JP6259177B2 - Method for bonding anisotropic conductive film - Google Patents
Method for bonding anisotropic conductive film Download PDFInfo
- Publication number
- JP6259177B2 JP6259177B2 JP2012093214A JP2012093214A JP6259177B2 JP 6259177 B2 JP6259177 B2 JP 6259177B2 JP 2012093214 A JP2012093214 A JP 2012093214A JP 2012093214 A JP2012093214 A JP 2012093214A JP 6259177 B2 JP6259177 B2 JP 6259177B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductive film
- anisotropic conductive
- electrode
- laser light
- fine particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Description
本発明は、異方性導電フィルムを加熱して液晶ディスプレイ基板等に接着する接着方法に関するものである。 The present invention relates to an adhesion method in which an anisotropic conductive film is heated and adhered to a liquid crystal display substrate or the like.
近年、薄型テレビ、携帯電話機(スマートフォンを含む)、モバイル情報端末、コンピュータ端末等の表示部には、コンパクトで配設スペースが狭くて済むFPD(フラットパネルディスプレイ)が多用されている。 In recent years, FPDs (flat panel displays) that are compact and require a small installation space are often used for display units of flat-screen televisions, mobile phones (including smartphones), mobile information terminals, computer terminals, and the like.
FPDを構成する液晶ディスプレイや発光ダイオード等の基板と、これに画像信号を送るドライバーICとは、双方に設けられている電極によって電気的に接続するとともに、機械的に結合する必要がある。基板側の電極と、ドライバーIC側の電極との間隔は、近年、特に高密度化とコンパクト化が進んでいるFPDにおいては狭くなる傾向にある。このような狭い間隔の電極同士を一括して接続するにあたり、異方性導電フィルムが用いられている(例えば、特許文献1〜3参照)。
A substrate such as a liquid crystal display or a light emitting diode that constitutes the FPD and a driver IC that sends an image signal to the substrate must be electrically connected and mechanically coupled by electrodes provided on both sides. In recent years, the distance between the electrode on the substrate side and the electrode on the driver IC side tends to be narrow, particularly in FPDs that are becoming denser and more compact. An anisotropic conductive film is used to connect such closely spaced electrodes together (for example, see
異方性導電フィルムは、数μm〜数十μmの金属メッキプラスチック粒子やニッケル等の金属粒子からなる導電性微粒子を接着剤中に均一に分散したフィルム型の接着部材である。この異方性導電フィルムを基板間に挟み、加熱と加圧を同時に行うことで100μm以下の間隙で並んだ数百本の電極同士を一括して電気的に接続するとともに、機械的に結合することが可能になる。 An anisotropic conductive film is a film-type adhesive member in which conductive fine particles composed of metal particles such as metal-plated plastic particles and nickel of several μm to several tens μm are uniformly dispersed in an adhesive. By sandwiching this anisotropic conductive film between substrates and simultaneously performing heating and pressurization, several hundred electrodes arranged in a gap of 100 μm or less are electrically connected together and mechanically coupled. It becomes possible.
基板の接続方法としては複数種あり、例えば、出力用接続では、ポリイミドフィルムに銅箔の電極が貼り付けられているCOF(Chip On Film)部品とガラス基板との間に異方性導電フィルムを挟んでCOF部品側から圧着ヘッドで加熱して電気的接続と機械的結合とを行っている。 There are multiple types of substrate connection methods. For example, for output connection, an anisotropic conductive film is provided between a glass substrate and a COF (Chip On Film) component in which a copper foil electrode is bonded to a polyimide film. It is sandwiched and heated from the COF component side by a pressure-bonding head to perform electrical connection and mechanical coupling.
また、入力用接続では、COF部品とPWB(Printed Wiring Board)部品との間に異方性導電フィルムを挟んでCOF部品側から圧着ヘッドで加熱して電気的接続と機械的結合とを行っている。 In addition, in the connection for input, an anisotropic conductive film is sandwiched between a COF component and a PWB (Printed Wiring Board) component, and heating is performed with a crimping head from the COF component side to perform electrical connection and mechanical coupling. Yes.
また、液晶ディスプレイを駆動するドライバーICを液晶パネル上に直接フリップフロップ実装するCOG(Chip On Glass)実装があり、この場合には、ドライバーICとガラス基板との間に異方性導電フィルムを挟んでドライバーIC側から圧着ヘッドで加熱して電気的接続と機械的結合とを行っている。 In addition, there is COG (Chip On Glass) mounting in which a driver IC for driving a liquid crystal display is directly flip-flop mounted on the liquid crystal panel. In this case, an anisotropic conductive film is sandwiched between the driver IC and the glass substrate. Thus, the electrical connection and the mechanical coupling are performed by heating from the driver IC side with the crimping head.
上述のように電極の接続方法としては様々な方法があるが、次に述べるような問題点があった。 As described above, there are various electrode connection methods, but there are problems as described below.
すなわち、入力用接続のCOF部品とPWB部品とを接続する場合、液晶ディスプレイの大型化と、接続される部材同士の熱膨張係数の違いとが原因となってPWB部品にそりが発生することがある。 That is, when connecting a COF component for input and a PWB component, warpage may occur in the PWB component due to an increase in the size of the liquid crystal display and a difference in thermal expansion coefficient between connected members. is there.
また、表示画面を大きくするためにフレームのPWB部品を小さくする、いわゆる液晶ディスクプレイ基板の狭額縁化が行われることがあるが、この場合、接続時に偏光板等に対して熱によるダメージを与えてしまったり、熱によるCOG部品の接続部におけるバイメタル的熱変形が液晶ディスプレイに悪影響を与えることがある。 In addition, in order to enlarge the display screen, the PWB parts of the frame are made smaller, so-called liquid crystal display substrates may be narrowed. However, in this case, the polarizing plate or the like is damaged by heat at the time of connection. The bimetallic thermal deformation at the connection part of the COG component due to heat may adversely affect the liquid crystal display.
また、モバイル情報端末に使用されるCOG部品の場合、ドライバーIC側から圧着ヘッドで加熱するため、ドライバーICが熱ダメージを受ける恐れがあるとともに、一時的にドライバーICが高温でガラス基板がそれよりも低温状態になり、その後両者が常温に戻るとドライバーICの熱収縮が大きくなり、液晶ディスプレイを凸に変形させて液晶ディスプレイに輝度ムラができてしまう恐れもある。 In addition, in the case of COG parts used in mobile information terminals, the driver IC is heated by the crimping head from the side of the driver IC, so there is a risk that the driver IC will be thermally damaged, and the driver IC is temporarily hot and the glass substrate is However, when both of them return to room temperature after that, the thermal contraction of the driver IC increases, and the liquid crystal display may be deformed into a convex shape, resulting in uneven brightness of the liquid crystal display.
これらの問題を回避するために、例えば特許文献1〜3に開示されているように異方性導電フィルム側からアプローチする手法がある。これら特許文献の異方性導電フィルムでは、低温でも硬化する接着剤を含むものであったり(特許文献1、2)、硬化後の接着剤層の低弾性化を図る(特許文献3)等しているが、上記の問題を解決するには不十分であると考えられる。
In order to avoid these problems, for example, as disclosed in
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、異方性導電フィルムを加熱して接着する場合に、基板やドライバーIC等に熱による悪影響をできるだけ与えないようにしながら、電極同士の電気的接続及び機械的結合を確実に行えるようにすることにある。 The present invention has been made in view of such points, and the object of the present invention is to prevent adverse effects of heat on a substrate, a driver IC, and the like as much as possible when heating and bonding an anisotropic conductive film. However, it is to ensure electrical connection and mechanical coupling between the electrodes.
上記目的を達成するために、本発明者らは接着手法について様々な研究を重ねた結果、レーザー光を用いて異方性導電フィルムを加熱することが有効であることを見出した。 In order to achieve the above object, the present inventors have conducted various studies on the bonding technique, and as a result, have found that it is effective to heat the anisotropic conductive film using laser light.
第1の発明は、異方性導電フィルムを介して第1電極と第2電極とを接着する異方性導電フィルムの接着方法において、エポキシ樹脂と、導電性微粒子と、該エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤がマイクロカプセルに閉じ込められた隔壁崩壊型潜在性硬化剤と、レーザー光を吸収して発熱するレーザー光吸収剤とを含む上記異方性導電フィルムを上記第1電極と上記第2電極との間に配置した後、上記異方性導電フィルムを、800nm〜1500nmの波長域のレーザー光により加熱し、そのレーザー光の熱により上記マイクロカプセルの壁を崩壊させて内部の硬化剤によって上記エポキシ樹脂を硬化させることにより、上記第1電極と上記第2電極とを接着することを特徴とするものである。 The first invention is a method of bonding the anisotropic conductive film for bonding the first electrode and the second electrode via an anisotropic conductive film is hardened and epoxy resin, and conductive fine particles, the epoxy resin The anisotropic conductive film including a partition wall-disintegrating latent curing agent in which a curing agent for encapsulating is encapsulated in a microcapsule, and a laser light absorber that generates heat by absorbing laser light, the first electrode and the second After being arranged between the electrodes, the anisotropic conductive film is heated by a laser beam having a wavelength range of 800 nm to 1500 nm, and the wall of the microcapsule is collapsed by the heat of the laser beam, and an internal curing agent is used. By curing the epoxy resin , the first electrode and the second electrode are bonded together.
この方法によれば、接続したい部分のみ、即ち、異方性導電フィルムにより接着したい部分のみを狙ってレーザー光を照射することにより、従来の圧着ヘッドを用いる場合に比べて、必要最小限の狭い範囲を加熱して異方性導電フィルムの接着剤成分を溶融させたり、軟化させることが可能になる。これにより、ドライバーICや偏光板等の他の部品に対して熱による悪影響を与えにくくすることができる。 According to this method, only the portion to be connected, that is, only the portion to be bonded by the anisotropic conductive film is irradiated with the laser beam, so that the necessary minimum is narrow compared to the case of using the conventional crimping head. The range can be heated to melt or soften the adhesive component of the anisotropic conductive film. Thereby, it is possible to make it difficult to adversely affect other components such as a driver IC and a polarizing plate due to heat.
そして、異方性導電フィルムの接着剤成分が硬化することで第1電極と第2電極とが電気的に接続されるとともに、機械的に結合される。 Then, the adhesive component of the anisotropic conductive film is cured, whereby the first electrode and the second electrode are electrically connected and mechanically coupled.
また、レーザー光を異方性導電フィルムに照射した際、異方性導電フィルムを確実に加熱して溶融または軟化させることが可能になる。 Further, when the anisotropic conductive film is irradiated with laser light, the anisotropic conductive film can be reliably heated and melted or softened.
第2の発明は、第1の発明において、上記レーザー光吸収剤は、上記第1電極と上記第2電極との間で電気的絶縁性を確保する有機顔料、無機顔料、有機染料の少なくとも1つを含んでいることを特徴とするものである。 According to a second invention, in the first invention, the laser light absorber is at least one of an organic pigment, an inorganic pigment, and an organic dye that ensures electrical insulation between the first electrode and the second electrode. It is characterized by including one.
この構成によれば、異方性導電フィルムの導電性微粒子のみで導通を確保し、他の部分は電気を通さないので、異方性導電フィルムの機能を十分に発揮させることが可能になる。 According to this structure, since conduction | electrical_connection is ensured only with the electroconductive fine particles of an anisotropic conductive film, and other parts do not conduct electricity, it becomes possible to fully exhibit the function of an anisotropic conductive film.
第1の発明によれば、異方性導電フィルムをレーザー光により加熱してから硬化させるようにしたので、必要最小限の狭い範囲を加熱して第1電極と第2電極とを電気的に接続できるとともに、機械的に結合できる。これにより、ドライバーIC等の他の部品に対して熱による悪影響が起こらないようにすることができる。 According to the first invention, since the anisotropic conductive film is cured after being heated by the laser beam, the first electrode and the second electrode are electrically connected by heating a necessary minimum narrow range. Can be connected and mechanically coupled. Thereby, it is possible to prevent adverse effects due to heat on other components such as the driver IC.
また、レーザー光吸収剤を異方性導電フィルムに含ませたので、異方性導電フィルムを確実に加熱して接着することができる。 Moreover, since the laser light absorber is included in the anisotropic conductive film, the anisotropic conductive film can be reliably heated and bonded.
第2の発明によれば、レーザー光吸収剤が電気的絶縁性を有しているので、異方性導電フィルムの機能を十分に発揮させて狙い通りの導通を確保することができる。 According to the second aspect of the invention, since the laser light absorber has electrical insulation, the function of the anisotropic conductive film can be sufficiently exerted to ensure conduction as intended.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。尚、以下の好ましい実施形態の説明は、本質的に例示に過ぎず、本発明、その適用物或いはその用途を制限することを意図するものではない。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. It should be noted that the following description of the preferred embodiment is merely illustrative in nature, and is not intended to limit the present invention, its application, or its use.
この実施形態では、異方性導電フィルムをレーザー光により加熱して接着するようにしている。異方性導電フィルムの接着方法の説明の前に、まず、異方性導電フィルムの組成物について説明する。 In this embodiment, the anisotropic conductive film is heated and adhered by laser light. Prior to the description of the method for adhering the anisotropic conductive film, first, the composition of the anisotropic conductive film will be described.
異方性導電フィルムは、樹脂組成物と、レーザー光吸収剤と、導電性微粒子とを含んでいる。 The anisotropic conductive film contains a resin composition, a laser light absorber, and conductive fine particles.
<樹脂組成物>
異方性導電フィルムの組成物は、熱硬化性の樹脂組成物として、例えば、各種エポキシ樹脂、エポキシ基含有(メタ)アクリレート、ウレタン変性(メタ)アクリレート等のアクリレート系樹脂を使用することができる。ここで、エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA(BPA)型エポキシ樹脂、ビスフェノールF(BPF)型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂等を挙げることができる。これら熱硬化性樹脂の中でも、ビスフェノールA(BPA)型エポキシ樹脂やビスフェノールF(BPF)型エポキシ樹脂が好適である。
<Resin composition>
The composition of the anisotropic conductive film can use, for example, various epoxy resins, acrylate resins such as epoxy group-containing (meth) acrylates and urethane-modified (meth) acrylates as thermosetting resin compositions. . Here, examples of the epoxy resin include bisphenol A (BPA) type epoxy resin, bisphenol F (BPF) type epoxy resin, and novolac type epoxy resin. Among these thermosetting resins, bisphenol A (BPA) type epoxy resins and bisphenol F (BPF) type epoxy resins are suitable.
熱硬化性樹脂には硬化剤が添加されている。硬化剤としては、熱硬化性樹脂の種類に応じて選択すればよいが、例えば熱硬化性樹脂がエポキシ樹脂である場合には、イミダゾール系、ポリアミン系、ポリアミノウレイド系、アミンアダクト系の潜在性硬化剤が適している。 A curing agent is added to the thermosetting resin. The curing agent may be selected according to the type of thermosetting resin. For example, when the thermosetting resin is an epoxy resin, the potential of imidazole, polyamine, polyaminoureido, and amine adducts A curing agent is suitable.
熱硬化性樹脂を硬化させるための硬化剤の種類は多数あるが、本実施形態の硬化剤は、起爆反応性を有する潜在性硬化剤である。熱硬化性樹脂を硬化させる際には、一般には、使用の直前に熱硬化性樹脂と硬化剤とを混合させる二液混合タイプが一般的であるが、潜在性硬化剤を用いることで、いわゆる一液タイプとすることができる。すなわち、潜在性硬化剤は、熱硬化性樹脂と混合させても、例えば所定の温度よりも低い環境下では硬化反応が起こることなく長期間保存でき、一方、所定の温度以上に加熱すると速やかに硬化反応を起こさせることができる硬化剤である。 Although there are many kinds of curing agents for curing the thermosetting resin, the curing agent of this embodiment is a latent curing agent having initiation reactivity. When curing a thermosetting resin, in general, a two-component mixing type in which a thermosetting resin and a curing agent are mixed just before use is common, but by using a latent curing agent, so-called It can be a one-component type. That is, even if the latent curing agent is mixed with a thermosetting resin, it can be stored for a long time without causing a curing reaction in an environment lower than a predetermined temperature, for example. It is a curing agent capable of causing a curing reaction.
潜在性硬化剤の反応開始のきっかけとしては、温度以外にも、例えば圧力、湿度、光等を反応開始のきっかけとすることができるが、本実施形態では、反応開始のきっかけが温度であるタイプ、即ち所定の温度以上まで加熱することによって反応を開始するタイプを用いる。 As a trigger for the reaction start of the latent curing agent, in addition to temperature, for example, pressure, humidity, light, etc. can be used as a trigger for the reaction start, but in this embodiment, the trigger for the reaction start is a type. That is, a type in which the reaction is started by heating to a predetermined temperature or higher is used.
具体的には、硬化剤をマイクロカプセル中に閉じ込めておき、マイクロカプセルの壁を所定の温度以上に加熱するとその壁が崩壊して内部の硬化剤が熱硬化性樹脂と反応を開始する、いわゆる隔壁崩壊型の潜在性硬化剤である。この種の硬化剤としては、例えば、旭化成株式会社製の商品名ノバキュアHX3741、ノバキュアHX3921HPが挙げられる。潜在性硬化剤としては、他にも、味の素株式会社製の商品名アミキュアPN−23、エーシーアール株式会社製の商品名ACRハードナーH−3615、H−3366S、H−3849S、H−4070S、富士化成株式会社製の商品名フジキュアFXE−1000等を挙げることができる。 Specifically, the curing agent is confined in the microcapsule, and when the wall of the microcapsule is heated to a predetermined temperature or more, the wall collapses and the internal curing agent starts to react with the thermosetting resin. It is a partition collapse type latent curing agent. Examples of this type of curing agent include trade names NovaCure HX3741 and NovaCure HX3921HP manufactured by Asahi Kasei Corporation. In addition, as the latent curing agent, trade names Amicure PN-23 manufactured by Ajinomoto Co., Inc., trade names ACR Hardener H-3615, H-3366S, H-3549S, H-4070S, Fuji manufactured by ACR Co., Ltd., Fuji Examples include trade name Fuji Cure FXE-1000 manufactured by Kasei Co., Ltd.
ノバキュアを硬化剤として用いた場合には、常温から40℃〜50℃くらいに加熱されても硬化反応は開始しないので取扱いに優れている。そして、70〜80℃くらいに加熱するとマイクロカプセルの壁が崩壊して硬化反応が起こる。硬化反応を開始する温度は、100℃以下の低温であるため、レーザー光による加熱条件を低温側に設定することができるという利点がある。 When NovaCure is used as a curing agent, the curing reaction does not start even when heated from room temperature to about 40 ° C. to 50 ° C., which is excellent in handling. And if it heats to about 70-80 degreeC, the wall of a microcapsule will collapse and hardening reaction will occur. Since the temperature at which the curing reaction starts is a low temperature of 100 ° C. or lower, there is an advantage that the heating condition by the laser light can be set to the low temperature side.
また、硬化反応は一旦始まると、常温中に放置しておいても進行するので、硬化反応のきっかけを作る熱量を与えるだけで、その後は放置しておいても熱硬化性樹脂を完全に硬化させることができる。硬化反応のきっかけを起爆といい、起爆反応性とは、硬化反応のきっかけを与えて、その後、硬化反応が継続して行われることである。 In addition, once the curing reaction begins, it proceeds even if it is left at room temperature, so it simply gives the amount of heat that triggers the curing reaction, and then the thermosetting resin is completely cured even if it is left to stand. Can be made. The trigger for the curing reaction is referred to as initiation, and the initiation reactivity means that the curing reaction is triggered and then the curing reaction is continuously performed.
潜在性硬化剤は、マイクロカプセル化されているので、熱硬化性樹脂内に均一に分散させることが可能である。潜在性硬化剤の熱硬化性樹脂中の含有量は、1重量%以上70重量%以下であればよく、より好ましくは5重量%以上30重量%以下である。硬化剤が少ないと熱硬化性樹脂中に硬化剤が均一に存在しにくくなり好ましくなく、また、硬化剤が70重量%よりも多いと主接着成分である熱硬化性樹脂の量が少なくなり、接着強度が低下するから好ましくない。 Since the latent curing agent is microencapsulated, it can be uniformly dispersed in the thermosetting resin. The content of the latent curing agent in the thermosetting resin may be 1% by weight to 70% by weight, and more preferably 5% by weight to 30% by weight. If the amount of the curing agent is small, it is difficult to uniformly exist the curing agent in the thermosetting resin, and it is not preferable, and if the amount of the curing agent is more than 70% by weight, the amount of the thermosetting resin that is the main adhesive component decreases. This is not preferable because the adhesive strength is lowered.
また、潜在性硬化剤の反応開始温度(起爆温度)は50℃以上200℃以下であればよく、より好ましくは、70℃以上160℃以下である。反応開始温度が低い方が、ポリイミドフィルムやPWB部品、ICドライバー等に与える熱の悪影響が小さくて済むので好ましい。 Moreover, the reaction start temperature (detonation temperature) of the latent curing agent may be 50 ° C. or more and 200 ° C. or less, and more preferably 70 ° C. or more and 160 ° C. or less. A lower reaction start temperature is preferred because the adverse effect of heat on the polyimide film, PWB parts, IC driver, etc. can be reduced.
また、樹脂組成物は熱可塑性のものも用いることができ、この場合、樹脂組成物としては、例えば、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP) 、ポリ塩化ビニル (PVC) 、ポリ塩化ビニリデン(PVDC)、ポリスチレン (PS) 、ポリ酢酸ビニル (PVAC) 、ABS樹脂(アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂) 、アクリロニトリルスチレン樹脂(AS樹脂)、アクリル樹脂(PMMA)等の一般の熱可塑性樹脂や熱可塑性エラストマーを使用することもできる。 In addition, a thermoplastic resin composition can also be used. In this case, examples of the resin composition include polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC), and polyvinylidene chloride (PVDC). , Polystyrene (PS), Polyvinyl acetate (PVAC), ABS resin (Acrylonitrile butadiene styrene resin), Acrylonitrile styrene resin (AS resin), Acrylic resin (PMMA), etc. You can also.
熱可塑性エラストマーとしてはスチレン系、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリオレフィン系のエラストマーを単独又は他の樹脂やエラストマーと適当に混合して使用することができる。この場合には硬化剤等を使用する必要がない。 As the thermoplastic elastomer, styrene-based, acrylic-based, urethane-based, polyester-based, and polyolefin-based elastomers can be used alone or appropriately mixed with other resins or elastomers. In this case, it is not necessary to use a curing agent or the like.
<レーザー光吸収剤>
次に、レーザー光吸収剤について説明する。レーザー光吸収剤としては、照射されたレーザー光を吸収して発熱するとともに、電極間に配置されたときに電気的絶縁性を確保することができる程度に導電性の低いものが好ましい。
<Laser light absorber>
Next, the laser light absorber will be described. As the laser light absorber, one that absorbs the irradiated laser light and generates heat and has low conductivity so as to ensure electrical insulation when placed between the electrodes is preferable.
レーザー光吸収剤が単分散の場合、導電性の低いカーボンブラックやチタンブラック、金属酸化物等が挙げられる。その他、レーザー光吸収剤として、導電性のない有機顔料、無機顔料や有機染料、無機染料が挙げられるが、基本的に異方性導電フィルムに成形した際に、上述のように電気的絶縁性を示し、かつ、照射するレーザー光の波長の光を十分に吸収してレーザー光を効率的に熱に変換できるものであれば広く使用できる。また、上記した複数種のレーザー光吸収剤を混合して使用してもよい。 In the case where the laser light absorber is monodispersed, carbon black, titanium black, metal oxide and the like having low conductivity can be used. Other examples of laser light absorbers include non-conductive organic pigments, inorganic pigments, organic dyes, and inorganic dyes. Basically, when formed into an anisotropic conductive film, the electrical insulating properties are as described above. Can be widely used as long as it can sufficiently absorb the light having the wavelength of the laser beam to be irradiated and efficiently convert the laser beam into heat. Moreover, you may mix and use the above-mentioned multiple types of laser beam absorber.
レーザー光吸収剤の添加量としては、異方性導電フィルムとして成形した際に、レーザー光吸収率が40%以上、好ましくは50%以上、更に好ましくは60%以上となる添加量である。 The addition amount of the laser light absorber is such an addition amount that the laser light absorption is 40% or more, preferably 50% or more, and more preferably 60% or more when formed as an anisotropic conductive film.
レーザー光吸収率が40%よりも低いと、異方性導電フィルムの発熱量が低くなり多量のレーザー光のエネルギーが必要となり、効率が悪化する。また、異方性導電フィルムのレーザー光吸収率が40%よりも低いと、異方性導電フィルムを透過するレーザー光が多くなるということであり、その透過したレーザー光がICチップやPWB部品を熱してそれらを破損してしまう恐れがあるので好ましくない。 When the laser light absorptance is lower than 40%, the amount of heat generated by the anisotropic conductive film is low, and a large amount of laser light energy is required, which deteriorates efficiency. In addition, if the laser light absorption rate of the anisotropic conductive film is lower than 40%, the amount of laser light transmitted through the anisotropic conductive film increases, and the transmitted laser light passes through the IC chip or PWB component. It is not preferable because it may be damaged by heating.
また、電極に接続した導電性微粒子以外の部分は絶縁性を持たせておく必要があるため、レーザー光吸収剤を添加した異方性導電フィルムの組成物の体積抵抗率は1013Ωcm以上、より好ましくは1014Ωcm以上である。 Moreover, since it is necessary to give insulation other than the electroconductive fine particles connected to the electrode, the volume resistivity of the composition of the anisotropic conductive film to which the laser light absorber is added is 10 13 Ωcm or more, More preferably, it is 10 14 Ωcm or more.
<導電性微粒子>
次に、導電性微粒子について説明する。導電性微粒子は、接続する第1電極と第2電極とに挟まれた状態で、良好な導通性を示すものであればよい。導電性微粒子として、例えば、金属単体からなるもの、プラスチック製微粒子の表面に導電性のメッキを施したもの等が挙げられる。金属単体の微粒子としては、ニッケルやアルミニウム、銀等からなる微粒子を用いることができる。また、プラスチック製微粒子の場合には、導電性メッキとしてニッケル、銀、金やそれらの複合無電解メッキを施すのが好ましい。
<Conductive fine particles>
Next, the conductive fine particles will be described. The conductive fine particles only need to exhibit good conductivity in a state sandwiched between the first electrode and the second electrode to be connected. Examples of the conductive fine particles include those made of a simple metal, and those obtained by conducting conductive plating on the surface of plastic fine particles. As fine particles of a single metal, fine particles made of nickel, aluminum, silver, or the like can be used. In the case of plastic fine particles, nickel, silver, gold or a composite electroless plating thereof is preferably applied as the conductive plating.
プラスチック製微粒子を用いる場合で、かつ、異方性導電フィルムの樹脂組成物が熱硬化性の場合は、導通信頼性は、圧縮硬化した後の導電メッキ微粒子による電極面の凹み、いわゆる圧痕の有無と数で検査する。また、樹脂組成物が圧縮硬化した後も導電性微粒子がある程度反発して常に導通を確保する必要がある。以上の理由から圧縮後の導電性微粒子の回復率はある程度高い方がよい。従って、架橋密度がある程度高いプラスチック製微粒子が好ましい。 When plastic fine particles are used and the resin composition of the anisotropic conductive film is thermosetting, the conduction reliability is the presence or absence of so-called indentations on the electrode surface due to the conductive plated fine particles after compression hardening. And inspect by number. Further, even after the resin composition is compression-cured, it is necessary that the conductive fine particles are repelled to some extent to always ensure conduction. For the above reasons, the recovery rate of the conductive fine particles after compression should be high to some extent. Accordingly, plastic fine particles having a somewhat high crosslinking density are preferred.
一方、異方性導電フィルムの樹脂組成物が熱可塑性の場合は、反発し過ぎると、溶融後、固化した接着剤層(樹脂組成物層)に剥離力が働くため、導電性微粒子の圧縮回復率は低く、ある程度塑性変形することが望まれるので単官能のモノマーを併用することが望ましい。 On the other hand, when the resin composition of the anisotropic conductive film is thermoplastic, if it is repelled too much, the peeling force acts on the adhesive layer (resin composition layer) that has been solidified after melting, so the compression recovery of the conductive fine particles Since the rate is low and it is desired to plastically deform to some extent, it is desirable to use a monofunctional monomer in combination.
プラスチック製微粒子にメッキを施す場合、導通信頼性の確保の点から0.05μm以上のメッキ厚が好ましく、より好ましくは0.1μm以上のメッキ厚である。メッキ厚が0.05μmよりも薄いとメッキのムラにより十分な導通が得られなくなる場合がある。逆にメッキが0.5μmよりも厚いと貴金属を使用する場合は経済的に好ましくなく、また、プラスチックの圧縮特性を活用できなくなるので好ましくない。従って、メッキ厚の上限として最も好ましいのは、0.5μm以下である。 In the case of plating plastic fine particles, a plating thickness of 0.05 μm or more is preferable from the viewpoint of ensuring conduction reliability, and a plating thickness of 0.1 μm or more is more preferable. If the plating thickness is less than 0.05 μm, sufficient conduction may not be obtained due to uneven plating. On the other hand, if the plating is thicker than 0.5 μm, it is not economically preferable to use a noble metal, and it is not preferable because the compression characteristics of plastic cannot be used. Therefore, the most preferable upper limit of the plating thickness is 0.5 μm or less.
電極間の導通を確保する導電性微粒子の大きさは、隣り合う接続電極の距離により決定すればよいが、一般には2μmから30μm程度である。また、添加する導電性微粒子の量は微粒子の大きさや比重により異なるが、おおよそ1重量%から20重量%程度であり、さらに好ましくは5重量%から10重量%である。 The size of the conductive fine particles that ensure conduction between the electrodes may be determined by the distance between adjacent connection electrodes, but is generally about 2 μm to 30 μm. The amount of conductive fine particles to be added varies depending on the size and specific gravity of the fine particles, but is about 1% to 20% by weight, more preferably 5% to 10% by weight.
異方性導電フィルムの樹脂組成物が熱硬化性の場合は、一般に粒子径の小さな導電性微粒子を使用でき、熱可塑性の場合は一般に大きな導電性微粒子を使用するのが好ましい。 When the resin composition of the anisotropic conductive film is thermosetting, generally conductive fine particles having a small particle diameter can be used, and when the resin composition is thermoplastic, it is generally preferable to use large conductive fine particles.
<異方性導電フィルムの作製方法>
上記組成を持つ異方性導電フィルムを作製するには、まず、樹脂組成物とレーザー光吸収材料とを混ぜ、レーザー光吸収剤を樹脂組成物に十分に分散又は溶解しておく。レーザー光吸収剤として、例えばカーボンブラックやチタンブラック等を使用する場合、それらを樹脂組成物中に分散させる際、分散が不十分で凝集物として残ってしまうと、その部分が導電性を示すことが考えられる。こうなると、凝集物が隣り合う電極同士を短絡する結果となり、異方性導電フィルムのショートにつながることがあるため凝集物として残らないように十分に注意して分散させておく必要がある。
<Method for producing anisotropic conductive film>
In order to produce an anisotropic conductive film having the above composition, first, a resin composition and a laser light absorbing material are mixed, and the laser light absorbent is sufficiently dispersed or dissolved in the resin composition. When using, for example, carbon black or titanium black as a laser light absorbent, when they are dispersed in the resin composition, if the dispersion is insufficient and remains as an aggregate, the part exhibits conductivity. Can be considered. In this case, the aggregates result in short-circuiting between adjacent electrodes, which may lead to short-circuiting of the anisotropic conductive film. Therefore, it is necessary to disperse with great care so as not to remain as aggregates.
また、樹脂組成物が熱硬化性の場合は、樹脂組成物中に潜在性硬化剤を分散させる。樹脂組成物が熱可塑性の場合は硬化剤を添加しなくてもよい。 When the resin composition is thermosetting, a latent curing agent is dispersed in the resin composition. When the resin composition is thermoplastic, it is not necessary to add a curing agent.
レーザー光吸収剤や潜在性硬化剤の分散や溶解を容易にするために有機溶剤を適宜使用することができる。 An organic solvent can be appropriately used to facilitate the dispersion and dissolution of the laser light absorber and the latent curing agent.
次に、導電性微粒子を樹脂組成物中に単分散させる。この場合も、導電性微粒子の分散が不十分で導電性微粒子の凝集物が残ると、その部分が導電性を示す可能性があり、異方性導電フィルムのショートにつながるため十分に分散するように注意する必要がある。導電性微粒子を分散する場合、予め超音波等を用いて導電性微粒子を溶剤中に十分に分散させた後、樹脂組成物中に分散させる方法を採ることで、導電性微粒子をより効果的に分散させることができる。 Next, the conductive fine particles are monodispersed in the resin composition. Also in this case, if the dispersion of the conductive fine particles is insufficient and the aggregate of the conductive fine particles remains, there is a possibility that the portion may show conductivity, which leads to short-circuiting of the anisotropic conductive film, so that it is sufficiently dispersed. It is necessary to pay attention to. In the case of dispersing the conductive fine particles, the conductive fine particles are more effectively dispersed by adopting a method in which the conductive fine particles are sufficiently dispersed in a solvent in advance using ultrasonic waves or the like and then dispersed in the resin composition. Can be dispersed.
上記のようにして樹脂組成物にレーザー光吸収剤や導電性微粒子を分散して異方性導電フィルムの原料を得た後、それをフィルム状に成形して異方性導電フィルムとする。この成形方法としては、原料をフィルム状の基材に均一な厚みとなるように塗布して原料による膜を形成する方法がある。基材としてはPET(ポリエチレンテレフタレート)、PE(ポリエチレン)、PP(ポリプロピレン)、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)等の一般のフィルムや、離型処理した前述のフィルムを使用することができる。基材の厚みは10μmから100μm、好ましくは20μmから80μmである。 As described above, a laser light absorbent and conductive fine particles are dispersed in the resin composition to obtain an anisotropic conductive film material, which is then formed into a film to obtain an anisotropic conductive film. As this forming method, there is a method in which a raw material is applied to a film-like substrate so as to have a uniform thickness to form a film made of the raw material. As a base material, general films, such as PET (polyethylene terephthalate), PE (polyethylene), PP (polypropylene), PTFE (polytetrafluoroethylene), and the above-mentioned film subjected to release treatment can be used. The thickness of the substrate is 10 μm to 100 μm, preferably 20 μm to 80 μm.
基材上に原料による膜を形成する方法としては、例えば、一般のコンマコーター、カーテンコーター、ロールコーター、リバースコーター等を用いて原料を基材に塗布する方法や、Tダイ等で押し出し成形する方法等があるが、これら以外の方法を用いて成形することも可能である。 As a method of forming a film made of a raw material on a base material, for example, a general comma coater, a curtain coater, a roll coater, a reverse coater or the like is used to apply the raw material to the base material, or extrusion molding is performed with a T die or the like Although there are methods, etc., it is possible to mold using methods other than these.
原料の製造時に溶剤を使用した場合は、基材上で溶剤を蒸発させる。 When a solvent is used at the time of manufacturing the raw material, the solvent is evaporated on the substrate.
上記のようにして得られた異方性導電フィルムの厚みは添加する導電性微粒子の大きさによっても異なるが、粒子径の1.5倍から5倍に設定することが好ましく、更に好ましくは2倍から3倍である。このようにして製造した異方性導電フィルムを巻き取って所定の大きさにカットして使用する。 The thickness of the anisotropic conductive film obtained as described above varies depending on the size of the conductive fine particles to be added, but is preferably set to 1.5 to 5 times the particle diameter, more preferably 2 Double to triple. The anisotropic conductive film thus produced is wound up and cut into a predetermined size for use.
<異方性導電フィルムの接着方法>
次に、本発明にかかる異方性導電フィルムの接着方法について図1及び図2に基づいて説明する。
<Adhesion method of anisotropic conductive film>
Next, the adhesion method of the anisotropic conductive film concerning this invention is demonstrated based on FIG.1 and FIG.2.
図1は出力用接続の場合を示している。上記のようにして得た異方性導電フィルム1をドライバーIC2とガラス基板3との間に挟んで厚み方向にクランプして圧力を加える。このときのクランプ圧力は1MPa〜300MPaが好ましい範囲であり、後述するレーザー光Lによって異方性導電フィルム1を加熱した後、異方性導電フィルム1が冷却されるまで圧力を加え続けておくことが好ましい。
FIG. 1 shows the case of connection for output. The anisotropic
クランプ圧としては、TAB(Tape Automated Bonding)テープの場合には2MPa〜6MPa、ドライバーICの場合には20MPa〜120MPa、COF部品の場合には2MPa〜6MPaが好ましい。1MPa以下では導電性微粒子を電極によって全て押えることが困難になり、逆に300MPa以上では導電性微粒子を破壊する恐れがあるので好ましくない。 The clamping pressure is preferably 2 MPa to 6 MPa in the case of a TAB (Tape Automated Bonding) tape, 20 MPa to 120 MPa in the case of a driver IC, and 2 MPa to 6 MPa in the case of a COF component. If it is 1 MPa or less, it becomes difficult to hold all the conductive fine particles with the electrode. Conversely, if it is 300 MPa or more, the conductive fine particles may be destroyed.
レーザー光Lを照射する側(図1の下側)に位置するクランプ部材(図示せず)の材料としては、レーザー光Lを透過させる性質(レーザー光透過性)が必要であるので、ガラス板やアクリル樹脂板、ポリカーボネート板等の透明材料が好ましい。 As a material for a clamp member (not shown) located on the side irradiated with the laser beam L (lower side in FIG. 1), a material that transmits the laser beam L (laser beam transparency) is necessary. Transparent materials such as acrylic resin plates and polycarbonate plates are preferred.
次にレーザー光Lを照射する。このレーザー光Lとしては、例えば、ガスレーザー、固体レーザー、半導体レーザー、ファイバーレーザー等のいずれでもよく、レーザー光の種類は限定されないが、特に安全性や取扱容易性の面で半導体レーザーが好ましい。 Next, the laser beam L is irradiated. As this laser beam L, for example, any of a gas laser, a solid laser, a semiconductor laser, a fiber laser, and the like may be used. The type of the laser beam is not limited, but a semiconductor laser is particularly preferable in terms of safety and ease of handling.
出力されるレーザー光Lの波長は異方性導電フィルム1の樹脂組成物及びレーザ光吸収剤を含む接着剤層がレーザー光Lを吸収して溶融後硬化又は溶融後冷却固化させることができればよく、特に限定されるものではないが、一般の樹脂加工に使用する800nmから1500nmの波長域の半導体レーザーが特に好ましい。
The wavelength of the laser beam L to be outputted is not limited as long as the adhesive layer containing the resin composition of the anisotropic
レーザー光Lの出力と走査速度の調整により異方性導電フィルム1にレーザー光Lを効率よく吸収させて発熱させることができる。このときの出力と走査速度によって異方性導電フィルム1を溶融し、その後、硬化又は接着できるので、事前に適正条件を把握しておくのが好ましい。
By adjusting the output of the laser beam L and the scanning speed, the anisotropic
ただし、走査速度が100mm/秒よりも速いと異方性導電フィルム1の厚み方向全体を発熱、溶融させることが困難になるので、走査速度は100mm/秒以下が好ましい。
However, if the scanning speed is faster than 100 mm / second, it becomes difficult to generate heat and melt the entire anisotropic
出力用接続の場合には、レーザー光Lをガラス基板3側から照射する。ガラス基板3はレーザー光透過性を有しているので、レーザー光Lは異方性導電フィルム1に達する。異方性導電フィルム1はレーザー光Lを吸収して発熱し、溶融又は軟化する。
In the case of output connection, the laser beam L is irradiated from the
このとき上記のようにクランプによる圧力を加えているので、導電性微粒子がドライバーIC2側の電極2a(第1電極)と、ガラス基板3の電極3a(第2電極)とに接触して第1及び第2電極2a,3a間の導通が確保される。この状態で異方性導電フィルム1が硬化することで、第1電極2aと第2電極3aとが電気的に接続されるとともに、機械的に結合される。
At this time, since the pressure by the clamp is applied as described above, the conductive fine particles come into contact with the
また、入力用接続の場合には、図2に示すように、上記異方性導電フィルム1をPWB部品4とCOF部品5との間に挟み、出力側接続と同様にクランプしておく。また、レーザー光Lの照射条件等も出力側接続の場合と同様に設定しておく。
In the case of input connection, as shown in FIG. 2, the anisotropic
入力用接続の場合にはレーザー光LをCOF部品5側から照射する。COF部品5を構成するポリイミドフィルムはレーザー光透過性を有しているので、レーザー光Lは異方性導電フィルム1に達する。異方性導電フィルム1はレーザー光を吸収して発熱し、溶融又は軟化する。これにより、出力側接続の場合と同様に、COF部品5側の第1電極5aとPWB部品4側の第2電極4aとが電気的に接続されるとともに、機械的に結合される。
In the case of input connection, the laser beam L is irradiated from the
以上説明したように、この実施形態にかかる異方性導電フィルム1の接着方法によれば、異方性導電フィルム1をレーザー光Lにより加熱してから硬化させるようにしたので、必要最小限の狭い範囲を加熱して第1電極2a(5a)と第2電極3a(4a)とを電気的に接続できるとともに、機械的に結合できる。これにより、ドライバーICや偏光板等の他の部品に対して熱による悪影響が起こらないようにすることができる。
As described above, according to the method for adhering the anisotropic
また、レーザー光吸収剤を異方性導電フィルム1に含ませたので、異方性導電フィルム1を確実に加熱して接着することができる。
Moreover, since the laser beam absorber was included in the anisotropic
また、レーザー光吸収剤が電気的絶縁性を有しているので、異方性導電フィルム1の機能を十分に発揮させて狙い通りの導通を確保することができる。
In addition, since the laser light absorber has electrical insulation, the function of the anisotropic
以下、実施例を示して本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例のみに限られるものではない。 Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples, but the present invention is not limited to the examples.
(実施例1)
<異方性導電フィルムの作製>
実施例1では、熱硬化性の樹脂組成物を含む異方性導電フィルムとしている。
Example 1
<Preparation of anisotropic conductive film>
In Example 1, an anisotropic conductive film including a thermosetting resin composition is used.
樹脂組成物は、液状エポキシ樹脂EP828(油化シェルエポキシ株式会社製)とした。レーザー光吸収剤は、カーボンブラックPRINTEK35(デグサ製)とし、これを0.8重量%加えた。3本ロールミルを使用してカーボンブラックを樹脂組成物中に十分に分散させた。この分散液30重量%に潜在性の硬化剤ノバキュアHX3941HP(旭化成株式会社製)を70重量%を加え、十分に混合して熱硬化性樹脂を得た。ノバキュアHX3941HPはイミダゾール系の化合物であり、イミダゾール硬化剤:液状エポキシ=1:2の混合物である。 The resin composition was liquid epoxy resin EP828 (manufactured by Yuka Shell Epoxy Co., Ltd.). The laser light absorber was carbon black PRINTEK 35 (manufactured by Degussa), and 0.8% by weight thereof was added. Carbon black was sufficiently dispersed in the resin composition using a three roll mill. 70 wt% of a latent curing agent NovaCure HX3941HP (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) was added to 30 wt% of this dispersion and mixed well to obtain a thermosetting resin. Novacure HX3941HP is an imidazole compound and is a mixture of imidazole curing agent: liquid epoxy = 1: 2.
別のガラス製容器に、酢酸エチル50g取り、この中にプラスチック製のメッキ済み導電性微粒子であるニッケル・金メッキ微粒子ブライトRGH−4.0(日本化学工業株式会社製)粒子径4μmを20g加えて超音波を使用して十分に分散した。このメッキ済み導電性微粒子は、プラスチック製微粒子の表面にニッケルで0.18μmの無電解メッキをした上に、金で0.02μmの無電解メッキをしたものである。 In a separate glass container, take 50 g of ethyl acetate, and add 20 g of nickel / gold plated fine particle BRIGHT RGH-4.0 (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.), which are plastic conductive fine particles, into the glass container. Fully dispersed using ultrasound. The plated conductive fine particles are obtained by performing electroless plating of 0.18 μm with nickel on the surface of plastic fine particles and then electroless plating with gold of 0.02 μm.
上記のように調整した熱硬化性樹脂50gに酢酸エチルで分散した導電性微粒子分散液17.5gを加え、十分に攪拌して異方性導電フィルムの原料を得た。 17.5 g of a conductive fine particle dispersion liquid dispersed in ethyl acetate was added to 50 g of the thermosetting resin prepared as described above, and the mixture was sufficiently stirred to obtain a material for an anisotropic conductive film.
この原料を38ミクロンの両面離型処理したPETフィルムにアプリケーターを用いて塗布して、50℃の雰囲気中で乾燥させ、12μmの膜みの異方性導電フィルムを得た。 This raw material was applied to a PET film having a side release treatment of 38 microns using an applicator and dried in an atmosphere at 50 ° C. to obtain a 12 μm thick anisotropic conductive film.
また、この異方性導電フィルムの940nmでの波長のレーザー光吸収率は60%であった。また、異方性導電フィルムのみの体積抵抗率は8.2×1014Ωcmであり、十分な絶縁性であった。 Further, the laser light absorptance of the anisotropic conductive film at a wavelength of 940 nm was 60%. Further, the volume resistivity of only the anisotropic conductive film was 8.2 × 10 14 Ωcm, which was a sufficient insulating property.
<異方性導電フィルムの接着方法>
異方性導電フィルムを用いてCOF部品(38μmのポリイミドフィルム基材、8μm銅電極200μmピッチ ラインスペース=1:1)とPWB部品(ガラスエポキシ基板 35μm銅200μmピッチ ラインスペース=1:1)との接着を行った。
<Adhesion method of anisotropic conductive film>
Using anisotropic conductive film, COF parts (38 μm polyimide film substrate, 8 μm copper electrode 200 μm pitch line space = 1: 1) and PWB parts (glass epoxy substrate 35 μm copper 200 μm pitch line space = 1: 1) Gluing was performed.
シリコーンゴムを敷いた鉄板の上に、PWB部品、異方性導電フィルム、COF部品をこの順番で重ね合わせた。COF部品はポリイミドフィルム側を上にしている。さらに、COF部品の上に、10mm厚の透明ガラスを載せてクランプ圧3MPaを加えた。ポリイミドフィルム側から波長940nmの半導体レーザー光を以下の条件で照射した。
焦点径 3mm
出力 30W
走査スピード 10mm/秒
走査距離 10mm
A PWB component, an anisotropic conductive film, and a COF component were superposed in this order on an iron plate laid with silicone rubber. The COF component has the polyimide film side up. Further, a 10 mm thick transparent glass was placed on the COF component, and a clamp pressure of 3 MPa was applied. Semiconductor laser light with a wavelength of 940 nm was irradiated from the polyimide film side under the following conditions.
Focal diameter 3mm
Output 30W
Scanning speed 10mm / sec
Scanning distance 10mm
レーザー光の照射後、異方性導電フィルムの熱がガラスに奪われて異方性導電フィルムが冷却されたことを確認した後、以下の試験を行った。 After the laser light irradiation, it was confirmed that the anisotropic conductive film was cooled by the heat of the anisotropic conductive film, and the following test was performed.
<接着強度の測定>
オートグラフAG−IS(株式会社島津製作所製)を使用して50mm/分のスピードで90度剥離試験を行った。結果は、10N/cmであり、異方性導電フィルムによる接着強度として十分な接着強度を有していることを確認した。
<Measurement of adhesive strength>
A 90 degree peel test was performed at a speed of 50 mm / min using Autograph AG-IS (manufactured by Shimadzu Corporation). The result was 10 N / cm, and it was confirmed that the adhesive strength was sufficient as the adhesive strength by the anisotropic conductive film.
<導電抵抗の測定>
1mAの定電流を流したときの電圧を4端子法で測定し、導通抵抗を測定した。
<Measurement of conductive resistance>
The voltage when a constant current of 1 mA was passed was measured by a four-terminal method, and the conduction resistance was measured.
結果は、0.035Ωであり、異方性導電フィルムとして十分な導電性を有していることを確認した。 The result was 0.035Ω, and it was confirmed that the film had sufficient conductivity as an anisotropic conductive film.
(実施例2)
<異方性導電フィルムの作製>
実施例2では、熱可塑性の樹脂組成物を含む異方性導電フィルムとしている。
(Example 2)
<Preparation of anisotropic conductive film>
In Example 2, an anisotropic conductive film containing a thermoplastic resin composition is used.
まず、スチレン系エラストマーであるタフテックM1913(旭化成ケミカルズ株式会社製)をトルエンで溶解して45重量%の樹脂溶解液を得た。この溶液100gにレーザー光吸収剤として、イーエクスカラーIR−915(日本触媒株式会社製)を0.5重量%加え、十分に攪拌して溶解し熱可塑性樹脂溶液を得た。 First, Tuftec M1913 (manufactured by Asahi Kasei Chemicals Corporation), which is a styrene elastomer, was dissolved in toluene to obtain a 45% by weight resin solution. To 100 g of this solution, 0.5% by weight of e-color IR-915 (manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.) was added as a laser light absorber and dissolved by sufficiently stirring to obtain a thermoplastic resin solution.
別のガラス製容器に、トルエン50gを取り、この中にニッケル・金メッキ微粒子ブライトRGH−15.0(日本化学工業株式会社製)15μmを20gを加えて超音波で十分に分散した。 In another glass container, 50 g of toluene was taken, and 20 g of nickel / gold-plated fine particle bright RGH-15.0 (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.) 15 g was added and sufficiently dispersed by ultrasonic waves.
上記の熱可塑性樹脂溶液を100g取り、この溶液の中にトルエンで分散した導電性微粒子の分散液31.4gを加え、十分に攪拌して異方性導電フィルム用熱可塑性樹脂組成物溶液を得た。 100 g of the above thermoplastic resin solution is taken, and 31.4 g of a dispersion of conductive fine particles dispersed in toluene is added to this solution, followed by sufficient stirring to obtain a thermoplastic resin composition solution for anisotropic conductive films. It was.
この溶液を38μmの両面離型処理したPETフィルムにアプリケーターで塗布して、80℃の雰囲気中で乾燥し30μmの厚みの異方性導電フィルムを得た。 This solution was applied to a 38 μm double-sided release PET film with an applicator and dried in an atmosphere at 80 ° C. to obtain an anisotropic conductive film having a thickness of 30 μm.
また、このフィルムの940nmでの波長の吸収率は70%であり、フィルムのみの体積抵抗率は1.1×1015Ωcmであり十分な絶縁性であった。 Moreover, the absorption factor of the wavelength in 940 nm of this film was 70%, and the volume resistivity of only the film was 1.1 * 10 < 15 > (omega | ohm) cm, and was sufficient insulation.
異方性導電フィルムの接着方法は、実施例1と同じである。また、同様に、接着強度の測定と、導電抵抗の測定を行った。接着強度は、8N/cmであり、異方性導電フィルムによる接着強度として十分な接着強度を有していることを確認した。また、導電抵抗は、0.024Ωであり、異方性導電フィルムとして十分な導電抵抗を有していることを確認した。 The method for adhering the anisotropic conductive film is the same as in Example 1. Similarly, measurement of adhesive strength and measurement of conductive resistance were performed. The adhesive strength was 8 N / cm, and it was confirmed that the adhesive strength was sufficient as the adhesive strength by the anisotropic conductive film. Moreover, the conductive resistance was 0.024Ω, and it was confirmed that the conductive resistance was sufficient as an anisotropic conductive film.
上記実施例1、2より、本発明にかかるレーザー光を用いた異方性導電フィルムの接着方法は非常に優れていることが分かる。 From Examples 1 and 2, it can be seen that the method for bonding an anisotropic conductive film using laser light according to the present invention is very excellent.
以上説明したように、本発明にかかる異方性導電フィルムの接着方法は、例えばフラットパネルディスプレイを製造する場合に使用できる。 As described above, the method for bonding an anisotropic conductive film according to the present invention can be used, for example, when a flat panel display is manufactured.
1 異方性導電フィルム
2 ドライバーIC
2a 第1電極
3 ガラス基板
3a 第2電極
4 PWB部品
4a 第2電極
5 COF部品
5a 第1電極
L レーザー光
1 Anisotropic
Claims (2)
エポキシ樹脂と、導電性微粒子と、該エポキシ樹脂を硬化させるための硬化剤がマイクロカプセルに閉じ込められた隔壁崩壊型潜在性硬化剤と、レーザー光を吸収して発熱するレーザー光吸収剤とを含む上記異方性導電フィルムを上記第1電極と上記第2電極との間に配置した後、
上記異方性導電フィルムを、800nm〜1500nmの波長域のレーザー光により加熱し、そのレーザー光の熱により上記マイクロカプセルの壁を崩壊させて内部の硬化剤によって上記エポキシ樹脂を硬化させることにより、上記第1電極と上記第2電極とを接着することを特徴とする異方性導電フィルムの接着方法。 In the anisotropic conductive film bonding method of bonding the first electrode and the second electrode through the anisotropic conductive film,
An epoxy resin , conductive fine particles, a partition wall-disintegrating latent curing agent in which a curing agent for curing the epoxy resin is confined in a microcapsule, and a laser light absorber that generates heat by absorbing laser light After disposing the anisotropic conductive film between the first electrode and the second electrode,
The anisotropic conductive film is heated with a laser beam having a wavelength range of 800 nm to 1500 nm, the wall of the microcapsule is collapsed by the heat of the laser beam, and the epoxy resin is cured by an internal curing agent, A method for adhering an anisotropic conductive film, comprising adhering the first electrode and the second electrode.
上記レーザー光吸収剤は、上記第1電極と上記第2電極との間で電気的絶縁性を確保する有機顔料、無機顔料、有機染料の少なくとも1つを含んでいることを特徴とする異方性導電フィルムの接着方法。 In the adhesion method of the anisotropic conductive film according to claim 1,
The laser light absorbent contains at least one of an organic pigment, an inorganic pigment, and an organic dye that ensures electrical insulation between the first electrode and the second electrode. Of conductive conductive film.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012093214A JP6259177B2 (en) | 2012-04-16 | 2012-04-16 | Method for bonding anisotropic conductive film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012093214A JP6259177B2 (en) | 2012-04-16 | 2012-04-16 | Method for bonding anisotropic conductive film |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013220578A JP2013220578A (en) | 2013-10-28 |
JP6259177B2 true JP6259177B2 (en) | 2018-01-10 |
Family
ID=49591915
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012093214A Active JP6259177B2 (en) | 2012-04-16 | 2012-04-16 | Method for bonding anisotropic conductive film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6259177B2 (en) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6425899B2 (en) * | 2014-03-11 | 2018-11-21 | デクセリアルズ株式会社 | ANISOTROPIC CONDUCTIVE ADHESIVE, METHOD FOR MANUFACTURING CONNECTION AND METHOD FOR CONNECTING ELECTRONIC COMPONENTS |
CN107001865B (en) * | 2014-11-12 | 2020-08-21 | 迪睿合株式会社 | Photocurable anisotropic conductive adhesive, method for producing connected body, and method for connecting electronic component |
JP2017112148A (en) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | デクセリアルズ株式会社 | Connection method |
JP6715052B2 (en) * | 2016-03-25 | 2020-07-01 | デクセリアルズ株式会社 | Method for manufacturing connection structure |
KR101807792B1 (en) * | 2016-06-08 | 2017-12-12 | (주)비엠웍스 | Anisotropic Conductive Film for Raser Bonding, Raser Bonding Method, Raser Line Beam Bonding Equipment |
JP2021088159A (en) * | 2019-12-06 | 2021-06-10 | セイコーエプソン株式会社 | Liquid flow channel member, manufacturing method of liquid flow channel member |
WO2022054152A1 (en) * | 2020-09-09 | 2022-03-17 | 三菱重工業株式会社 | Fusion method and fusion device |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3298110B2 (en) * | 1991-04-03 | 2002-07-02 | セイコーエプソン株式会社 | Anisotropic conductive adhesive and bonding method thereof |
JP2000286200A (en) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Kokusai Electric Co Ltd | Heat-treating method and system thereof |
JP2005246704A (en) * | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Mitsui Chemicals Inc | Infrared processing method of resin material |
JP2006253665A (en) * | 2005-02-10 | 2006-09-21 | Omron Corp | Bonding method and bonding device |
JP2006237451A (en) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Jettech Ltd | Apparatus and method for bonding anisotropic conductive film by using laser |
JP2007231088A (en) * | 2006-02-28 | 2007-09-13 | Denso Corp | Light-absorbing inclusion and adhesive containing the same |
JP2008096057A (en) * | 2006-10-13 | 2008-04-24 | Toho Kasei Kk | Liquid heating device |
JP2008282978A (en) * | 2007-05-10 | 2008-11-20 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | Mounting method of semiconductor element, and manufacturing method of liquid crystal display panel |
JP5546137B2 (en) * | 2009-02-06 | 2014-07-09 | 株式会社デンソー | Rapid photo-curable epoxy adhesive composition and bonding method |
-
2012
- 2012-04-16 JP JP2012093214A patent/JP6259177B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013220578A (en) | 2013-10-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6259177B2 (en) | Method for bonding anisotropic conductive film | |
CN101669258B (en) | The method of attachment of electric conductor, conductor connection member, syndeton and solar module | |
US8980043B2 (en) | Anisotropic conductive film, joined structure and method for producing the joined structure | |
TWI394810B (en) | An adhesive composition and a circuit connecting material using the same, and a method of connecting the circuit member and a circuit connecting body | |
KR101975730B1 (en) | Anisotropic conductive film, method for producing anisotropic conductive film, method for producing connection body, and connection method | |
CN108702845B (en) | Method for manufacturing connection structure | |
CN106415937B (en) | Connector and method for manufacturing connector | |
CN105917529B (en) | Connection body, method for manufacturing connection body, connection method, and anisotropic conductive adhesive | |
JP2008305887A (en) | Connecting method | |
WO2013129437A1 (en) | Method for manufacturing connection element, and anisotropic electroconductive adhesive | |
WO2015115657A1 (en) | Connection body | |
JP6679320B2 (en) | Connection body manufacturing method, electronic component connection method | |
TWI540195B (en) | A circuit connecting material and a connecting method using the same, and a connecting structure | |
JP2016210997A (en) | Anisotropic conductive film, method for producing anisotropic conductive film, method for producing connection body, and connection method | |
JP2015118998A (en) | Method of manufacturing connection body, connection method, and connection body | |
TWI603136B (en) | Method of manufacturing connection body and connection method of electronic component | |
JP2017175015A (en) | Method of manufacturing connection body | |
WO2016117613A1 (en) | Method for producing connected body, method for connecting electronic component, and connected body | |
JP2019140413A (en) | Connection body, manufacturing method of the same, and connection method | |
KR20080098815A (en) | Insulated conductive ball and anisotropic electricconnection material comprising the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150126 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20151022 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151027 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151228 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160126 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160328 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160531 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160830 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20160907 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20161007 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170829 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171208 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6259177 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |