 are), begins polishing the
また、前述の第2の製造方法において、第2の研削ホイール582Aによる研削(第2の研削)は、第2の研削ホイール582Aが第1の研削ホイール580Aを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。また、第3の研削ホイール584Aによる研削(第3の研削)は、第3の研削ホイール584Aが第2の研削ホイール582Aを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。
In the second manufacturing method described above, the grinding by the
同様に、第2の研磨ホイール587Bによる研磨(第2の研磨)は、第2の研磨ホイール587Bが第1の研磨ホイール585Bを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。また、第3の研磨ホイール589Bによる研磨(第3の研磨)は、第3の研磨ホイール589Bが第2の研磨ホイール587Bを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。
Similarly, the polishing by the
特に、第2の研削の開始は、第1の研削と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。また、第3の研削の開始は、第2の研削と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。 In particular, the start of the second grinding is preferably performed at the same time as the first grinding or before completion such as during execution. Moreover, it is preferable that the start of the third grinding is simultaneously with the second grinding or before completion such as during execution.
同様に、第2の研磨の開始は、第1の研磨と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。また、第3の研磨の開始は、第2の研磨と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。 Similarly, the second polishing is preferably started at the same time as the first polishing or before completion, such as during the execution. The start of the third polishing is preferably at the same time as the second polishing or before completion such as during execution.
さらに、第2の研削ホイール582Aによる第2の研削は、第1の研磨ホイール585Bによる第1の研磨の開始前、同時、または実施中など完了前であることが好ましい。また、第3の研削ホイール584Aによる第3の研削は、第2の研磨ホイール587Bによる第2の研磨の開始前、同時、または実施中など完了前であることが好ましい。
Furthermore, it is preferable that the second grinding by the
つまり、図11(a)、(c)および(e)に示した工程が完了後に、図11(b)、(d)および(f)に示した工程を実施してもよいが、生産性の観点から、図11(a)、(c)および(e)の工程は同時、またはそれに近いタイミングで開始し、図11(a)、(c)および(e)の工程が完了する前に、図11(b)、(d)および(f)の工程を開始することが好ましい。 That is, after the steps shown in FIGS. 11A, 11C, and 11E are completed, the steps shown in FIGS. 11B, 11D, and 11F may be performed. 11 (a), (c) and (e) start at the same time or close to the timing, and before the steps of FIGS. 11 (a), (c) and (e) are completed. 11 (b), (d) and (f) are preferably started.
その他にも、各種変更が可能である。 Various other changes are possible.
以上、第2の加工装置500を用いて、ガラス素材250の一つの端面256Aに、2つの重複研磨領域を形成する方法について説明した。
The method for forming two overlapping polishing regions on one end surface 256 </ b> A of the
なお、当業者には、上記記載から、一つの端面に3つ以上の重複研磨領域を形成する方法を容易に把握することができる。例えば、加工装置にさらなる研削ホイールおよび研磨ホイールを設けることにより、一つの端面に3つ以上の重複研磨領域を形成してもよい。 From the above description, those skilled in the art can easily grasp a method of forming three or more overlapping polishing regions on one end face. For example, three or more overlapping polishing regions may be formed on one end face by providing additional grinding wheels and polishing wheels in the processing apparatus.
以上、本発明の一実施形態について説明した。しかしながら、本発明の態様は、上記形態に限られるものではない。 The embodiment of the present invention has been described above. However, the aspect of the present invention is not limited to the above form.
例えば、上記記載では、ガラス素材が略矩形状の形状を有する場合を例に、ガラス基板の製造方法について説明した。しかしながら、ガラス素材は、その他の形状、例えばディスク状であってもよい。 For example, in the above description, the method for manufacturing a glass substrate has been described by taking as an example the case where the glass material has a substantially rectangular shape. However, the glass material may have other shapes, for example, a disk shape.
ガラス素材がディスク状の場合、前記第1の製造方法および第2の製造方法の記載において、「辺」の代わりに、「周」と言う用語が使用される。また、前述の辺における開始点Sおよび終了点Eのうち、終了点Eが開始点Sと一致するものとして把握することにより、端面が「周」状の場合も、端面が「辺」状の場合と同様に、取り扱うことができる。 When the glass material is disk-shaped, the term “circumference” is used instead of “side” in the description of the first manufacturing method and the second manufacturing method. Further, by grasping that the end point E coincides with the start point S among the start point S and the end point E in the above-described side, even when the end surface is “circumferential”, the end surface is “side” -shaped. As with any case, it can be handled.
例えば、第1の製造方法に使用される加工装置300は、ガラス素材の周に沿って配置される複数の研削ホイールおよび複数の研磨ホイールを有する。そして、それぞれの研削ホイールおよびそれぞれの研磨ホイールは、ガラス素材の周方向に対応する、「移動方向」に沿って移動される。
For example, the
その他にも、各種変更が可能であることは、当業者には容易に理解される。 It will be readily appreciated by those skilled in the art that other various modifications are possible.
110 第1のガラス基板
112 第1の表面
114 第2の表面
116A 第1の端面
116B 第2の端面
116C 第3の端面
116D 第4の端面
120 一般領域
122 平滑領域
250 ガラス素材
252 第1の表面
254 第2の表面
256A〜256D 端面
260A〜260D 辺(被加工面)
300 加工装置
302 テーブル
380A 第1の研削ホイール
382A 第2の研削ホイール
385B 第1の研磨ホイール
387B 第2の研磨ホイール
491 第1研削領域
492 第1研磨領域
493 第2研削領域
494 第2研磨領域
495 重複研磨領域
500 第2の加工装置
502 テーブル
570 第1の加工手段
572 第2の加工手段
574 第3の加工手段
580A 第1の研削ホイール
580B 第1の研磨ホイール
582A 第2の研削ホイール
582B 第2の研磨ホイール
584A 第3の研削ホイール
584B 第3の研磨ホイール
691 第1研削領域
692 第1研磨領域
693 第2研削領域
694 第2研磨領域
695 第1の重複研磨領域
696 第3研削領域
697 第3研磨領域
698 第2の重複研磨領域
E 終了点
M1 第1研削開始点
M2 第2研削開始点
N1 第1移動完了点
N2 第2移動完了点
P1 第1研磨開始点
P2 第2研磨開始点
Q1 第1研磨完了点
Q2 第2研磨完了点
S 開始点
DESCRIPTION OF
DESCRIPTION OF
Claims (14)
前記端面の少なくとも一部には、平滑領域が配置されており、該平滑領域は、前記端面のその他の領域に比べて平滑な表面を有し、
前記端面の前記その他の領域を一般領域と称し、
前記一般領域の算術平均粗さをRa(1)とし、前記平滑領域の算術平均粗さをRa(2)としたとき、比Ra(2)/Ra(1)は、0.8以下であり、
前記端面は、第1の長さL 1 および第2の長さL 2 を有し、ここでL 1 ≧L 2 であり、
前記平滑領域は、前記第1の長さL 1 の方向において、1mm以上10mm以下の全長を有することを特徴とするガラス基板。 A glass substrate having an end face connecting two surfaces,
A smooth region is disposed on at least a part of the end surface, and the smooth region has a smooth surface compared to other regions of the end surface,
The other region of the end face is referred to as a general region,
When the arithmetic average roughness of the general region is Ra (1) and the arithmetic average roughness of the smooth region is Ra (2), the ratio Ra (2) / Ra (1) is 0.8 or less. The
Said end face have a first length L 1 and a second length L 2, where a L 1 ≧ L 2,
The smooth region, the in the first direction of a length L 1, the glass substrate characterized by having a 10mm or less of the total length than 1 mm.
前記端面は、前記第1乃至第4の端面のうちの少なくとも一つである、請求項1または2に記載のガラス基板。 The glass substrate is rectangular and has first to fourth end faces,
Said end face, the first, at least one of the fourth end surface of the glass substrate of claim 1 or 2.
(1)第1および第2の表面と、両表面を接続する端面とを有するガラス素材を準備する工程と、
(2)加工装置を用いて、前記ガラス素材の前記端面を研削および研磨する工程と、
を有し、
前記端面は、前記ガラス素材の上面視、開始点Sから終了点Eまでの被加工面として視認され、
前記加工装置は、第1の研削ホイールおよび第1の研磨ホイールと、第2の研削ホイールおよび第2の研磨ホイールとを有し、
前記第1および第2の研削ホイールは、移動方向と呼ばれる、前記開始点Sから前記終了点Eに向かう方向に、前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面を研削することができ、
前記第1の研磨ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面の、前記第1の研削ホイールにより研削された領域を研磨することができ、前記第2の研磨ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面の、前記第2の研削ホイールにより研削された領域を研磨することができ、
前記(2)の工程では、
(2−1)前記第1の研削ホイールは、第1研削開始点M1と呼ばれる前記被加工面の開始点Sおよび終了点Eを除く位置から、前記移動方向に沿って前記前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面には、第1研削領域と呼ばれる領域が形成され、
(2−2)前記第1の研磨ホイールは、第1研磨開始点P1と呼ばれる、前記第1研削領域内の第1研削開始点M1を除くいずれかの位置から、前記移動方向に沿って前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面には、第1研磨領域と呼ばれる領域が形成され、
(2−3)前記第2の研削ホイールは、第2研削開始点M2と呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第1移動完了点N1と呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第2研削開始点M2〜前記第1移動完了点N1までの、第2研削領域と呼ばれる領域が研削され、
前記第2研削開始点M2は、前記開始点S〜前記第1研削開始点M1の間に存在し、
前記第1移動完了点N1は、
(i)前記第1研磨開始点P1を除く、前記第1研削開始点M1〜前記第1研磨開始点P1の間に存在し、または
(ii)前記第1研磨開始点P1〜終了点Eの間に存在し、
(2−4)前記第2の研磨ホイールは、第2研磨開始点P2と呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第1研磨完了点Q1と呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第2研磨開始点P2〜前記第1研磨完了点Q1までの、第2研磨領域と呼ばれる領域が研磨され、
前記第2研磨開始点P2は、前記第2研削開始点M2〜前記第1研削開始点M1の間に存在し、
前記第1研磨完了点Q1は、前記(i)の場合、前記第1研磨開始点P1を除く、前記第1研磨領域内に存在し、前記(ii)の場合、前記第1研磨開始点P1〜前記第1移動完了点N1を除く、前記第1研磨領域内に存在し、
前記(i)の場合、前記端面の前記第1研磨開始点P1〜前記第1研磨完了点Q1の間に、前記第1および第2の研磨ホイールで研磨された、(第1の)重複研磨領域が形成され、
前記(ii)の場合、前記端面の前記第1移動完了点N1〜前記第1研磨完了点Q1の間に、前記第1および第2の研磨ホイールで研磨された、(第1の)重複研磨領域が形成される、ガラス基板の製造方法。 A method of manufacturing a glass substrate,
(1) preparing a glass material having first and second surfaces and end faces connecting both surfaces;
(2) A step of grinding and polishing the end face of the glass material using a processing apparatus;
Have
The end surface is viewed as a surface to be processed from a top view of the glass material, a start point S to an end point E,
The processing apparatus includes a first grinding wheel and a first polishing wheel, a second grinding wheel and a second polishing wheel,
The first and second grinding wheels move along the work surface in a direction from the start point S toward the end point E, which is referred to as a moving direction, thereby grinding the end face of the glass material. Can
The first grinding wheel can polish the region of the end face of the glass material ground by the first grinding wheel by moving along the work surface in the movement direction, The second polishing wheel can polish the region of the end face of the glass material ground by the second grinding wheel by moving along the workpiece surface in the moving direction,
In the step (2),
(2-1) said first grinding wheel, from said position except the start point S and end point E of the workpiece surface, the surface of the workpiece along the moving direction, called the first grinding start point M 1 Move and
Thereby, a region called a first grinding region is formed on the end face,
(2-2) said first grinding wheel, first polishing start point called P 1, from any position other than the first grinding start point M 1 of the first ground area, along the movement direction To move the workpiece surface,
Thereby, a region called a first polishing region is formed on the end face,
(2-3) the second grinding wheel from a position called the second grinding start point M 2, along the moving direction, the moving the workpiece surface to a position called the first movement completion point N 1 ,
Thus, the end surface is ground in a region called a second grinding region from the second grinding start point M 2 to the first movement completion point N 1 ,
It said second grinding start point M 2 is present between the starting point S~ the first grinding start point M 1,
The first movement completion point N 1 is
(I) exists between the first grinding start point M 1 and the first polishing start point P 1 excluding the first polishing start point P 1 , or (ii) the first polishing start point P 1- Exists between end points E,
(2-4) the second grinding wheel from the position called the second polishing start point P 2, along the moving direction, the moving the workpiece surface to a position called the first polishing end point Q 1 ,
Thus, the end surface is polished in a region called a second polishing region from the second polishing start point P 2 to the first polishing completion point Q 1 .
The second polishing start point P 2 is present between the second grinding start point M 2 ~ the first grinding start point M 1,
The first polishing end point Q 1 is the case of the (i), except for the first polishing start point P 1, present in the first polishing region, the case of the (ii), the first polishing start Existing in the first polishing region excluding the point P 1 to the first movement completion point N 1 ,
In the case of (i), polishing is performed by the first and second polishing wheels between the first polishing start point P 1 on the end surface and the first polishing completion point Q 1 (first). An overlapping polishing region is formed,
In the case of (ii), polishing is performed by the first and second polishing wheels between the first movement completion point N 1 to the first polishing completion point Q 1 of the end face (first). A method for producing a glass substrate, wherein an overlapping polishing region is formed.
前記(2−2)において、前記第1の研磨ホイールは、前記第1研磨開始点P1から前記終了点Eまで移動する、請求項6乃至8のいずれか一つに記載のガラス基板の製造方法。 In the (2-1), the first grinding wheel moves from the first grinding start point M 1 to the end point E,
In the (2-2), the first grinding wheel moves from the first polishing start point P 1 to the end point E, the production of a glass substrate according to any one of claims 6 to 8 Method.
前記(2−4)における前記第2研磨開始点P2は、前記被加工面の開始点Sである、請求項6乃至9のいずれか一つに記載のガラス基板の製造方法。 Wherein said second grinding start point M 2 in (2-3) is the starting point S of the surface to be processed,
The second polishing start point P 2, said a starting point S of the surface to be processed, method of manufacturing a glass substrate according to any one of claims 6 to 9 in the (2-4).
前記第3の研削ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面を研削することができ、
前記第3の研磨ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面の、前記第3の研削ホイールにより研削された領域を研磨することができ、
前記(2)の工程では、
(2−5)前記第3の研削ホイールは、第3研削開始点M3と呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第2移動完了点N2と呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第3研削開始点M3〜前記第2移動完了点N2までの、第3研削領域と呼ばれる領域が研削され、
前記第3研削開始点M3は、前記開始点S〜前記第2研削開始点M2の間に存在し、
前記第2移動完了点N2は、
(iii)前記第2研磨開始点P2を除く、前記第2研削開始点M2〜前記第2研磨開始点P2の間に存在し、または
(iv)前記第2研磨開始点P2〜終了点Eの間に存在し、
(2−6)前記第3の研磨ホイールは、第3研磨開始点P3と呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第2研磨完了点Q2と呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第3研磨開始点P3〜前記第2研磨完了点Q2までの、第3研磨領域と呼ばれる領域が研磨され、
前記第3研磨開始点P3は、前記第3研削開始点M3〜前記第2研削開始点M2の間に存在し、
前記第2研磨完了点Q2は、前記(iii)の場合、前記第2研磨開始点P2を除く、前記第2研磨領域内に存在し、前記(iv)の場合、前記第2研磨開始点P2〜前記第2移動完了点N2を除く、前記第2研磨領域内に存在し、
前記(iii)の場合、前記端面の前記第2研磨開始点P2〜前記第2研磨完了点Q2の間に、前記第2および第3の研磨ホイールで研磨された、第2の重複研磨領域が形成され、
前記(iv)の場合、前記端面の前記第2移動完了点N2〜前記第2研磨完了点Q2の間に、前記第2および第3の研磨ホイールで研磨された、第2の重複研磨領域が形成され、る、請求項6乃至12のいずれか一つに記載のガラス基板の製造方法。 The processing apparatus further includes a third grinding wheel and a third polishing wheel,
The third grinding wheel can grind the end face of the glass material by moving along the work surface in the moving direction,
The third polishing wheel can polish the region of the end face of the glass material ground by the third grinding wheel by moving along the work surface in the moving direction,
In the step (2),
(2-5) the third grinding wheel, from a position called the third grinding start point M 3, along the moving direction, moving the workpiece surface to a position called second movement completion point N 2 ,
Thus, the end surface is ground in a region called a third grinding region from the third grinding start point M 3 to the second movement completion point N 2 ,
The third grinding start point M 3 are present between the starting point S~ the second grinding start point M 2,
The second movement completion point N 2 is
(Iii) Present between the second grinding start point M 2 and the second polishing start point P 2 excluding the second polishing start point P 2 , or (iv) the second polishing start point P 2 ˜ Exists between end points E,
(2-6) the third polishing wheel from the position called third polishing start point P 3, along the moving direction, the moving the workpiece surface to a position called the second polishing end point Q 2 ,
Thereby, the end face is polished in a region called a third polishing region from the third polishing start point P 3 to the second polishing completion point Q 2 ,
The third polishing start point P 3 is present between the third grinding start point M 3 ~ the second grinding start point M 2,
The second polishing end point Q 2 are the case of the (iii), except for the second polishing start point P 2, present in the second polishing region, the case of the (iv), the second polishing start Existing in the second polishing region excluding the point P 2 to the second movement completion point N 2 ,
In the case of (iii), the second overlapping polishing polished by the second and third polishing wheels between the second polishing start point P 2 and the second polishing completion point Q 2 of the end face. A region is formed,
In the case of (iv), the second overlapping polishing polished by the second and third polishing wheels between the second movement completion point N 2 to the second polishing completion point Q 2 of the end face. region is formed, Ru, method of manufacturing a glass substrate according to any one of claims 6 to 12.
前記(2−6)における前記第3研磨開始点P3は、前記被加工面の開始点Sである、請求項13に記載のガラス基板の製造方法。 Wherein (2-5) the third grinding start point M 3 in is the starting point S of the surface to be processed,
The third polishing start point P 3, the a start point S of the surface to be processed, method of manufacturing a glass substrate according to claim 13 in the (2-6).
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