JP6261104B1 - Method for manufacturing printed circuit board - Google Patents

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Abstract

【課題】極小径の貫通穴を加工精度よく、品質の劣化がなく、コストを抑えて生産効率よく形成可能なプリント基板の製造方法の提供。【解決手段】絶縁基材1aの両面に銅層1bを有するプリント基板材料1の両面に、銅層に極小径の開口部を含む、開口部を形成用の第1の開口部2aを有する、第1のレジストマスク2を形成する工程、第1の開口部から露出している銅層にエッチング加工を施して、絶縁基材を露出させる工程、第1のレジストマスクを除去する工程、プリント基板材料の両面に、第1の開口部よりも僅かに大きな第2の開口部3aを有する、第2のレジストマスク3を形成する工程、第2のレジストマスクと第2の開口部から露出する銅層をブラスト加工用マスクに用いて、銅層の開口部1b−1から露出する絶縁基材にブラスト加工を施して貫通穴1a−2を形成する工程、第2のレジストマスクを除去する工程を含む。【選択図】図1Provided is a printed circuit board manufacturing method capable of forming a through hole having an extremely small diameter with high processing accuracy, without deterioration in quality, and with low production cost and high production efficiency. SOLUTION: On both sides of a printed circuit board material 1 having a copper layer 1b on both sides of an insulating substrate 1a, the copper layer has a first opening 2a for forming an opening including an opening having a very small diameter. A step of forming the first resist mask 2, a step of etching the copper layer exposed from the first opening to expose the insulating base, a step of removing the first resist mask, a printed circuit board Forming a second resist mask 3 having a second opening 3a slightly larger than the first opening on both surfaces of the material, copper exposed from the second resist mask and the second opening; Forming a through hole 1a-2 by blasting the insulating base material exposed from the opening 1b-1 of the copper layer using the layer as a blasting mask, and removing the second resist mask Including. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、極小径の貫通穴を有するプリント基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method of manufacturing a printed circuit board having a through hole with a very small diameter.

電子機器の高機能化や小型化、薄型化が進む中で、半導体パッケージの小型化、多ピン化、外部端子のファインピッチ化が求められており、高密度配線基板への要求はますます強くなっている。このため、LSI(large Scale Integration:大規模集積回路)を直接プリント基板に実装したり、あるいはCSP(Chip Size Package)、BGA(Ball Grid Array)をプリント基板に実装したりするようになってきた。
そして、プリント基板に対しても、高密度化に対応するために、配線ピッチが狭いファインピッチ化と、層間接続等のための貫通穴径の極小化の要求が増えてきている。
従来、プリント基板における極小径の貫通穴の形成は、通常、プリント基板材料において絶縁基材の両面に備わる銅層のうち、片側の銅層をエッチングして極小径の開口部を設け、次いで、銅層の開口部から露出した絶縁基材に対しレーザ加工で、1穴ずつ貫通穴を形成することによって行っていた(例えば、次の特許文献1参照)。
As electronic devices become more advanced, smaller, and thinner, there is a need for smaller semiconductor packages, higher pin counts, and finer pitches for external terminals, and the demand for high-density wiring boards is increasing. It has become. For this reason, LSI (large scale integration) is directly mounted on a printed circuit board, or CSP (Chip Size Package) and BGA (Ball Grid Array) are mounted on a printed circuit board. .
Further, in order to cope with the higher density of printed circuit boards, there are increasing demands for finer wiring pitches and minimization of through-hole diameters for interlayer connections and the like.
Conventionally, the formation of a through hole with a very small diameter in a printed circuit board is usually performed by etching a copper layer on one side of the copper layer provided on both sides of the insulating base material in the printed circuit board material to provide a small diameter opening, The insulating base material exposed from the opening of the copper layer is formed by forming through holes one by one by laser processing (see, for example, Patent Document 1 below).

特開2012−235176号公報JP 2012-235176 A

しかし、レーザ加工で1穴ずつ貫通穴を形成するのでは、多列配列されたプリント基板を製造するような場合や、一つのプリント基板に多数の貫通穴をあける必要がある場合、加工時間が長くかかり、生産性が悪くコスト高となってしまう。また、レーザ加工で極小径の貫通穴を形成した場合、加工端面が炭化して、導電性を有してしまう虞がある。   However, if through holes are formed one by one by laser processing, processing time is required when manufacturing printed circuit boards arranged in multiple rows, or when it is necessary to make a large number of through holes on one printed circuit board. It takes a long time, resulting in poor productivity and high cost. In addition, when a through hole having an extremely small diameter is formed by laser processing, the processed end surface may be carbonized and have conductivity.

また、従来、プリント基板に貫通穴を形成するためのその他の方法としては、ドリル加工やルータ加工による方法、プレス加工による方法等が知られている。
しかし、ドリル加工やルータ加工による方法は、レーザ加工方法と同様、貫通穴を1穴ずつ形成することになるため、生産性が悪い。また、極小径の貫通穴を形成するためにはドリルやルータの径も極小化したものを用いる必要があるが、ドリルやルータの径が細いと、折れや破損の虞が高くなる。しかも、ドリル加工やルータ加工では、回転するドリルやルータが振動によって振れが生じ易いために、極小径の貫通穴を高精度に加工することが難しい。尚、本願では、「極小径」とは、概ねφ50μm以下であって、主に、φ20〜φ40μmの貫通穴の穴径の大きさを指す。
Conventionally, as other methods for forming a through hole in a printed circuit board, a drilling method, a router processing method, a press processing method, and the like are known.
However, the method using drilling or router processing, like the laser processing method, forms through holes one by one, so that productivity is poor. In addition, in order to form a through hole having a very small diameter, it is necessary to use a drill or router having a minimized diameter. However, if the diameter of the drill or the router is small, the possibility of breakage or breakage increases. In addition, in drilling or router processing, the rotating drill or router is likely to be shaken by vibration, so it is difficult to process a through hole with a very small diameter with high accuracy. In the present application, the “minimum diameter” is generally about 50 μm or less and mainly refers to the size of the diameter of the through hole of φ20 to φ40 μm.

また、プレス加工に用いる精密金型は高額である上、貫通穴の大きさや位置が異なるごとに対応した別個の精密金型が必要となる。このため、プレス加工で極小径の貫通穴を形成すると、莫大な製造コストがかかる。しかも、極小径の貫通穴を形成するための金型部の折れや破損の虞が高くなる。   In addition, the precision mold used for press working is expensive, and a separate precision mold corresponding to each different size and position of the through hole is required. For this reason, if a through hole having a very small diameter is formed by pressing, enormous manufacturing costs are required. In addition, there is a high possibility that the mold part for forming the extremely small diameter through hole is broken or damaged.

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、極小径の貫通穴を加工精度よく、品質の劣化がなく、コストを抑えて生産効率よく形成することの可能なプリント基板の製造方法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides a printed circuit board manufacturing method capable of forming a through hole having a very small diameter with high processing accuracy, without deterioration in quality, and with low production costs. The purpose is to do.

上記目的を達成するため、本発明によるプリント基板の製造方法は、絶縁基材の両面に銅層を有するプリント基板材料を準備する工程と、前記プリント基板材料の両面に第1のレジスト層を形成し、前記プリント基板材料の所定位置における両側の前記銅層に極小径の開口部を含む、所定径の開口部を形成するための第1の開口部を有する、第1のレジストマスクを形成する工程と、
前記第1のレジストマスクの前記第1の開口部から露出している部位における前記銅層にエッチング加工を施して溶解除去し、前記絶縁基材を露出させる工程と、前記第1のレジストマスクを除去する工程と、前記プリント基板材料の両面に第2のレジスト層を形成し、前記第1のレジストマスクの前記第1の開口部を形成した位置に、径が該第1の開口部よりも僅かに大きな第2の開口部を有する、第2のレジストマスクを形成する工程と、前記第2のレジストマスクと該第2のレジストマスクの前記第2の開口部から露出している部位における前記銅層をブラスト加工用マスクとして用いて、前記銅層の開口部から露出している部位における前記絶縁基材にブラスト加工を施して貫通穴を形成する工程と、前記第2のレジストマスクを除去する工程、を含むことを特徴としている。
In order to achieve the above object, a printed circuit board manufacturing method according to the present invention includes a step of preparing a printed circuit board material having a copper layer on both surfaces of an insulating base material, and a first resist layer is formed on both surfaces of the printed circuit board material. Then, a first resist mask having a first opening for forming an opening having a predetermined diameter is formed in the copper layer on both sides of the printed circuit board material at a predetermined position. Process,
Etching and removing the copper layer at a portion exposed from the first opening of the first resist mask to expose the insulating substrate; and A step of removing, a second resist layer is formed on both sides of the printed circuit board material, and the first opening of the first resist mask has a diameter larger than that of the first opening. A step of forming a second resist mask having a slightly larger second opening, and the second resist mask and the portion of the second resist mask exposed from the second opening. Using the copper layer as a blasting mask, the step of blasting the insulating base material in the portion exposed from the opening of the copper layer to form a through hole; and removing the second resist mask It is characterized by comprising to step.

また、本発明のプリント基板の製造方法においては、前記第2のレジストマスクの形成に用いる第2のレジスト層には、前記第1のレジストマスクの形成に用いる第1のレジスト層よりも厚いものを用いるのが好ましい。   In the printed circuit board manufacturing method of the present invention, the second resist layer used for forming the second resist mask is thicker than the first resist layer used for forming the first resist mask. Is preferably used.

また、本発明のプリント基板の製造方法においては、前記絶縁基材を露出させる工程と前記第1のレジストマスクを除去する工程との間に、前記絶縁基材を露出させるエッチング加工に用いた前記第1のレジストマスクを、さらにブラスト加工用マスクとして用いて、前記第1のレジストマスクの前記第1の開口部及び前記銅層の開口部から露出している部位における前記絶縁基材にブラスト加工を施して凹部を形成する工程を含むのが好ましい。   In the printed circuit board manufacturing method of the present invention, the etching substrate used for the etching process for exposing the insulating base material between the step of exposing the insulating base material and the step of removing the first resist mask. The first resist mask is further used as a blasting mask, and blasting is performed on the insulating base material at a portion exposed from the first opening and the copper layer opening of the first resist mask. It is preferable to include the process of forming a recessed part by giving.

本発明によれば、極小径の貫通穴を加工精度よく、品質の劣化がなく、コストを抑えて生産効率よく形成することの可能なプリント基板の製造方法が得られる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of the printed circuit board which can form a through-hole of a very small diameter with sufficient processing accuracy, without deterioration of quality, suppressing cost, and producing efficiency is obtained.

本発明の第1実施形態にかかるプリント基板の製造工程の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the manufacturing process of the printed circuit board concerning 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態にかかるプリント基板の製造工程の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the manufacturing process of the printed circuit board concerning 2nd Embodiment of this invention. 比較例にかかるプリント基板の製造工程の一例を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows an example of the manufacturing process of the printed circuit board concerning a comparative example.

実施形態の説明に先立ち、本発明のプリント基板の製造方法の導出過程及びその作用効果について説明する。
上述のように、従来、プリント基板における極小径の貫通穴の形成には、銅層をエッチングして極小径の開口部を設け、露出した絶縁基材に対しレーザ加工する方法があるが、加工時間が長くかかり、生産性が悪くコスト高となり、しかも、加工端面が炭化して、導電性を有してしまう虞等の問題がある。また、その他の貫通穴を形成する方法として、ドリル加工やルータ加工による方法や、プレス加工による方法があるが、ドリル加工やルータ加工による方法には、生産性が悪いことに加えて、ドリルやルータの折れや破損、加工精度の問題があり、プレス加工による方法には、金型のコストや、極小径の貫通穴を形成するための金型部の折れや破損の虞等の問題がある。
Prior to the description of the embodiments, the process of deriving the printed circuit board manufacturing method of the present invention and the effects thereof will be described.
As described above, conventionally, there is a method for forming a through hole with a minimum diameter in a printed circuit board by etching a copper layer to provide a minimum diameter opening and laser processing the exposed insulating base material. There is a problem that it takes a long time, the productivity is poor and the cost is high, and the processed end face is carbonized to have conductivity. Other methods for forming through holes include drilling and router processing, and press processing. In addition to poor productivity, drilling and router processing methods include drilling and router processing. There are problems with router bending, breakage, and processing accuracy, and the press method has problems such as the cost of the mold and the risk of bending or breakage of the mold part for forming a through hole with a very small diameter. .

ここで、本件発明者は、絶縁基材に対する極小径の貫通穴の形成にブラスト加工を用いることを着想し、考察及び検討した。
ブラスト加工は、プリント基板材料における加工対象部位のみを露出させるようにレジストマスクで覆った状態にして、微細砥粒を圧縮エアで高速噴射して加工対象部位の基板を除去する加工方法である。
本発明者が、他の加工方法と比較検討したところ、ブラスト加工は、レーザ加工とは異なり加工面の炭化がなく、ドリル加工とは異なり、極小径の貫通穴を精度よく加工でき、また、複数の貫通穴を同時形成でき、さらに、プレス加工とは異なり設計の自由度も広く、製造コストも低減できることが判明した。
より詳しくは、絶縁基材に対する極小径の貫通穴の形成をブラスト加工で行うようにすれば、レーザ加工で極小径の貫通穴を形成する場合における、加工端面が炭化して導電性を有してしまう虞がない。また、複数の貫通穴を同時に形成できるため、生産性が高く、コストを低減することができる。
また、ドリル加工やルータ加工で極小径の貫通穴を形成する場合における、ドリルやルータの折れや破損の虞がなく、回転するドリルやルータが振動によって偏心することがないため、極小径の貫通穴を高精度に加工し易い。
また、プレス加工で極小径の貫通穴を形成する場合における、金型部の折れや破損の虞もなく、貫通穴の大きさや位置が異なるごとに対応した別個の精密金型も不要となる。
Here, the present inventor conceived, studied and studied the idea of using blasting for forming a through hole having a very small diameter with respect to an insulating base material.
Blasting is a processing method in which only the processing target portion in the printed circuit board material is covered with a resist mask so that the substrate is removed at high speed by spraying fine abrasive grains with compressed air.
When the present inventor compared with other processing methods, the blast processing has no carbonization of the processed surface unlike the laser processing, and unlike the drill processing, the through hole with a very small diameter can be processed with high accuracy. It has been found that a plurality of through-holes can be formed simultaneously, and, unlike press processing, the degree of freedom in design is wide and the manufacturing cost can be reduced.
More specifically, if the formation of an extremely small diameter through hole in the insulating base material is performed by blasting, the processed end face in the case of forming an extremely small diameter through hole by laser processing has carbonization and becomes conductive. There is no fear of it. In addition, since a plurality of through holes can be formed at the same time, productivity is high and costs can be reduced.
In addition, when forming a through hole with a very small diameter by drilling or router processing, there is no risk of the drill or router being broken or damaged, and the rotating drill or router will not be eccentric due to vibration. It is easy to process holes with high accuracy.
In addition, there is no risk of bending or breakage of the mold part when forming a through hole having a very small diameter by press working, and a separate precision mold corresponding to each different size and position of the through hole is not required.

また、本発明者が、さらに検討したところ、極小径の貫通穴の形成にブラスト加工を用いる場合には、次のような課題があることも判明した。
ブラスト加工では、加工対象以外の部位にレジストマスクを形成したプリント基板材料に対し、微細砥粒を圧縮エアで高速噴射して加工対象部位のプリント基板材料を除去するが、加工の際に砥粒がレジストマスクに衝突することで、露出面のプリント基板材料とともにレジストマスクも削り取られる。このため、微細砥粒の噴射時間が長時間に及ぶと、レジストマスクで覆われていた部位のプリント基板材料が露出し、微細砥粒が衝突することで削り取られてしまい、プリント基板としての製品の品質が悪くなる虞がある。
ブラスト加工において、レジストマスクで覆われている部位を露出させることなく、極小径の貫通穴を形成するための方策としては、加工対象以外の部位に形成するレジストマスクに用いるレジスト層の層厚を厚くすることが考えられる。
しかし、レジスト層の層厚を厚くすると、露光及び現像を経てレジスト層に形成されるマスク形状の加工精度及びマスク形成の信頼度が低下し、その結果、ブラスト加工により形成される極小径の貫通穴の加工精度及び歩留りが低下してしまう。
Further, as a result of further studies by the present inventor, it has also been found that there are the following problems when blasting is used to form a through hole having a very small diameter.
In the blasting process, fine abrasive grains are ejected at high speed with compressed air to the printed circuit board material on which a resist mask is formed in a part other than the processing target, and the printed circuit board material in the processing target part is removed. As a result of the collision with the resist mask, the resist mask is scraped off together with the printed circuit board material on the exposed surface. For this reason, if the spraying time of the fine abrasive grains is extended for a long time, the printed circuit board material covered with the resist mask is exposed and scraped off by the collision of the fine abrasive grains, resulting in a product as a printed circuit board. There is a risk that the quality of the.
In blasting, as a measure for forming a through hole with a very small diameter without exposing the part covered with the resist mask, the layer thickness of the resist layer used for the resist mask to be formed in a part other than the processing target is It is possible to increase the thickness.
However, increasing the thickness of the resist layer decreases the processing accuracy of the mask shape formed on the resist layer through exposure and development and the reliability of mask formation, and as a result, the extremely small diameter penetration formed by blast processing. Hole machining accuracy and yield are reduced.

このような夫々の加工方法における問題点をも鑑み、本件発明者は、絶縁基材の両面に銅層を有するプリント基板材料に対して、極小径の貫通穴を形成するためのプリント基板の製造方法に関し、試行錯誤を重ねた結果、本発明を導出するに至った。   In view of such problems in each processing method, the present inventors have manufactured a printed circuit board for forming a through hole having a very small diameter with respect to a printed circuit board material having copper layers on both sides of an insulating base material. As a result of repeated trial and error regarding the method, the present invention has been derived.

本発明のプリント基板の製造方法は、絶縁基材の両面に銅層を有するプリント基板材料を準備する工程と、プリント基板材料の両面に第1のレジスト層を形成し、プリント基板材料の所定位置における両側の銅層に極小径の開口部を含む、所定径の開口部を形成するための第1の開口部を有する、第1のレジストマスクを形成する工程と、第1のレジストマスクの第1の開口部から露出している部位における銅層にエッチング加工を施して溶解除去し、絶縁基材を露出させる工程と、第1のレジストマスクを除去する工程と、プリント基板材料の両面に第2のレジスト層を形成し、第1のレジストマスクの第1の開口部を形成した位置に、径が第1の開口部よりも僅かに大きな第2の開口部を有する、第2のレジストマスクを形成する工程と、第2のレジストマスクと第2のレジストマスクの第2の開口部から露出している部位における銅層をブラスト加工用マスクとして用いて、銅層の開口部から露出している部位における絶縁基材にブラスト加工を施して貫通穴を形成する工程と、第2のレジストマスクを除去する工程、を含む。
本発明のプリント基板の製造方法のように、絶縁基材に対する貫通穴の形成をブラスト加工で行うようにすれば、レーザ加工で極小径の貫通穴を形成する場合における、加工端面が炭化して導電性を有してしまう虞がない。また、複数の貫通穴を同時に形成できるため、生産性が高く、コストを低減することができる。
また、ドリル加工やルータ加工で極小径の貫通穴を形成する場合における、ドリルやルータの折れや破損の虞がなく、回転するドリルやルータが振動によって偏心することがないため、極小径の貫通穴を高精度に加工し易い。
また、プレス加工で極小径の貫通穴を形成する場合における、金型部の折れや破損の虞もなく、貫通穴の大きさや位置が異なるごとに対応した別個の精密金型も不要となる。
The method for producing a printed board according to the present invention includes a step of preparing a printed board material having a copper layer on both sides of an insulating base, a first resist layer is formed on both sides of the printed board material, and a predetermined position of the printed board material Forming a first resist mask having a first opening for forming an opening having a predetermined diameter, including an opening having an extremely small diameter in the copper layers on both sides of the first and second layers; The copper layer in the portion exposed from the opening of 1 is etched and removed by etching to expose the insulating base, the step of removing the first resist mask, and the both sides of the printed circuit board material. A second resist mask having a second opening having a diameter slightly larger than the first opening at a position where the second resist layer is formed and the first opening of the first resist mask is formed Forming the step and Using the second resist mask and the copper layer in the portion exposed from the second opening of the second resist mask as a blasting mask, the insulating substrate in the portion exposed from the opening in the copper layer And blasting to form a through hole, and removing the second resist mask.
If the through hole is formed on the insulating base material by blasting as in the printed circuit board manufacturing method of the present invention, the machining end face is carbonized when forming a through hole with an extremely small diameter by laser processing. There is no risk of having conductivity. In addition, since a plurality of through holes can be formed at the same time, productivity is high and costs can be reduced.
In addition, when forming a through hole with a very small diameter by drilling or router processing, there is no risk of the drill or router being broken or damaged, and the rotating drill or router will not be eccentric due to vibration. It is easy to process holes with high accuracy.
In addition, there is no risk of bending or breakage of the mold part when forming a through hole having a very small diameter by press working, and a separate precision mold corresponding to each different size and position of the through hole is not required.

また、本発明のプリント基板の製造方法のように、第1の開口部を有する、第1のレジストマスクを形成し、第1のレジストマスクの第1の開口部から露出している部位における銅層にエッチング加工を施して溶解除去し、絶縁基材を露出させるようにすれば、第1のレジストマスクの形成に用いる第1のレジスト層には、銅層に極小径の開口部を形成するために必要最小限の厚さのものを用いることができる。第1のレジストマスクの形成に用いる第1のレジスト層の層厚は、薄いほど露光及び現像を経て形成される第1のレジストマスクの第1の開口部の加工精度が向上する。しかるに、第1のレジストマスクの形成に用いる第1のレジスト層の層厚が、銅層に極小径の開口部を形成するために必要最小限の厚さのものを用いることで、露光及び現像を経て形成される第1のレジストマスクの第1の開口部の加工精度が格段と高くなる。その結果、加工精度が高い第1の開口部から露出している部位における銅層にエッチング加工を施して溶解除去することにより形成される銅層の開口部の加工精度も格段と高くなる。
そして、本発明のプリント基板の製造方法のように、第1のレジストマスクの第1の開口部を形成した位置に、径が第1の開口部よりも僅かに大きな第2の開口部を有する、第2のレジストマスクを形成し、第2のレジストマスクと第2のレジストマスクの第2の開口部から露出している部位における銅層をブラスト加工用マスクとして用いて、銅層の開口部から露出している部位における絶縁基材にブラスト加工を施すようにすれば、絶縁基材に対する貫通穴の形成は、高精度に加工された銅層の開口部を介して行われ、しかも銅層は薄肉であるため、ブラスト加工により形成される絶縁基材の貫通穴の加工精度が格段と高くなる。また、ブラスト加工時にブラスト加工用マスクとして用いる銅層における開口部の周囲の部分は、第1のレジストマスクの第1の開口部を形成した位置に、径が第1の開口部よりも僅かに大きな第2の開口部を有する第2のレジストマスクにより保護される。その結果、銅層における開口部の周囲の部分は、ブラスト加工時に微細砥粒に削り取られずに済み、絶縁基材に形成する貫通穴の加工精度が高精度に保たれる。
Further, as in the method of manufacturing a printed circuit board according to the present invention, the first resist mask having the first opening is formed, and the copper in the portion exposed from the first opening of the first resist mask is formed. If the layer is etched and removed to expose the insulating substrate, an opening having a very small diameter is formed in the copper layer in the first resist layer used for forming the first resist mask. Therefore, the minimum necessary thickness can be used. The thinner the thickness of the first resist layer used for forming the first resist mask, the higher the processing accuracy of the first opening of the first resist mask formed through exposure and development. However, the first resist layer used for forming the first resist mask has a layer thickness that is the minimum necessary for forming an opening having a very small diameter in the copper layer. The processing accuracy of the first opening of the first resist mask formed through the process is remarkably increased. As a result, the processing accuracy of the opening portion of the copper layer formed by etching and removing the copper layer in the portion exposed from the first opening portion with high processing accuracy is remarkably increased.
And like the manufacturing method of the printed circuit board of this invention, it has a 2nd opening part with a diameter slightly larger than a 1st opening part in the position which formed the 1st opening part of the 1st resist mask. Forming a second resist mask, and using the copper layer in the portion exposed from the second opening of the second resist mask and the second resist mask as a blasting mask, the opening of the copper layer If the insulating base in the exposed part is subjected to blasting, the through hole is formed in the insulating base through the opening of the copper layer processed with high precision, and the copper layer Since it is thin, the processing accuracy of the through hole of the insulating base formed by blast processing is remarkably increased. Further, the portion around the opening in the copper layer used as a blasting mask at the time of blasting is slightly smaller in diameter than the first opening at the position where the first opening of the first resist mask is formed. It is protected by a second resist mask having a large second opening. As a result, the portion around the opening in the copper layer does not have to be scraped into fine abrasive grains during blasting, and the processing accuracy of the through-hole formed in the insulating base material is kept high.

また、本発明のプリント基板の製造方法において、好ましくは、第2のレジストマスクの形成に用いる第2のレジスト層には、第1のレジストマスクの形成に用いる第1のレジスト層よりも層厚が厚いものを用いる。
上述のように、第1のレジストマスクの形成に用いる第1のレジスト層の層厚は、薄いほど露光及び現像を経て形成される第1のレジストマスクの第1の開口部の加工精度が向上し、第1の開口部から露出している部位における銅層にエッチング加工を施して溶解除去することにより形成される銅層の開口部の加工精度が向上する。
これに対し、第2のレジストマスクは、ブラスト加工時に、ブラスト加工用マスクとして用いる銅層を保護するために用いる。このため、第2のレジストマスクの形成に用いる第2のレジスト層の層厚は、ブラスト加工により第2のレジストマスクで覆われている部位が削り取られて銅層を露出させることのないよう厚くすることが望まれる。
しかるに、第2のレジストマスクの形成に用いる第2のレジスト層に、第1のレジストマスクの形成に用いる第1のレジスト層よりも層厚が厚いものを用いるようにすれば、第1のレジストマスクを介して、銅層の開口部の加工精度を向上させ易くなるとともに、第2のレジストマスクを介して、ブラスト加工時に、第2のレジストマスクで覆われている部位が削り取られて銅層を露出させることなく、銅層を保護し易くなる。
In the method for manufacturing a printed circuit board according to the present invention, preferably, the second resist layer used for forming the second resist mask has a layer thickness larger than that of the first resist layer used for forming the first resist mask. Use a thicker one.
As described above, the processing accuracy of the first opening of the first resist mask formed through exposure and development improves as the thickness of the first resist layer used for forming the first resist mask decreases. And the processing precision of the opening part of the copper layer formed by performing an etching process to the copper layer in the site | part exposed from the 1st opening part and melt | dissolving and removing improves.
On the other hand, the second resist mask is used to protect a copper layer used as a blasting mask during blasting. For this reason, the layer thickness of the second resist layer used for forming the second resist mask is made thick so that the portion covered with the second resist mask is removed by blasting and the copper layer is not exposed. It is desirable to do.
However, if the second resist layer used for forming the second resist mask is thicker than the first resist layer used for forming the first resist mask, the first resist is used. It becomes easy to improve the processing accuracy of the opening of the copper layer through the mask, and the portion covered with the second resist mask is scraped off at the time of blasting through the second resist mask. It becomes easy to protect the copper layer without exposing.

また、本発明のプリント基板の製造方法においては、好ましくは、絶縁基材を露出させる工程と第1のレジストマスクを除去する工程との間に、絶縁基材を露出させるエッチング加工に用いた第1のレジストマスクを、さらにブラスト加工用マスクとして用いて、第1のレジストマスクの第1の開口部及び銅層の開口部から露出している部位における絶縁基材にブラスト加工を施して凹部を形成する工程を含むようにする。
このように第1のレジストマスクをさらにブラスト加工用マスクとして用いて、第1の開口部及び銅層の開口部から露出している部位における絶縁基材にブラスト加工を施して凹部を形成するようにすれば、その後の第2のレジストマスクと第のレジストマスクの第2の開口部から露出している部位における銅層をブラスト加工用マスクとして用いたブラスト加工において除去すべき部位の絶縁基材の厚さを減らすことができる。その結果、第2のレジストマスクの形成に用いる第2のレジスト層として層厚の薄いものを用いることができ、その分、コストを抑えることができる。また、第2のレジストマスクの第2の開口部から僅かに露出する銅層における開口部の周囲の部分への、ブラスト加工時における微細砥粒の衝突量を減らすことができ、より高精度な貫通穴を形成することができる。
In the printed circuit board manufacturing method of the present invention, it is preferable that the first etching process used to expose the insulating base material between the step of exposing the insulating base material and the step of removing the first resist mask. 1 is further used as a blasting mask, and the insulating substrate in the part exposed from the first opening of the first resist mask and the opening of the copper layer is subjected to blasting to form a recess. A step of forming is included.
In this manner, the first resist mask is further used as a blasting mask, and the recess is formed by blasting the insulating substrate in the portion exposed from the first opening and the opening of the copper layer. Then, the insulating substrate at the site to be removed in the blasting process using the second resist mask and the copper layer in the site exposed from the second opening of the second resist mask as a blasting mask Can reduce the thickness. As a result, a thin resist layer can be used as the second resist layer used for forming the second resist mask, and the cost can be reduced accordingly. Further, it is possible to reduce the collision amount of fine abrasive grains at the time of blasting to the portion around the opening in the copper layer slightly exposed from the second opening of the second resist mask, and to achieve higher accuracy. A through hole can be formed.

なお、本発明のプリント基板の製造方法において、好ましくは、プリント基板材料の両側から同時にブラスト加工を行うようにすれば、ブラスト加工時間を大幅に短縮できる。   In the printed circuit board manufacturing method of the present invention, preferably, if blasting is performed simultaneously from both sides of the printed circuit board material, the blasting time can be greatly shortened.

従って、本発明によれば、極小径の貫通穴を加工精度よく、品質の劣化がなく、コストを抑えて生産効率よく形成することの可能なプリント基板の製造方法が得られる。   Therefore, according to the present invention, it is possible to obtain a printed circuit board manufacturing method capable of forming a through hole having an extremely small diameter with high processing accuracy, without deterioration in quality, and with low production cost and high production efficiency.

次に、本発明の実施の形態について説明する。
第1実施形態
図1は本発明の第1実施形態にかかるプリント基板の製造工程の一例を示す説明図である。
本実施形態の製造方法では、極小径の貫通穴を有するプリント基板を、以下の工程によって製造する。
なお、以下の製造の各工程において実施される、薬液洗浄や水洗浄等を含む前処理・後処理等は、便宜上説明を省略する。
まず、絶縁基材1aの両面に銅層1bを有するプリント基板材料1を準備する(図1(a)参照)。
絶縁基材1aは、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素含有樹脂、ポリエステル樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂等を、単体または複数樹脂を混合したものを用いることができる。また、各種添加剤や柔軟剤をさらに調合したものや、補強材としてガラス等の無機繊維、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、各種天然繊維等の有機繊維を使用したものを用いることもできる。
Next, an embodiment of the present invention will be described.
First Embodiment FIG. 1 is an explanatory view showing an example of a manufacturing process of a printed circuit board according to a first embodiment of the present invention.
In the manufacturing method of the present embodiment, a printed circuit board having a through hole with a very small diameter is manufactured by the following steps.
Note that description of pre-processing and post-processing including chemical solution cleaning, water cleaning, and the like, which are performed in the following manufacturing steps, is omitted for convenience.
First, a printed circuit board material 1 having a copper layer 1b on both surfaces of an insulating base 1a is prepared (see FIG. 1 (a)).
As the insulating base material 1a, an epoxy resin, a phenol resin, a polyimide resin, a fluorine-containing resin, a polyester resin, a polyphenylene oxide resin, or the like, or a mixture of a plurality of resins can be used. Moreover, what further mix | blended various additives and softening agents, and what used organic fibers, such as inorganic fibers, such as glass, a polyester resin, a polyimide resin, and various natural fibers, can also be used as a reinforcing material.

次に、プリント基板材料1の両面に、加工する銅層1bの厚さ及び最小の開口径(ここでは極小径の貫通穴の径)により定まる所定厚さの第1のドライフィルムレジスト2’をラミネートする(図1(b)参照)。第1のドライフィルムレジスト2’の種類は特に限定されないが、通常、感光部が硬化するネガタイプのものを用いる。この他にポジタイプのドライフィルムレジストでも良い。また液状のフォトレジストを塗布することでも良い。   Next, the first dry film resist 2 'having a predetermined thickness determined by the thickness of the copper layer 1b to be processed and the minimum opening diameter (here, the diameter of the extremely small through hole) is formed on both surfaces of the printed board material 1. Laminate (see Fig. 1 (b)). The type of the first dry film resist 2 ′ is not particularly limited, but usually a negative type that cures the photosensitive portion is used. In addition, a positive type dry film resist may be used. Alternatively, a liquid photoresist may be applied.

次に、両側の第1のドライフィルムレジスト2’における所定部位に、最小径が例えばφ30μmである極小径の開口パターンを少なくとも一つ含む所定径の開口パターンを露光する。
次に、現像し、プリント基板材料1の両面に夫々の第1の開口部2aを有する、第1のレジストマスク2を形成する(図1(c)参照)。
Next, an opening pattern having a predetermined diameter including at least one opening pattern having a minimum diameter of, for example, φ30 μm is exposed at a predetermined portion of the first dry film resist 2 ′ on both sides.
Next, it develops and the 1st resist mask 2 which has each 1st opening part 2a on both surfaces of the printed circuit board material 1 is formed (refer FIG.1 (c)).

次に、両面の第1のレジストマスク2の第1の開口部2aから露出する部位における銅層1bにエッチング加工を施して、銅層1bを除去し、除去した部位において絶縁基材1aを露出させる(図1(d)参照)。このとき、銅層1bには、開口部1b−1が形成される。   Next, the copper layer 1b in the part exposed from the first opening 2a of the first resist mask 2 on both sides is etched to remove the copper layer 1b, and the insulating base 1a is exposed in the removed part. (See FIG. 1 (d)). At this time, an opening 1b-1 is formed in the copper layer 1b.

次に、第1のレジストマスク2を剥離する(図1(e)参照)。   Next, the first resist mask 2 is peeled off (see FIG. 1 (e)).

次に、プリント基板材料1の両面に、加工する絶縁基材1aの厚さ及び最小の開口径(ここでは極小径の貫通穴の径φ30μm)よりも一回り大きな開口径により定まる所定厚さの第2のレジスト層3’を形成する(図1(f)参照)。絶縁基材1aは、銅層1bよりも大きな厚さを有している。このため、第2のレジスト層3’は、第1のドライフィルムレジスト2’よりも層厚が厚いものを用いる。   Next, a predetermined thickness determined by an opening diameter that is slightly larger than the thickness of the insulating base material 1a to be processed and the minimum opening diameter (here, the diameter of a through hole having a minimum diameter of 30 μm) is provided on both surfaces of the printed circuit board material 1. A second resist layer 3 ′ is formed (see FIG. 1 (f)). The insulating base material 1a has a larger thickness than the copper layer 1b. For this reason, the second resist layer 3 ′ is thicker than the first dry film resist 2 ′.

次に、両側の第2のレジスト層3’における第1のレジストマスク2の第1の開口部2aを形成した位置に、径が該第1の開口部よりも僅かに大きな開口パターンを露光する。   Next, an opening pattern having a diameter slightly larger than that of the first opening is exposed at a position where the first opening 2a of the first resist mask 2 is formed in the second resist layer 3 ′ on both sides. .

次に、現像し、プリント基板材料1の両面に、夫々の第1のレジストマスク2の第1の開口部2aを形成した位置に、径が第1の開口部2aよりも僅かに大きな第2の開口部3aを有する、第2のレジストマスク3を形成する(図1(g)参照)。   Next, development is performed and second diameters slightly larger than the first openings 2a are formed at positions where the first openings 2a of the respective first resist masks 2 are formed on both surfaces of the printed circuit board material 1. The second resist mask 3 having the opening 3a is formed (see FIG. 1G).

次に、第2のレジストマスク3と第2のレジストマスク3の第2の開口部3から露出している部位における銅層1bをブラスト加工用マスクとして用いて、加工する絶縁基材1aの厚さ及び最小の開口径(ここでは極小径の貫通穴の径)により定まる所定の砥粒径のブラスト加工用砥粒を用いて、所定の圧力、所定の噴射量で、スリットノズルを適宜移動させながらブラスト加工用砥粒を噴射して、プリント基板材料1の一方の側からブラスト加工を行い、銅層1bの開口部1b−1から露出している部位における絶縁基材1aを略半分の厚さ分掘り込み、凹部1a−1を形成する(図1(h)参照)。   Next, the thickness of the insulating substrate 1a to be processed using the second resist mask 3 and the copper layer 1b in the portion exposed from the second opening 3 of the second resist mask 3 as a blasting mask. The slit nozzle is appropriately moved with a predetermined pressure and a predetermined injection amount, using blasting abrasive grains having a predetermined abrasive grain size determined by the thickness and the minimum opening diameter (here, the diameter of the through-hole having a very small diameter). While blasting abrasive grains are sprayed, blasting is performed from one side of the printed circuit board material 1, and the insulating base 1a in the portion exposed from the opening 1b-1 of the copper layer 1b is approximately half the thickness. The pit is dug to form a recess 1a-1 (see FIG. 1 (h)).

次に、プリント基板材料1の他方の側から、一方の側と同様にブラスト加工を行い、絶縁基材1aを掘り込み、凹部1a−1の底面を貫通させる(図1(i)参照)。これにより、絶縁基材1aに極小径の貫通穴を含む、所定径の貫通穴1a−2が形成される。   Next, blasting is performed from the other side of the printed circuit board material 1 in the same manner as one side, and the insulating base 1a is dug to penetrate the bottom surface of the recess 1a-1 (see FIG. 1 (i)). Thereby, the through-hole 1a-2 of a predetermined diameter including the through-hole of the minimum diameter is formed in the insulating base material 1a.

次に、第2のレジストマスク3を剥離する(図1(j)参照)。これにより、絶縁基材1a及び両面の銅像1aを貫通する、極小径の貫通穴を含む、所定径の貫通穴1−1が形成されたプリント基板材料1が得られる。   Next, the second resist mask 3 is peeled off (see FIG. 1 (j)). Thereby, the printed circuit board material 1 in which the through-hole 1-1 of the predetermined diameter including the through-hole of the minimum diameter which penetrates the insulating base material 1a and the copper images 1a on both sides is formed is obtained.

次に、配線パターンの形成を行う。詳しくは、まず、プリント基板材料1に形成した貫通穴1−1に、スルーホールめっき又はビアフィルめっき等を施すことにより導体を形成して層間接続を行う(不図示)。次に、プリント基板材料1の両面に、第3のドライフィルムレジストをラミネートし、第1のレジストマスク2と同様の形成方法を用いて、銅層1bによる配線パターンを形成するための第3のレジストマスクを形成する(不図示)。次に、第3のレジストマスクから露出する銅層1bにエッチング加工を施し所定の配線パターンを形成する(不図示)。その後、第3のレジストマスクを除去する(不図示)。
これにより、貫通穴が導通し、配線が形成されたプリント基板が完成する。
Next, a wiring pattern is formed. Specifically, first, a conductor is formed by performing through-hole plating or via fill plating on the through-hole 1-1 formed in the printed circuit board material 1 to perform interlayer connection (not shown). Next, a third dry film resist is laminated on both surfaces of the printed circuit board material 1, and a third pattern for forming a wiring pattern by the copper layer 1 b is formed using the same formation method as the first resist mask 2. A resist mask is formed (not shown). Next, the copper layer 1b exposed from the third resist mask is etched to form a predetermined wiring pattern (not shown). Thereafter, the third resist mask is removed (not shown).
Thereby, the through hole is conducted, and the printed board on which the wiring is formed is completed.

本実施形態のプリント基板の製造方法によれば、第1の開口部2aを有する、第1のレジストマスク2を形成し、第1のレジストマスク2の第1の開口部2aから露出している部位における銅層1bにエッチング加工を施して溶解除去し、絶縁基材1aを露出させるようにしたので、第1のレジストマスク2の形成に用いるドライフィルムレジスト2’には。銅層1bに極小径の開口部を形成するために必要最小限の厚さのものを用いることができる。第1のレジストマスク2の形成に用いるドライフィルムレジスト2’の層厚は、薄いほど露光及び現像を経て形成される第1のレジストマスク2の第1の開口部2aの加工精度が向上する。しかるに、第1のレジストマスク2の形成に用いるドライフィルムレジスト2’の層厚が、銅層1bに極小径の開口部を形成するために必要最小限の厚さとすることで、露光及び現像を経て形成される第1のレジストマスク2の第1の開口部2aの加工精度が格段と高くなる。その結果、加工精度が高い第1の開口部2aから露出している部位における銅層1bにエッチング加工を施して溶解除去することにより形成される銅層1bの開口部の加工精度も格段と高くなる。
そして、本実施形態のプリント基板の製造方法によれば、第1のレジストマスク2の第1の開口部2aを形成した位置に、径が第1の開口部2aよりも僅かに大きな第2の開口部3aを有する、第2のレジストマスク3を形成し、第2のレジストマスク3と第2のレジストマスク3の第2の開口部3aから露出している部位における銅層1bをブラスト加工用マスクとして用いて、銅層1bの開口部1b−1から露出している部位における絶縁基材1aにブラスト加工を施すようにしたので、絶縁基材1aに対する貫通穴1a−2の形成は、高精度に加工された銅層1bの開口部1b−1を介して行われ、しかも銅層1bは薄肉であるため、ブラスト加工により形成される絶縁基材1aの貫通穴1a−2の加工精度が格段と高くなる。また、ブラスト加工時にブラスト加工用マスクとして用いる銅層1bにおける開口部1b−1の周囲の部分は、第1のレジストマスク2の第1の開口部2aを形成した位置に、径が第1の開口部2aよりも僅かに大きな第2の開口部3aを有する第2のレジストマスク3により保護される。その結果、銅層1bにおける開口部1b−1の周囲の部分は、ブラスト加工時に微細砥粒に削り取られずに済み、絶縁基材1aに形成する貫通穴1a−2の加工精度が高精度に保たれる。
According to the printed circuit board manufacturing method of the present embodiment, the first resist mask 2 having the first opening 2 a is formed and exposed from the first opening 2 a of the first resist mask 2. Since the insulating layer 1a is exposed by etching the copper layer 1b at the site so as to be dissolved and removed, the dry film resist 2 ′ used for forming the first resist mask 2 is used. The thing of minimum thickness required in order to form the very small diameter opening part in the copper layer 1b can be used. The thinner the film thickness of the dry film resist 2 ′ used for forming the first resist mask 2, the higher the processing accuracy of the first opening 2 a of the first resist mask 2 formed through exposure and development. However, the dry film resist 2 ′ used for forming the first resist mask 2 has a layer thickness that is the minimum necessary for forming a very small diameter opening in the copper layer 1b, thereby allowing exposure and development. The processing accuracy of the first opening 2a of the first resist mask 2 formed after that is remarkably increased. As a result, the processing accuracy of the opening of the copper layer 1b formed by etching and removing the copper layer 1b in the portion exposed from the first opening 2a with high processing accuracy is remarkably high. Become.
Then, according to the printed circuit board manufacturing method of the present embodiment, the second resist film 2 is slightly larger in diameter than the first opening 2a at the position where the first opening 2a of the first resist mask 2 is formed. A second resist mask 3 having an opening 3a is formed, and the second resist mask 3 and the copper layer 1b exposed from the second opening 3a of the second resist mask 3 are for blasting. Since it used as a mask and blasted to the insulating base material 1a in the site | part exposed from the opening part 1b-1 of the copper layer 1b, formation of the through-hole 1a-2 with respect to the insulating base material 1a is high. Since the copper layer 1b is thin through the opening 1b-1 of the copper layer 1b processed with high accuracy, the processing accuracy of the through hole 1a-2 of the insulating base 1a formed by blasting is high. It will be much higher. Further, a portion around the opening 1b-1 in the copper layer 1b used as a blasting mask at the time of blasting has a first diameter at a position where the first opening 2a of the first resist mask 2 is formed. It is protected by a second resist mask 3 having a second opening 3a that is slightly larger than the opening 2a. As a result, the portion around the opening 1b-1 in the copper layer 1b does not have to be scraped into fine abrasive grains during blasting, and the processing accuracy of the through hole 1a-2 formed in the insulating base 1a is kept high. Be drunk.

また、本実施形態のプリント基板の製造方法によれば、第2のレジストマスク3の形成に用いる第2のレジスト層3’には、第1のレジストマスク2の形成に用いるドライフィルムレジスト2’よりも層厚が厚いものを用いたので、第1のレジストマスク2を介して、銅層1bの開口部1b−1の加工精度を向上させ易くなるとともに、第2のレジストマスク3を介して、ブラスト加工時に、第2のレジストマスク3で覆われている部位が削り取られて銅層1bを露出させることなく、銅層1bを保護し易くなる。   Further, according to the method of manufacturing a printed circuit board of the present embodiment, the dry resist resist 2 ′ used for forming the first resist mask 2 is formed on the second resist layer 3 ′ used for forming the second resist mask 3. As a result, the processing accuracy of the opening 1b-1 of the copper layer 1b can be easily improved through the first resist mask 2, and the second resist mask 3 is used. During the blasting process, the portion covered with the second resist mask 3 is scraped off, and the copper layer 1b is easily protected without exposing the copper layer 1b.

なお、本実施形態のプリント基板の製造方法において、プリント基板材料1の両側から同時にブラスト加工を行うようにすれば、ブラスト加工時間を大幅に短縮できる。   In the printed circuit board manufacturing method of the present embodiment, if blasting is performed simultaneously from both sides of the printed circuit board material 1, the blasting time can be greatly shortened.

第2実施形態
図2は本発明の第2実施形態にかかるプリント基板の製造工程の一例を示す説明図である。
本実施形態の製造方法では、第1実施形態と同様に、プリント基板材料1の準備(図2(a)参照)、第1のドライフィルムレジスト2’のラミネート(図2(b)参照)、第1のレジストマスク2の形成(図2(c)参照)、銅層1bの開口部1b−1の形成による絶縁基材1aの露出(図2(d1)参照)を行った後に、絶縁基材1aを露出させるエッチング加工に用いた第1のレジストマスク2を、さらにブラスト加工用マスクとして用いて、第1のレジストマスク2が除去されない範囲で、加工対象となる絶縁基材1aの厚さ及び最小の開口径(ここでは極小径の貫通穴の径として、例えばφ20μm)により定まる所定の砥粒径のブラスト加工用砥粒を用いて、所定の圧力、所定の噴射量で、スリットノズルを適宜移動させながらブラスト加工用砥粒を噴射して、プリント基板材料1の両側からブラスト加工を行い、第1のレジストマスク2の第1の開口部2a及び銅層1bの開口部1b−1から露出している部位における絶縁基材1aを、両側から略4分の1程度の厚さ分ずつ掘り込み、凹部1a−1’、1a−2’を形成する(図2(d2)参照)。なお、凹部1a−1’、1a−2’を形成するためのブラスト加工は、プリント基板材料1の片側ずつ行ってもよい。
以後は、第1実施形態と同様に、第1のレジストマスク2の剥離(図2(e)参照)、第2のレジスト層3’の形成(図2(f)参照)、径が第1の開口部2aよりも僅かに大きな第2の開口部3aを有する、第2のレジストマスク3の形成(図2(g)参照)、一方の側からのブラスト加工による凹部1a−1の形成(図2(h)参照)、他方の側からのブラスト加工による貫通穴1a−2の形成(図2(i)参照)、第2のレジストマスク3の剥離(図2(j)参照)を行う。これにより、絶縁基材1a及び両面の銅像1aを貫通する、極小径の貫通穴を含む、所定径の貫通穴1−1が形成されたプリント基板材料1が得られる。
さらに、第1実施形態と同様に、配線パターンの形成を行うことで、プリント基板が完成する。
Second Embodiment FIG. 2 is an explanatory view showing an example of a manufacturing process of a printed circuit board according to a second embodiment of the present invention.
In the manufacturing method of the present embodiment, as in the first embodiment, the preparation of the printed circuit board material 1 (see FIG. 2A), the laminate of the first dry film resist 2 ′ (see FIG. 2B), After forming the first resist mask 2 (see FIG. 2 (c)) and exposing the insulating base 1a (see FIG. 2 (d1)) by forming the opening 1b-1 of the copper layer 1b, the insulating group is formed. Using the first resist mask 2 used for the etching process that exposes the material 1a as a blasting mask, the thickness of the insulating substrate 1a to be processed is within a range where the first resist mask 2 is not removed. And using a blasting abrasive grain having a predetermined abrasive grain size determined by the minimum opening diameter (here, φ20 μm as the diameter of the extremely small through hole), the slit nozzle at a predetermined pressure and a predetermined injection amount. Abrasive grains for blasting while moving appropriately The insulating substrate 1a at the part exposed from the first opening 2a of the first resist mask 2 and the opening 1b-1 of the copper layer 1b. Are dug by approximately a quarter of the thickness from both sides to form the recesses 1a-1 ′ and 1a-2 ′ (see FIG. 2 (d2)). In addition, you may perform the blast process for forming recessed part 1a-1 ', 1a-2' for each one side of the printed circuit board material 1. FIG.
Thereafter, as in the first embodiment, the first resist mask 2 is stripped (see FIG. 2E), the second resist layer 3 ′ is formed (see FIG. 2F), and the diameter is the first. Formation of the second resist mask 3 having a second opening 3a slightly larger than the opening 2a (see FIG. 2G), and formation of the recess 1a-1 by blasting from one side ( 2 (h)), through hole 1a-2 is formed by blasting from the other side (see FIG. 2 (i)), and the second resist mask 3 is peeled off (see FIG. 2 (j)). . Thereby, the printed circuit board material 1 in which the through-hole 1-1 of the predetermined diameter including the through-hole of the minimum diameter which penetrates the insulating base material 1a and the copper images 1a on both sides is formed is obtained.
Furthermore, as in the first embodiment, a printed circuit board is completed by forming a wiring pattern.

本実施形態のプリント基板の製造方法によれば、エッチング加工による銅層1bの開口部1b−1の形成の際に用いた第1のレジストマスク2をさらにブラスト加工用マスクとして用いて、第1の開口部2a及び銅層1bの開口部1b−1から露出している部位における絶縁基材1aにブラスト加工を施して凹部1a−1’、1a−2’を形成するようにしたので、その後の第2のレジストマスク3と第2のレジストマスク3の第2の開口部3aから露出している部位における銅層1bをブラスト加工用マスクとして用いたブラスト加工において除去すべき部位の絶縁基材1aの厚さを減らすことができる。その結果、第2のレジストマスク3の形成に用いる第2のレジスト層3’として厚さの薄いものを用いることができ、その分、コストを抑えることができる。また、第2のレジストマスク3の第2の開口部3aから僅かに露出する銅層1bにおける開口部1b−1の周囲の部分への、ブラスト加工時に微細砥粒が衝突量を減らすことができ、より高精度な貫通穴1−1を形成することができる。
その他の作用効果は、第1実施形態と略同じである。
According to the printed circuit board manufacturing method of the present embodiment, the first resist mask 2 used in forming the opening 1b-1 of the copper layer 1b by etching is further used as a blasting mask. The recesses 1a-1 ′ and 1a-2 ′ are formed by blasting the insulating base material 1a in the portion exposed from the opening 2a and the opening 1b-1 of the copper layer 1b. Of the second resist mask 3 and the portion of the second resist mask 3 exposed from the second opening 3a of the portion to be removed in blasting using the copper layer 1b as a blasting mask The thickness of 1a can be reduced. As a result, the second resist layer 3 ′ used for forming the second resist mask 3 can be thin, and the cost can be reduced accordingly. Further, the fine abrasive grains can reduce the amount of collision at the time of blasting to the portion around the opening 1b-1 in the copper layer 1b slightly exposed from the second opening 3a of the second resist mask 3. The through hole 1-1 with higher accuracy can be formed.
Other functions and effects are substantially the same as those of the first embodiment.

実施例1
本実施例では、最小径が例えばφ30μmである極小径の貫通穴を含むプリント基板の製造を行った。
まず、プリント基板材料1として、厚さ60μmの絶縁基材1aの両面に厚さ10μmの銅層1bを有する多層用銅張積層板を準備した(図1(a)参照)。
次に、プリント基板材料1の両面に、厚さ15μmの第1のドライフィルムレジスト2’をラミネートし(図1(b)参照)、露光・現像を行って、貫通穴を形成すべき部分に第1の開口部2aを有する、第1のレジストマスク2を形成した(図1(c)参照)。
次に、第1のレジストマスク2が形成されたプリント基板材料1にエッチング加工を施し、第1のレジストマスク2の第1の開口部2aから露出する部位における銅層1bを溶解除去して絶縁基材1aを露出させた(図1(d)参照)。
次に、第1のレジストマスク2を剥離した(図1(e)参照)。
次に、部分的に絶縁基材1aが露出したプリント基板材料の両面に、第1のレジストマスクよりも厚い50μmの厚さの第2のレジスト層3’を形成し(図1(f)参照)、露光・現像を行って、第1のレジストマスク2の第1の開口部2aを形成した位置に、径が第1の開口部2aよりも10〜40μm大きな第2の開口部3aを有する、第2のレジストマスク3を形成した(図1(g)参照)。
次に、第2のレジストマスク3と第2のレジストマスク3の第2の開口部3aから露出している部位における銅層1bをブラスト加工用マスクとして用いて、加工する絶縁基材1aの厚さ(60μm)及び最小の開口径(φ30μm)により定まる所定の砥粒径のブラスト加工用砥粒を用いて、所定の圧力、所定の噴射量で、スリットノズルを適宜移動させながらブラスト加工用砥粒を噴射して、プリント基板材料1の一方の側からブラスト加工を行い、銅層1bの開口部1b−1から露出している部位における絶縁基材1aを略半分の厚さ分掘り込み、凹部1a−1を形成した(図1(h)参照)。
次に、プリント基板材料1の他方の側から、一方の側と同様にブラスト加工を行い、絶縁基材1aを掘り込み、凹部1a−1の底面を貫通させ(図1(i)参照)、絶縁基材1aに最小径φ30μmの貫通穴を含む、所定径の貫通穴1a−2を形成した。
次に、第2のレジストマスク3を剥離し(図1(j)参照)、絶縁基材1a及び両面の銅像1aを貫通する、最小径がφ30μmの貫通穴を含む、所定径の貫通穴1−1が形成されたプリント基板材料1を得た。
次に、プリント基板材料1に形成した貫通穴1−1に、スルーホールめっき又はビアフィルめっき等を施すことにより導体を形成して層間接続を行い(不図示)、次に、プリント基板材料1の両面に、第3のドライフィルムレジストをラミネートし、第1のレジストマスク2と同様の形成方法を用いて、銅層1bによる配線パターンを形成するための第3のレジストマスクを形成し、次に、第3のレジストマスクから露出する銅層1bにエッチング加工を施し所定の配線パターンを形成し、その後、第3のレジストマスクを除去し、貫通穴が導通し、配線が形成されたプリント基板を完成させた。
Example 1
In this example, a printed circuit board including a through hole with a minimum diameter having a minimum diameter of, for example, φ30 μm was manufactured.
First, as the printed circuit board material 1, a multilayer copper clad laminate having a 10 μm thick copper layer 1b on both sides of a 60 μm thick insulating substrate 1a was prepared (see FIG. 1 (a)).
Next, a first dry film resist 2 ′ having a thickness of 15 μm is laminated on both surfaces of the printed circuit board material 1 (see FIG. 1 (b)), and exposure and development are performed to form portions where through holes are to be formed. A first resist mask 2 having a first opening 2a was formed (see FIG. 1C).
Next, the printed circuit board material 1 on which the first resist mask 2 is formed is etched to dissolve and remove the copper layer 1b in the portion exposed from the first opening 2a of the first resist mask 2 for insulation. The base material 1a was exposed (refer FIG.1 (d)).
Next, the first resist mask 2 was peeled off (see FIG. 1 (e)).
Next, a second resist layer 3 ′ having a thickness of 50 μm thicker than the first resist mask is formed on both surfaces of the printed circuit board material from which the insulating substrate 1a is partially exposed (see FIG. 1 (f)). ), The second opening 3a having a diameter 10 to 40 μm larger than the first opening 2a is formed at the position where the first opening 2a of the first resist mask 2 is formed by performing exposure and development. A second resist mask 3 was formed (see FIG. 1 (g)).
Next, the thickness of the insulating substrate 1a to be processed using the second resist mask 3 and the copper layer 1b in the portion exposed from the second opening 3a of the second resist mask 3 as a blasting mask. A blasting abrasive using a blasting abrasive grain having a predetermined abrasive grain size determined by a thickness (60 μm) and a minimum opening diameter (φ30 μm) while appropriately moving a slit nozzle at a predetermined pressure and a predetermined injection amount Blasting from one side of the printed circuit board material 1 by jetting the grains, digging the insulating base material 1a in the portion exposed from the opening 1b-1 of the copper layer 1b to a thickness of approximately half, A recess 1a-1 was formed (see FIG. 1 (h)).
Next, blasting is performed from the other side of the printed circuit board material 1 in the same manner as one side, and the insulating base material 1a is dug to penetrate the bottom surface of the recess 1a-1 (see FIG. 1 (i)). A through hole 1a-2 having a predetermined diameter including a through hole having a minimum diameter of 30 μm was formed in the insulating substrate 1a.
Next, the second resist mask 3 is peeled off (see FIG. 1 (j)), and a through hole 1 having a predetermined diameter including a through hole having a minimum diameter of 30 μm that penetrates the insulating base 1a and the copper images 1a on both sides. A printed circuit board material 1 having -1 formed thereon was obtained.
Next, through holes 1-1 formed in the printed circuit board material 1 are subjected to through-hole plating or via fill plating to form conductors and perform interlayer connection (not shown). A third dry film resist is laminated on both surfaces, and a third resist mask for forming a wiring pattern by the copper layer 1b is formed using the same formation method as the first resist mask 2, and then Then, etching is performed on the copper layer 1b exposed from the third resist mask to form a predetermined wiring pattern, and then the third resist mask is removed, the through hole is conducted, and the printed board on which the wiring is formed is formed. Completed.

実施例2
本実施例では、実施例1と同様に、プリント基板材料1の準備(図2(a)参照)、第1のドライフィルムレジスト2’のラミネート(図2(b)参照)、第1のレジストマスク2の形成(図2(c)参照)、銅層1bの開口部1b−1の形成による絶縁基材1aの露出(図2(d1)参照)を行った後に、絶縁基材1aを露出させるエッチング加工に用いた第1のレジストマスク2を、さらにブラスト加工用マスクとして用いて、第1のレジストマスク2が除去されない範囲で、加工対象となる絶縁基材1aの厚さ(60μm)及び最小の開口径(φ20μm)により定まる所定の砥粒径のブラスト加工用砥粒を用いて、所定の圧力、所定の噴射量で、スリットノズルを適宜移動させながらブラスト加工用砥粒を噴射して、プリント基板材料1の両側からブラスト加工を行い、第1のレジストマスク2の第1の開口部2a及び銅層1bの開口部1b−1から露出している部位における絶縁基材1aを略4分の1程度の厚さ分ずつ掘り込み、凹部1a−1’、1a―2’を形成した(図2(d2)参照)。
以後は、実施例1と同様に、第1のレジストマスク2の剥離(図2(e)参照)、第2のドライフィルムレジスト3’のラミネート(図2(f)参照)、径が第1の開口部2aよりも僅かに大きな第2の開口部3aを有する、第2のレジストマスク3の形成(図2(g)参照)、一方の側からのブラスト加工による凹部1a−1の形成(図2(h)参照)、他方の側からのブラスト加工による貫通穴1a−2の形成(図2(i)参照)、第2のレジストマスク3の剥離(図2(j)参照)を行い、絶縁基材1a及び両面の銅像1aを貫通する、極小径がφ30μmの貫通穴を含む、所定径の貫通穴1−1が形成されたプリント基板材料1を得た。
さらに、実施例1と同様に、配線パターンの形成を行い、プリント基板を完成させた。
Example 2
In this example, as in Example 1, the preparation of the printed circuit board material 1 (see FIG. 2A), the laminate of the first dry film resist 2 ′ (see FIG. 2B), the first resist After forming the mask 2 (see FIG. 2 (c)) and exposing the insulating base 1a (see FIG. 2 (d1)) by forming the opening 1b-1 of the copper layer 1b, the insulating base 1a is exposed. The thickness (60 μm) of the insulating substrate 1a to be processed and the first resist mask 2 used for the etching process are further used as a blasting mask within a range where the first resist mask 2 is not removed. Using blasting abrasive grains having a predetermined abrasive grain diameter determined by the minimum opening diameter (φ20 μm), blasting abrasive grains are sprayed while moving the slit nozzle as appropriate at a predetermined pressure and a predetermined injection amount. Brass from both sides of printed circuit board material 1 The insulating base material 1a in the part exposed from the 1st opening part 2a of the 1st resist mask 2 and the opening part 1b-1 of the copper layer 1b is processed by thickness about about 1/4. The recesses 1a-1 ′ and 1a-2 ′ were formed by digging (see FIG. 2 (d2)).
Thereafter, as in Example 1, the first resist mask 2 is peeled off (see FIG. 2 (e)), the second dry film resist 3 ′ is laminated (see FIG. 2 (f)), and the diameter is the first. Formation of the second resist mask 3 having a second opening 3a slightly larger than the opening 2a (see FIG. 2G), and formation of the recess 1a-1 by blasting from one side ( 2 (h)), through hole 1a-2 is formed by blasting from the other side (see FIG. 2 (i)), and the second resist mask 3 is peeled off (see FIG. 2 (j)). A printed circuit board material 1 having a through hole 1-1 having a predetermined diameter including a through hole having a minimum diameter of 30 μm that penetrates the insulating base 1a and the copper images 1a on both sides was obtained.
Further, a wiring pattern was formed in the same manner as in Example 1 to complete a printed board.

比較例
図3は比較例にかかるプリント基板の製造工程の一例を示す説明図である。
比較例では、実施例1と同様に、プリント基板材料1の準備(図3(a)参照)をした後に、プリント基板材料1の両面に、厚さ50mのレジスト層4’を形成した(図3(b)参照)。
次に、実施例1と同様に、露光・現像を行って、貫通穴を形成すべき部分に開口部4aを有する、レジストマスク4を形成し(図3(c)参照)、次に、レジストマスク4が形成されたプリント基板材料1にエッチング加工を施し、レジストマスク4の開口部4aから露出する部位における銅層1bを溶解除去して絶縁基材1aを露出させた(図3(d)参照)。
次に、絶縁基材1aを露出させるエッチング加工に用いたレジストマスク4を、さらにブラスト加工用マスクとして用いて、加工対象となる絶縁基材1aの厚さ(60μm)及び最小の開口径(φ30μm)により定まる所定の砥粒径のブラスト加工用砥粒を用いて、所定の圧力、所定の噴射量で、スリットノズルを適宜移動させながらブラスト加工用砥粒を噴射して、プリント基板材料1の一方の側からブラスト加工を行い、銅層1bの開口部1b−1から露出している部位における絶縁基材1aを略半分の厚さ分掘り込み、凹部1a−1を形成した(図3(e)参照)。
次に、プリント基板材料1の他方の側から、一方の側と同様にブラスト加工を行い、絶縁基材1aを掘り込み、凹部1a−1の底面を貫通させ(図3(f)参照)、絶縁基材1aに最小径φ30μmの貫通穴を含む、所定径の貫通穴1a−2を形成した。
次に、レジストマスク4を剥離し(図3(g)参照)、絶縁基材1a及び両面の銅像1aを貫通する、最小径がφ30μmの貫通穴を含む、所定径の貫通穴1−1が形成されたプリント基板材料1を得た。
さらに、実施例1と同様に、配線パターンの形成を行い、プリント基板を完成させた。
Comparative Example FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example of a printed circuit board manufacturing process according to a comparative example.
In the comparative example, similarly to Example 1, after preparing the printed board material 1 (see FIG. 3A), a resist layer 4 ′ having a thickness of 50 m was formed on both sides of the printed board material 1 (see FIG. 3). 3 (b)).
Next, in the same manner as in Example 1, exposure and development are performed to form a resist mask 4 having an opening 4a in a portion where a through hole is to be formed (see FIG. 3C). Etching was performed on the printed circuit board material 1 on which the mask 4 was formed, and the copper layer 1b in the portion exposed from the opening 4a of the resist mask 4 was dissolved and removed to expose the insulating base material 1a (FIG. 3D). reference).
Next, the resist mask 4 used for the etching process for exposing the insulating base material 1a is further used as a blasting mask, and the thickness (60 μm) and the minimum opening diameter (φ30 μm) of the insulating base material 1a to be processed are used. The blasting abrasive grains having a predetermined abrasive grain size determined by the above are sprayed with blasting abrasive grains while appropriately moving the slit nozzle at a predetermined pressure and a predetermined injection amount. Blasting was performed from one side, and the insulating base 1a in the portion exposed from the opening 1b-1 of the copper layer 1b was dug to a thickness of approximately half to form the recess 1a-1 (FIG. 3 ( e)).
Next, blasting is performed from the other side of the printed circuit board material 1 in the same manner as one side, and the insulating base material 1a is dug to penetrate the bottom surface of the recess 1a-1 (see FIG. 3 (f)). A through hole 1a-2 having a predetermined diameter including a through hole having a minimum diameter of 30 μm was formed in the insulating substrate 1a.
Next, the resist mask 4 is peeled off (see FIG. 3G), and a through hole 1-1 having a predetermined diameter including a through hole having a minimum diameter of φ30 μm that penetrates the insulating substrate 1a and the copper images 1a on both sides is formed. The formed printed circuit board material 1 was obtained.
Further, a wiring pattern was formed in the same manner as in Example 1 to complete a printed board.

極小径の貫通穴の加工精度測定試験
実施例1と実施例2の製造方法によって夫々のプリント基板材料1に形成された設計値の最小径がφ30μmとφ20μmである極小径の貫通穴と、比較例1の製造方法によってプリント基板材料1に形成された設計値の最小径がφ30μmである極小径の貫通穴を測定した。なお、貫通穴のサンプル数は夫々、100個とした。
その結果、実施例1、実施例2の製造方法によって夫々のプリント基板材料1に形成された設計値の最小径がφ30μmとφ20μmである極小径の貫通穴については、それぞれの最小穴径は27μmと17μmで貫通率は100%と、非常に安定した加工結果となった。
これに対し、比較例の製造方法によって夫々のプリント基板材料1に形成された設計値の最小径がφ30μmである極小径の貫通穴については、最小穴径は20μmであったが貫通率は90%と、安定した加工が難しい結果となった。
Processing accuracy measurement test of through hole with extremely small diameter Compared with the through hole with extremely small diameter having a minimum diameter of φ30 μm and φ20 μm formed on each printed circuit board material 1 by the manufacturing method of Example 1 and Example 2. A through hole with a very small diameter having a minimum design diameter of 30 μm formed in the printed circuit board material 1 by the manufacturing method of Example 1 was measured. The number of through-hole samples was 100.
As a result, for the through-holes having a minimum diameter of φ30 μm and φ20 μm formed in each printed circuit board material 1 by the manufacturing method of Example 1 and Example 2, the minimum hole diameter is 27 μm. The penetration rate was 100% at 17 μm, which was a very stable processing result.
On the other hand, for a through hole with a minimum diameter of 30 μm in design value formed in each printed circuit board material 1 by the manufacturing method of the comparative example, the minimum hole diameter was 20 μm, but the penetration rate was 90 μm. %, Stable processing was difficult.

本発明のプリント基板の製造方法は、各種電子機器の小型・薄型化の要求に対応する電子部品を搭載するプリント基板として、極小径の貫通穴を有する基板が必要とされる分野に有用である。   The method for producing a printed circuit board of the present invention is useful in a field where a substrate having a through hole with a very small diameter is required as a printed circuit board on which an electronic component corresponding to the demand for reduction in size and thickness of various electronic devices is mounted. .

1 プリント基板材料
1a 絶縁基材
1−1 貫通穴
1a−1、1a−1’、1a−2’ 凹部
1a−2 貫通穴
1b 銅層
1b−1 銅層の開口部
2 第1のレジストマスク
2a 第1の開口部
2’ 第1のレジスト層(第1のドライフィルムレジスト)
3 第2のレジストマスク
3a 第2の開口部
3’ 第2のレジスト層
4 レジストマスク
4a 開口部
4’ レジスト層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Printed circuit board material 1a Insulation base material 1-1 Through-hole 1a-1, 1a-1 ', 1a-2' Recess 1a-2 Through-hole 1b Copper layer 1b-1 Opening part 2 of copper layer 1st resist mask 2a 1st opening 2 '1st resist layer (1st dry film resist)
3 Second resist mask 3a Second opening 3 'Second resist layer 4 Resist mask 4a Opening 4' Resist layer

Claims (3)

絶縁基材の両面に銅層を有するプリント基板材料を準備する工程と、
前記プリント基板材料の両面にレジスト層を形成し、前記プリント基板材料の所定位置における両側の前記銅層に極小径の開口部を含む、所定径の開口部を形成するための第1の開口部を有する、第1のレジストマスクを形成する工程と、
前記第1のレジストマスクの前記第1の開口部から露出している部位における前記銅層にエッチング加工を施して溶解除去し、前記絶縁基材を露出させる工程と、
前記第1のレジストマスクを除去する工程と、
前記プリント基板材料の両面にレジスト層を形成し、前記第1のレジストマスクの前記第1の開口部を形成した位置に、径が該第1の開口部よりも僅かに大きな第2の開口部を有する、第2のレジストマスクを形成する工程と、
前記第2のレジストマスクと該第2のレジストマスクの前記第2の開口部から露出している部位における前記銅層をブラスト加工用マスクとして用いて、前記銅層の開口部から露出している部位における前記絶縁基材にブラスト加工を施して貫通穴を形成する工程と、
前記第2のレジストマスクを除去する工程、
を含むことを特徴とするプリント基板の製造方法。
Preparing a printed circuit board material having a copper layer on both sides of an insulating substrate;
A first opening for forming a resist layer on both sides of the printed circuit board material and forming an opening with a predetermined diameter on the copper layer on both sides at a predetermined position of the printed circuit board material; Forming a first resist mask having:
Etching and removing the copper layer in the portion exposed from the first opening of the first resist mask by etching, exposing the insulating base;
Removing the first resist mask;
A second opening having a diameter slightly larger than the first opening at a position where a resist layer is formed on both surfaces of the printed circuit board material and the first opening of the first resist mask is formed. Forming a second resist mask having:
The second resist mask and the copper layer in the portion exposed from the second opening of the second resist mask are used as a blasting mask, and are exposed from the opening of the copper layer. Forming a through hole by blasting the insulating base material at a site; and
Removing the second resist mask;
A printed circuit board manufacturing method comprising:
前記第2のレジストマスクの形成に用いるレジスト層には、前記第1のレジストマスクの形成に用いるレジスト層よりも層厚が厚いものを用いることを特徴とする請求項1に記載のプリント基板の製造方法。   2. The printed circuit board according to claim 1, wherein a resist layer used for forming the second resist mask is thicker than a resist layer used for forming the first resist mask. 3. Production method. 前記絶縁基材を露出させる工程と前記第1のレジストマスクを除去する工程との間に、前記絶縁基材を露出させるエッチング加工に用いた前記第1のレジストマスクを、さらにブラスト加工用マスクとして用いて、前記第1のレジストマスクの前記第1の開口部及び前記銅層の開口部から露出している部位における前記絶縁基材にブラスト加工を施して凹部を形成する工程を含むことを特徴とする請求項1に記載のプリント基板の製造方法。   Between the step of exposing the insulating base and the step of removing the first resist mask, the first resist mask used for the etching processing for exposing the insulating base is further used as a blast processing mask. And a step of forming a recess by blasting the insulating substrate in a portion exposed from the first opening of the first resist mask and the opening of the copper layer. The manufacturing method of the printed circuit board of Claim 1.
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