JP6261163B2 - 電子部品の搬送方法 - Google Patents
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Description
前記電子部品は、正常な姿勢で載置された高さが異常な姿勢で載置された高さより低いものであって、先端の吸引口から吸引を行わずに、前記ノズルが、前記電子部品が異常な姿勢で載置されたときの最も高い高さより高い第1の高さまで降下する第1工程と、前記吸引口から吸引しながら、前記ノズルが前記第1の高さから降下する第2工程と、前記電子部品が前記吸引口に吸着したことを検知し、前記ノズルの降下を停止させることで、前記ノズルが前記電子部品を過剰に押し下げることを防止する第3工程と、前記電子部品を吸着した前記ノズルが上昇し、前記電子部品を搬送する第4工程と、を含むことを特徴とする。
Claims (2)
- 吸着可能なノズルが降下し、所定の位置に載置された電子部品を真空吸着した後、前記ノズルが上昇して前記電子部品を搬送する電子部品の搬送方法において、
前記電子部品は、正常な姿勢で載置された高さが異常な姿勢で載置された高さより低いものであって、
先端の吸引口から吸引を行わずに、前記ノズルが、前記電子部品が異常な姿勢で載置されたときの最も高い高さより高い第1の高さまで降下する第1工程と、
前記吸引口から吸引しながら、前記ノズルが前記第1の高さから降下する第2工程と、
前記電子部品が前記吸引口に吸着したことを検知し、前記ノズルの降下を停止させることで、前記ノズルが前記電子部品を過剰に押し下げることを防止する第3工程と、
前記電子部品を吸着した前記ノズルが上昇し、前記電子部品を搬送する第4工程と、を含むことを特徴とする電子部品の搬送方法。 - 請求項1記載の電子部品の搬送方法において、前記第2工程の降下速度は、前記第1工程の降下速度より遅いことを特徴とする電子部品の搬送方法。
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