JP6261844B2 - レーザー加工方法およびレーザー加工装置 - Google Patents
レーザー加工方法およびレーザー加工装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6261844B2 JP6261844B2 JP2012033757A JP2012033757A JP6261844B2 JP 6261844 B2 JP6261844 B2 JP 6261844B2 JP 2012033757 A JP2012033757 A JP 2012033757A JP 2012033757 A JP2012033757 A JP 2012033757A JP 6261844 B2 JP6261844 B2 JP 6261844B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- workpiece
- output
- plasma
- repetition frequency
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 9
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 claims description 62
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 24
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 18
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 12
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 9
- 238000003754 machining Methods 0.000 claims description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 38
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 18
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 17
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 16
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 11
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 9
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 229910020177 SiOF Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 229920000052 poly(p-xylylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/362—Laser etching
- B23K26/364—Laser etching for making a groove or trench, e.g. for scribing a break initiation groove
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/40—Removing material taking account of the properties of the material involved
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/40—Removing material taking account of the properties of the material involved
- B23K26/402—Removing material taking account of the properties of the material involved involving non-metallic material, e.g. isolators
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/62—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
- G01N21/71—Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light thermally excited
- G01N21/718—Laser microanalysis, i.e. with formation of sample plasma
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/16—Composite materials, e.g. fibre reinforced
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
- B23K2103/50—Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Dicing (AREA)
Description
被加工物を構成する複数の部材を形成する物質にそれぞれ対応した、レーザー光線の繰り返し周波数及び出力を含む加工条件を設定しておき、該レーザー加工溝を形成するストリートに沿って配設された被加工物を構成する複数の部材に対しレーザー光線が照射されることによってそれぞれ発生するプラズマの波長を検出し、該ストリートに沿ってレーザー光線を照射している最中に検出されたプラズマの波長に対応した部材に対応した、レーザー光線の繰り返し周波数及び出力を含む加工条件を選定し、選定した繰り返し周波数及び出力を含む加工条件でレーザー光線を照射する、
ことを特徴とするレーザー加工方法が提供される。
該レーザー光線発振手段はパルスレーザー光線を発振するパルスレーザー光線発振器と該パルスレーザー光線発振器が発振するパルスレーザー光線の繰り返し周波数を設定する繰り返し周波数設定手段とからなり、
該被加工物保持手段に保持された被加工物にレーザー光線が照射されることによって発生するプラズマの波長を検出するプラズマ検出手段と、該プラズマ検出手段からの検出信号に基づいて該レーザー光線照射手段を制御する制御手段とを具備し、
該プラズマ検出手段は、プラズマ光を複数の経路に分岐する分岐手段と、複数の経路にそれぞれ配設されそれぞれ設定された複数の物質のプラズマの特定波長のみを通過させる複数のバンドパスフィルターと、該複数のバンドパスフィルターをそれぞれ通過した光を受光して光強度信号を該制御手段に出力する複数のホトデテクターとを具備しており、
該制御手段は、レーザー加工溝を形成するストリートに沿って配設された被加工物を構成する複数の部材を形成する物質にそれぞれ対応した、レーザー光線の繰り返し周波数及び出力を含む加工条件を設定した加工条件マップを格納するメモリを備えており、該ストリートに沿ってレーザー光線を照射している最中に検出された該複数のホトデテクターからの検出信号に基づいて加工条件マップに設定された、レーザー光線の繰り返し周波数及び出力を含む加工条件を選定し、該選定した繰り返し周波数及び出力を含む加工条件でレーザー光線を照射するよう該繰り返し周波数設定手段及び該出力調整手段を制御する、
ことを特徴とするレーザー加工装置が提供される。
図示のレーザー光線照射手段52は、上記ケーシング521内に配設されたパルスレーザー光線発振手段522と、該パルスレーザー光線発振手段522によって発振されたパルスレーザー光線の出力を調整する出力調整手段523と、該出力調整手段523によって出力が調整されたパルスレーザー光線を上記チャックテーブル36の保持面に保持された被加工物Wに照射する集光器524を具備している。
図5には半導体ウエーハの斜視図が示されており、図6には図5に示す半導体ウエーハのストリートにおける拡大断面図が示されている。図5および図6に示す半導体ウエーハ10は、シリコンウエーハからなる半導体基板11の表面11aに格子状に配列された複数のストリート111によって複数の領域が区画され、この区画された領域にIC、LSI等のデバイス112が形成されている。なお、この半導体ウエーハ10は、半導体基板11の表面11aに二酸化珪素(SiO2)からなる低誘電率絶縁体被膜113が積層して形成されており、ストリート111にはデバイス112の機能をテストするためのテスト エレメント グループ(Teg)と呼ばれる銅(Cu)からなるテスト用の金属パターン114が部分的に複数配設されている。
上記半導体ウエーハ10は、図7に示すように環状のフレームFに装着されたポリオレフィン等の合成樹脂シートからなる保護テープTに裏面を貼着する。従って、半導体ウエーハ10は、表面が上側となる。このようにして環状のフレームFに保護テープTを介して支持された半導体ウエーハ10は、図1に示すレーザー加工装置のチャックテーブル36上に保護テープT側を載置する。そして、図示しない吸引手段を作動することにより半導体ウエーハ10は、保護テープTを介してチャックテーブル36上に吸引保持される。従って、半導体ウエーハ10は、表面を上側にして保持される。また、環状のフレームFは、クランプ362によって固定される。
3:チャックテーブル機構
36:チャックテーブル
37:加工送り手段
38:第1の割り出し送り手段
4:レーザー光線照射ユニット支持機構
42:可動支持基台
43:第2の割り出し送り手段
5:レーザー光線照射ユニット
52:レーザー光線照射手段
522:パルスレーザー光線発振手段
523:出力調整手段
524:集光器
6:撮像手段
7:プラズマ検出手段
71:プラズマ受光手段
73a,73b,73c:ビームスプリッター
75a:第1のバンドパスフィルター
75b:第2のバンドパスフィルター
75c:第3のバンドパスフィルター
75d:第4のバンドパスフィルター
76a:第1のホトデテクター
76b:第2のホトデテクター
76c:第3のホトデテクター
76d:第4のホトデテクター
8:制御手段
10:半導体ウエーハ
11:半導体基板
111:ストリート
112:デバイス
113:低誘電率絶縁体被膜
114:金属パターン
Claims (2)
- 複数の部材が混在している被加工物にレーザー光線を照射することによりレーザー加工溝を形成するレーザー加工方法であって、
被加工物を構成する複数の部材を形成する物質にそれぞれ対応した、レーザー光線の繰り返し周波数及び出力を含む加工条件を設定しておき、該レーザー加工溝を形成するストリートに沿って配設された被加工物を構成する複数の部材に対しレーザー光線が照射されることによってそれぞれ発生するプラズマの波長を検出し、該ストリートに沿ってレーザー光線を照射している最中に検出されたプラズマの波長に対応した部材に対応した、レーザー光線の繰り返し周波数及び出力を含む加工条件を選定し、選定した繰り返し周波数及び出力を含む加工条件でレーザー光線を照射する、
ことを特徴とするレーザー加工方法。 - 被加工物を保持する被加工物保持手段と、該被加工物保持手段に保持された被加工物にレーザー光線を照射するレーザー光線照射手段と、該被加工物保持手段と該レーザー光線照射手段とを相対的に加工送り方向に加工送りする加工送り手段とを具備し、該レーザー光線照射手段がレーザー光線を発振するレーザー光線発振手段と、該レーザー光線発振手段によって発振されたレーザー光線の出力を調整する出力調整手段と、該出力調整手段によって出力が調整されたレーザー光線を集光し該被加工物保持手段に保持された被加工物に照射する集光器を具備しているレーザー加工装置において、
該レーザー光線発振手段はパルスレーザー光線を発振するパルスレーザー光線発振器と該パルスレーザー光線発振器が発振するパルスレーザー光線の繰り返し周波数を設定する繰り返し周波数設定手段とからなり、
該被加工物保持手段に保持された被加工物にレーザー光線が照射されることによって発生するプラズマの波長を検出するプラズマ検出手段と、該プラズマ検出手段からの検出信号に基づいて該レーザー光線照射手段を制御する制御手段とを具備し、
該プラズマ検出手段は、プラズマ光を複数の経路に分岐する分岐手段と、複数の経路にそれぞれ配設されそれぞれ設定された複数の物質のプラズマの特定波長のみを通過させる複数のバンドパスフィルターと、該複数のバンドパスフィルターをそれぞれ通過した光を受光して光強度信号を該制御手段に出力する複数のホトデテクターとを具備しており、
該制御手段は、レーザー加工溝を形成するストリートに沿って配設された被加工物を構成する複数の部材を形成する物質にそれぞれ対応した、レーザー光線の繰り返し周波数及び出力を含む加工条件を設定した加工条件マップを格納するメモリを備えており、該ストリートに沿ってレーザー光線を照射している最中に検出された該複数のホトデテクターからの検出信号に基づいて加工条件マップに設定された、レーザー光線の繰り返し周波数及び出力を含む加工条件を選定し、該選定した繰り返し周波数及び出力を含む加工条件でレーザー光線を照射するよう該繰り返し周波数設定手段及び該出力調整手段を制御する、
ことを特徴とするレーザー加工装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012033757A JP6261844B2 (ja) | 2012-02-20 | 2012-02-20 | レーザー加工方法およびレーザー加工装置 |
TW102101999A TWI571345B (zh) | 2012-02-20 | 2013-01-18 | The laser processing method and laser processing apparatus |
KR1020130012784A KR20130095670A (ko) | 2012-02-20 | 2013-02-05 | 레이저 가공 방법 및 레이저 가공 장치 |
US13/764,889 US9233433B2 (en) | 2012-02-20 | 2013-02-12 | Laser processing method and laser processing apparatus |
DE102013202546A DE102013202546A1 (de) | 2012-02-20 | 2013-02-18 | Laserbearbeitungsverfahren und Laserbearbeitungsvorrichtung |
CN201310053277.6A CN103252583B (zh) | 2012-02-20 | 2013-02-19 | 激光加工方法和激光加工装置 |
KR1020190085248A KR102150207B1 (ko) | 2012-02-20 | 2019-07-15 | 레이저 가공 방법 및 레이저 가공 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012033757A JP6261844B2 (ja) | 2012-02-20 | 2012-02-20 | レーザー加工方法およびレーザー加工装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013169556A JP2013169556A (ja) | 2013-09-02 |
JP6261844B2 true JP6261844B2 (ja) | 2018-01-17 |
Family
ID=48915411
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012033757A Active JP6261844B2 (ja) | 2012-02-20 | 2012-02-20 | レーザー加工方法およびレーザー加工装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9233433B2 (ja) |
JP (1) | JP6261844B2 (ja) |
KR (2) | KR20130095670A (ja) |
CN (1) | CN103252583B (ja) |
DE (1) | DE102013202546A1 (ja) |
TW (1) | TWI571345B (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITTO20110352A1 (it) * | 2011-04-21 | 2012-10-22 | Adige Spa | Metodo per il controllo di un processo di taglio laser e sistema di taglio laser implementante tale metodo |
JP6328513B2 (ja) | 2014-07-28 | 2018-05-23 | 株式会社ディスコ | ウエーハの加工方法 |
JP6411822B2 (ja) * | 2014-09-09 | 2018-10-24 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP6475471B2 (ja) * | 2014-11-05 | 2019-02-27 | 東芝機械株式会社 | レーザ加工方法 |
JP6388823B2 (ja) * | 2014-12-01 | 2018-09-12 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP2016127118A (ja) * | 2014-12-26 | 2016-07-11 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
JP6393625B2 (ja) * | 2015-01-16 | 2018-09-19 | 株式会社アマダホールディングス | レーザ加工装置 |
JP6535480B2 (ja) * | 2015-02-24 | 2019-06-26 | 株式会社アマダホールディングス | レーザ加工状態判別方法及び装置 |
US10583468B2 (en) * | 2015-03-14 | 2020-03-10 | Surclean, Inc. | Method for delivering safety and disposal instructions to personnel who are removing coatings with laser processing |
CN106560270A (zh) * | 2015-10-01 | 2017-04-12 | 依合斯电梯扶手(上海)有限公司 | 用于扶手带的激光打印装置及其使用方法 |
JP2017204574A (ja) * | 2016-05-12 | 2017-11-16 | 株式会社ディスコ | サファイアウェーハの加工方法及びレーザー加工装置 |
US10195683B2 (en) * | 2016-11-14 | 2019-02-05 | Matthew Fagan | Metal analyzing plasma CNC cutting machine and associated methods |
JP2019029560A (ja) * | 2017-08-01 | 2019-02-21 | 株式会社ディスコ | レーザ加工装置 |
CN108161470B (zh) * | 2018-03-13 | 2024-01-26 | 钦州学院 | 激光切割与数控雕刻一体机 |
JP7138001B2 (ja) * | 2018-09-20 | 2022-09-15 | 株式会社ディスコ | 加工条件選定方法 |
JP2020066015A (ja) * | 2018-10-23 | 2020-04-30 | 株式会社ディスコ | レーザー加工方法 |
JP2022017863A (ja) * | 2020-07-14 | 2022-01-26 | 株式会社東京精密 | レーザ加工装置、ウェーハ加工システム及びレーザ加工装置の制御方法 |
KR20220048938A (ko) * | 2020-10-13 | 2022-04-20 | 가부시기가이샤 디스코 | 레이저 가공 장치 |
CN113001031A (zh) * | 2021-04-07 | 2021-06-22 | 大族激光科技产业集团股份有限公司 | 一种激光打标装置及激光打标系统 |
JP2022170903A (ja) * | 2021-04-30 | 2022-11-11 | 株式会社キーエンス | レーザ誘起ブレークダウン分光装置 |
CN113399842A (zh) * | 2021-06-16 | 2021-09-17 | 英业达科技有限公司 | 具有条形码读取模块的雷射雕刻机 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5004890A (en) * | 1990-02-20 | 1991-04-02 | Amada Company, Limited | Method of evaluating quality of a laser beam in a laser processing machine |
NL1018403C1 (nl) * | 2000-10-05 | 2002-04-08 | Boschman Tech Bv | Werkwijze voor het onder toepassing van een laser snijden van een composietstructuur met een of meer elektronische componenten. |
SG96579A1 (en) * | 2000-10-24 | 2003-06-16 | Advanced Systems Automation | Method and apparatus for a laser system for severing semiconductor wafers |
JP3530129B2 (ja) * | 2000-11-16 | 2004-05-24 | 住友重機械工業株式会社 | レーザ加工装置及び加工方法 |
US6804574B2 (en) * | 2002-07-25 | 2004-10-12 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of using a computer with a laser drilling system |
JP3792683B2 (ja) * | 2003-07-16 | 2006-07-05 | ファナック株式会社 | レーザ溶接装置 |
JP4473550B2 (ja) * | 2003-10-17 | 2010-06-02 | 株式会社ディスコ | レーザー加工方法およびレーザー加工装置 |
JP2006305608A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Toshiba Corp | レーザ加工装置、及びレーザ加工方法 |
KR20070101917A (ko) * | 2006-04-12 | 2007-10-18 | 엘지전자 주식회사 | 박막형 태양전지와 그의 제조방법 |
US7599048B2 (en) * | 2007-02-09 | 2009-10-06 | Wafermasters, Inc. | Optical emission spectroscopy process monitoring and material characterization |
KR100939043B1 (ko) * | 2007-11-19 | 2010-01-27 | 에이피시스템 주식회사 | 레이저 가공장치 |
JP5011072B2 (ja) * | 2007-11-21 | 2012-08-29 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
US9061369B2 (en) * | 2009-11-03 | 2015-06-23 | Applied Spectra, Inc. | Method for real-time optical diagnostics in laser ablation and laser processing of layered and structured materials |
JP5431989B2 (ja) * | 2010-01-29 | 2014-03-05 | 株式会社ディスコ | レーザー加工装置 |
JP2011165766A (ja) * | 2010-02-05 | 2011-08-25 | Disco Abrasive Syst Ltd | 光デバイスウエーハの加工方法 |
US8309883B2 (en) * | 2010-05-20 | 2012-11-13 | Ipg Photonics Corporation | Methods and systems for laser processing of materials |
WO2012005816A2 (en) * | 2010-06-30 | 2012-01-12 | Resonetics Llc | Precision laser ablation |
US20130153552A1 (en) * | 2011-12-14 | 2013-06-20 | Gwangju Institute Of Science And Technology | Scribing apparatus and method for having analysis function of material distribution |
US20130153015A1 (en) * | 2011-12-15 | 2013-06-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method for forming solar cells |
-
2012
- 2012-02-20 JP JP2012033757A patent/JP6261844B2/ja active Active
-
2013
- 2013-01-18 TW TW102101999A patent/TWI571345B/zh active
- 2013-02-05 KR KR1020130012784A patent/KR20130095670A/ko active Application Filing
- 2013-02-12 US US13/764,889 patent/US9233433B2/en active Active
- 2013-02-18 DE DE102013202546A patent/DE102013202546A1/de active Pending
- 2013-02-19 CN CN201310053277.6A patent/CN103252583B/zh active Active
-
2019
- 2019-07-15 KR KR1020190085248A patent/KR102150207B1/ko active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR102150207B1 (ko) | 2020-08-31 |
DE102013202546A1 (de) | 2013-08-22 |
TW201341100A (zh) | 2013-10-16 |
TWI571345B (zh) | 2017-02-21 |
JP2013169556A (ja) | 2013-09-02 |
CN103252583A (zh) | 2013-08-21 |
KR20190087367A (ko) | 2019-07-24 |
KR20130095670A (ko) | 2013-08-28 |
US20130213946A1 (en) | 2013-08-22 |
CN103252583B (zh) | 2016-12-28 |
US9233433B2 (en) | 2016-01-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6261844B2 (ja) | レーザー加工方法およびレーザー加工装置 | |
JP6022223B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
JP5940906B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
US10076805B2 (en) | Laser processing apparatus | |
JP6367048B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
JP5813959B2 (ja) | レーザー光線照射機構およびレーザー加工装置 | |
JP2006187783A (ja) | レーザー加工装置 | |
KR20130121719A (ko) | 레이저 가공 장치 및 레이저 가공 방법 | |
JP5431989B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
JP2013230478A (ja) | レーザー加工装置及びレーザー加工方法 | |
JP6328518B2 (ja) | レーザー加工装置 | |
JP5947056B2 (ja) | レーザー加工方法およびレーザー加工装置 | |
JP4473550B2 (ja) | レーザー加工方法およびレーザー加工装置 | |
JP6000700B2 (ja) | レーザー加工方法 | |
JP2013035003A (ja) | レーザー加工装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150119 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160128 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160216 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160311 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160816 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161005 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20161017 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20161104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171213 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6261844 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |