JP6203206B2 - 圧電素子、圧電素子の製造方法、および電子機器 - Google Patents
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Description
(Ba1−xCax)α(Ti1−yZry)O3 (1)(式中、0.125≦x≦0.300、0.041≦y≦0.080、0.986≦α≦1.020である。)
次に、本発明の液体吐出ヘッドについて説明する。
次に、本発明の液体吐出装置について説明する。本発明の液体吐出装置は、被転写体の載置部と前記液体吐出ヘッドを備えることを特徴とする。
次に、本発明の超音波モータについて説明する。本発明に係る超音波モータは、前記圧電素子を配した振動体と、前記振動体と接触する移動体とを少なくとも有することを特徴とする。
次に、本発明の光学機器について説明する。本発明の光学機器は、駆動部に前記超音波モータを備えることを特徴とする。
粒子、粉体、液体の搬送、除去等で利用される振動装置は、電子機器等で広く使用されている。以下、本発明の振動装置の一つの例として、本発明の圧電素子を用いた塵埃除去装置について説明する。
次に、本発明の撮像装置について説明する。本発明の撮像装置は、前記塵埃除去装置と撮像素子ユニットとを少なくとも有する撮像装置であって、前記塵埃除去装置の振動板を前記撮像素子ユニットの受光面側に設けた事を特徴とする。図14および図15は本発明の撮像装置の好適な実施形態の一例であるデジタル一眼レフカメラを示す図である。
次に、本発明の電子機器について説明する。本発明の電子機器は、前記圧電素子を備えた圧電音響部品を有することを特徴とする。圧電音響部品にはスピーカ、ブザー、マイク、表面弾性波(SAW)素子が含まれる。
(実施例1)
(圧電セラミックスの作製と評価)
(Ba1−xCax)α(Ti1−yZry)O3 (1)
(式中、0.125≦x≦0.300、0.041≦y≦0.080、0.986≦α≦1.020である。)
(Ba1−xCax)α(Ti1−yZry)O3の一般式(1)において、x=0.16、y=0.06、α=1.006の組成に相当する(Ba0.84Ca0.16)1.006(Ti0.94Zr0.06)O3の原料粉を以下のように秤量した。
得られた圧電セラミックスを厚さ0.5mmになるように研磨した後に、セラミックスの表裏両面にAgペーストを焼き付けて、厚み3μmの電極を形成した。焼き付け条件は、まず、800℃まで5℃/分の速度で昇温させた後、800℃で5分保持した。その後、毎時350℃の速度で降温させ、40℃まで温度が下がってから電極付きのセラミックスを電気炉から取り出した。
電極付きのセラミックスを、140℃に加熱したホットプレートに載せ、表裏面の電極間に0.6kV/mmの電界を30分間印加した。その後、ホットプレートを毎時200℃の速度で降温させ、40℃まで温度が下がってから電圧の印加を止め、本発明の圧電素子を得た。
圧電素子を切断加工し、20mm×20mm×0.5mmの角型状の圧電素子を作製した。
圧電素子を切断加工し、10mm×2.5mm×0.5mmの短冊状の圧電素子を作製した。
原料粉に酸化ビスマス粉を用いた点以外は実施例1と同様の工程で、実施例2から9の圧電セラミックスを作製した。ただし、各成分の秤量比率を表1に示す比率にした。表1のA/BとはBaとCaのモル量の和AとTi、ZrおよびMnのモル量の和Bとの比である。次に、実施例1と同様に平均円相当径と相対密度を評価した。その結果を表2に示す。実施例1と同様に組成分析を行った結果、いずれのサンプルにおいても表1に示した秤量組成と焼結後の組成は表記した有効桁数において一致していることが分かった。
(圧電セラミックスの作製と評価)
水熱合成法によって得られた粒子径100nmのペロブスカイト構造のチタン酸バリウム粉に対して、3重量部となるPVAバインダを、スプレードライヤ装置を用いて、チタン酸バリウム粉表面に付着させ造粒した。
得られた圧電セラミックスを厚さ0.5mmになるように研磨した後に、セラミックスの表裏両面にAgペーストを焼き付けて、厚み3μmの電極を形成した。焼き付けは、まず、600℃まで毎分5℃の速度で昇温させた後、600℃で2時間保持した後に加熱を止めた。その後、毎時50℃の速度で降温させ、40℃まで温度が下がってからセラミックスを電気炉から取り出した。
電極付きのセラミックスを、80℃に加熱したシリコーンオイル中に入れ、表裏面の電極間に1.0kV/mmの電界を30分間印加した。その後、毎時50℃の速度で降温させ、電界の印加を止め、比較例1の圧電素子を得た。
圧電素子を切断加工し、20mm×20mm×0.5mmの角型状の圧電素子を作製した。
圧電素子を切断加工し、10mm×2.5mm×0.5mmの短冊状の圧電素子を作製した。
(圧電セラミックスの作製と評価)
実施例2から9と同様の工程で、比較例2の圧電セラミックスを作製するために成形体を作製した。ただし各成分の秤量比率を表1に示す比率にした。
得られた圧電セラミックスを厚さ0.5mmになるように研磨した後に、前記セラミックスの表裏両面にDCスパッタリング法により厚さ400nmの金電極を形成した。なお、電極とセラミックスの間には、密着層として30nmのチタンを成膜した。成膜は加熱をしないで行った。また、金電極形成後に熱処理は行わなかった。
電極付きのセラミックスを、100℃に加熱したホットプレートに載せ、表裏面の電極間に1.0kV/mmの電界を30分間印加した。その後、毎時50℃の速度で降温させ、電界の印加を止め、比較例2の圧電素子を得た。
続いて、比較例1と同様の工程で比較例2の圧電素子の研磨を行った。表面粗さRaを接触式表面形状測定器で評価したところ194nmであった。
続いて、比較例1と同様の工程で比誘電率、電気機械結合定数k31、機械的品質係数Qmおよび消費電力を評価した。このとき室温は25℃であった。結果、比誘電率εr=1760、電気機械結合定数k31=0.191、機械的品質係数Qm=1600、消費電力は29mWであった。
比較例2と同様の工程で、比較例3の圧電セラミックスを作製するために成形体を作製した。ただし各成分の秤量比率を表1に示す比率にした。
得られた圧電セラミックスを厚さ0.5mmになるように研磨した後に、前記セラミックスの表裏両面にDCスパッタリング法により厚さ400nmの金電極を形成した。なお、電極とセラミックスの間には、密着層として30nmのチタンを成膜した。成膜は加熱をしないで行った。また金電極形成後に熱処理は行わなかった。
電極付きのセラミックスを、100℃に加熱したホットプレートに載せ、表裏面の電極間に1.0kV/mmの電界を30分間印加した。その後、毎時50℃の速度で降温させ、電界の印加を止め、比較例3の圧電素子を得た。
続いて、比較例2と同様の工程で比較例3の圧電素子の研磨を行った。表面粗さRaを接触式表面形状測定器で評価したところ153nmであった。
続いて、比較例2と同様の工程で比誘電率、電気機械結合定数k31、機械的品質係数Qmおよび消費電力を評価した。このとき室温は25℃であった。
(実施例10)
実施例1の圧電素子を用いて、図5(b)に示される構造の液体吐出ヘッドを作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が確認された。このとき、消費電力の増大は確認されなかった。
(実施例11)
実施例10の液体吐出ヘッドを用いて、図6に示される構造の液体吐出装置を作製した。入力した電気信号に追随したインクの吐出が記録媒体上に確認された。このとき、消費電力の増大は確認されなかった。
(実施例12)
実施例1の圧電素子を用いて、図8に示される構造の超音波モータを作製した。交流電圧の印加に応じたモータの回転が確認された。このとき、消費電力の増大は確認されなかった。
(実施例13)
実施例12の超音波モータを用いて、図9に示される構造の光学機器を作製した。交番電圧の印加に応じたオートフォーカス動作が確認された。このとき、消費電力の増大は確認されなかった。
(実施例14)
実施例1の圧電素子を用いて、図11に示される構造の塵埃除去装置を作製した。プラスチック製ビーズを散布し、交番電圧を印加したところ、良好な塵埃除去率が確認された。このとき、消費電力の増大は確認されなかった。
(実施例15)
実施例14の塵埃除去装置を用いて、図14に示される構造の撮像装置を作製した。作成した装置を動作させたところ、撮像ユニットの表面の塵を良好に除去し、塵欠陥の無い画像が得られた。このとき、消費電力の増大は確認されなかった。
(実施例16)
実施例1の圧電素子を用いて、図16に示される構造の電子機器を作製した。交番電圧の印加に応じたスピーカ動作が確認された。このとき、消費電力の増大は確認されなかった。
2 圧電材料部
3 第二の電極
4 被測定面
5 切り出し面
6 cドメイン
7 aドメイン
101 圧電素子
Claims (18)
- 第一の電極、圧電材料部および第二の電極を有する圧電素子であって、前記圧電材料部は、チタン酸バリウムを含有するペロブスカイト型金属酸化物とMnとを含有する、残留分極を有する圧電セラミックスからなり、前記圧電セラミックスの残留分極の方向と交差する面を表面粗さが200nm以下になるように表面を研磨して被測定面とし、前記被測定面に対して室温でX線回折による測定を行った場合に、室温の前記被測定面のX線回折による(002)/(200)回折強度比が1.0以上であり、室温の前記圧電セラミックスのc軸の格子定数cとa軸の格子定数aとの比c/aが1.004≦c/a≦1.010であり、室温の前記(002)回折ピークの半値幅が1.2°以下であることを特徴とする圧電素子。
- 前記ペロブスカイト型金属酸化物が、下記一般式(1)で表わされることを特徴とする請求項1に記載の圧電素子。
(Ba1−xCax)α(Ti1−yZry)O3 (1)(式中、0.125≦x≦0.300、0.041≦y≦0.080、0.986≦α≦1.020である。) - 前記Mnの含有量が、前記ペロブスカイト型金属酸化物100重量部に対して金属換算で0.04重量部以上0.50重量部以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の圧電素子。
- 前記圧電セラミックスが、さらに前記ペロブスカイト型金属酸化物100重量部に対して金属換算で0.04重量部以上0.80重量部以下のBiを含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかの1項に記載の圧電素子。
- 前記圧電セラミックスの室温における電気機械結合定数k31が0.200以上であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかの1項に記載の圧電素子。
- 前記圧電セラミックスの室温における機械的品質係数Qmが400以上であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかの1項に記載の圧電素子。
- 前記圧電セラミックスの室温における比誘電率εrが2500以下であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかの1項に記載の圧電素子。
- 請求項1乃至7のいずれかの1項に記載の圧電素子の製造方法であって、原料粉からなる成形体を作る工程と、前記成形体を焼結して圧電セラミックスを得る工程と、前記圧電セラミックスに第一の電極と第二の電極を設ける工程と、前記圧電セラミックスを分極処理する工程とを順に有しており、前記圧電セラミックスに第一の電極と第二の電極を設ける工程において、前記圧電セラミックス、前記第一の電極、前記第二の電極を一体的に、最高温度が700℃から900℃の範囲で熱処理し、毎時100℃以上の速度で降温する工程を有することを特徴とする圧電素子の製造方法。
- 前記圧電セラミックスを分極処理する工程において、前記圧電セラミックスを加熱し、直流電圧を印加した後に電圧印加を継続しながら毎時100℃以上の速度で降温する工程を有することを特徴とする請求項8に記載の圧電素子の製造方法。
- 請求項1乃至7のいずれかの1項に記載の圧電素子を配した振動部を備えた液室と、前記液室と連通する吐出口を有することを特徴とする液体吐出ヘッド。
- 被転写体の載置部と、請求項10に記載の液体吐出ヘッドを備えることを特徴とする液体吐出装置。
- 請求項1乃至7のいずれかの1項に記載の圧電素子を配した振動体と、前記振動体と接触する移動体とを有することを特徴とする超音波モータ。
- 駆動部に請求項12に記載の超音波モータを備えることを特徴とする光学機器。
- 請求項1乃至7のいずれかの1項に記載の圧電素子を振動板に配した振動体を有することを特徴とする振動装置。
- 請求項14に記載の振動装置を振動部に備えることを特徴とする塵埃除去装置。
- 請求項15に記載の塵埃除去装置と撮像素子ユニットとを有する撮像装置であって、前記塵埃除去装置の振動板を前記撮像素子ユニットの受光面側に設けたことを特徴とする撮像装置。
- 請求項1乃至7のいずれかの1項に記載の圧電素子を備えた圧電音響部品。
- 請求項1乃至7のいずれかの1項に記載の圧電素子を備えた電子機器。
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