JP6288184B2 - Glass substrate and method for manufacturing glass substrate - Google Patents

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Description

本発明は、ガラス基板およびガラス基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a glass substrate and a method for producing the glass substrate.

ガラス基板を加工するときなど、ガラス基板のハンドリングの際に、ガラス基板を所定の位置および/または向きに固定させることが必要となる場合がある。そのようなガラス基板の位置決めを行う場合、バー状の金属部材などの位置決め冶具が使用される。例えば、スライド可能に構成された複数の位置決め冶具を用いた場合、ガラス基板をそのような位置決め冶具で挟み込み、ガラス基板の位置を定めることができる。   When processing the glass substrate, such as when processing the glass substrate, it may be necessary to fix the glass substrate in a predetermined position and / or orientation. When such a glass substrate is positioned, a positioning jig such as a bar-shaped metal member is used. For example, when a plurality of positioning jigs configured to be slidable are used, the glass substrate can be sandwiched by such positioning jigs to determine the position of the glass substrate.

位置決め冶具によるガラス基板の位置決め操作の際には、ガラス基板の端面が位置決め冶具に当接される。このため、しばしば、ガラス基板の端面にクラックが生じたり、端面からカレット(ガラス屑)が生じ、ガラス基板にカレットが付着したりする場合が認められる。そのようなクラックを有するガラス基板は、品質上問題がある。また、ガラス基板にカレットが付着していると、ガラス基板の搬送の際などに、ガラス基板が損傷を受ける可能性が高くなる。   During the positioning operation of the glass substrate by the positioning jig, the end surface of the glass substrate is brought into contact with the positioning jig. For this reason, the case where a crack arises in the end surface of a glass substrate often or a cullet (glass waste) arises from an end surface, and a cullet adheres to a glass substrate is recognized. A glass substrate having such a crack has a problem in quality. Further, when the cullet is attached to the glass substrate, the glass substrate is more likely to be damaged when the glass substrate is transported.

このため、位置決め操作の際に、クラックやカレットが生じ難いガラス基板が要望されている。   For this reason, there is a demand for a glass substrate that is less prone to cracks and carets during positioning operations.

本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、位置決め操作の際に、端面にクラックが生じたり、端面からカレットが生じたりすることが有意に抑制されるガラス基板を提供することを目的とする。また、本発明では、位置決め操作の際に、端面にクラックが生じたり、端面からカレットが生じたりすることが有意に抑制されるガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such a background, and in the present invention, a glass substrate in which cracks are generated on the end surface or cullet is generated from the end surface is significantly suppressed during the positioning operation. The purpose is to provide. Another object of the present invention is to provide a method for producing a glass substrate in which cracks on the end face and cullet from the end face are significantly suppressed during the positioning operation.

本発明では、2つの表面をつなぐ端面を有するガラス基板であって、
前記端面の少なくとも一部には、平滑領域が配置されており、該平滑領域は、前記端面のその他の領域に比べて平滑な表面を有し、
前記端面の前記その他の領域を一般領域と称し、
前記一般領域の算術平均粗さをRa(1)とし、前記平滑領域の算術平均粗さをRa(2)としたとき、比Ra(2)/Ra(1)は、0.8以下であることを特徴とするガラス基板が提供される。
In the present invention, a glass substrate having an end face connecting two surfaces,
A smooth region is disposed on at least a part of the end surface, and the smooth region has a smooth surface compared to other regions of the end surface,
The other region of the end face is referred to as a general region,
When the arithmetic average roughness of the general region is Ra (1) and the arithmetic average roughness of the smooth region is Ra (2), the ratio Ra (2) / Ra (1) is 0.8 or less. A glass substrate is provided.

また、本発明では、ガラス基板の製造方法であって、
(1)第1および第2の表面と、両表面を接続する端面とを有するガラス素材を準備する工程と、
(2)加工装置を用いて、前記ガラス素材の前記端面を研削および研磨する工程と、
を有し、
前記端面は、前記ガラス素材の上面視、開始点Sから終了点Eまでの被加工面として視認され、
前記加工装置は、第1の研削ホイールおよび第1の研磨ホイールと、第2の研削ホイールおよび第2の研磨ホイールとを有し、
前記第1および第2の研削ホイールは、移動方向と呼ばれる、前記開始点Sから前記終了点Eに向かう方向に、前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面を研削することができ、
前記第1の研磨ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面の、前記第1の研削ホイールにより研削された領域を研磨することができ、前記第2の研磨ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面の、前記第2の研削ホイールにより研削された領域を研磨することができ、
前記(2)の工程では、
(2−1)前記第1の研削ホイールは、第1研削開始点Mと呼ばれる前記被加工面の開始点Sおよび終了点Eを除く位置から、前記移動方向に沿って前記前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面には、第1研削領域と呼ばれる領域が形成され、
(2−2)前記第1の研磨ホイールは、第1研磨開始点Pと呼ばれる、前記第1研削領域内の第1研削開始点Mを除くいずれかの位置から、前記移動方向に沿って前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面には、第1研磨領域と呼ばれる領域が形成され、
(2−3)前記第2の研削ホイールは、第2研削開始点Mと呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第1移動完了点Nと呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第2研削開始点M〜前記第1移動完了点Nまでの、第2研削領域と呼ばれる領域が研削され、
前記第2研削開始点Mは、前記開始点S〜前記第1研削開始点Mの間に存在し、
前記第1移動完了点Nは、
(i)前記第1研磨開始点Pを除く、前記第1研削開始点M〜前記第1研磨開始点Pの間に存在し、または
(ii)前記第1研磨開始点P〜終了点Eの間に存在し、
(2−4)前記第2の研磨ホイールは、第2研磨開始点Pと呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第1研磨完了点Qと呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第2研磨開始点P〜前記第1研磨完了点Qまでの、第2研磨領域と呼ばれる領域が研磨され、
前記第2研磨開始点Pは、前記第2研削開始点M〜前記第1研削開始点Mの間に存在し、
前記第1研磨完了点Qは、前記(i)の場合、前記第1研磨開始点Pを除く、前記第1研磨領域内に存在し、前記(ii)の場合、前記第1研磨開始点P〜前記第1移動完了点Nを除く、前記第1研磨領域内に存在し、
前記(i)の場合、前記端面の前記第1研磨開始点P〜前記第1研磨完了点Qの間に、前記第1および第2の研磨ホイールで研磨された、(第1の)重複研磨領域が形成され、
前記(ii)の場合、前記端面の前記第1移動完了点N〜前記第1研磨完了点Qの間に、前記第1および第2の研磨ホイールで研磨された、(第1の)重複研磨領域が形成される、ガラス基板の製造方法が提供される。
Further, in the present invention, a method for producing a glass substrate,
(1) preparing a glass material having first and second surfaces and end faces connecting both surfaces;
(2) A step of grinding and polishing the end face of the glass material using a processing apparatus;
Have
The end surface is viewed as a surface to be processed from a top view of the glass material, a start point S to an end point E,
The processing apparatus includes a first grinding wheel and a first polishing wheel, a second grinding wheel and a second polishing wheel,
The first and second grinding wheels move along the work surface in a direction from the start point S toward the end point E, which is referred to as a moving direction, thereby grinding the end face of the glass material. Can
The first grinding wheel can polish the region of the end face of the glass material ground by the first grinding wheel by moving along the work surface in the movement direction, The second polishing wheel can polish the region of the end face of the glass material ground by the second grinding wheel by moving along the workpiece surface in the moving direction,
In the step (2),
(2-1) said first grinding wheel, from said position except the start point S and end point E of the workpiece surface, the surface of the workpiece along the moving direction, called the first grinding start point M 1 Move and
Thereby, a region called a first grinding region is formed on the end face,
(2-2) said first grinding wheel, first polishing start point called P 1, from any position other than the first grinding start point M 1 of the first ground area, along the movement direction To move the workpiece surface,
Thereby, a region called a first polishing region is formed on the end face,
(2-3) the second grinding wheel from a position called the second grinding start point M 2, along the moving direction, the moving the workpiece surface to a position called the first movement completion point N 1 ,
Thus, the end surface is ground in a region called a second grinding region from the second grinding start point M 2 to the first movement completion point N 1 ,
It said second grinding start point M 2 is present between the starting point S~ the first grinding start point M 1,
The first movement completion point N 1 is
(I) exists between the first grinding start point M 1 and the first polishing start point P 1 excluding the first polishing start point P 1 , or (ii) the first polishing start point P 1- Exists between end points E,
(2-4) the second grinding wheel from the position called the second polishing start point P 2, along the moving direction, the moving the workpiece surface to a position called the first polishing end point Q 1 ,
Thus, the end surface is polished in a region called a second polishing region from the second polishing start point P 2 to the first polishing completion point Q 1 .
The second polishing start point P 2 is present between the second grinding start point M 2 ~ the first grinding start point M 1,
The first polishing end point Q 1 is the case of the (i), except for the first polishing start point P 1, present in the first polishing region, the case of the (ii), the first polishing start Existing in the first polishing region excluding the point P 1 to the first movement completion point N 1 ,
In the case of (i), polishing is performed by the first and second polishing wheels between the first polishing start point P 1 on the end surface and the first polishing completion point Q 1 (first). An overlapping polishing region is formed,
In the case of (ii), polishing is performed by the first and second polishing wheels between the first movement completion point N 1 to the first polishing completion point Q 1 of the end face (first). A method of manufacturing a glass substrate is provided in which an overlapping polishing region is formed.

本発明では、位置決め操作の際に、端面にクラックが生じたり、端面からカレットが生じたりすることが有意に抑制されるガラス基板を提供することができる。また、本発明では、位置決め操作の際に、端面にクラックが生じたり、端面からカレットが生じたりすることが有意に抑制されるガラス基板の製造方法を提供することができる。   In the present invention, it is possible to provide a glass substrate that is significantly suppressed from causing cracks at the end face and cullet from the end face during the positioning operation. Moreover, in this invention, in the case of positioning operation, the manufacturing method of the glass substrate which can suppress significantly that a crack arises in an end surface or a cullet arises from an end surface can be provided.

本発明の一実施形態によるガラス基板を概略的に示した斜視図である。It is the perspective view which showed schematically the glass substrate by one Embodiment of this invention. 図1に示したガラス基板の一つの端面を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically one end surface of the glass substrate shown in FIG. 本発明の一実施形態によるガラス基板の製造方法のフローを模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the flow of the manufacturing method of the glass substrate by one Embodiment of this invention. ガラス素材の形態を模式的に示した斜視図である。It is the perspective view which showed the form of the glass raw material typically. 本発明の一実施形態によるガラス基板の製造方法に使用され得る、加工装置の構成の一例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically an example of the structure of the processing apparatus which can be used for the manufacturing method of the glass substrate by one Embodiment of this invention. 図5に示した加工装置の動作の一例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically an example of operation | movement of the processing apparatus shown in FIG. 図5に示した加工装置の第1の研削ホイール、第1の研磨ホイール、第2の研削ホイール、および第2の研磨ホイールのそれぞれの移動軌跡を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically each movement locus of the 1st grinding wheel of the processing device shown in Drawing 5, the 1st grinding wheel, the 2nd grinding wheel, and the 2nd grinding wheel. 本発明の一実施形態によるガラス基板の別の製造方法のフローを模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the flow of another manufacturing method of the glass substrate by one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態によるガラス基板の製造方法に使用され得る、別の加工装置の構成の一例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically an example of the structure of another processing apparatus which can be used for the manufacturing method of the glass substrate by one Embodiment of this invention. 図9に示した加工装置の動作の一例を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically an example of operation | movement of the processing apparatus shown in FIG. 図9に示した加工装置の第1の研削ホイール、第1の研磨ホイール、第2の研削ホイール、第2の研磨ホイール、第3の研削ホイール、および第3の研磨ホイールのそれぞれの移動軌跡を模式的に示した図である。The movement trajectories of the first grinding wheel, the first grinding wheel, the second grinding wheel, the second grinding wheel, the third grinding wheel, and the third grinding wheel of the processing apparatus shown in FIG. It is the figure shown typically.

以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

(本発明の一実施形態によるガラス基板)
図1および図2を参照して、本発明の一実施形態によるガラス基板の構成について説明する。図1には、本発明の一実施形態によるガラス基板(以下、単に「第1のガラス基板」と称する)の概略的な斜視図を示す。
(Glass substrate according to an embodiment of the present invention)
With reference to FIG. 1 and FIG. 2, the structure of the glass substrate by one Embodiment of this invention is demonstrated. FIG. 1 is a schematic perspective view of a glass substrate (hereinafter simply referred to as “first glass substrate”) according to an embodiment of the present invention.

図1に示すように、第1のガラス基板110は、相互に対向する第1の表面112および第2の表面114と、両表面を接続する4つの端面116A〜116Dとを有する。   As shown in FIG. 1, the 1st glass substrate 110 has the 1st surface 112 and the 2nd surface 114 which mutually oppose, and four end surface 116A-116D which connects both surfaces.

なお、図1の例では、第1のガラス基板110は、略矩形状であり、このため4つの端面116A〜116Dを有する。ただし、これは単なる一例あって、第1のガラス基板110は、いかなる形状であってもよく、その結果、端面の数は、いかなる値であってもよい。例えば、第1のガラス基板110が略ディスク状の場合、端面の数は一つとなる。また、第1のガラス基板110が略三角形状の場合、端面の数は三つとなる。第1のガラス基板110が五角形またはそれ以上の多角形の形状の場合も、同様に考えられる。   In the example of FIG. 1, the first glass substrate 110 has a substantially rectangular shape, and thus has four end surfaces 116 </ b> A to 116 </ b> D. However, this is merely an example, and the first glass substrate 110 may have any shape, and as a result, the number of end faces may be any value. For example, when the first glass substrate 110 is substantially disk-shaped, the number of end faces is one. In addition, when the first glass substrate 110 has a substantially triangular shape, the number of end faces is three. The same applies when the first glass substrate 110 has a pentagonal shape or a polygonal shape.

ここで、第1のガラス基板110は、少なくとも一つの端面に、「平滑領域」を有するという特徴を有する。ここで、「平滑領域」とは、対象となる端面において、他の領域に比べて、算術平均粗さRaが小さい領域を意味する。なお、対象となる端面において、「平滑領域」以外の領域を「一般領域」とも称する。   Here, the first glass substrate 110 has a feature of having a “smooth region” on at least one end face. Here, the “smooth area” means an area where the arithmetic average roughness Ra is smaller than the other areas on the target end face. Note that, on the target end face, a region other than the “smooth region” is also referred to as a “general region”.

以下、第1のガラス基板110の第1の端面116Aがそのような「平滑領域」を有する場合を例に、本発明の効果について説明する。   Hereinafter, the effect of the present invention will be described by taking as an example the case where the first end surface 116A of the first glass substrate 110 has such a “smooth region”.

図2には、「平滑領域」を有する第1の端面116Aの形態を模式的に示す。   In FIG. 2, the form of 116 A of 1st end surfaces which have a "smooth area | region" is shown typically.

図2に示すように、第1の端面116Aの表面は、一般領域120と平滑領域122とに区分けされる。平滑領域122は、第1の端面116Aの略中央に、一般領域120に挟まれて存在している。   As shown in FIG. 2, the surface of the first end surface 116 </ b> A is divided into a general region 120 and a smooth region 122. The smooth region 122 is sandwiched between the general regions 120 at the approximate center of the first end surface 116A.

ただし、これは、単なる一例であって、平滑領域122の存在位置は、特に限られない。また、平滑領域122の数も特に限られない。例えば、平滑領域122は、第1の端面116Aに、2箇所以上存在してもよい。平滑領域122の設置位置および数は、第1のガラス基板110の位置決めハンドリングの際に当接される位置決め冶具との関係により定められる。   However, this is merely an example, and the position where the smooth region 122 exists is not particularly limited. Further, the number of smooth regions 122 is not particularly limited. For example, two or more smooth regions 122 may exist on the first end surface 116A. The installation position and the number of the smooth regions 122 are determined by the relationship with the positioning jig that comes into contact with the positioning of the first glass substrate 110.

また、図2では、一般領域120と平滑領域122の境界が、破線で誇張して示されている。しかしながら、通常の場合、一般領域120および平滑領域122、さらには両者の境界は、外見から判断することは難しいことに留意する必要がある。   In FIG. 2, the boundary between the general area 120 and the smooth area 122 is exaggerated by a broken line. However, it should be noted that in the normal case, it is difficult to determine the general region 120 and the smooth region 122 and the boundary between them from the appearance.

ここで、前述のように、平滑領域122は、一般領域120に比べて、小さな算術平均粗さRaを有する。特に、第1のガラス基板110では、一般領域120における算術平均粗さをRa(1)とし、平滑領域122における算術平均粗さをRa(2)としたとき、

Ra(2)/Ra(1)≦0.8 (1)式

を満たすという特徴を有する。
Here, as described above, the smooth region 122 has a smaller arithmetic average roughness Ra than the general region 120. In particular, in the first glass substrate 110, when the arithmetic average roughness in the general region 120 is Ra (1) and the arithmetic average roughness in the smooth region 122 is Ra (2),

Ra (2) / Ra (1) ≦ 0.8 (1) Formula

It has the characteristic of satisfying.

前述のように、位置決め冶具によるガラス基板の位置決め操作の際には、ガラス基板の端面が位置決め冶具に当接される。そして、この際に、ガラス基板の端面にクラックが生じたり、端面からカレット(ガラス屑)が生じたりする場合がある。   As described above, when the glass substrate is positioned by the positioning jig, the end surface of the glass substrate is brought into contact with the positioning jig. At this time, cracks may occur on the end face of the glass substrate, or cullet (glass waste) may be generated from the end face.

これに対して第1のガラス基板110では、端面の、少なくとも位置決め冶具と当接し得る位置に、平滑領域122が配置される。また、平滑領域122と一般領域120における算術平均粗さの間には、前述の(1)式の関係がある。このような凹凸が少ない平滑領域122は、位置決め冶具のような部材の当接に対して、一般領域120よりも良好な強度を示す。   On the other hand, in the 1st glass substrate 110, the smooth area | region 122 is arrange | positioned in the position which can contact | abut at least with a positioning jig of an end surface. Further, the arithmetic mean roughness in the smooth region 122 and the general region 120 has the relationship of the above-described formula (1). Such a smooth region 122 with few irregularities shows better strength than the general region 120 against contact of a member such as a positioning jig.

そのため、第1のガラス基板110では、位置決め冶具が第1の端面116Aの平滑領域122と当接しても、位置決め冶具が一般領域120に当接するよりも、第1の端面116Aにクラックが生じたり、そこからカレットが生じたりすることを有意に抑制することができる。また、位置決め冶具が凹凸が少ない平滑領域122と当接するため、位置決め部材の摩耗および発塵を有意に抑制することにもなる。   Therefore, in the first glass substrate 110, even if the positioning jig abuts on the smooth region 122 of the first end surface 116A, the first end surface 116A cracks more than the positioning jig abuts on the general region 120. The occurrence of cullet can be significantly suppressed. Further, since the positioning jig comes into contact with the smooth region 122 with less unevenness, the wear and dust generation of the positioning member are significantly suppressed.

(一般領域120および平滑領域122)
次に、端面の一般領域120および平滑領域122について、より詳しく説明する。
(General area 120 and smooth area 122)
Next, the general area 120 and the smooth area 122 on the end face will be described in more detail.

前述のように、平滑領域122における算術平均粗さRa(2)と一般領域120における算術平均粗さをRa(1)の比Ra(2)/Ra(1)は、0.8以下とされる。この比Ra(2)/Ra(1)は、0.7以下であることが好ましい。   As described above, the ratio Ra (2) / Ra (1) between the arithmetic average roughness Ra (2) in the smooth region 122 and the arithmetic average roughness Ra (1) in the general region 120 is 0.8 or less. The The ratio Ra (2) / Ra (1) is preferably 0.7 or less.

また、平滑領域122の算術平均粗さRa(2)は、好ましくは0.12μm以下であり、より好ましくは0.08μm以下である。   Further, the arithmetic average roughness Ra (2) of the smooth region 122 is preferably 0.12 μm or less, and more preferably 0.08 μm or less.

一方、一般領域120、すなわち、第1の端面116Aの平滑領域122を除く領域の算術平均粗さRa(1)は、例えば、0.2μm以下であることが好ましい。   On the other hand, the arithmetic average roughness Ra (1) of the general region 120, that is, the region excluding the smooth region 122 of the first end face 116A, is preferably 0.2 μm or less, for example.

また、第1の端面116Aの平滑領域122の全長Lは、1mm以上、30mm以下であることが好ましい。平滑領域122の全長Lが1mm以上であると、平滑領域122に位置決め冶具を正確に接触させることが容易になる。また、平滑領域122の全長Lが30mm以下であると、第1のガラス基板110の生産性の観点から好ましい。平滑領域122の全長Lは、3mm以上、10mm以下であることがより好ましい。 The total length L s of the smooth region 122 of the first end surface 116A is preferably 1 mm or more and 30 mm or less. When the total length L s of the smooth region 122 is 1 mm or more, it becomes easy to accurately bring the positioning jig into contact with the smooth region 122. In addition, the total length L s of the smooth region 122 is preferably 30 mm or less from the viewpoint of the productivity of the first glass substrate 110. The total length L s of the smooth region 122 is more preferably 3 mm or more and 10 mm or less.

ここで、平滑領域122の「全長(L)」は、以下のように定められる。 Here, the “full length (L s )” of the smooth region 122 is determined as follows.

対象となる端面の第1の長さをLとし、第2の長さをLとする。ここでL≧Lである。例えば、図2に示した第1の端面116Aの場合、X方向の寸法が長さLとなり、Z方向(厚さ方向)の寸法が長さLとなる。この場合、図2に示すように、平滑領域122の全長Lは、第1の長さLに沿った方向の平滑領域122の幅で規定される。 A first length of the end surface of interest and L 1, the second length and L 2. Here, L 1 ≧ L 2 . For example, if the first end face 116A of FIG. 2, the dimension length L 1 next to the X-direction, the dimension in the Z direction (thickness direction) the length L 2. In this case, as shown in FIG. 2, the total length L s of the smooth region 122 is defined by the width of the smooth region 122 in the direction along the first length L 1 .

なお、ガラス基板が略ディスク状であって、曲面状の端面が一つだけ存在する場合、そのような端面の第1の長さLは周の長さとなり、第2の長さLはガラス基板の厚さに相当する。従って、平滑領域の全長Lは、周に沿った平滑領域の長さとなる。 When the glass substrate is substantially disk-shaped and there is only one curved end surface, the first length L 1 of such an end surface is the circumference length and the second length L 2. Corresponds to the thickness of the glass substrate. Therefore, the total length L s of the smooth region is the length of the smooth region along the circumference.

前述のように、第1の端面116Aにおける平滑領域122の設置位置および設置数は、特に限られない。例えば、平滑領域122は、第1の端面116Aにおいて、2つ以上、等間隔に、または非等間隔で配置されてもよい。   As described above, the installation position and the number of installation of the smooth region 122 on the first end surface 116A are not particularly limited. For example, two or more smooth regions 122 may be arranged at equal intervals or at non-equal intervals on the first end surface 116A.

また、前述の例では、平滑領域122は、第1のガラス基板110の第1の端面116Aに配置されている。しかしながら、平滑領域122は、第1のガラス基板110のいかなる端面に配置されてもよい。   In the above example, the smooth region 122 is disposed on the first end surface 116 </ b> A of the first glass substrate 110. However, the smooth region 122 may be disposed on any end surface of the first glass substrate 110.

例えば、平滑領域122は、第2の端面116B〜第4の端面116Dのいずれか一つの端面に配置されてもよく、第1の端面116Aおよび第2の端面116Bなど、2つの端面に配置されてもよく、第1の端面116A〜第3の端面116Cなど、3つの端面に配置されてもよく、第1の端面116A〜第4の端面116Dの全ての端面に配置されてもよい。また、この際に、各端面116A〜116Dにおいて、平滑領域122の設置位置および設置数は、相互に異なっていてもよい。   For example, the smooth region 122 may be disposed on any one of the second end surface 116B to the fourth end surface 116D, and is disposed on two end surfaces such as the first end surface 116A and the second end surface 116B. Alternatively, it may be disposed on three end surfaces such as the first end surface 116A to the third end surface 116C, or may be disposed on all end surfaces of the first end surface 116A to the fourth end surface 116D. At this time, the installation position and the number of installation of the smooth regions 122 may be different from each other on the end faces 116A to 116D.

(本発明の一実施形態によるガラス基板の製造方法)
次に、図3〜図7を参照して、本発明の一実施形態によるガラス基板の製造方法の一例について説明する。
(Method of manufacturing a glass substrate according to an embodiment of the present invention)
Next, with reference to FIGS. 3-7, an example of the manufacturing method of the glass substrate by one Embodiment of this invention is demonstrated.

図3には、本発明の一実施形態によるガラス基板の製造方法(以下、単に「第1の製造方法」と称する)のフローを模式的に示す。また、図4〜図7には、第1の製造方法における一工程の様子を模式的に示す。   FIG. 3 schematically shows a flow of a glass substrate manufacturing method (hereinafter simply referred to as “first manufacturing method”) according to an embodiment of the present invention. 4 to 7 schematically show the state of one step in the first manufacturing method.

図3に示すように、第1の製造方法は、
(1)第1および第2の表面と、両表面を接続する端面とを有するガラス素材を準備する工程(工程S110)と、
(2)加工装置を用いて、前記ガラス素材の前記端面を研削および研磨する工程(工程S120)と、
を有する。
As shown in FIG. 3, the first manufacturing method is:
(1) a step of preparing a glass material having first and second surfaces and an end face connecting both surfaces (step S110);
(2) Using a processing device, grinding and polishing the end face of the glass material (step S120);
Have

以下、図4〜図7を参照して、各工程について詳しく説明する。   Hereinafter, each step will be described in detail with reference to FIGS.

(工程S110)
まず、ガラス素材が準備される。図4に示すように、ガラス素材250は、第1の表面252および第2の表面254と、両表面を接続する4つの端面256A〜256Dとを有する。
(Process S110)
First, a glass material is prepared. As illustrated in FIG. 4, the glass material 250 includes a first surface 252 and a second surface 254, and four end surfaces 256 </ b> A to 256 </ b> D that connect both surfaces.

以降、説明の簡略化のため、ガラス素材250の上面視、第1の表面252の4つの端面256A〜256Dと対応する辺を、それぞれ、第1の辺260A、第2の辺260B、第3の辺260C、および第4の辺260Dと称する。   Hereinafter, for simplification of description, the top view of the glass material 250 and the sides corresponding to the four end faces 256A to 256D of the first surface 252 are defined as the first side 260A, the second side 260B, and the third side, respectively. The sides 260C and the fourth side 260D are referred to.

ガラス素材250の寸法は、特に限られない。例えば、液晶ディスプレイ用のガラス基板を製造する場合、ガラス素材250は、例えば、縦(第1の辺260Aおよび第3の辺260Cの長さ)1800mm〜3200mm×横(第2の辺260Bおよび第4の辺260Dの長さ)1500mm〜2900mm×厚さ0.10mm〜0.70mmの寸法を有してもよい。   The dimension of the glass material 250 is not particularly limited. For example, when a glass substrate for a liquid crystal display is manufactured, the glass material 250 is, for example, vertical (the length of the first side 260A and the third side 260C) 1800 mm to 3200 mm × horizontal (the second side 260B and the second side 4 side 260D length) 1500 mm to 2900 mm × thickness of 0.10 mm to 0.70 mm.

(工程S120)
次に、加工装置を用いて、ガラス素材250の端面が研削および研磨処理(以下、これらをまとめて「加工処理」ともいう)される。
(Process S120)
Next, the end surface of the glass material 250 is ground and polished (hereinafter, collectively referred to as “processing”) using a processing apparatus.

なお、ガラス素材250の加工処理される端面は、特に限られない。例えば、4つの端面256A〜256Dのうち、一つの端面のみが加工処理されてもよい。あるいは、4つの端面256A〜256Dのうち、2つ以上の端面、例えば全ての端面が加工処理されてもよい。   In addition, the end surface where the glass material 250 is processed is not particularly limited. For example, only one end face among the four end faces 256A to 256D may be processed. Alternatively, two or more end surfaces of the four end surfaces 256A to 256D, for example, all end surfaces may be processed.

ここでは、一例として、ガラス素材250の第1の端面256Aが加工処理される場合を例に説明する。   Here, as an example, a case where the first end surface 256A of the glass material 250 is processed will be described.

(加工装置)
図5には、第1の製造方法において使用され得る加工装置の構成を模式的に示す。
(Processing equipment)
FIG. 5 schematically shows a configuration of a processing apparatus that can be used in the first manufacturing method.

図5に示すように、加工装置300は、テーブル302と、第1および第2の研削ホイール380A、382Aと、第1および第2の研磨ホイール385B、387Bと、を備える。   As shown in FIG. 5, the processing apparatus 300 includes a table 302, first and second grinding wheels 380A and 382A, and first and second polishing wheels 385B and 387B.

テーブル302は、上部にガラス素材250を設置するために使用される。また、第1および第2の研削ホイール380A、382Aと、第1および第2の研磨ホイール385B、387Bとは、いずれもガラス素材250の第1の端面256Aを加工するために使用される。   The table 302 is used for installing the glass material 250 on the top. The first and second grinding wheels 380A and 382A and the first and second grinding wheels 385B and 387B are both used for processing the first end face 256A of the glass material 250.

第1の研削ホイール380Aは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研削することができ、第1の研磨ホイール385Bは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研磨することができる。同様に、第2の研削ホイール382Aは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研削することができ、第2の研磨ホイール387Bは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研磨することができる。   The first grinding wheel 380A can grind the first end surface 256A of the glass material 250, and the first polishing wheel 385B can grind the first end surface 256A of the glass material 250. Similarly, the second grinding wheel 382A can grind the first end surface 256A of the glass material 250, and the second grinding wheel 387B can grind the first end surface 256A of the glass material 250. .

第1の研削ホイール380Aと第1の研磨ホイール385Bは、組になっており、第1の研磨ホイール385Bは、第1の研削ホイール380Aの研削行程を、後から追従することができる。同様に、第2の研削ホイール382Aと第2の研磨ホイール387Bは、組になっており、第2の研磨ホイール387Bは、第2の研削ホイール382Aの研削行程を、後から追従することができる。   The first grinding wheel 380A and the first grinding wheel 385B form a pair, and the first grinding wheel 385B can follow the grinding process of the first grinding wheel 380A later. Similarly, the second grinding wheel 382A and the second grinding wheel 387B are paired, and the second grinding wheel 387B can follow the grinding process of the second grinding wheel 382A later. .

第1の研削ホイール380Aは、弾性変形が生じ難く、研削力の高い砥石で構成される。そのような砥石としては、例えばダイヤモンド又はCBNの砥粒を弾性変形が生じ難いメタルボンドにて固定したメタルボンド砥石を例示できる。同様に、ダイヤモンド砥粒を有する電着砥石も例示できる。   The first grinding wheel 380A is made of a grindstone that hardly undergoes elastic deformation and has a high grinding force. As such a grindstone, for example, a metal bond grindstone in which diamond or CBN abrasive grains are fixed by a metal bond that hardly undergoes elastic deformation can be exemplified. Similarly, the electrodeposition grindstone which has a diamond abrasive grain can also be illustrated.

第2の研削ホイール382Aについても同様である。   The same applies to the second grinding wheel 382A.

一方、第1の研磨ホイール385Bは、弾性を有し、研磨に適した砥石で構成される。そのような砥石としては、例えばダイヤモンド、CBN、緑色炭化ケイ素(GC)、アルミナ(Al)、軽石、又はガーネット等の砥粒を弾性変形が生じやすい樹脂、又はブチルルゴム、天然ゴム等のボンドにて固定した砥石を例示できる。 On the other hand, the first polishing wheel 385B is made of a grindstone having elasticity and suitable for polishing. As such a grindstone, for example, diamond, CBN, green silicon carbide (GC), alumina (Al 2 O 3 ), pumice, or garnet or other abrasive grains that easily undergo elastic deformation, butyl rubber, natural rubber, etc. A grindstone fixed with a bond can be exemplified.

第2の研磨ホイール387Bについても同様である。   The same applies to the second grinding wheel 387B.

なお、本願において、「研削」とは、目的が基板を所定の寸法、所定の断面形状になるように削り込むことであり、「研磨」とは、目的が研削で生じたチッピング、クラックなどを除去すると共に研削面の粗さを低減させることである。   In the present application, “grinding” means that the purpose is to cut the substrate so as to have a predetermined dimension and a predetermined cross-sectional shape, and “polishing” means that the purpose is chipping, cracks, etc. caused by grinding. It is to remove and reduce the roughness of the grinding surface.

(具体的な加工工程)
工程S120では、ガラス素材250が加工装置300に設置され、ガラス素材250が加工処理される。
(Specific processing steps)
In process S120, glass material 250 is installed in processing device 300, and glass material 250 is processed.

まず、図6に示すように、ガラス素材250は、第1の辺260Aが第1および第2の研削ホイール380A、382Aと対面するようにして、加工装置300のテーブル302の上に設置される。なお、ガラス素材250は、テーブル302に吸着固定されてもよい。   First, as shown in FIG. 6, the glass material 250 is placed on the table 302 of the processing apparatus 300 such that the first side 260A faces the first and second grinding wheels 380A and 382A. . The glass material 250 may be fixed to the table 302 by suction.

次に、加工装置300の第1の研削ホイール380Aおよび第1の研磨ホイール385Bが所定回転数で回転される。また、加工装置300の第2の研削ホイール382Aおよび第2の研磨ホイール387Bが所定回転数で回転される。   Next, the first grinding wheel 380A and the first grinding wheel 385B of the processing apparatus 300 are rotated at a predetermined rotational speed. Further, the second grinding wheel 382A and the second grinding wheel 387B of the processing apparatus 300 are rotated at a predetermined number of rotations.

次に、図6に示すように、第1の研削ホイール380Aが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺(被加工面)260Aに沿って、矢印Aの方向に移動する。以下、この矢印Aの方向を、「移動方向」と称する。第1の研削ホイール380Aの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aが研削される。 Next, as shown in FIG. 6, the first grinding wheel 380 </ b> A is in contact with the first end surface 256 </ b> A of the glass material 250, along the first side (surface to be processed) 260 </ b> A, as indicated by the arrow A <b> 1 . Move in the direction. Hereinafter, the direction of the arrow A 1, referred to as "moving direction". The first end face 256A of the glass material 250 is ground by the movement of the first grinding wheel 380A.

また、第1の研削ホイール380Aによる第1の端面256Aの研削が開始されてから暫くの後、第1の研磨ホイール385Bが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印Aの方向に移動する。矢印Aは、矢印Aと同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。 Further, after the first grinding wheel 380A starts grinding the first end surface 256A, the first polishing wheel 385B comes into contact with the first end surface 256A of the glass material 250 while the first grinding wheel 380A starts grinding. along the sides 260A, moves in the direction of arrow a 2. The arrow A 2 is the same direction as the arrow A 1 (the X direction in FIG. 6), that is, the “movement direction”.

第1の研磨ホイール385Bの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aの、第1の研削ホイール380Aによって研削された領域が研磨される。   By the movement of the first polishing wheel 385B, the region of the first end surface 256A of the glass material 250 that has been ground by the first grinding wheel 380A is polished.

また、第1の研削ホイール380Aによる第1の端面256Aの研削とほぼ同時に、あるいはその暫くの後、第2の研削ホイール382Aが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印Aの方向に移動する。矢印Aは、矢印Aと同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。第2の研削ホイール382Aの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aが研削される。 The first grinding wheel 380A is substantially simultaneously with the grinding of the first end face 256A, or after a while, the second grinding wheel 382A is in contact with the first end face 256A of the glass material 250 while the first end face 256A is in contact with the first end face 256A. along the sides 260A, moves in the direction of arrow a 3. The arrow A 3 is the same direction as the arrow A 1 (the X direction in FIG. 6), that is, the “movement direction”. The first end face 256A of the glass material 250 is ground by the movement of the second grinding wheel 382A.

また、第2の研削ホイール382Aによる第1の端面256Aの研削が開始されてから暫くの後、第2の研磨ホイール387Bが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印Aの方向に移動する。矢印Aは、矢印Aと同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。 Further, after a while after the grinding of the first end surface 256A by the second grinding wheel 382A is started, the second polishing wheel 387B makes contact with the first end surface 256A of the glass material 250 while the first end surface 256A is in contact with the first end surface 256A. along the sides 260A, moves in the direction of arrow a 4. Arrow A 4 is, (X direction in FIG. 6) the same direction as the arrow A 1, that is, "moving direction".

第2の研磨ホイール387Bの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aの、第2の研削ホイール382Aによって研削された領域が研磨される。   By the movement of the second polishing wheel 387B, the region of the first end surface 256A of the glass material 250 that has been ground by the second grinding wheel 382A is polished.

ここで、第1の研削ホイール380Aは、ガラス素材250の第1の辺260Aの途中部分、例えば略中央部分から、研削を開始するように操作される。そして、第1の辺260Aの終了点Eまで研削を継続する。   Here, the first grinding wheel 380 </ b> A is operated so as to start grinding from an intermediate portion of the first side 260 </ b> A of the glass material 250, for example, a substantially central portion. Then, the grinding is continued until the end point E of the first side 260A.

また、第1の研磨ホイール385Bは、第1の辺260Aの第1の研削ホイール380Aによる研削が既に完了しているいずれかの位置から、研磨を開始するように操作される。そして、第1の辺260Aの終了点Eまで研磨を継続する。   Further, the first polishing wheel 385B is operated so as to start polishing from any position where the grinding by the first grinding wheel 380A on the first side 260A has already been completed. Then, the polishing is continued until the end point E of the first side 260A.

一方、第2の研削ホイール382Aは、ガラス素材250の第1の辺260Aの開始点Sから研削を開始するように操作される。そして、移動方向に沿って、第1の辺260Aの途中まで進行した時点で、研削が停止される。   On the other hand, the second grinding wheel 382A is operated to start grinding from the starting point S of the first side 260A of the glass material 250. Then, the grinding is stopped at the point of progressing to the middle of the first side 260A along the moving direction.

この第2の研削ホイール382Aによる研削が停止される位置は、第1の辺260Aの第1の研削ホイール380Aによって既に研削された領域のいずれかの位置であれば良い。ただし、第2の研削ホイール382Aによる研削が停止される位置は、第1の研削ホイール380Aによって既に研削された領域のうち、第1の研磨ホイール385Bによる研磨が行われていない領域のいずれかの位置であることが好ましい。この場合、第1の研磨ホイール385Bによって研磨された領域が、第2の研削ホイール382Aによって研削されることを回避することができる。   The position where the grinding by the second grinding wheel 382A is stopped may be any position in the region already ground by the first grinding wheel 380A on the first side 260A. However, the position where the grinding by the second grinding wheel 382A is stopped is any one of the regions that are not ground by the first grinding wheel 385B among the regions already ground by the first grinding wheel 380A. Preferably it is a position. In this case, it can be avoided that the region polished by the first polishing wheel 385B is ground by the second grinding wheel 382A.

また、第2の研磨ホイール387Bは、ガラス素材250の第1の辺260Aの開始点Sから、研磨を開始するように操作される。そして、第1の研磨ホイール385Bによる研磨が完了しているいずれかの位置まで、研磨を継続する。   Further, the second polishing wheel 387B is operated so as to start polishing from the start point S of the first side 260A of the glass material 250. Then, the polishing is continued to any position where the polishing by the first polishing wheel 385B is completed.

ただし、前述の第2の研削ホイール382Aによる研削の停止位置が、第1の研磨ホイール385Bによる研磨の開始位置を超えている場合、第2の研磨ホイール387Bは、この第2の研削ホイール382Aによる研削の停止位置を超える位置まで、研磨を継続する。   However, when the grinding stop position by the above-mentioned second grinding wheel 382A exceeds the grinding start position by the first grinding wheel 385B, the second grinding wheel 387B is caused by this second grinding wheel 382A. Polishing is continued to a position exceeding the grinding stop position.

これにより、ガラス素材250の第1の辺260A全体の研削および研磨処理が完了し、ガラス素材250の第1の端面256Aが加工された、ガラス基板が製造される。   Thereby, the grinding and polishing of the entire first side 260A of the glass material 250 is completed, and the glass substrate on which the first end surface 256A of the glass material 250 is processed is manufactured.

このような第1の製造方法では、ガラス素材250の第1の端面256A内に、第1の研磨ホイール385Bと第2の研磨ホイール387Bの両方によって研磨された領域(以下、「重複研磨領域」という)が生じる。そのような重複研磨領域では、2回の研磨により、第1の端面256Aの他の領域に比べて、より平滑な表面が得られる。なお、重複研磨領域を第1の研磨ホイール385B及び第2の研磨ホイール387Bが研磨処理する際には、他の領域を研磨処理するときよりも研磨ホイールの移動速度を落としたり回転数を落としたりすることにより、平滑な表面が得られやすく好ましい。   In such a first manufacturing method, a region polished by both the first polishing wheel 385B and the second polishing wheel 387B in the first end surface 256A of the glass material 250 (hereinafter referred to as “overlapping polishing region”). ) Occurs. In such an overlapping polishing region, a smoother surface can be obtained by polishing twice as compared with other regions of the first end face 256A. In addition, when the first polishing wheel 385B and the second polishing wheel 387B polish the overlapping polishing region, the moving speed of the polishing wheel or the number of rotations is decreased compared to when polishing the other region. By doing so, a smooth surface is easily obtained, which is preferable.

前述のように、凹凸が少ない平滑な表面は、位置決め冶具のような部材の当接に対して、比較的良好な強度を有する。従って、第1の製造方法によって製造されるガラス基板では、端面のそのような重複研磨領域を、位置決め冶具のような部材との当接場所として利用することにより、端面にクラックが生じたり、そこからカレットが生じたりすることを有意に抑制することが可能となる。   As described above, a smooth surface with few irregularities has a relatively good strength against contact with a member such as a positioning jig. Therefore, in the glass substrate manufactured by the first manufacturing method, such an overlapping polished region on the end surface is used as a contact place with a member such as a positioning jig, and the end surface is cracked, or there is It is possible to significantly suppress the occurrence of cullet.

(重複研磨領域の形成工程)
ここで、図7を参照して、上記重複研磨領域を形成する工程について、より詳しく説明する。
(Duplicate polishing area formation process)
Here, with reference to FIG. 7, the process of forming the said overlapping grinding | polishing area | region is demonstrated in detail.

図7には、第1の研削ホイール380A、第1の研磨ホイール385B、第2の研削ホイール382A、および第2の研磨ホイール387Bのそれぞれの移動軌跡を模式的に示す。図7(a)には、第1の研削ホイール380Aの模式的な移動軌跡Fが示されており、図7(b)には、第1の研磨ホイール385Bの模式的な移動軌跡Fが示されている。図7(c)には、第2の研削ホイール382Aの模式的な移動軌跡Fが示されている。また、図7(d)には、第2の研磨ホイール387Bの模式的な移動軌跡Fが示されている。 FIG. 7 schematically shows movement trajectories of the first grinding wheel 380A, the first grinding wheel 385B, the second grinding wheel 382A, and the second grinding wheel 387B. Figure 7 is (a), and schematic movement locus F 1 of the first grinding wheel 380A, and FIG. 7 (b) are schematic movement locus F 2 of the first grinding wheel 385B It is shown. FIG. 7 (c), schematic movement locus F 3 of the second grinding wheel 382A is shown. Further, in FIG. 7 (d), schematic movement locus F 4 of the second grinding wheel 387B is shown.

また、図7において、第1の研削ホイール380A、第1の研磨ホイール385B、第2の研削ホイール382A、および第2の研磨ホイール387Bは、X方向(移動方向)に沿って移動し、これにより、ガラス素材250の第1の端面256Aは、Y方向に研削、研磨される(すなわち減肉される)ものとする。   In FIG. 7, the first grinding wheel 380A, the first grinding wheel 385B, the second grinding wheel 382A, and the second grinding wheel 387B move along the X direction (moving direction), thereby The first end surface 256A of the glass material 250 is ground and polished (that is, thinned) in the Y direction.

従って、図7において、2つの位置を相対比較する場合、Xの値がより大きくなる方向(右側)にあるものを「前方(にある)」と称し、反対にXの値がより小さくなる方向(左側)のあるものを「後方(にある)」と称する。また、移動を停止するとは、ガラス素材250に接触した状態での移動を停止する意味であり、ガラス素材250から離れる方向への移動は許容する。   Therefore, in FIG. 7, when two positions are compared relatively, the one in the direction (right side) in which the value of X becomes larger is referred to as “front (in)”, and the direction in which the value of X becomes smaller. Those with (on the left) are referred to as “behind”. Further, to stop the movement means to stop the movement in a state where it is in contact with the glass material 250, and the movement in the direction away from the glass material 250 is allowed.

図7に示すように、ガラス素材250の第1の辺260Aは、開始点Sから終了点Eまで延伸する。   As shown in FIG. 7, the first side 260 </ b> A of the glass material 250 extends from the start point S to the end point E.

図7(a)に示すように、第1の研削ホイール380Aは、第1の辺260Aの途中、すなわち第1研削開始点Mで第1の端面256Aと接触し、ここから第1の端面256Aの研削を開始する。そして、第1の研削ホイール380Aは、移動方向に沿って、第1の辺260Aの終了点Eまで研削を継続する。 As shown in FIG. 7 (a), the first grinding wheel 380A is the middle of the first side 260A, i.e. in contact with the first end surface 256A in the first grinding start point M 1, the first end face from here 256A grinding starts. Then, the first grinding wheel 380A continues grinding to the end point E of the first side 260A along the moving direction.

その結果、ガラス素材250の第1の辺260Aに対応する第1の端面256Aは、第1研削開始点Mから終了点Eまでの領域が研削される。以下、この領域を、「第1研削領域(491)」という。 As a result, the first end surface 256A corresponding to the first side 260A of the glass material 250, the area to the end point E from the first grinding start point M 1 is ground. Hereinafter, this region is referred to as “first grinding region (491)”.

第1研削領域491において、第1の研削ホイール380Aによる第1の端面256Aの研削量(Y方向の減肉量)は、例えば、0.05mm〜0.50mmの範囲である。   In the first grinding region 491, the grinding amount (thickness reduction in the Y direction) of the first end surface 256A by the first grinding wheel 380A is, for example, in the range of 0.05 mm to 0.50 mm.

一方、図7(b)に示すように、第1の研磨ホイール385Bは、第1の辺260Aの途中、すなわち第1研磨開始点Pで第1の端面256Aと接触し、ここから第1の端面256Aの研磨を開始する。そして、第1の研磨ホイール385Bは、移動方向に沿って、第1の辺260Aの終了点Eまで研磨を継続する。 On the other hand, as shown in FIG. 7 (b), the first grinding wheel 385B is the middle of the first side 260A, i.e. in contact with the first end surface 256A in the first polishing start point P 1, first from here The polishing of the end surface 256A of the first is started. Then, the first polishing wheel 385B continues polishing to the end point E of the first side 260A along the moving direction.

その結果、ガラス素材250の第1の端面256Aは、第1研磨開始点Pから終了点Eまでの領域が研磨される。以下、この領域を、「第1研磨領域(492)」という。 As a result, the first end surface 256A of the glass material 250, the area to the end point E from the first polishing start point P 1 is polished. Hereinafter, this region is referred to as “first polishing region (492)”.

ここで、第1研磨開始点Pは、第1研削開始点Mおよび終了点Eを除く、第1研削領域491の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。 Here, the first polishing start point P 1 may be any position within the range of the first grinding region 491 excluding the first grinding start point M 1 and the end point E.

第1研磨領域492において、第1の研磨ホイール385Bによる第1の端面256Aの研磨量は、例えば、1μm〜30μmの範囲である。   In the first polishing region 492, the polishing amount of the first end surface 256A by the first polishing wheel 385B is, for example, in the range of 1 μm to 30 μm.

また、図7(c)に示すように、第2の研削ホイール382Aは、第1の辺260Aの開始点Sで第1の端面256Aに接触し、ここから移動方向に沿って、第1の辺260Aの第1移動完了点Nまで移動する。そして、第2の研削ホイール382Aは、第1移動完了点Nに到達した時点で、移動を停止する。 Further, as shown in FIG. 7C, the second grinding wheel 382A comes into contact with the first end face 256A at the start point S of the first side 260A, and from here along the moving direction, the first grinding wheel 382A It moved to the first movement completion point N 1 side 260A. Then, the second grinding wheel 382A is when it reaches the first movement completion point N 1, stops moving.

第1移動完了点Nは、第1研削開始点Mおよびそれよりも前方にある、いずれの位置であっても良い。特に第1研削開始点Mよりも前方であることが好ましい。ただし、図7(c)に示すように、第1移動完了点Nは、第1研削開始点M〜第1研磨開始点Pの間の領域に設定されることが好ましい。 The first movement completion point N 1 is the first grinding start point M 1 and than in front, may be any position. It is especially preferred forwardly of the first grinding start point M 1. However, as shown in FIG. 7 (c), the first movement completion point N 1 is preferably set in a region between the first grinding start point M 1 ~ first polishing start point P 1.

これにより、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第2の研削ホイール382Aによって、開始点Sから第1移動完了点Nまでの領域が研削される。以下、この領域を、「第2研削領域(493)」という。 Thus, the first side 260A of the glass material 250, the second grinding wheel 382A, a region from the start point S moves to the completion point N 1 first be ground. Hereinafter, this region is referred to as “second grinding region (493)”.

第2研削領域493において、第2の研削ホイール382Aによる第1の端面256Aの研削量(Y方向の減肉量)は、第1の研削ホイール380Aによる第1研削領域491における研削量と実質的に等しくされる。   In the second grinding region 493, the grinding amount (thickness reduction amount in the Y direction) of the first end surface 256A by the second grinding wheel 382A is substantially equal to the grinding amount in the first grinding region 491 by the first grinding wheel 380A. Equal to

ただし、通常、第1研削開始点M〜第1移動完了点Nの領域における研削量は、その他の領域における研削量の2倍にはならない。これは、第2の研削ホイール382Aは、前述のように、変形の生じ難い砥石で構成されているためである。すなわち、第1研削開始点M〜第1移動完了点Nの領域では、既に、第1の研削ホイール380Aにより、第1の端面256Aは、Y方向に幾分減肉されている。このため、変形の生じ難い部材で構成された第2の研削ホイール382がこの領域を通過しても、再び第1の研削ホイール380Aと同量の研削を行うことは難しくなる。通常の場合、第2の研削ホイール382の通過後の第1研削開始点M〜第1移動完了点Nの領域における研削量は、他の領域の研削量に比べて僅かに増加する程度である。 However, normally, the grinding amount in the region from the first grinding start point M 1 to the first movement completion point N 1 is not twice the grinding amount in the other regions. This is because the second grinding wheel 382A is composed of a grindstone that hardly deforms as described above. That is, in the region from the first grinding start point M 1 to the first movement completion point N 1 , the first end face 256A has already been somewhat thinned in the Y direction by the first grinding wheel 380A. For this reason, even if the second grinding wheel 382 made of a member that is hardly deformed passes through this region, it is difficult to perform the same amount of grinding as the first grinding wheel 380A again. Normally, the grinding amount in the region from the first grinding start point M 1 to the first movement completion point N 1 after passing through the second grinding wheel 382 slightly increases as compared with the grinding amount in the other regions. It is.

また、図7(d)に示すように、第2の研磨ホイール387Bは、第1の辺260Aの開始点Sで第1の端面256Aに接触し、ここから移動方向に沿って、第1研磨完了点Qまで移動する。そして、第2の研磨ホイール387Bは、第1研磨完了点Qに到達した時点で、移動を停止する。 Further, as shown in FIG. 7 (d), the second polishing wheel 387B contacts the first end surface 256A at the start point S of the first side 260A, and from here the first polishing wheel along the moving direction. move to the completion point Q 1. Then, the second grinding wheel 387B is when it reaches the first polishing end point Q 1, stops moving.

その結果、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第2の研磨ホイール387Bによって、開始点Sから第1研磨完了点Qまでの領域が研磨される。以下、この領域を、「第2研磨領域(494)」という。 As a result, the first side 260A of the glass material 250, the second grinding wheel 387B, a region from the start point S to the first polishing end point Q 1 is polished. Hereinafter, this region is referred to as a “second polishing region (494)”.

ここで、図7(c)に示すように、第1移動完了点Nが第1研削開始点M〜第1研磨開始点Pの間の領域に設定される場合、第1研磨完了点Qは、第1研磨開始点Pを除く、第1研磨領域492の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。 Here, as shown in FIG. 7 (c), when the first movement completion point N 1 is set in a region between the first grinding start point M 1 ~ first polishing start point P 1, the first polishing end The point Q 1 may be at any position as long as it is within the range of the first polishing region 492 excluding the first polishing start point P 1 .

一方、第1移動完了点Nが第1研磨開始点Pよりも前方にある場合、第1研磨完了点Qは、第1移動完了点Nよりも前方の位置に設定される。 On the other hand, the first movement completion point N 1 may in front than the first polishing start point P 1, the first polishing end point Q 1 is, is set to a position ahead of the first movement completion point N 1.

第2研磨領域494において、第2の研磨ホイール387Bによる第1の端面256Aの研磨量は、第1の研磨ホイール385Bによる第1研磨領域492における研磨量と実質的に等しくされる。   In the second polishing region 494, the polishing amount of the first end surface 256A by the second polishing wheel 387B is made substantially equal to the polishing amount in the first polishing region 492 by the first polishing wheel 385B.

以上の工程の結果、第1移動完了点Nが第1研削開始点M〜第1研磨開始点Pの間の領域に設定される場合、図7(d)に示すように、第2研磨領域494のうち、第1研磨領域492と重複する領域、すなわち、第1研磨開始点P〜第1研磨完了点Qの領域では、第1の研磨ホイール385Bおよび第2の研磨ホイール387Bによる、2回の研磨処理が実施されることになる。従って、ここに重複研磨領域495が形成される。 As a result of the above steps, when the first movement completion point N 1 is set in the region between the first grinding start point M 1 and the first polishing start point P 1 , as shown in FIG. of the two polishing region 494, a region overlapping the first polishing region 492, i.e., in the first region of the polishing start point P 1 ~ first polishing end point Q 1, the first grinding wheel 385B and the second grinding wheel Two polishing processes by 387B will be implemented. Accordingly, an overlapping polishing region 495 is formed here.

一方、第1移動完了点Nが第1研磨開始点Pよりも前方にある場合は、第1移動完了点N〜第1研磨完了点Qの領域に、重複研磨領域495が形成される。 On the other hand, the first movement completion point N 1 may in front than the first polishing start point P 1 is the first region of the movement completion point N 1 ~ first polishing end point Q 1, overlap polishing region 495 formed Is done.

前述のように、重複研磨領域495では、第1の端面256Aの他の領域に比べて、より平滑な表面が得られる。   As described above, in the overlapping polishing region 495, a smoother surface can be obtained as compared with other regions of the first end surface 256A.

例えば、第1の端面256Aの他の領域における算術平均粗さをRa(3)とし、重複研磨領域495における算術平均粗さをRa(4)としたとき、

Ra(4)/Ra(3)≦0.8 (2)式

が得られてもよい。
For example, when the arithmetic average roughness in the other region of the first end face 256A is Ra (3) and the arithmetic average roughness in the overlapping polishing region 495 is Ra (4),

Ra (4) / Ra (3) ≦ 0.8 (2) Formula

May be obtained.

(追加の工程)
以上の工程S110〜工程S120により、ガラス素材250から、第1の端面256Aに重複研磨領域495を有するガラス基板を製造することができる。
(Additional process)
Through the above steps S110 to S120, a glass substrate having the overlapping polished region 495 on the first end face 256A can be manufactured from the glass material 250.

ただし、第1の製造方法は、必要に応じて、以下の少なくとも一つの工程を追加で実施してもよい:
(a)ガラス素材250の第2の端面256Bの加工工程、
(b)ガラス素材250の第3の端面256Cの加工工程、および
(c)ガラス素材250の第4の端面256Dの加工工程。
However, the first manufacturing method may additionally perform at least one of the following steps as necessary:
(A) Processing step of second end surface 256B of glass material 250,
(B) Processing step for third end surface 256C of glass material 250, and (c) Processing step for fourth end surface 256D of glass material 250.

このうち、(a)の加工工程を実施する際には、前述の図5および図6に示した加工装置300において、ガラス素材250を反時計回りに90゜回転させればよい。そのような状態で、前述の工程を実施することにより、第2の端面256Bに、重複研磨領域を形成することができる。   Among these, when the processing step (a) is performed, the glass material 250 may be rotated 90 ° counterclockwise in the processing apparatus 300 shown in FIGS. 5 and 6 described above. In such a state, an overlapping polishing region can be formed on the second end face 256B by performing the above-described steps.

また、(b)の加工工程を実施する際には、前述の図5および図6に示した加工装置300において、ガラス素材250を(反)時計回りに180゜回転させればよい。そのような状態で、前述の工程を実施することにより、第3の端面256Cに、重複研磨領域を形成することができる。   Further, when the processing step (b) is performed, the glass material 250 may be rotated (counterclockwise) 180 ° in the processing apparatus 300 shown in FIGS. 5 and 6 described above. In such a state, an overlapping polishing region can be formed on the third end face 256C by performing the above-described steps.

あるいは、加工装置300に、第1の研削ホイール380Aおよび第1の研磨ホイール385B、ならびに第2の研削ホイール382Aおよび第2の研磨ホイール387Bと同様の加工手段(例えば、第3の研削ホイールと第3の研磨ホイールの組、および第4の研削ホイールと第4の研磨ホイールの組)を設けてもよい。これらは、ガラス素材250の第3の辺260Cに対面するように配置される。   Alternatively, the processing apparatus 300 may include processing means similar to the first grinding wheel 380A and the first grinding wheel 385B, and the second grinding wheel 382A and the second grinding wheel 387B (for example, the third grinding wheel and the first grinding wheel). 3 sets of grinding wheels and a set of 4th grinding wheel and 4th grinding wheel) may be provided. These are arranged so as to face the third side 260 </ b> C of the glass material 250.

加工装置300がそのような構成を有する場合、ガラス素材250の第1の端面256Aおよび第3の端面256Cを、一度に加工することが可能となる。このため、加工速度が向上する。   When the processing apparatus 300 has such a configuration, the first end surface 256A and the third end surface 256C of the glass material 250 can be processed at a time. For this reason, a processing speed improves.

また、(c)の加工工程を実施する際には、前述の図6および図7に示した加工装置300において、ガラス素材250を時計回りに90゜回転させればよい。そのような状態で、前述の工程を実施することにより、第4の端面256Dに、重複研磨領域を形成することができる。   Further, when performing the processing step (c), the glass material 250 may be rotated 90 ° clockwise in the processing apparatus 300 shown in FIGS. 6 and 7 described above. In such a state, an overlapping polishing region can be formed on the fourth end face 256D by performing the above-described steps.

さらに、(a)および(c)の加工工程においては、加工装置300が前述の第3の研削ホイールおよび第3の研磨ホイール、ならびに第4の研削ホイールおよび第4の研磨ホイールを有する場合、ガラス素材250を時計回りまたは反時計回りに90゜回転させればよい。   Further, in the processing steps (a) and (c), when the processing apparatus 300 includes the third grinding wheel and the third grinding wheel, and the fourth grinding wheel and the fourth grinding wheel, glass is used. The material 250 may be rotated 90 ° clockwise or counterclockwise.

この場合、ガラス素材250の第2の端面256Bおよび第4の端面256Dを、一度に加工することが可能となる。このため、加工速度が向上する。   In this case, the second end surface 256B and the fourth end surface 256D of the glass material 250 can be processed at a time. For this reason, a processing speed improves.

以上、加工装置300を用いた第1の製造方法について説明した。しかしながら、上記説明は、単なる一例であって、第1の製造方法において、各種変更が可能である。   The first manufacturing method using the processing apparatus 300 has been described above. However, the above description is merely an example, and various modifications can be made in the first manufacturing method.

例えば、前述の図7(a)に示した工程では、第1の研削ホイール380Aは、辺260Aに沿って、第1研削開始点Mから、辺260Aの終了点Eまで移動される。その結果、第1研削開始点M〜終了点Eの領域に、第1研削領域491が形成される。 For example, in the step shown in FIG. 7 of the above (a), the first grinding wheel 380A along the sides 260A, the first grinding start point M 1, is moved to the end point E of the sides 260A. As a result, a first grinding region 491 is formed in the region from the first grinding start point M 1 to the end point E.

しかしながら、第1の研削ホイール380Aは、第1研削開始点M〜終了点Eの間のいかなる位置で、第1の端面256Aの研削を停止してもよい。 However, the first grinding wheel 380A may stop grinding the first end face 256A at any position between the first grinding start point M 1 and the end point E.

また、図7(c)に示した工程では、第2の研削ホイール382Aは、辺260Aに沿って、開始点Sから、第1移動完了点Nまで移動される。その結果、開始点S〜第1移動完了点Nの間に、第2研削領域493が形成される。 Further, in the step shown in FIG. 7 (c), the second grinding wheel 382A along the sides 260A, from the starting point S, is moved to the first movement completion point N 1. As a result, between the start point S~ first movement completion point N 1, second ground region 493 are formed.

しかしながら、第2の研削ホイール382Aは、開始点S〜第1研削開始点Mの間のいかなる位置(ただし第1研削開始点Mは除く)から、第1の端面256Aの研削を開始してもよい。 However, the second grinding wheel 382A from any position between the start point S~ first grinding start point M 1 (excluding the first grinding start point M 1 is), begin grinding the first end face 256A May be.

同様に、前述の図7(b)に示した工程では、第1の研磨ホイール385Bは、辺260Aに沿って、第1研磨開始点Pから、辺260Aの終了点Eまで移動される。その結果、第1研磨開始点P〜終了点Eの領域に、第1研磨領域492が形成される。 Similarly, in the step shown in FIG. 7 of the above (b), the first grinding wheel 385B along the edges 260A, the first polishing start point P 1, is moved to the end point E of the sides 260A. As a result, a first polishing region 492 is formed in the region from the first polishing start point P 1 to the end point E.

しかしながら、第1の研磨ホイール385Bは、第1研磨開始点P〜終了点Eの間のいかなる位置で、第1の端面256Aの研磨を停止してもよい。 However, the first polishing wheel 385B may stop polishing the first end face 256A at any position between the first polishing start point P 1 and the end point E.

同様に、前述の図7(d)に示した工程では、第2の研磨ホイール387Bは、辺260Aに沿って、開始点Sから、第1研磨完了点Qまで移動される。その結果、開始点S〜第1研磨完了点Qの領域に、第2研磨領域494が形成される。 Similarly, in the step shown in FIG. 7 of the aforementioned (d), the second grinding wheel 387B along the edges 260A, from the starting point S, is moved to the first polishing end point Q 1. As a result, the starting point S~ first region of the polishing end point Q 1, the second polishing region 494 is formed.

しかしながら、第2の研磨ホイール387Bは、開始点S〜第1研磨開始点Pの範囲のいかなる位置(ただし第1研磨開始点Pは除く)から、第1の端面256Aの研磨を開始してもよい。また、第2の研磨ホイール387Bは、第1移動完了点Nよりも前方であって、かつ第1研磨領域492の範囲内であればいかなる位置まで移動してもよい。 However, the second grinding wheel 387B from any position in the range of the start point S~ first polishing start point P 1 (excluding the first polishing start point P 1 is), begins polishing the first end face 256A May be. The second grinding wheel 387B is a front than the first movement completion point N 1, and may be moved to any position as long as it is within range of the first polishing region 492.

また、第2の研削ホイール382Aによる研削(第2の研削)は、第2の研削ホイールが第1の研削ホイールを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。同様に第2の研磨ホイール387Bによる研磨(第2の研磨)は、第2の研磨ホイールが第1の研磨ホイールを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。例えば、第2の研削の開始は、第1の研削ホイール380Aによる研削(第1の研削)と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。同様に、第2の研磨の開始は、第1の研磨ホイール385Bによる研磨(第1の研磨)と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。さらに、第2の研削ホイール382Aによる第2の研削は、第1の研磨ホイール385Bによる第1の研磨の開始前、同時、または実施中など完了前であることが好ましい。   Further, the grinding by the second grinding wheel 382A (second grinding) may be started at any timing as long as the second grinding wheel does not pass the first grinding wheel. Similarly, the polishing by the second polishing wheel 387B (second polishing) may be started at any timing as long as the second polishing wheel does not pass the first polishing wheel. For example, the start of the second grinding is preferably performed at the same time as the grinding by the first grinding wheel 380A (first grinding) or before completion such as during execution. Similarly, the second polishing is preferably started at the same time as the polishing by the first polishing wheel 385B (first polishing) or before completion, such as during execution. Furthermore, it is preferable that the second grinding by the second grinding wheel 382A is before completion, such as before the start of the first grinding by the first grinding wheel 385B, at the same time, or during execution.

つまり、図7(a)と(c)に示した工程が完了後に、図7(b)と(d)に示した工程を実施してもよいが、生産性の観点から、図7(a)と(c)の工程は同時、またはそれに近いタイミングで開始し、図7(a)と(c)の工程が完了する前に、図7(b)と(d)の工程を開始することが好ましい。   That is, after the steps shown in FIGS. 7A and 7C are completed, the steps shown in FIGS. 7B and 7D may be performed. From the viewpoint of productivity, FIG. ) And (c) start at the same time or close timing, and before the steps of FIGS. 7A and 7C are completed, the steps of FIGS. 7B and 7D are started. Is preferred.

また、一つの研削ホイールと、2つの研磨ホイールとを組にして、研削ホイールで研削した領域を、第1の研磨ホイールで研磨し、第1の研磨ホイールで研磨した領域の少なくとも一部が重複するように第2の研磨ホイールで研磨を実施してもよい。   In addition, one grinding wheel and two grinding wheels are paired, and a region ground with the grinding wheel is ground with the first grinding wheel, and at least a part of the region ground with the first grinding wheel overlaps. As described above, polishing may be performed with the second polishing wheel.

また、第1研磨開始点P〜第1研磨完了点Qの間で、2回目の研磨工程を実施してもよい。 Further, the second polishing step may be performed between the first polishing start point P 1 and the first polishing completion point Q 1 .

その他にも各種変更が可能であることは、当業者には容易に理解できる。   It will be readily apparent to those skilled in the art that other various modifications are possible.

(本発明の別の実施形態によるガラス基板の製造方法)
次に、本発明の別の実施形態によるガラス基板の製造方法(以下、「第2の製造方法」という)について説明する。
(Method of manufacturing a glass substrate according to another embodiment of the present invention)
Next, a glass substrate manufacturing method (hereinafter referred to as “second manufacturing method”) according to another embodiment of the present invention will be described.

前述の第1の製造方法では、ガラス素材250の少なくとも一つの端面(例えば第1の端面256A)に、一つの重複研磨領域495が形成される。これに対して、第2の製造方法では、ガラス素材の一つの端面に、複数の重複研磨領域が形成される。   In the first manufacturing method described above, one overlapping polishing region 495 is formed on at least one end surface of the glass material 250 (for example, the first end surface 256A). In contrast, in the second manufacturing method, a plurality of overlapping polishing regions are formed on one end surface of the glass material.

以下、図8〜図11を参照して、第2の製造方法について説明する。   Hereinafter, the second manufacturing method will be described with reference to FIGS.

図8には、第2の製造方法のフローを模式的に示す。また、図9〜図11には、第2の製造方法における一工程の様子を模式的に示す。   FIG. 8 schematically shows a flow of the second manufacturing method. 9 to 11 schematically show the state of one step in the second manufacturing method.

図8に示すように、第2の製造方法は、
(1)第1および第2の表面と、両表面を接続する端面とを有するガラス素材を準備する工程(工程S210)と、
(2)第2の加工装置を用いて、前記ガラス素材の前記端面を研削および研磨する工程(工程S220)と、
を有する。
As shown in FIG. 8, the second manufacturing method is:
(1) a step of preparing a glass material having first and second surfaces and an end face connecting both surfaces (step S210);
(2) A step of grinding and polishing the end face of the glass material using a second processing apparatus (step S220);
Have

以下、図9〜図11を参照して、各工程について詳しく説明する。   Hereinafter, each step will be described in detail with reference to FIGS. 9 to 11.

(工程S210)
この工程S210は、前述の第1の製造方法における工程S110と同様である。従って、この工程の詳細は、省略する。なお、以下の説明では、明確化のため、ガラス素材の各部分を表す際に、図4に示した参照符号を使用する。
(Step S210)
This step S210 is the same as step S110 in the first manufacturing method described above. Therefore, details of this step are omitted. In the following description, the reference numerals shown in FIG. 4 are used for representing each part of the glass material for the sake of clarity.

(工程S220)
次に、第2の加工装置を用いて、ガラス素材250の端面が加工処理される。ここでは、一例として、ガラス素材250の第1の端面256Aが加工処理される場合を例に説明する。
(Step S220)
Next, the end surface of the glass material 250 is processed using the second processing apparatus. Here, as an example, a case where the first end surface 256A of the glass material 250 is processed will be described.

(第2の加工装置)
図9には、第2の製造方法に使用され得る第2の加工装置の構成を模式的に示す。
(Second processing equipment)
In FIG. 9, the structure of the 2nd processing apparatus which can be used for a 2nd manufacturing method is shown typically.

図9に示すように、第2の加工装置500は、テーブル502と、第1〜第3の研削ホイール580A〜584Aと、第1〜第3の研磨ホイール585B〜589Bと、を備える。   As shown in FIG. 9, the second processing apparatus 500 includes a table 502, first to third grinding wheels 580A to 584A, and first to third polishing wheels 585B to 589B.

このうち、テーブル502、第1および第2の研削ホイール580A、582A、ならびに第1および第2の研磨ホイール585B、587Bの構成および機能は、前述の加工装置300と同様である。そのため、ここでは詳細を省略する。   Among these, the configuration and functions of the table 502, the first and second grinding wheels 580A and 582A, and the first and second grinding wheels 585B and 587B are the same as those of the processing apparatus 300 described above. Therefore, details are omitted here.

第3の研削ホイール584Aは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研削することができる。また、第3の研磨ホイール589Bは、ガラス素材250の第1の端面256Aを研磨することができる。   The third grinding wheel 584A can grind the first end face 256A of the glass material 250. The third polishing wheel 589B can polish the first end face 256A of the glass material 250.

第1の研削ホイール580Aと第1の研磨ホイール585Bは、組になっており、第1の研磨ホイール585Bは、第1の研削ホイール580Aの研削行程を、後から追従することができる。同様に、第2の研削ホイール582Aと第2の研磨ホイール587Bは、組になっており、第2の研磨ホイール587Bは、第2の研削ホイール582Aの研削行程を、後から追従することができる。さらに、第3の研削ホイール584Aと第3の研磨ホイール589Bは、組になっており、第3の研磨ホイール589Bは、第3の研削ホイール584Aの研削行程を、後から追従することができる。   The first grinding wheel 580A and the first grinding wheel 585B form a pair, and the first grinding wheel 585B can follow the grinding process of the first grinding wheel 580A later. Similarly, the second grinding wheel 582A and the second grinding wheel 587B are paired, and the second grinding wheel 587B can follow the grinding process of the second grinding wheel 582A later. . Further, the third grinding wheel 584A and the third grinding wheel 589B are in a set, and the third grinding wheel 589B can follow the grinding process of the third grinding wheel 584A later.

第3の研削ホイール584Aは、弾性変形が生じ難く、研削力の高い砥石で構成される。一方、第3の研磨ホイール589Bは、弾性を有し、研磨に適した砥石で構成される。   The third grinding wheel 584A is made of a grindstone that hardly undergoes elastic deformation and has a high grinding force. On the other hand, the third polishing wheel 589B is made of a grindstone having elasticity and suitable for polishing.

第2の加工装置500により、ガラス素材250の第1の端面256Aを加工する際には、図10に示すように、ガラス素材250が第2の加工装置500のテーブル502の上に設置される。この際には、ガラス素材250は、第1の辺260Aが第1〜第3の研削ホイール580A〜584Aと対面するようにして、テーブル302の上に設置される。   When the first end surface 256A of the glass material 250 is processed by the second processing device 500, the glass material 250 is placed on the table 502 of the second processing device 500, as shown in FIG. . At this time, the glass material 250 is placed on the table 302 so that the first side 260A faces the first to third grinding wheels 580A to 584A.

次に、第2の加工装置500の第1の研削ホイール580Aおよび第1の研磨ホイール585Bが、所定回転数で回転される。また、第2の研削ホイール582Aおよび第2の研磨ホイール587Bが、所定回転数で回転される。さらに、第3の研削ホイール584Aおよび第3の研磨ホイール589Bが、所定回転数で回転される。   Next, the first grinding wheel 580A and the first polishing wheel 585B of the second processing apparatus 500 are rotated at a predetermined number of rotations. Further, the second grinding wheel 582A and the second polishing wheel 587B are rotated at a predetermined rotational speed. Further, the third grinding wheel 584A and the third polishing wheel 589B are rotated at a predetermined rotational speed.

次に、図10に示すように、第1の研削ホイール580Aが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺(被加工面)260Aに沿って、矢印Aの方向に移動する。以下、この矢印Aの方向を、「移動方向」と称する。第1の研削ホイール580Aの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aが研削される。 Next, as shown in FIG. 10, the first grinding wheel 580A is, while in contact with the first end surface 256A of the glass material 250, along the first side (the surface to be processed) 260A, the arrow A 1 Move in the direction. Hereinafter, the direction of the arrow A 1, referred to as "moving direction". The first end face 256A of the glass material 250 is ground by the movement of the first grinding wheel 580A.

また、第1の研削ホイール580Aによる第1の端面256Aの研削が開始されてから暫くの後、第1の研磨ホイール585Bが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印Aの方向に移動する。ここで、矢印Aは、矢印Aと同じ方向、すなわち「移動方向」である。 Further, after the first grinding wheel 580A starts grinding the first end surface 256A, the first polishing wheel 585B is in contact with the first end surface 256A of the glass material 250 while the first grinding wheel 580A is ground. along the sides 260A, moves in the direction of arrow a 2. Here, the arrow A 2 is the same direction as the arrow A 1 , that is, the “movement direction”.

第1の研磨ホイール585Bの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aの、第1の研削ホイール580Aによって研削された領域が研磨される。   By the movement of the first polishing wheel 585B, the region of the first end face 256A of the glass material 250 that has been ground by the first grinding wheel 580A is polished.

また、第1の研削ホイール580Aによる第1の端面256Aの研削とほぼ同時に、あるいはその暫くの後、第2の研削ホイール582Aが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印Aの方向に移動する。矢印Aは、矢印Aと同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。第2の研削ホイール382Aの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aが研削される。 The first grinding wheel 580A is substantially simultaneously with the grinding of the first end face 256A, or after a while, the second grinding wheel 582A is in contact with the first end face 256A of the glass material 250 while the first end face 256A is in contact with the first end face 256A. along the sides 260A, moves in the direction of arrow a 3. The arrow A 3 is the same direction as the arrow A 1 (the X direction in FIG. 6), that is, the “movement direction”. The first end face 256A of the glass material 250 is ground by the movement of the second grinding wheel 382A.

また、第2の研削ホイール582Aによる第1の端面256Aの研削が開始されてから暫くの後、第2の研磨ホイール587Bが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印Aの方向に移動する。矢印Aは、矢印Aと同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。 Further, after a while after the grinding of the first end surface 256A by the second grinding wheel 582A is started, the second polishing wheel 587B is in contact with the first end surface 256A of the glass material 250 while the first end surface 256A is in contact with the first end surface 256A. along the sides 260A, moves in the direction of arrow a 4. Arrow A 4 is, (X direction in FIG. 6) the same direction as the arrow A 1, that is, "moving direction".

第2の研磨ホイール587Bの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aの、第2の研削ホイール582Aによって研削された領域が研磨される。   By the movement of the second polishing wheel 587B, the region of the first end surface 256A of the glass material 250 that has been ground by the second grinding wheel 582A is polished.

また、第2の研削ホイール582Aによる第1の端面256Aの研削とほぼ同時に、あるいはその暫くの後、第3の研削ホイール584Aが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印Aの方向に移動する。矢印Aは、矢印Aと同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。第3の研削ホイール584Aの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aが研削される。 In addition, the third grinding wheel 584A is in contact with the first end surface 256A of the glass material 250 while the first grinding is performed almost simultaneously with or after the first grinding of the first end surface 256A by the second grinding wheel 582A. along the sides 260A, moves in the direction of arrow a 5. Arrow A 5 represents, (X direction in FIG. 6) the same direction as the arrow A 1, that is, "moving direction". By the movement of the third grinding wheel 584A, the first end face 256A of the glass material 250 is ground.

また、第3の研削ホイール584Aによる第1の端面256Aの研削が開始されてから暫くの後、第3の研磨ホイール589Bが、ガラス素材250の第1の端面256Aに接触しながら、第1の辺260Aに沿って、矢印Aの方向に移動する。矢印Aは、矢印Aと同じ方向(図6におけるX方向)、すなわち「移動方向」である。 Further, after a while after the grinding of the first end face 256A by the third grinding wheel 584A is started, the third polishing wheel 589B is in contact with the first end face 256A of the glass material 250 while the first end face 256A is in contact with the first end face 256A. along the sides 260A, moves in the direction of arrow a 6. The arrow A 6 is the same direction as the arrow A 1 (the X direction in FIG. 6), that is, the “movement direction”.

第3の研磨ホイール589Bの移動により、ガラス素材250の第1の端面256Aの、第3の研削ホイール584Aによって研削された領域が研磨される。   By the movement of the third polishing wheel 589B, the region of the first end surface 256A of the glass material 250 ground by the third grinding wheel 584A is polished.

これにより、ガラス素材250の第1の辺260A全体の研削および研磨処理が完了し、ガラス素材250の第1の端面256Aが加工された、ガラス基板が製造される。   Thereby, the grinding and polishing of the entire first side 260A of the glass material 250 is completed, and the glass substrate on which the first end surface 256A of the glass material 250 is processed is manufactured.

図11には、第1の研削ホイール580A、第1の研磨ホイール585B、第2の研削ホイール582A、第2の研磨ホイール587B、第3の研削ホイール584A、および第3の研磨ホイール589Bのそれぞれの移動軌跡を模式的に示す。   FIG. 11 includes a first grinding wheel 580A, a first grinding wheel 585B, a second grinding wheel 582A, a second grinding wheel 587B, a third grinding wheel 584A, and a third grinding wheel 589B. A movement locus is shown typically.

図11(a)には、第1の研削ホイール580Aの模式的な移動軌跡Fが示されており、図11(b)には、第1の研磨ホイール585Bの模式的な移動軌跡Fが示されており、図11(c)には、第2の研削ホイール582Aの模式的な移動軌跡Fが示されており、図11(d)には、第2の研磨ホイール587Bの模式的な移動軌跡Fが示されており、図11(e)には、第3の研削ホイール584Aの模式的な移動軌跡Fが示されており、図11(f)には、第3の研磨ホイール589Bの模式的な移動軌跡Fが示されている。 Figure 11 is (a), and schematic movement locus F 1 of the first grinding wheel 580A, and FIG. 11 (b) are schematic movement locus F 2 of the first grinding wheel 585B has been shown, in FIG. 11 (c), are schematic movement locus F 3 of the second grinding wheel 582A is shown in FIG. 11 (d) schematically the second grinding wheel 587B specific are moving locus F 4 is shown, in FIG. 11 (e), the third and schematic movement locus F 5 of the grinding wheel 584A is shown in FIG. 11 (f), the third schematic movement locus F 6 abrasive wheel 589B is shown.

図11において、第1の研削ホイール580Aおよび第1の研磨ホイール585B、第2の研削ホイール582Aおよび第2の研磨ホイール587B、ならびに第3の研削ホイール584Aおよび第3の研磨ホイール589Bは、いずれもX方向(移動方向)に沿って移動し、これにより、ガラス素材250の第1の端面260Aは、Y方向に研削、研磨される(すなわち減肉される)ものとする。   In FIG. 11, the first grinding wheel 580A and the first grinding wheel 585B, the second grinding wheel 582A and the second grinding wheel 587B, and the third grinding wheel 584A and the third grinding wheel 589B are all. It moves along the X direction (moving direction), and thereby the first end surface 260A of the glass material 250 is ground and polished (that is, thinned) in the Y direction.

図11(a)に示すように、第1の研削ホイール580Aは、第1の辺260Aの途中、すなわち第1研削開始点Mで第1の端面256Aと接触し、ここから第1の端面256Aの研削を開始する。そして、第1の研削ホイール380Aは、移動方向に沿って、第1の辺260Aの終了点Eまで研削を継続する。 As shown in FIG. 11 (a), the first grinding wheel 580A is the middle of the first side 260A, i.e. in contact with the first end surface 256A in the first grinding start point M 1, the first end face from here 256A grinding starts. Then, the first grinding wheel 380A continues grinding to the end point E of the first side 260A along the moving direction.

その結果、ガラス素材250の第1の辺260Aに対応する第1の端面256Aは、第1研削開始点Mから終了点Eまでの領域が研削される。以下、この領域を、「第1研削領域(691)」という。 As a result, the first end surface 256A corresponding to the first side 260A of the glass material 250, the area to the end point E from the first grinding start point M 1 is ground. Hereinafter, this region is referred to as “first grinding region (691)”.

一方、図11(b)に示すように、第1の研磨ホイール585Bは、第1の辺260Aの途中、すなわち第1研磨開始点Pで第1の端面256Aと接触し、ここから第1の端面256Aの研磨を開始する。そして、第1の研磨ホイール585Bは、移動方向に沿って、第1の辺260Aの終了点Eまで研磨を継続する。 On the other hand, as shown in FIG. 11 (b), the first grinding wheel 585B is the middle of the first side 260A, i.e. in contact with the first end surface 256A in the first polishing start point P 1, first from here The polishing of the end surface 256A of the first is started. Then, the first polishing wheel 585B continues polishing to the end point E of the first side 260A along the moving direction.

その結果、ガラス素材250の第1の端面256Aは、第1研磨開始点Pから終了点Eまでの領域が研磨される。以下、この領域を、「第1研磨領域(692)」という。 As a result, the first end surface 256A of the glass material 250, the area to the end point E from the first polishing start point P 1 is polished. Hereinafter, this region is referred to as a “first polishing region (692)”.

ここで、第1研磨開始点Pは、第1研削開始点Mおよび終了点Eを除く、第1研削領域691の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。 Here, the first polishing start point P 1 may be any position within the range of the first grinding region 691 excluding the first grinding start point M 1 and the end point E.

また、図11(c)に示すように、第2の研削ホイール582Aは、第1の辺260Aの途中、すなわち第2研削開始点Mで第1の端面256Aと接触し、ここから移動方向に沿って、第1の辺260Aの途中、すなわち第1移動完了点Nまで移動する。そして、第2の研削ホイール582Aは、第1移動完了点Nに到達した時点で、移動を停止する。 Further, as shown in FIG. 11 (c), the second grinding wheel 582A is the middle of the first side 260A, i.e. in contact with the first end face 256A in the second grinding start point M 2, moving direction from here along the middle of the first side 260A, it is moved or move to completion point N 1 first. Then, the second grinding wheel 582A is when it reaches the first movement completion point N 1, stops moving.

ここで、第2研削開始点Mは、辺260Aの開始点Sおよび第1研削開始点Mを除く、開始点S〜第1研削開始点Mの範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。また、第1移動完了点Nは、第1研削開始点Mおよびそれよりも前方のいずれの位置であってもよい。特に第1研削開始点Mよりも前方であることが好ましい。ただし、図11(c)に示すように、第1移動完了点Nは、第1研削開始点M〜第1研磨開始点Pの間の領域に設定されることが好ましい。 Here, the second grinding start point M 2 except the starting point S and the first grinding start point M 1 side 260A, as long as it is within the range of the start point S~ first grinding start point M 1, any position It may be. The first movement completion point N 1 may be any position of the forward first grinding start point M 1 and than that. It is especially preferred forwardly of the first grinding start point M 1. However, as shown in FIG. 11 (c), the first movement completion point N 1 it is preferably set in a region between the first grinding start point M 1 ~ first polishing start point P 1.

これにより、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第2の研削ホイール582Aによって、第2研削開始点Mから第1移動完了点Nまでの領域が研削される。以下、この領域を、「第2研削領域(693)」という。 Thus, the first side 260A of the glass material 250, the second grinding wheel 582A, the region of the second grinding start point M 2 moves to completion point N 1 first is ground. Hereinafter, this region is referred to as a “second grinding region (693)”.

また、図11(d)に示すように、第2の研磨ホイール587Bは、第1の辺260Aの途中、すなわち第2研磨開始点Pで第1の端面256Aと接触し、ここから移動方向に沿って、第1の辺260Aの途中、すなわち第1研磨完了点Qまで移動する。そして、第2の研磨ホイール587Bは、第1研磨完了点Qに到達した時点で、移動を停止する。 Further, as shown in FIG. 11 (d), the second grinding wheel 587B is the middle of the first side 260A, i.e. in contact with the first end face 256A in the second polishing start point P 2, the movement direction from here along the middle of the first side 260A, it is moved that is, until the first polishing end point Q 1. Then, the second grinding wheel 587B is when it reaches the first polishing end point Q 1, stops moving.

その結果、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第2の研磨ホイール587Bによって、第2研磨開始点Pから第1研磨完了点Qまでの領域が研磨される。以下、この領域を、「第2研磨領域(694)」という。 As a result, the first side 260A of the glass material 250, the second grinding wheel 587B, a region from the second polishing start point P 2 to the first polishing end point Q 1 is being polished. Hereinafter, this region is referred to as a “second polishing region (694)”.

第2研磨開始点Pは、第2研削開始点Mおよび第1研削開始点Mを除く、第2研削開始点M〜第1研削開始点Mの範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。 Second polishing start point P 2 except the second grinding start point M 2 and the first grinding start point M 1, if the second range of grinding start point M 2 ~ first grinding start point M 1, any It may be the position.

ここで、図11(c)に示すように、第1移動完了点Nが第1研削開始点M〜第1研磨開始点Pの間の領域に設定される場合、第1研磨完了点Qは、第1研磨開始点Pを除く、第1研磨領域692の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。 Here, as shown in FIG. 11 (c), when the first movement completion point N 1 is set in a region between the first grinding start point M 1 ~ first polishing start point P 1, the first polishing end The point Q 1 may be at any position as long as it is within the range of the first polishing region 692 excluding the first polishing start point P 1 .

一方、第1移動完了点Nが第1研磨開始点Pよりも前方にある場合、第1研磨完了点Qは、第1移動完了点Nよりも前方の位置に設定される。 On the other hand, the first movement completion point N 1 may in front than the first polishing start point P 1, the first polishing end point Q 1 is, is set to a position ahead of the first movement completion point N 1.

第1移動完了点Nが第1研削開始点M〜第1研磨開始点Pの間の領域に設定される場合、図11(d)に示すように、第2研磨領域694のうち、第1研磨領域692と重複する領域、すなわち、第1研磨開始点P〜第1研磨完了点Qの領域では、第1の研磨ホイール385Bおよび第2の研磨ホイール387Bによる、2回の研磨処理が実施されることになる。従って、ここに第1の重複研磨領域695が形成される。 When the first movement completion point N 1 is set in the region between the first grinding start point M 1 and the first polishing start point P 1 , as shown in FIG. In the region overlapping with the first polishing region 692, that is, in the region from the first polishing start point P 1 to the first polishing completion point Q 1 , the first polishing wheel 385B and the second polishing wheel 387B perform two times. A polishing process will be performed. Accordingly, a first overlapping polishing region 695 is formed here.

一方、第1移動完了点Nが第1研磨開始点Pよりも前方にある場合は、第1移動完了点N〜第1研磨完了点Qの領域に、第1の重複研磨領域が形成される。 On the other hand, when the first movement completion point N 1 is at the front than the first polishing start point P 1 is the first region of the movement completion point N 1 ~ first polishing end point Q 1, the first overlap polishing region Is formed.

また、図11(e)に示すように、第3の研削ホイール584Aは、第1の辺260Aの開始点Sで第1の端面256Aに接触し、ここから移動方向に沿って、第1の辺260Aの第2移動完了点Nまで移動する。そして、第3の研削ホイール584Aは、第2移動完了点Nに到達した時点で、移動を停止する。 Further, as shown in FIG. 11 (e), the third grinding wheel 584A comes into contact with the first end surface 256A at the start point S of the first side 260A, and from here along the moving direction, the first grinding wheel 584A moving the second to the movement completion point N 2 sides 260A. The third grinding wheel 584A is when it reaches the second movement completion point N 2, it stops moving.

第2移動完了点Nは、第2研削開始点Mおよびそれよりも前方にある、いずれの位置であっても良い。特に第2研削開始点Mよりも前方であることが好ましい。ただし、図11(e)に示すように、第2移動完了点Nは、第2研削開始点M〜第2研磨開始点Pの間の領域に設定されることが好ましい。 The second movement completion point N 2, the second grinding start point M 2 and than in front, may be any position. It is especially preferred forward than the second grinding start point M 2. However, as shown in FIG. 11 (e), the second movement completion point N 2 is preferably set in a region between the second grinding start point M 2 ~ second polishing start point P 2.

これにより、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第3の研削ホイール584Aによって、開始点Sから第2移動完了点Nまでの領域が研削される。以下、この領域を、「第3研削領域(696)」という。 Thus, the first side 260A of the glass material 250, by a third grinding wheel 584A, a region from the start point S to the second movement completion point N 2 are ground. Hereinafter, this region is referred to as “third grinding region (696)”.

また、図11(f)に示すように、第3の研磨ホイール589Bは、第1の辺260Aの開始点Sで第1の端面256Aに接触し、ここから移動方向に沿って、第2研磨完了点Qまで移動する。そして、第3の研磨ホイール589Bは、第2研磨完了点Qに到達した時点で、移動を停止する。 Further, as shown in FIG. 11 (f), the third polishing wheel 589B contacts the first end face 256A at the starting point S of the first side 260A, and the second polishing wheel extends from here along the moving direction. move to the completion point Q 2. The third grinding wheel 589B is when it reaches the second polishing end point Q 2, stops moving.

その結果、ガラス素材250の第1の辺260Aは、第3の研磨ホイール589Bによって、開始点Sから第2研磨完了点Qまでの領域が研磨される。以下、この領域を、「第3研磨領域(697)」という。 As a result, the first side 260A of the glass material 250, by a third grinding wheel 589B, a region from the start point S to the second polishing end point Q 2 are polished. Hereinafter, this region is referred to as “third polishing region (697)”.

ここで、図11(e)に示すように、第2移動完了点Nが第2研削開始点M〜第2研磨開始点Pの間の領域に設定される場合、第2研磨完了点Qは、第2研磨開始点Pを除く、第2研磨領域694の範囲内であれば、いずれの位置であってもよい。 Here, as shown in FIG. 11 (e), when the second movement completion point N 2 is set in a region between the second grinding start point M 2 ~ second polishing start point P 2, the second polishing end point Q 2 are excluding second polishing start point P 2, as long as it is within range of the second polishing region 694, may be any position.

一方、第2移動完了点Nが第2研磨開始点Pよりも前方にある場合、第2研磨完了点Qは、第2移動完了点Nよりも前方の位置に設定される。 The second movement completion point N 2 cases in the front than the second polishing start point P 2, the second polishing end point Q 2 are set to a position ahead of the second movement completion point N 2.

第2移動完了点Nが第2研削開始点M〜第2研磨開始点Pの間の領域に設定される場合、図11(f)に示すように、第3研磨領域697のうち、第2研磨領域694と重複する領域、すなわち、第2研磨開始点P〜第2研磨完了点Qの領域では、第2の研磨ホイール587Bおよび第3の研磨ホイール589Bによる、2回の研磨処理が実施されることになる。従って、ここに第2の重複研磨領域697が形成される。 When the second movement completion point N 2 is set in a region between the second grinding start point M 2 and the second polishing start point P 2 , as shown in FIG. In the region overlapping with the second polishing region 694, that is, in the region from the second polishing start point P 2 to the second polishing completion point Q 2 , the second polishing wheel 587B and the third polishing wheel 589B are operated twice. A polishing process will be performed. Accordingly, a second overlapping polishing region 697 is formed here.

一方、第1移動完了点Nが第2研磨開始点Pよりも前方にある場合は、第2移動完了点N〜第2研磨完了点Qの領域に、第2の重複研磨領域が形成される。 On the other hand, when the first movement completion point N 2 is ahead of the second polishing start point P 2 , the second overlapping polishing region is in the region of the second movement completion point N 2 to the second polishing completion point Q 2. Is formed.

以上の工程の結果、第1の端面256Aに、2箇所の重複研磨領域695、698を形成することができる。   As a result of the above steps, two overlapping polishing regions 695 and 698 can be formed on the first end surface 256A.

以上、第2の加工装置500を用いた第2の製造方法について説明した。しかしながら、上記説明は、単なる一例であって、第2の製造方法において、各種変更が可能である。   The second manufacturing method using the second processing apparatus 500 has been described above. However, the above description is merely an example, and various changes can be made in the second manufacturing method.

例えば、前述の図11(a)に示した工程では、第1の研削ホイール580Aは、辺260Aに沿って、第1研削開始点Mから、辺260Aの終了点Eまで移動される。その結果、第1研削開始点M〜終了点Eの領域に、第1研削領域691が形成される。 For example, in the step shown in FIG. 11 of the aforementioned (a), the first grinding wheel 580A along the sides 260A, the first grinding start point M 1, is moved to the end point E of the sides 260A. As a result, a first grinding region 691 is formed in the region from the first grinding start point M 1 to the end point E.

しかしながら、第1の研削ホイール580Aは、第1研削開始点M〜終了点Eの間のいかなる位置で、第1の端面256Aの研削を停止してもよい。 However, the first grinding wheel 580A may stop grinding the first end face 256A at any position between the first grinding start point M 1 and the end point E.

また、前述の図11(b)に示した工程では、第1の研磨ホイール585Bは、辺260Aに沿って、第1研磨開始点Pから、辺260Aの終了点Eまで移動される。その結果、第1研磨開始点P〜終了点Eの領域に、第1研磨領域692が形成される。 Further, in the step shown in FIG. 11 (b) described above, the first grinding wheel 585B along the edges 260A, the first polishing start point P 1, is moved to the end point E of the sides 260A. As a result, a first polishing region 692 is formed in the region from the first polishing start point P 1 to the end point E.

しかしながら、第1の研磨ホイール585Bは、第1研磨開始点P〜終了点Eの間のいかなる位置で、第1の端面256Aの研磨を停止してもよい。 However, the first polishing wheel 585B may stop polishing the first end face 256A at any position between the first polishing start point P 1 and the end point E.

また、図11(e)に示した工程では、第3の研削ホイール584Aは、辺260Aに沿って、開始点Sから、第2移動完了点Nまで移動される。その結果、開始点S〜第2研削開始点Mの間に、第3研削領域696が形成される。 Further, in the step shown in FIG. 11 (e), the third grinding wheel 584A along the sides 260A, from the starting point S, is moved to the second movement completion point N 2. As a result, between the start point S~ second grinding start point M 2, third ground region 696 are formed.

しかしながら、第3の研削ホイール584Aは、開始点S〜第2研削開始点Mの範囲のいかなる位置から、第1の端面256Aの研削を開始してもよい。 However, the third grinding wheel 584A from any position of the start point S~ second range of grinding start point M 2, may start the grinding of the first end surface 256A.

また、前述の図11(f)に示した工程では、第3の研磨ホイール589Bは、辺260Aに沿って、開始点Sから、第2研磨完了点Qまで移動される。その結果、開始点S〜第2研磨完了点Qの領域に、第3研磨領域697が形成される。 Further, in the step shown in FIG. 11 of the aforementioned (f), the third grinding wheel 589B along the edges 260A, from the starting point S, is moved to the second polishing end point Q 2. As a result, the area of the start point S~ second polishing end point Q 2, the third polishing region 697 is formed.

しかしながら、第3の研磨ホイール589Bは、開始点S〜第2研磨開始点Pの範囲のいかなる位置(ただし第2研磨開始点Pは除く)から、第1の端面256Aの研磨を開始してもよい。 However, the third grinding wheel 589B from any position in the range of the start point S~ second polishing start point P 2 (excluding the second polishing start point P 2 are), begins polishing the first end face 256A May be.

また、前述の第2の製造方法において、第2の研削ホイール582Aによる研削(第2の研削)は、第2の研削ホイール582Aが第1の研削ホイール580Aを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。また、第3の研削ホイール584Aによる研削(第3の研削)は、第3の研削ホイール584Aが第2の研削ホイール582Aを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。   In the second manufacturing method described above, the grinding by the second grinding wheel 582A (second grinding) is started at any timing as long as the second grinding wheel 582A does not pass the first grinding wheel 580A. May be. Further, the grinding by the third grinding wheel 584A (third grinding) may be started at any timing as long as the third grinding wheel 584A does not pass the second grinding wheel 582A.

同様に、第2の研磨ホイール587Bによる研磨(第2の研磨)は、第2の研磨ホイール587Bが第1の研磨ホイール585Bを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。また、第3の研磨ホイール589Bによる研磨(第3の研磨)は、第3の研磨ホイール589Bが第2の研磨ホイール587Bを追い越さない限り、いずれのタイミングで開始してもよい。   Similarly, the polishing by the second polishing wheel 587B (second polishing) may be started at any timing as long as the second polishing wheel 587B does not pass the first polishing wheel 585B. Further, the polishing by the third polishing wheel 589B (third polishing) may be started at any timing as long as the third polishing wheel 589B does not pass the second polishing wheel 587B.

特に、第2の研削の開始は、第1の研削と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。また、第3の研削の開始は、第2の研削と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。   In particular, the start of the second grinding is preferably performed at the same time as the first grinding or before completion such as during execution. Moreover, it is preferable that the start of the third grinding is simultaneously with the second grinding or before completion such as during execution.

同様に、第2の研磨の開始は、第1の研磨と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。また、第3の研磨の開始は、第2の研磨と同時、または実施中など完了前であることが好ましい。   Similarly, the second polishing is preferably started at the same time as the first polishing or before completion, such as during the execution. The start of the third polishing is preferably at the same time as the second polishing or before completion such as during execution.

さらに、第2の研削ホイール582Aによる第2の研削は、第1の研磨ホイール585Bによる第1の研磨の開始前、同時、または実施中など完了前であることが好ましい。また、第3の研削ホイール584Aによる第3の研削は、第2の研磨ホイール587Bによる第2の研磨の開始前、同時、または実施中など完了前であることが好ましい。   Furthermore, it is preferable that the second grinding by the second grinding wheel 582A is before completion, such as before the start of the first grinding by the first grinding wheel 585B, at the same time, or during execution. Further, the third grinding by the third grinding wheel 584A is preferably performed before the completion of the second polishing by the second polishing wheel 587B, at the same time, or before completion.

つまり、図11(a)、(c)および(e)に示した工程が完了後に、図11(b)、(d)および(f)に示した工程を実施してもよいが、生産性の観点から、図11(a)、(c)および(e)の工程は同時、またはそれに近いタイミングで開始し、図11(a)、(c)および(e)の工程が完了する前に、図11(b)、(d)および(f)の工程を開始することが好ましい。   That is, after the steps shown in FIGS. 11A, 11C, and 11E are completed, the steps shown in FIGS. 11B, 11D, and 11F may be performed. 11 (a), (c) and (e) start at the same time or close to the timing, and before the steps of FIGS. 11 (a), (c) and (e) are completed. 11 (b), (d) and (f) are preferably started.

その他にも、各種変更が可能である。   Various other changes are possible.

以上、第2の加工装置500を用いて、ガラス素材250の一つの端面256Aに、2つの重複研磨領域を形成する方法について説明した。   The method for forming two overlapping polishing regions on one end surface 256 </ b> A of the glass material 250 using the second processing apparatus 500 has been described above.

なお、当業者には、上記記載から、一つの端面に3つ以上の重複研磨領域を形成する方法を容易に把握することができる。例えば、加工装置にさらなる研削ホイールおよび研磨ホイールを設けることにより、一つの端面に3つ以上の重複研磨領域を形成してもよい。   From the above description, those skilled in the art can easily grasp a method of forming three or more overlapping polishing regions on one end face. For example, three or more overlapping polishing regions may be formed on one end face by providing additional grinding wheels and polishing wheels in the processing apparatus.

以上、本発明の一実施形態について説明した。しかしながら、本発明の態様は、上記形態に限られるものではない。   The embodiment of the present invention has been described above. However, the aspect of the present invention is not limited to the above form.

例えば、上記記載では、ガラス素材が略矩形状の形状を有する場合を例に、ガラス基板の製造方法について説明した。しかしながら、ガラス素材は、その他の形状、例えばディスク状であってもよい。   For example, in the above description, the method for manufacturing a glass substrate has been described by taking as an example the case where the glass material has a substantially rectangular shape. However, the glass material may have other shapes, for example, a disk shape.

ガラス素材がディスク状の場合、前記第1の製造方法および第2の製造方法の記載において、「辺」の代わりに、「周」と言う用語が使用される。また、前述の辺における開始点Sおよび終了点Eのうち、終了点Eが開始点Sと一致するものとして把握することにより、端面が「周」状の場合も、端面が「辺」状の場合と同様に、取り扱うことができる。   When the glass material is disk-shaped, the term “circumference” is used instead of “side” in the description of the first manufacturing method and the second manufacturing method. Further, by grasping that the end point E coincides with the start point S among the start point S and the end point E in the above-described side, even when the end surface is “circumferential”, the end surface is “side” -shaped. As with any case, it can be handled.

例えば、第1の製造方法に使用される加工装置300は、ガラス素材の周に沿って配置される複数の研削ホイールおよび複数の研磨ホイールを有する。そして、それぞれの研削ホイールおよびそれぞれの研磨ホイールは、ガラス素材の周方向に対応する、「移動方向」に沿って移動される。   For example, the processing apparatus 300 used for the first manufacturing method includes a plurality of grinding wheels and a plurality of polishing wheels arranged along the circumference of the glass material. Each grinding wheel and each polishing wheel are moved along a “movement direction” corresponding to the circumferential direction of the glass material.

その他にも、各種変更が可能であることは、当業者には容易に理解される。   It will be readily appreciated by those skilled in the art that other various modifications are possible.

110 第1のガラス基板
112 第1の表面
114 第2の表面
116A 第1の端面
116B 第2の端面
116C 第3の端面
116D 第4の端面
120 一般領域
122 平滑領域
250 ガラス素材
252 第1の表面
254 第2の表面
256A〜256D 端面
260A〜260D 辺(被加工面)
300 加工装置
302 テーブル
380A 第1の研削ホイール
382A 第2の研削ホイール
385B 第1の研磨ホイール
387B 第2の研磨ホイール
491 第1研削領域
492 第1研磨領域
493 第2研削領域
494 第2研磨領域
495 重複研磨領域
500 第2の加工装置
502 テーブル
570 第1の加工手段
572 第2の加工手段
574 第3の加工手段
580A 第1の研削ホイール
580B 第1の研磨ホイール
582A 第2の研削ホイール
582B 第2の研磨ホイール
584A 第3の研削ホイール
584B 第3の研磨ホイール
691 第1研削領域
692 第1研磨領域
693 第2研削領域
694 第2研磨領域
695 第1の重複研磨領域
696 第3研削領域
697 第3研磨領域
698 第2の重複研磨領域
E 終了点
第1研削開始点
第2研削開始点
第1移動完了点
第2移動完了点
第1研磨開始点
第2研磨開始点
第1研磨完了点
第2研磨完了点
S 開始点
DESCRIPTION OF SYMBOLS 110 1st glass substrate 112 1st surface 114 2nd surface 116A 1st end surface 116B 2nd end surface 116C 3rd end surface 116D 4th end surface 120 General area | region 122 Smooth area | region 250 Glass material 252 1st surface 254 Second surface 256A to 256D End face 260A to 260D Side (surface to be processed)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 300 Processing apparatus 302 Table 380A 1st grinding wheel 382A 2nd grinding wheel 385B 1st grinding wheel 387B 2nd grinding wheel 491 1st grinding area 492 1st grinding area 493 2nd grinding area 494 2nd grinding area 495 Overlapping polishing region 500 Second processing device 502 Table 570 First processing means 572 Second processing means 574 Third processing means 580A First grinding wheel 580B First polishing wheel 582A Second grinding wheel 582B Second Polishing wheel 584A Third grinding wheel 584B Third grinding wheel 691 First grinding region 692 First grinding region 693 Second grinding region 694 Second grinding region 695 First overlapping grinding region 696 Third grinding region 697 Third Polishing area 698 Second overlapping polishing area E end point M 1 first grinding start point M 2 second grinding start point N 1 first movement completion point N 2 second movement completion point P 1 first polishing start point P 2 second polishing start point Q 1 first polishing Completion point Q 2 Second polishing completion point S Start point

Claims (14)

2つの表面をつなぐ端面を有するガラス基板であって、
前記端面の少なくとも一部には、平滑領域が配置されており、該平滑領域は、前記端面のその他の領域に比べて平滑な表面を有し、
前記端面の前記その他の領域を一般領域と称し、
前記一般領域の算術平均粗さをRa(1)とし、前記平滑領域の算術平均粗さをRa(2)としたとき、比Ra(2)/Ra(1)は、0.8以下であり、
前記端面は、第1の長さL および第2の長さL を有し、ここでL ≧L であり、
前記平滑領域は、前記第1の長さL の方向において、1mm以上10mm以下の全長を有することを特徴とするガラス基板。
A glass substrate having an end face connecting two surfaces,
A smooth region is disposed on at least a part of the end surface, and the smooth region has a smooth surface compared to other regions of the end surface,
The other region of the end face is referred to as a general region,
When the arithmetic average roughness of the general region is Ra (1) and the arithmetic average roughness of the smooth region is Ra (2), the ratio Ra (2) / Ra (1) is 0.8 or less. The
Said end face have a first length L 1 and a second length L 2, where a L 1 L 2,
The smooth region, the in the first direction of a length L 1, the glass substrate characterized by having a 10mm or less of the total length than 1 mm.
前記平滑領域は、前記端面に複数存在する、請求項1に記載のガラス基板。 The glass substrate according to claim 1, wherein a plurality of the smooth regions exist on the end surface. 当該ガラス基板は、矩形状であり、第1乃至第4の端面を有し、
前記端面は、前記第1乃至第4の端面のうちの少なくとも一つである、請求項1または2に記載のガラス基板。
The glass substrate is rectangular and has first to fourth end faces,
Said end face, the first, at least one of the fourth end surface of the glass substrate of claim 1 or 2.
前記Ra(1)は、0.2μm以下である、請求項1乃至のいずれか一つに記載のガラス基板。 Said Ra (1) is a glass substrate as described in any one of Claims 1 thru | or 3 which is 0.2 micrometer or less. 前記Ra(2)は、0.12μm以下である、請求項1乃至4のいずれか一つに記載のガラス基板。  Said Ra (2) is a glass substrate as described in any one of Claims 1 thru | or 4 which is 0.12 micrometer or less. ガラス基板の製造方法であって、
(1)第1および第2の表面と、両表面を接続する端面とを有するガラス素材を準備する工程と、
(2)加工装置を用いて、前記ガラス素材の前記端面を研削および研磨する工程と、
を有し、
前記端面は、前記ガラス素材の上面視、開始点Sから終了点Eまでの被加工面として視認され、
前記加工装置は、第1の研削ホイールおよび第1の研磨ホイールと、第2の研削ホイールおよび第2の研磨ホイールとを有し、
前記第1および第2の研削ホイールは、移動方向と呼ばれる、前記開始点Sから前記終了点Eに向かう方向に、前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面を研削することができ、
前記第1の研磨ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面の、前記第1の研削ホイールにより研削された領域を研磨することができ、前記第2の研磨ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面の、前記第2の研削ホイールにより研削された領域を研磨することができ、
前記(2)の工程では、
(2−1)前記第1の研削ホイールは、第1研削開始点Mと呼ばれる前記被加工面の開始点Sおよび終了点Eを除く位置から、前記移動方向に沿って前記前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面には、第1研削領域と呼ばれる領域が形成され、
(2−2)前記第1の研磨ホイールは、第1研磨開始点Pと呼ばれる、前記第1研削領域内の第1研削開始点Mを除くいずれかの位置から、前記移動方向に沿って前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面には、第1研磨領域と呼ばれる領域が形成され、
(2−3)前記第2の研削ホイールは、第2研削開始点Mと呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第1移動完了点Nと呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第2研削開始点M〜前記第1移動完了点Nまでの、第2研削領域と呼ばれる領域が研削され、
前記第2研削開始点Mは、前記開始点S〜前記第1研削開始点Mの間に存在し、
前記第1移動完了点Nは、
(i)前記第1研磨開始点Pを除く、前記第1研削開始点M〜前記第1研磨開始点Pの間に存在し、または
(ii)前記第1研磨開始点P〜終了点Eの間に存在し、
(2−4)前記第2の研磨ホイールは、第2研磨開始点Pと呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第1研磨完了点Qと呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第2研磨開始点P〜前記第1研磨完了点Qまでの、第2研磨領域と呼ばれる領域が研磨され、
前記第2研磨開始点Pは、前記第2研削開始点M〜前記第1研削開始点Mの間に存在し、
前記第1研磨完了点Qは、前記(i)の場合、前記第1研磨開始点Pを除く、前記第1研磨領域内に存在し、前記(ii)の場合、前記第1研磨開始点P〜前記第1移動完了点Nを除く、前記第1研磨領域内に存在し、
前記(i)の場合、前記端面の前記第1研磨開始点P〜前記第1研磨完了点Qの間に、前記第1および第2の研磨ホイールで研磨された、(第1の)重複研磨領域が形成され、
前記(ii)の場合、前記端面の前記第1移動完了点N〜前記第1研磨完了点Qの間に、前記第1および第2の研磨ホイールで研磨された、(第1の)重複研磨領域が形成される、ガラス基板の製造方法。
A method of manufacturing a glass substrate,
(1) preparing a glass material having first and second surfaces and end faces connecting both surfaces;
(2) A step of grinding and polishing the end face of the glass material using a processing apparatus;
Have
The end surface is viewed as a surface to be processed from a top view of the glass material, a start point S to an end point E,
The processing apparatus includes a first grinding wheel and a first polishing wheel, a second grinding wheel and a second polishing wheel,
The first and second grinding wheels move along the work surface in a direction from the start point S toward the end point E, which is referred to as a moving direction, thereby grinding the end face of the glass material. Can
The first grinding wheel can polish the region of the end face of the glass material ground by the first grinding wheel by moving along the work surface in the movement direction, The second polishing wheel can polish the region of the end face of the glass material ground by the second grinding wheel by moving along the workpiece surface in the moving direction,
In the step (2),
(2-1) said first grinding wheel, from said position except the start point S and end point E of the workpiece surface, the surface of the workpiece along the moving direction, called the first grinding start point M 1 Move and
Thereby, a region called a first grinding region is formed on the end face,
(2-2) said first grinding wheel, first polishing start point called P 1, from any position other than the first grinding start point M 1 of the first ground area, along the movement direction To move the workpiece surface,
Thereby, a region called a first polishing region is formed on the end face,
(2-3) the second grinding wheel from a position called the second grinding start point M 2, along the moving direction, the moving the workpiece surface to a position called the first movement completion point N 1 ,
Thus, the end surface is ground in a region called a second grinding region from the second grinding start point M 2 to the first movement completion point N 1 ,
It said second grinding start point M 2 is present between the starting point S~ the first grinding start point M 1,
The first movement completion point N 1 is
(I) exists between the first grinding start point M 1 and the first polishing start point P 1 excluding the first polishing start point P 1 , or (ii) the first polishing start point P 1- Exists between end points E,
(2-4) the second grinding wheel from the position called the second polishing start point P 2, along the moving direction, the moving the workpiece surface to a position called the first polishing end point Q 1 ,
Thus, the end surface is polished in a region called a second polishing region from the second polishing start point P 2 to the first polishing completion point Q 1 .
The second polishing start point P 2 is present between the second grinding start point M 2 ~ the first grinding start point M 1,
The first polishing end point Q 1 is the case of the (i), except for the first polishing start point P 1, present in the first polishing region, the case of the (ii), the first polishing start Existing in the first polishing region excluding the point P 1 to the first movement completion point N 1 ,
In the case of (i), polishing is performed by the first and second polishing wheels between the first polishing start point P 1 on the end surface and the first polishing completion point Q 1 (first). An overlapping polishing region is formed,
In the case of (ii), polishing is performed by the first and second polishing wheels between the first movement completion point N 1 to the first polishing completion point Q 1 of the end face (first). A method for producing a glass substrate, wherein an overlapping polishing region is formed.
前記(2−3)の工程は、前記(2−1)の工程の完了前に開始される、請求項に記載のガラス基板の製造方法。 The method of manufacturing a glass substrate according to claim 6 , wherein the step (2-3) is started before the completion of the step (2-1). 前記(2−3)の工程は、前記(2−2)の工程の完了前に開始される、請求項またはに記載のガラス基板の製造方法。 The method of manufacturing a glass substrate according to claim 6 or 7 , wherein the step (2-3) is started before the completion of the step (2-2). 前記(2−1)において、前記第1の研削ホイールは、前記第1研削開始点Mから前記終了点Eまで移動し、
前記(2−2)において、前記第1の研磨ホイールは、前記第1研磨開始点Pから前記終了点Eまで移動する、請求項乃至のいずれか一つに記載のガラス基板の製造方法。
In the (2-1), the first grinding wheel moves from the first grinding start point M 1 to the end point E,
In the (2-2), the first grinding wheel moves from the first polishing start point P 1 to the end point E, the production of a glass substrate according to any one of claims 6 to 8 Method.
前記(2−3)における前記第2研削開始点Mは、前記被加工面の開始点Sであり、
前記(2−4)における前記第2研磨開始点Pは、前記被加工面の開始点Sである、請求項乃至のいずれか一つに記載のガラス基板の製造方法。
Wherein said second grinding start point M 2 in (2-3) is the starting point S of the surface to be processed,
The second polishing start point P 2, said a starting point S of the surface to be processed, method of manufacturing a glass substrate according to any one of claims 6 to 9 in the (2-4).
前記第1の研削ホイールおよび/または第2の研削ホイールは、ダイヤモンド砥粒を有するメタルボンド砥石または電着砥石を有する、請求項乃至10のいずれか一つに記載のガラス基板の製造方法。 The said 1st grinding wheel and / or 2nd grinding wheel are the manufacturing methods of the glass substrate as described in any one of Claims 6 thru | or 10 which have a metal bond grindstone or an electrodeposition grindstone which has a diamond abrasive grain. 第1の研磨ホイールおよび/または第2の研磨ホイールは、ラバー、不織布、または樹脂製の砥石を有する、請求項乃至11のいずれか一つに記載のガラス基板の製造方法。 The method for producing a glass substrate according to any one of claims 6 to 11 , wherein the first polishing wheel and / or the second polishing wheel has a rubber, nonwoven fabric, or resin grindstone. 前記加工装置は、さらに、第3の研削ホイールと、第3の研磨ホイールとを有し、
前記第3の研削ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面を研削することができ、
前記第3の研磨ホイールは、前記移動方向に前記被加工面に沿って移動することにより、前記ガラス素材の前記端面の、前記第3の研削ホイールにより研削された領域を研磨することができ、
前記(2)の工程では、
(2−5)前記第3の研削ホイールは、第3研削開始点Mと呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第2移動完了点Nと呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第3研削開始点M〜前記第2移動完了点Nまでの、第3研削領域と呼ばれる領域が研削され、
前記第3研削開始点Mは、前記開始点S〜前記第2研削開始点Mの間に存在し、
前記第2移動完了点Nは、
(iii)前記第2研磨開始点Pを除く、前記第2研削開始点M〜前記第2研磨開始点Pの間に存在し、または
(iv)前記第2研磨開始点P〜終了点Eの間に存在し、
(2−6)前記第3の研磨ホイールは、第3研磨開始点Pと呼ばれる位置から、前記移動方向に沿って、第2研磨完了点Qと呼ばれる位置まで前記被加工面を移動し、
これにより、前記端面は、前記第3研磨開始点P〜前記第2研磨完了点Qまでの、第3研磨領域と呼ばれる領域が研磨され、
前記第3研磨開始点Pは、前記第3研削開始点M〜前記第2研削開始点Mの間に存在し、
前記第2研磨完了点Qは、前記(iii)の場合、前記第2研磨開始点Pを除く、前記第2研磨領域内に存在し、前記(iv)の場合、前記第2研磨開始点P〜前記第2移動完了点Nを除く、前記第2研磨領域内に存在し、
前記(iii)の場合、前記端面の前記第2研磨開始点P〜前記第2研磨完了点Qの間に、前記第2および第3の研磨ホイールで研磨された、第2の重複研磨領域が形成され、
前記(iv)の場合、前記端面の前記第2移動完了点N〜前記第2研磨完了点Qの間に、前記第2および第3の研磨ホイールで研磨された、第2の重複研磨領域が形成され、る、請求項乃至12のいずれか一つに記載のガラス基板の製造方法。
The processing apparatus further includes a third grinding wheel and a third polishing wheel,
The third grinding wheel can grind the end face of the glass material by moving along the work surface in the moving direction,
The third polishing wheel can polish the region of the end face of the glass material ground by the third grinding wheel by moving along the work surface in the moving direction,
In the step (2),
(2-5) the third grinding wheel, from a position called the third grinding start point M 3, along the moving direction, moving the workpiece surface to a position called second movement completion point N 2 ,
Thus, the end surface is ground in a region called a third grinding region from the third grinding start point M 3 to the second movement completion point N 2 ,
The third grinding start point M 3 are present between the starting point S~ the second grinding start point M 2,
The second movement completion point N 2 is
(Iii) Present between the second grinding start point M 2 and the second polishing start point P 2 excluding the second polishing start point P 2 , or (iv) the second polishing start point P 2 ˜ Exists between end points E,
(2-6) the third polishing wheel from the position called third polishing start point P 3, along the moving direction, the moving the workpiece surface to a position called the second polishing end point Q 2 ,
Thereby, the end face is polished in a region called a third polishing region from the third polishing start point P 3 to the second polishing completion point Q 2 ,
The third polishing start point P 3 is present between the third grinding start point M 3 ~ the second grinding start point M 2,
The second polishing end point Q 2 are the case of the (iii), except for the second polishing start point P 2, present in the second polishing region, the case of the (iv), the second polishing start Existing in the second polishing region excluding the point P 2 to the second movement completion point N 2 ,
In the case of (iii), the second overlapping polishing polished by the second and third polishing wheels between the second polishing start point P 2 and the second polishing completion point Q 2 of the end face. A region is formed,
In the case of (iv), the second overlapping polishing polished by the second and third polishing wheels between the second movement completion point N 2 to the second polishing completion point Q 2 of the end face. region is formed, Ru, method of manufacturing a glass substrate according to any one of claims 6 to 12.
前記(2−5)における前記第3研削開始点Mは、前記被加工面の開始点Sであり、
前記(2−6)における前記第3研磨開始点Pは、前記被加工面の開始点Sである、請求項13に記載のガラス基板の製造方法。
Wherein (2-5) the third grinding start point M 3 in is the starting point S of the surface to be processed,
The third polishing start point P 3, the a start point S of the surface to be processed, method of manufacturing a glass substrate according to claim 13 in the (2-6).
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