JP6202317B2 - X線発生装置及びx線照射装置 - Google Patents
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- X-Ray Techniques (AREA)
Description
θ=tan-1(R1/LR-T)
として決定される。つまり、同一の内径を有するリング状電子源2では、距離LR-Tが小さいほど、X線の取り出し角度は大きくなるのである。
R=R1L/(L1-4+t1)
X線の出射角θは、
θ=Tan-1[R1/(L1-4+t1)]
でそれぞれ与えられる。これによれば、リング状電子源2の厚さt1=4.5mm、及び、開口部半径(内径)R1=12.5mm、リング状電子源2とターゲット4の間の距離LR-T=30mmとすると、X線出射角θは上記した式より±20度となり、ターゲット4から100mm離間した位置において、Φ72.5mmのX線が得られる。
2 リング状電子源
2a 電子ビーム放出面
3 ガイドリング
4 ターゲット
4a 電子線照射面
5 電子線遮蔽部材
6 グリッド
31 X線照射装置
E 電子ビーム
P 仮想軸線
Claims (12)
- ターゲットに電子ビームを照射して仮想軸線に沿ってコーン状にX線を発生させるX線発生装置であって、
前記電子ビームの照射を受ける照射面を有し前記照射面の法線を前記仮想軸線と平行に配置させたターゲットと、
前記ターゲットから前記仮想軸線に沿って離間した位置にあって前記仮想軸線を軸線にして配置され、外周縁に沿って電子遮蔽部材を与えられ且つ前記ターゲットに向けられた電子放出面から電子ビームを放出するリング状電子源と、
前記仮想軸線に沿って前記ターゲットと前記リング状電子源との間に位置し、前記仮想軸線を軸線にして配置され、前記リング状電子源からの前記電子ビームを収束させて前記ターゲットに仕向けるガイドリングと、を含むことを特徴とするX線発生装置。 - 前記ターゲット、前記ガイドリング、前記リング状電子源の前記軸線に沿った相対距離を変更可能としたことを特徴とする請求項1記載のX線発生装置。
- 前記リング状電子源の前記電子放出面から前記電子ビームの放出方向に離間させて電子引出グリッドを設けたことを特徴とする請求項1又は2に記載のX線発生装置。
- 前記リング状電子源の前記電子放出面に電界により電子を放出する電子放出膜を与えたことを特徴とする請求項1乃至3のうちの1つに記載のX線発生装置。
- 前記電子放出膜は、針状炭素からなることを特徴とする請求項4記載のX線発生装置。
- 前記電子放出面に凹凸形状を与えたことを特徴とする請求項4記載のX線発生装置。
- ターゲットに電子ビームを照射して仮想軸線に沿ってコーン状にX線を発生させるX線発生装置を複数並置したX線照射装置であって、
前記X線発生装置は、
前記電子ビームの照射を受ける照射面を有し前記照射面の法線を前記仮想軸線と平行に配置させたターゲットと、
前記ターゲットから前記仮想軸線に沿って離間した位置にあって前記仮想軸線を軸線にして配置され、外周縁に沿って電子遮蔽部材を与えられ且つ前記ターゲットに向けられた電子放出面から電子ビームを放出するリング状電子源と、
前記仮想軸線に沿って前記ターゲットと前記リング状電子源との間に位置し、前記仮想軸線を軸線にして配置され、前記リング状電子源からの前記電子ビームを収束させて前記ターゲットに仕向けるガイドリングと、
を含むことを特徴とするX線照射装置。 - 前記ターゲット、前記ガイドリング、前記リング状電子源の前記軸線に沿った相対距離を変更可能としたことを特徴とする請求項7記載のX線照射装置。
- 前記リング状電子源の前記電子放出面から前記電子ビームの放出方向に離間させて電子引出グリッドを設けたことを特徴とする請求項7又は8に記載のX線照射装置。
- 前記リング状電子源の前記電子放出面に電界により電子を放出する電子放出膜を与えたことを特徴とする請求項7乃至9のうちの1つに記載のするX線照射装置。
- 前記電子放出膜は、針状炭素からなることを特徴とする請求項10記載のX線照射装置。
- 前記電子放出面に凹凸形状を与えたことを特徴とする請求項10記載のX線照射装置。
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