JP6277970B2 - ワニス処理装置、及びワニス処理方法 - Google Patents

Description

本発明は、ワニス処理装置、及びワニス処理方法に関するものである。

特許文献１には、ステータコイルに対してワニスを塗布するワニス処理方法が開示されている。特許文献１では、平置きしたコイルを横回転させながら、コイルの処理要部にワニスを塗布含浸させている。そして、ワニス含浸済みのコイルを縦置きにして、縦回転させて、ワニスを硬化乾燥させている。

特開２０１１−６２０３６号公報

ワニスは、発電時における微振動による絶縁変化を防止する為の固定とコイルの蓄熱防止を目的として塗布、含浸される。したがって、ワニスによって確実にコイルを固着することが望まれる。しかしながら、特許文献１の方法では、ワニスを滴下するタイミングについては、開示されていない。

本発明は、上記の問題点を鑑みてなされたものであり、確実にステータコイルを固着することができるタイミングでワニスを滴下することができるワニス処理装置、ワニス処理方法を提供するものである。

本発明の一態様に係るワニス処理方法は、コイル線が配置される複数のスロットを備え、コイルエンドにおいて、コイル線が径方向にシフトする第１のスロットに対応する第１の領域と、シフトしていない第２のスロットに対応する第２の領域とが、交互に配置され、前記第１のスロット、及び前記第２のスロットには、それぞれ複数ターンのコイル線が配置され、前記第１のスロットにおける隣接ターンのコイル線の間隔が、第２のスロットにおける隣接ターンのコイル線の間隔よりも広くなっており、前記コイルエンドにおいて、前記第１のスロットに配置されたコイル線が屈曲することで前記第２のスロットに巻き回されるステータにワニスを塗布含浸するワニス処理方法であって、前記第１の領域を滴下開始位置として、前記コイル線に対して前記ワニスの滴下を開始する工程と、前記滴下開始位置から周方向に沿って滴下位置を変えながら、前記ワニスを滴下していく工程と、を備えたものである。
上記のワニス処理方法において、前記ワニスが熱硬化性であり、前記ステータを加熱した状態で、前記ワニスを滴下していくようにしてもよい。

本発明の一態様に係るワニス処理装置は、コイル線が配置される複数のスロットを備え、コイルエンドにおいて、コイル線が径方向にシフトする第１のスロットに対応する第１の領域と、シフトしていない第２のスロットに対応する第２の領域とが、交互に配置され、前記第１のスロット、及び前記第２のスロットには、それぞれ複数ターンのコイル線が配置され、前記第１のスロットにおける隣接ターンのコイル線の間隔が、第２のスロットにおける隣接ターンのコイル線の間隔よりも広くなっており、前記コイルエンドにおいて、前記第１のスロットに配置されたコイル線が屈曲することで前記第２のスロットに巻き回されるステータにワニスを塗布含浸するワニス処理装置であって、前記ステータの前記コイルエンドにワニスを滴下する滴下ノズルと、周方向に沿って前記滴下ノズルの滴下位置を変化させる回転手段と、前記滴下ノズルの滴下開始位置が前記第１の領域となるように、前記滴下ノズルと前記回転手段とを制御する制御部と、を備えたものである。
上記のワニス処理方法において、前記ワニスが熱硬化性であり、前記ステータを加熱した状態で、前記ワニスを滴下していくようにしてもよい。

本発明によれば、確実にステータコイルを固着することができるタイミングでワニスを滴下することができるワニス処理装置、及びワニス処理方法を提供することができる。

ワニスが塗布含浸されるステータの構成を示す側面図である。 スロット内のコイル線を模式的に示す断面図である。 ステータコアのコイルエンドを拡大して示す図である。 シフト部における７Ｔと８Ｔとの間隙を示す断面図である。 非シフト部における７Ｔと８Ｔとの間隙を示す断面図である。 ワニスの滴下開始位置が非シフト部となっている場合に生じる問題点を説明するための図である。 ワニスの滴下開始位置が非シフト部となっている場合に生じる問題点を説明するための図である。 ワニスの滴下開始位置が非シフト部となっている場合に生じる問題点を説明するための図である。 本実施の形態にかかるワニス処理方法の滴下開始位置を説明するための図である。 非シフト部を滴下開始位置とした場合のコイルエンドの写真である。 非シフト部を滴下開始位置とした場合のコイルエンドの写真である。 ワニス処理装置の構成を示す図である。 ワニス処理方法を示すフローチャートである。

以下、本発明に係るワニス処理方法、及び装置の実施形態を、図面に基づいて詳細に説明する。但し、本発明が以下の実施形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜、簡略化されている。各図において同一の符号は実質的に同じ構成を示す。

図１は、ワークであるステータ（固定子）１００の構成を内部側から示す側面図である。図１は、ロータ（回転子）の回転軸からステータ１００を見た側面図を示している。

ステータ１００は、ステータコア１０と、ステータコイル２０とを備えている。ステータ１００は、例えば、ハイブリッド自動車のオルタネータ（交流発電機）に用いられる。ハイブリッド自動車等では、固定されたステータ１００に対しロータ（不図示）を回転させることにより交流電流を発生しバッテリへの充電を行っている。そして、ステータコイル２０には、ロータ回転時の振動による絶縁変化を防止するためにワニスが滴下含浸されている。さらに、ワニスを設けることで、ステータコイルへの蓄熱を防止することができる。もちろん、ワークとなるステータ１００は、ハイブリッド自動車用のオルタネータに限らず、種々のオルタネータ、又はモータとすることができる。

ステータコア１０は、例えば、円環状の鉄板を積層した円筒形状になっている。円筒状のステータコア１０の内部には、図示しないロータが配置される。図１において、上下方向がロータの回転軸（図１中の点線）となる。ステータコア１０の内周面には、複数のスロット１１が配置されている。各スロット１１は、回転軸方向に沿った溝である。ステータコイル２０は、複数のコイル線２１を備えている。スロット１１内には、コイル線２１が配置される。

図１に示すように、ステータコア１０がある部分をコア部３２とし、コア部３２から上下にはみ出した部分をコイルエンド３１、３３とする。ステータコア１０の上からはみ出した部分がステータコイル２０のコイルエンド３１となり、下からはみ出した部分がコイルエンド３３となる。

ステータ１００の上には、滴下ノズル５１が配置されている。滴下ノズル５１は、ワニス５２をステータコイル２０に滴下する。ステータコイル２０の全体に対して、ワニス５２を含浸、塗布するため、本実施の形態では、矢印の方向にステータ１００を回転させる。例えば、ステータ１００を回転台（不図示）の上に載置する。さらに、回転台を回転させている状態で、滴下ノズル５１がワニス５２をコイルエンド３１のコイル線２１に向けて滴下する。コイル線２１に滴下されたワニス５２は、コイル線２１を伝って下方に流れていく。これにより、ステータコイル２０の全体に渡ってワニス５２が塗布される。なお、ワニス塗布時におけるステータ１００の回転軸は、ロータの回転軸と一致している。

ワニス５２は例えば、熱硬化性樹脂となっている。ステータ１００を加熱した状態で、滴下ノズル５１がワニス５２をステータコイル２０に滴下する。コイル線２１やステータコア１０の間隙に滴下含浸したワニス５２が硬化して、ステータコイル２０を固着する。

図２、図３にスロット１１内に配置されたコイル線２１の構成を模式的に示す。図２は、スロット１１内に配置されたコイル線２１の構成を示す断面図であり、回転軸と垂直な断面におけるステータ１００の一部構成を示している。図３は、コイルエンド３１とコア部３２の境界近傍の構成を示す側面図であり、図１の点線枠部分の拡大図である。

図２に示すように、複数のスロット１１が周方向に配列されている。図２では、４つのスロット１１を１セットして、スロット１１ａ〜１１ｄとして示している。図２では７つのスロット１１が設けられているため、下から順にスロット１１ａ、１１ｂ、１１ｃ、１１ｄ、１１ａ、１１ｂ、１１ｃとなっている。以下の説明では、スロット１１ａ〜１１ｄを特定しない場合、スロット１１とする。

各スロット１１は、径方向を深さ方向と溝である。コイル線２１は、平角線であり、スロット１１内に配置される。各スロット１１内におけるコイル２１のターン数（巻き数）を８Ｔとしている。なお、外周面側のコイル線２１がコイルの１ターン（１Ｔ）となり、回転軸側のコイル線２１が８ターン（８Ｔ）となっている。もちろん、ターン数は８ターンに限定されるものではない。

図１に示す下側のコイルエンド３３では、コイル線２１が溶接されている。上側のコイルエンド３１において、図１に示すように、コイル線２１は屈曲している。スロット１１の上からはみ出したコイル線２１が折り曲げられて、他のスロット１１に配置される。コイルエンド３１においてコイル線２１が屈曲することで、１本のコイル線２１が異なる２つのスロット１１に渡って配置される。ここで、コイル線２１が周方向に折り曲げられて、６個隣のスロット１１に配置される。例えば、図２において、最も下側のスロット１１ａに配置されたコイル線２１ａと、最も上側のスロット１１ｃに配置されたコイル線２１ｃとは同じコイル線２１である。

ここで、図３に示すように、スロット１１ａを含む領域をシフト部Ａとし、スロット１１ｂを含む領域をシフト部Ｂとする。同様に、スロット１１ｃを含む領域を非シフト部Ｃとし、スロット１１ｃを含む領域を非シフト部Ｄとする。シフト部Ａ，Ｂ、及び非シフト部Ｃ，Ｄは、それぞれスロット１１の幅を有し、コイルエンド３１からコア部３２に渡る領域である。シフト部Ａ，シフト部Ｂ、非シフト部Ｃ、非シフト部Ｄの順で繰り返し配列されている。すなわち、２つのシフト部Ａ，Ｂと、２つの非シフト部Ｃ、Ｄと、が交互に配置されている。

図２、図３に示すように、シフト部Ａ，Ｂに対応する領域を第１の領域６１とし、非シフト部Ｃ、Ｄに対応する第２の領域６２とする。シフト部Ａからシフト部Ｂまでの領域が第１の領域６１となり、非シフト部Ｃから非シフト部Ｄまでの領域が第２の領域となる。周方向において、第１の領域６１と第２の領域６２とは交互に配置されている。スロット１１ａ、１１ｂが第１のスロットとして、第１の領域６１に含まれ、スロット１１ｃ、１１ｄが第２のスロットとして第２の領域６２に含まれる。

シフト部Ａ，Ｂでは８Ｔのコイル線２１が径方向にシフトしている。例えば、スロット１１ａの端部において８Ｔのコイル線２１ａは、回転軸側に折り曲げられている。スロット１１ａの真上において、コイル線２１ａには、屈曲部２２ａが形成される。同様に、スロット１１ｂの真上において、コイル線２１ｂには、屈曲部２２ｂが形成される。一方、非シフト部Ｃ，Ｄでは、８Ｔのコイル線２１が径方向にシフトしていない。すなわち、スロット１１ｃ、１１ｄの真上において８Ｔのコイル線２１は、回転軸側に折り曲げられていない。

コイルエンド３１において、シフト部Ａ、Ｂではコイル線２１ａが回転軸側（紙面と垂直な方向）に折り曲げられているため、コイル線２１ａに径方向に力が加わる。したがって、スロット１１ａでは、７Ｔと８Ｔのコイル線２１ａ間の間隙Ｇ１が大きくなる（図２参照）。一方、非シフト部Ｃに対応するスロット１１ｃでは７Ｔと８Ｔのコイル線２１ｃの間隙Ｇ２が狭くなる。シフト部Ａ，Ｂにおける７Ｔと８Ｔのコイル線２１の間隙は、非シフト部Ｃ、Ｄにおける７Ｔと８Ｔとのコイル線２１の間隙よりも大きくなる。

図４とシフト部Ａ，Ｂにおけるコイル線２１の間隙Ｇ１を示す。図５に非シフト部Ｃ、Ｄにおけるコイル線２１の間隙Ｇ２を示す。図４に示すように、シフト部Ａ、Ｂではコイル線２１の７Ｔ、８Ｔの間隙Ｇ１が広くなる。スロット１１ａの端部において、コイル線２１に屈曲部２２ａを形成するために、コイル線２１に径方向に力が加わっているためである。すなわち、屈曲部２２ａ、２２ｂを形成するために７Ｔと８Ｔとの間隙Ｇ１が広くなってしまう。一方、非シフト部Ｃ、Ｄでは、図５に示すようにコイル線２１の７Ｔと８Ｔとの間隙Ｇ２が狭くなる。したがって、スロット１１ａ、１１ｂでは、コイル線２１の間隙Ｇ１が、スロット１１ｃ、１１ｄでの間隙Ｇ２よりも広くなる。

このように、シフト部Ａ，Ｂのコイル線２１ａ、２１ｂは、スロット１１ａ、１１ｂの直上で、回転軸側に屈曲している。さらに、コイル線２１ａ、２１ｂは、屈曲部２２ａ、２２ｂからさらに右斜め上に延在していく。そして、コイル線２１ａ、２１ｂの上端部２３ａ、２３ｂにおいて、コイル線２１ａ、２１ｂが斜め下方に折り曲げられる。上端部２３ａで斜め下方に折り曲げたコイル線２１ａは、スロット１１ｃに配設される。上端部２３ｂで下方に折り曲げられたコイル線２１ｂはスロット１１ｄに配設される。

このように、コイル線２１は、スロット１１ａからスロット１１ｃに引き回されるコイル線２１ａと、スロット１１ｂからスロット１１ｄに引き回されるコイル線２１ｂと、を含んでいる。コイル線２１ａとコイル線２１ｂは交互に配置されることになる。なお、図３では、スロット１１ａからスロット１１ｃに引き回されるコイル線２１ａをハッチングして示している。シフト部Ａ，Ｂと非シフト部Ｃ、Ｄを交互に配置することで、スロット１１間におけるコイル線２１の引き回しを容易に行うことができる。第１の領域６１のスロット１１ａに配置されたコイル線２１ａはコイルエンド３１で巻き回されて、第２の領域６２のスロット１１ｃに配置される。第１の領域６１のスロット１１ｂに配置されたコイル線２１ｂはコイルエンド３１で巻き回されて、第２の領域６２のスロット１１ｄに配置される。

本実施の形態では、スロット１１ａ、１１ｂを含む第１の領域６１を滴下ノズル５１の滴下開始位置としている。具体的には、シフト部Ａとシフト部Ｂの間を滴下開始位置Ｓ２としている。滴下ノズル５１がワニス５２を滴下している間に、ステータ１００を回転させることで滴下位置を変えている。このように、滴下ノズル５１が滴下を開始する滴下開始位置Ｓ２が第１の領域６１となっている。こうすることで、第２の領域６２を滴下開始位置（図３のＳ１）とする場合に比べて、適切にワニスを滴下することができる。この理由について、図６から図９を参照して、説明する。

図６はコイルエンド３１とコア部３２の境界部分の写真である。図７、図８は、第２の領域６２、具体的には非シフト部Ｄを滴下開始位置Ｓ１とした場合に生じる問題を説明するための図である。図９は、第１の領域６１、具体的にはシフト部Ａとシフト部Ｂの間を滴下開始位置Ｓ２とした場合の滴下工程を説明するための図である。

まず、図６に示したように、非シフト部Ｄを滴下開始位置Ｓ１とした場合、シフト部Ａ、Ｂにおいて、固着力が十分でないＮＧ箇所が発生する場合があることを本件出願の発明者が発見した。具体的には、ＮＧ箇所は、滴下開始位置Ｓ１に隣接するシフト部Ａ、Ｂに頻発することが本件出願の発明者により判明した。すなわち、ＮＧ箇所は、滴下開始位置Ｓ１からずれて発生する。

図７に示すように、滴下開始位置Ｓ１からワニス５２をコイル線２１の上端から滴下すると、ワニス５２ａがコイル線２１を伝って、下方に流れていく。例えば、図７では、滴下開始位置Ｓ１を非シフト部Ｄとしているため、ワニス５２ａがその隣のシフト部Ａ、Ｂに向かって流れていく。また、本実施の形態では、熱硬化性のワニス５２を硬化させるために、ワークを加熱している。したがって、ワニス５２を塗布してから時間がたつと、流れたワニス５２が硬化又はゲル化する。

上記したようにシフト部Ａ，Ｂでは間隙Ｇ１が間隙Ｇ２よりも広くなる。間隙Ｇ１が広いシフト部Ａ，Ｂでは、十分な固着に必要なワニス５２の量が多くなるため、ワニス５２によって固着させづらくなってしまう。例えば、間隙Ｇ１が広いと、ワニス５２が間隙Ｇ１に溜まりづらくなり、ワニス５２の量が少ないと間隙Ｇ１を通り越して流れ落ちてしまう。よって、シフト部Ａ，Ｂではワニス５２の量が不十分になりやすく、非シフト部Ｃ，Ｄよりも固着ＮＧが発生しやすくなる。

ステータ１００の回転によって、ワニス５２の滴下位置が図７の白抜き矢印の方向に移動している。滴下開始位置Ｓ１から滴下を開始して、隣接するシフト部Ａ、Ｂ（図７中の位置Ｅ１）に滴下ノズル５１が到達するまで、１回転分の時間がかかる。滴下開始タイミングから位置Ｅ１に滴下ノズル５１が到達するタイミングは、ステータの約１回転分の時間差が生じる。例えば、ワニス処理装置におけるステータ１００の１回転の時間は数十秒程度である。そのため、１回転の間に、滴下開始位置Ｓ１からシフト部Ａ、Ｂに向かって流れてきたワニスが、コイルエンド３１で硬化又はゲル化してしまう（図８中のワニス５２ｂ）。すなわち、滴下ノズル５１が位置Ｅ１に到達するタイミングでは、位置Ｅ１において硬化したワニス５２ｂが存在する。このため、滴下ノズル５１は、硬化したワニス５２ｂの上からワニス５２ｄを滴下することになる。

シフト部Ａ，Ｂに存在するワニス５２ｂがワニス５２ｄの妨げとなる。コイルエンド３１でワニス５２ｂが硬化してしまうと、位置Ｅ１あるいはその手前からワニス５２ｄが滴下されたとしても、ワニス５２ｄの流れが妨げられてしまう。このため、十分な量のワニス５２ｄが、固着力が発生する部分であるコア部３２まで届かなくなってしまう。このように、硬化したワニス５２ｂがワニス５２ｄの流路の妨げとなってしまう。さらに、間隙Ｇ１が広いシフト部Ａ，Ｂでは、必要なワニス量が多い。したがって、位置Ｅ１では、十分な量のワニス５２をコア部３２まで塗布含浸させることができなくなってしまう。したがって、固着力がＮＧとなるワークが発生してしまう。

そこで、本実施の形態では、図９に示すように、第１の領域６１を滴下開始位置Ｓ２としている。すなわち、図７、図８に示した滴下開始位置Ｓ１から周方向にずれた位置を滴下開始位置Ｓ２としている。この場合、滴下開始位置Ｓ２から滴下されたワニスがコイル線２１を伝って、非シフト部Ｃ、Ｄ（図９中の位置Ｅ２）に流れていく。そして、非シフト部Ｃ、Ｄ（位置Ｅ２）の上で、ワニス５２ｅが硬化する。滴下位置が位置Ｅ２となっているときには、ワニス５２ｅは妨げとなるが、非シフト部Ｃ，Ｄでは、間隙Ｇ２が狭い。このため、非シフト部Ｃ、Ｄでは、確実な固着に必要なワニス量が、シフト部Ａ，Ｂにおいて確実な固着に必要なワニス量よりも少ない。位置Ｅ２では、ワニス５２ｅが隙間Ｇ２に溜まりやすくなり、ワニス５２が隙間Ｇ２から流れ落ちるのを防ぐことができる。よって、位置Ｅ２において、適切にワニス５２を塗布含浸することができる。すなわち、滴下終了位置Ｅ２から滴下された十分な量のワニス５２が、コア部３２に流れ込むことになる。よって、確実に固着することができるタイミングでワニスを滴下することができる。

図１０、図１１にワニスを滴下したコイルエンド３１の拡大写真を示す。図１０では第２の領域６２である非シフト部Ｄを滴下開始位置Ｓ１とした場合に塗布されたワニスの様子を示している。図１１は、第１の領域６１であるシフト部Ａを滴下開始位置Ｓ１とした場合に塗布されたワニスの様子を示している。また、図１０、図１１は７Ｔ側面でのワニスの様子を示している。

図１０では、シフト部Ａ，Ｂにおいて、滴下開始位置Ｓ１で滴下されたワニス５２ｂが硬化している。シフト部Ａ，Ｂのコイルエンド３１にワニス５２ｂで硬化して、コア部３２までワニスが届かなくなってしまっている。すなわち、硬化したワニス５２ｂが位置Ｅ１で滴下されるワニス５２の流路の妨げになってしまっている。一方、図１１では、コイルエンド３１でワニス５２が硬化する箇所を固着しやすい非シフト部Ｃ、Ｄに移動させることができる。よって、確実にコイルを固着できるタイミングでワニスを滴下することが可能になり、固着力を確保することができる。

このように、本実施の形態に係るワニス処理装置では、スロット１１ａ、１１ｂを含む第１の領域６１を滴下開始位置Ｓ２としている。よって、十分な量のワニス５２がコア部３２まで流れることになり、滴下開始位置Ｓ２の付近での固着力を高めることができる。よって、高い固着力を安定して実現することができるため、生産性を向上することができる。

図１２は、ワニス処理装置５０の構成を模式的に示す図である。図１３はワニス処理方法を示すフローチャートである。図１２に示すように、ワニス処理装置５０は、滴下ノズル５１、回転台５３、及び制御部５４を備えている。

回転台５３の上には、ステータ１００が平置きされている。滴下ノズル５１は、ワニス５２をステータ１００に滴下する。回転台５３が回転することで、滴下ノズル５１による滴下位置が周方向に沿って変化する。制御部５４は、回転台５３、及び滴下ノズル５１を制御する。なお、回転台５３には、ステータ１００を加熱するヒータ（図示せず）が内蔵されていてもよく、回転台５３の周囲にヒータを設けてもよい。

回転台５３の上にステータ１００が載せられたら、制御部５４が滴下開始位置を調整する。すなわち、制御部５４が回転台５３を回転して、第１の領域６１に、滴下ノズル５１を配置する。あるいは、滴下ノズル５１を移動して、滴下開始位置を調整してもよい。そして、第１の領域６１を滴下開始位置Ｓ２として、滴下ノズル５１がワニス５２の滴下を開始する（ステップＳ１１）。滴下ノズル５１がワニス５２を滴下しながら、回転台５３がステータを回転させる（Ｓ１２）。これにより、滴下位置が周方向に移動する。そして、回転台５３がステータ１００を１周又は複数周回転したら、滴下を終了する。こうすることで、上記のように、適切にワニスを塗布含浸することができる。よって、滴下開始位置付近においても高い固着力を安定して実現することができるため、生産性を向上することができる。

なお、本発明は上記実施の形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。

１０ ステータコア
１１ スロット
２０ ステータコイル
２１ コイル線
２２ａ、２２ｂ 屈曲部
２３ａ、２３ｂ 上端部
３１ コイルエンド
３２ コア部
３３ コイルエンド
５０ ワニス処理装置
５１ 滴下ノズル
５２ ワニス
５３ 回転台
５４ 制御部
６１ 第１の領域
６２ 第２の領域
１００ ステータ
Ａ シフト部
Ｂ シフト部
Ｃ 非シフト部
Ｄ 非シフト部

Claims (4)

1. コイル線が配置される複数のスロットを備え、コイルエンドにおいて、コイル線が径方向にシフトする第１のスロットに対応する第１の領域と、シフトしていない第２のスロットに対応する第２の領域とが、交互に配置され、
   前記第１のスロット、及び前記第２のスロットには、それぞれ複数ターンのコイル線が配置され、前記第１のスロットにおける隣接ターンのコイル線の間隔が、第２のスロットにおける隣接ターンのコイル線の間隔よりも広くなっており、
   前記コイルエンドにおいて、前記第１のスロットに配置されたコイル線が屈曲することで前記第２のスロットに巻き回されるステータにワニスを塗布含浸するワニス処理方法であって、
   前記第１の領域を滴下開始位置として、前記コイル線に対して前記ワニスの滴下を開始する工程と、
   前記滴下開始位置から周方向に沿って滴下位置を変えながら、前記ワニスを滴下していく工程と、を備えたワニス処理方法。
2. 前記ワニスが熱硬化性であり、
   前記ステータを加熱した状態で、前記ワニスを滴下していく請求項１に記載のワニス処理方法。
3. コイル線が配置される複数のスロットを備え、コイルエンドにおいて、コイル線が径方向にシフトする第１のスロットに対応する第１の領域と、シフトしていない第２のスロットに対応する第２の領域とが、交互に配置され、
   前記第１のスロット、及び前記第２のスロットには、それぞれ複数ターンのコイル線が配置され、前記第１のスロットにおける隣接ターンのコイル線の間隔が、第２のスロットにおける隣接ターンのコイル線の間隔よりも広くなっており、
   前記コイルエンドにおいて、前記第１のスロットに配置されたコイル線が屈曲することで前記第２のスロットに巻き回されるステータにワニスを塗布含浸するワニス処理装置であって、
   前記ステータの前記コイルエンドにワニスを滴下する滴下ノズルと、
   周方向に沿って前記滴下ノズルの滴下位置を変化させる回転手段と、
   前記滴下ノズルの滴下開始位置が前記第１の領域となるように、前記滴下ノズルと前記回転手段とを制御する制御部と、を備えたワニス処理装置。
4. 前記ワニスが熱硬化性であり、
   前記ステータを加熱した状態で、前記ワニスを滴下していく請求項３に記載のワニス処理装置。