JP6202074B2 - 波長変換シート - Google Patents

Description

本発明は、ガスバリア性積層フィルム及び波長変換シートに関する。

液晶ディスプレイのバックライトユニット及びエレクトロルミネッセンス発光ユニット等の発光ユニットでは、発光体又は蛍光体が酸素又は水蒸気と接触して長時間が経過することにより、発光体又は蛍光体としての性能が低下することがある。このため、これらの発光ユニットではしばしば、高分子フィルムにガスバリア性を有するバリア層が形成された構造を有するガスバリア性積層フィルムが、発光体又は蛍光体等の包装材又は保護材として使用される。

例えば特許文献１には、食品等の包装材料として使用されるガスバリア性積層フィルムとして、基材上に第１の蒸着薄膜層、ガスバリア性中間層、及び第２の蒸着薄膜層が積層された積層体が開示されている。この積層体は、ガスバリア性中間層を挟んで２つの蒸着薄膜層が積層された構造を有することで、良好なガスバリア性を実現している。

国際公開第２００２／０８３４０８号

ところで、発光体又は蛍光体等の包装材又は保護材として使用されるガスバリア性積層フィルムには、ガスバリア性だけでなく、高い透明性が要求される。より具体的には、ガスバリア性積層フィルムには、波長４５０ｎｍ付近の青色光、波長５５０ｎｍ付近の緑色光、及び、波長６５０ｎｍ付近の赤色光に対して高い透過率を有することが求められており、特に波長変換シートの保護材として用いる場合には、波長変換する光の光源として主に青色ＬＥＤが用いられることから、青色ＬＥＤのピーク波長である波長４５０ｎｍに対して高い透過率を有することが求められている。このような要求に対し、上記特許文献１に記載されたような積層体では、特に波長４５０ｎｍの光に対する高い透過率が必ずしも十分に得られなかった。

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの光に対する高い透過率を得ることができ、特に波長４５０ｎｍの青色光に対して高い透過率を得ることができるガスバリア性積層フィルム、及び、それを用いた波長変換シートを提供することを目的とする。

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、上記特許文献１に記載されたような積層体では、金属や無機酸化物等からなる２つの蒸着薄膜層の間で光学的な薄膜干渉が発生し、それによって可視光領域の短波長側である波長４５０ｎｍの青色光の透過率が低下することを本発明者らは見出した。そして、２つの薄膜層間の光学的な薄膜干渉は、特定の層構成において２つの薄膜層間の距離を制御するとともに、その薄膜層間に設けられる層の屈折率を制御することで低減できることを本発明者らは見出した。

すなわち、本発明は、第１の基材、該第１の基材上に形成された第１の無機薄膜層、及び、該第１の無機薄膜層上に形成された第１のガスバリア性被覆層、を有する第１のバリアフィルムと、第２の基材、該第２の基材上に形成された第２の無機薄膜層、及び、該第２の無機薄膜層上に形成された第２のガスバリア性被覆層、を有する第２のバリアフィルムと、を備え、上記第１のバリアフィルムと上記第２のバリアフィルムとが、上記第１のガスバリア性被覆層と上記第２のガスバリア性被覆層とが対向するように、接着層を介して積層された状態となっており、上記第１の無機薄膜層と上記第２の無機薄膜層との間の距離が１．０μｍ以上であり、上記第１のガスバリア性被覆層と上記接着層との屈折率差、及び、上記第２のガスバリア性被覆層と上記接着層との屈折率差が、いずれも０．０５以下である、ガスバリア性積層フィルムを提供する。

上記ガスバリア性積層フィルムは、基材上に無機薄膜層及びガスバリア性被覆層が形成されてなる２枚のバリアフィルム（第１及び第２のバリアフィルム）が接着層を介して貼り合わせられた構造を有するとともに、２つの無機薄膜層間の距離を１．０μｍ以上とし、且つ、２つの無機薄膜層間に配置された２つのガスバリア性被覆層と接着層との屈折率差を０．０５以下とすることで、２つの無機薄膜層間の光学的な薄膜干渉を低減することができ、その結果、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの光に対する高い透過率、特に波長４５０ｎｍの青色光に対して高い透過率を得ることができる。また、２つの無機薄膜層間の距離を１．０μｍ以上とすることで、接着層や第１及び第２のガスバリア性被覆層の厚さにばらつきが生じた場合でも、波長４５０ｎｍの青色光に対する透過率のばらつきの発生を抑制することができ、波長４５０ｎｍの青色光に対して安定して高い透過率を得ることができる。また、上記ガスバリア性積層フィルムは、２枚のバリアフィルムが積層された構造を有することにより、優れたガスバリア性（水蒸気バリア性及び酸素バリア性）を得ることができる。

上記ガスバリア性積層フィルムにおいて、上記第１の無機薄膜層と上記第２の無機薄膜層との間の距離は２０μｍ以下であることが好ましい。距離を２０μｍ以下とすることで、接着層が厚くなって接着層端部から水蒸気及び酸素が侵入しやすくなることを抑制することができ、ガスバリア性積層フィルムの優れたガスバリア性を確保することができる。また、距離を２０μｍ以下とすることで、材料コストを抑制することができる。

本発明はまた、蛍光体を含む蛍光体層と、上記本発明のガスバリア性積層フィルムと、を備える波長変換シートを提供する。かかる波長変換シートは、本発明のガスバリア性積層フィルムを備えているため、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの光に対する高い透過率を得ることができ、特に波長４５０ｎｍの青色光に対して高い透過率を得ることができる。

本発明によれば、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの光に対する高い透過率を得ることができ、特に波長４５０ｎｍの青色光に対して高い透過率を得ることができるガスバリア性積層フィルム、及び、それを用いた波長変換シートを提供することができる。

本発明のガスバリア性積層フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の波長変換シートの一実施形態を示す模式断面図である。 本発明の波長変換シートを用いたバックライトユニットの一実施形態を示す模式断面図である。

以下、図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。

［ガスバリア性積層フィルム］
本実施形態のガスバリア性積層フィルムは、第１の基材、該第１の基材上に形成された第１の無機薄膜層、及び、該第１の無機薄膜層上に形成された第１のガスバリア性被覆層、を有する第１のバリアフィルムと、第２の基材、該第２の基材上に形成された第２の無機薄膜層、及び、該第２の無機薄膜層上に形成された第２のガスバリア性被覆層、を有する第２のバリアフィルムと、上記第１のバリアフィルムと上記第２のバリアフィルムとを貼り合わせる接着層と、を少なくとも備える。ここで、上記第１のバリアフィルムと上記第２のバリアフィルムとは、上記第１のガスバリア性被覆層と上記第２のガスバリア性被覆層とが対向するように、上記接着層を介して積層された状態となっている。また、上記第１の無機薄膜層と上記第２の無機薄膜層との間の距離は１．０μｍ以上であり、上記第１のガスバリア性被覆層と上記接着層との屈折率差、及び、上記第２のガスバリア性被覆層と上記接着層との屈折率差は、いずれも０．０５以下である。本実施形態のガスバリア性積層フィルムは、第１のバリアフィルム又は第２のバリアフィルム上にマット層を更に備えていてもよい。

図１は、本発明のガスバリア性積層フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。図１に示すガスバリア性積層フィルム１００は、第１のバリアフィルム１と、第２のバリアフィルム２と、第１のバリアフィルム１及び第２のバリアフィルム２を貼り合わせる接着層４と、第２のバリアフィルム２上に形成されたマット層５と、を備えている。ここで、第１のバリアフィルム１は、第１の基材１１と、第１の無機薄膜層１３及び第１のガスバリア性被覆層１４からなる第１のバリア層１５とを備えている。これと同様に、第２のバリアフィルム２は、第２の基材２１と、第２の無機薄膜層２３及び第２のガスバリア性被覆層２４からなる第２のバリア層２５とを備えている。第１のバリアフィルム１と第２のバリアフィルム２とは、第１のガスバリア性被覆層１４と第２のガスバリア性被覆層２４とが対向するように、接着層４を介して積層された状態となっている。マット層５は、第２のバリアフィルム２の第２の基材２１上に設けられている。

ガスバリア性積層フィルム１００において、第１の無機薄膜層１３と第２の無機薄膜層２３との間の距離Ｄは、１．０μｍ以上であることが必要である。距離Ｄは、第１の無機薄膜層１３と第２の無機薄膜層２３との間に設けられる各層の厚さによって調整することができる。ガスバリア性積層フィルム１００においては、第１のガスバリア性被覆層１４、第２のガスバリア性被覆層２４及び接着層４の厚さの合計が、距離Ｄとなる。距離Ｄを１．０μｍ以上とすることで、第１の無機薄膜層１３及び第２の無機薄膜層２３間で光学的な薄膜干渉が生じることを抑制することができ、ガスバリア性積層フィルム１００は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍの光に対する高い透過率、特に波長４５０ｎｍの青色光に対して高い透過率を得ることができる。距離Ｄが１．０μｍ未満であると、第１の無機薄膜層１３及び第２の無機薄膜層２３間で光学的な薄膜干渉が生じやすくなり、特に波長４５０ｎｍの青色光に対する透過率が低下することとなる。加えて、距離Ｄが１．０μｍ未満であると、距離Ｄのほんの少しのばらつき（すなわち、接着層４や第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４の厚さのほんの少しのばらつき）により、ガスバリア性積層フィルム１００の波長４５０ｎｍの青色光に対する透過率のばらつきが発生しやすくなり、高い透過率を安定して得ることが困難となる。

薄膜干渉をより低減し、波長４５０ｎｍの青色光に対してより高い透過率を安定して得る観点から、距離Ｄは２．０μｍ以上であることが好ましく、３．０μｍ以上であることがより好ましく、５．０μｍ以上であることが更に好ましい。一方、距離Ｄが大き過ぎる場合、ガスバリア性積層フィルム１００の全体の厚さが厚くなるとともに、材料コストが高くなる傾向がある。また、距離Ｄが大き過ぎる場合、必然的に接着層４の厚さが厚くなる。通常、接着層４の水蒸気透過度及び酸素透過度は、第１及び第２の基材１１，２１と比較しても非常に大きいため、接着層４の厚さが厚くなると接着層４の端部から水蒸気及び酸素が侵入しやすくなり、２枚のバリアフィルムの貼り合わせ効果（一方のバリアフィルムの欠陥を他方のバリアフィルムで補完する効果）が低下して、ガスバリア性積層フィルム１００のガスバリア性が低下することとなる。このような問題の発生を抑制するために、距離Ｄは２０μｍ以下であることが好ましく、１５μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以下であることが更に好ましい。距離Ｄを２０μｍ以下とすることで、材料コストを抑制し、且つ、良好なガスバリア性を得ることができる。

ガスバリア性積層フィルム１００において、第１のガスバリア性被覆層１４と接着層４との屈折率差（ΔＲ_１）、及び、第２のガスバリア性被覆層２４と接着層４との屈折率差（ΔＲ_２）は、いずれも０．０５以下であることが必要である。屈折率差ΔＲ_１及びΔＲ_２がいずれも０．０５以下であることにより、第１の無機薄膜層１３及び第２の無機薄膜層２３間で光学的な薄膜干渉が生じることを抑制することができ、ガスバリア性積層フィルム１００は、特に波長４５０ｎｍの青色光に対して高い透過率を得ることができる。波長４５０ｎｍの青色光に対する透過率をより高める観点から、屈折率差ΔＲ_１及びΔＲ_２はいずれも０．０３以下であることが好ましく、０．０１以下であることがより好ましい。屈折率差ΔＲ_１及びΔＲ_２は、接着層４並びに第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４の材質により調整することができる。

以下、ガスバリア性積層フィルム１００を構成する各層について詳細に説明する。なお、ガスバリア性積層フィルム１００において、第１の基材１１の構成と第２の基材２１の構成、第１の無機薄膜層１３の構成と第２の無機薄膜層２３の構成、及び、第１のガスバリア性被覆層１４の構成と第２のガスバリア性被覆層２４の構成は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。

（基材）
第１及び第２の基材１１，２１は、特に限定されるものではないが、高分子フィルムであることが望ましく、全光線透過率が８５％以上の高分子フィルムであることがより望ましい。高分子フィルムの材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン等のポリアミド；ポリプロピレン及びシクロオレフィン等のポリオレフィン；ポリカーボネート；並びにトリアセチルセルロース等が挙げられるが、これらに限定されない。高分子フィルムはポリエステルフィルム、ポリアミドフィルム又はポリオレフィンフィルムであることが好ましく、ポリエステルフィルム又はポリアミドフィルムであることがより好ましく、透明性、加工適正及び密着性の観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが更に好ましい。また、ポリエチレンテレフタレートフィルムは、透明性及びガスバリア性の観点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが好ましい。

高分子フィルムは、必要に応じて、帯電防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤及び滑り剤等の添加剤を含んでいてもよい。また、高分子フィルムの表面は、コロナ処理、フレーム処理及びプラズマ処理が施されていてもよい。

第１及び第２の基材１１，２１の厚さは、特に制限されないが、３μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。この厚さが３μｍ以上であると加工が容易であり、１００μｍ以下であると保護フィルムの総厚を薄くすることができる。

（無機薄膜層）
第１及び第２の無機薄膜層１３，２３は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、又はプラズマＣＶＤ（ＰＥＣＶＤ）法により形成することができる。真空蒸着法としては、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｂｅａｍ）加熱式真空蒸着法、誘導加熱式真空蒸着法がより好ましく、スパッタリング法としては、反応性スパッタリング法、デュアルマグネトロンスパッタリング法がより好ましい。膜の均質性の観点からはスパッタリング法が好ましく、コストの観点からは、真空蒸着法が好ましく、目的、用途に応じて選択することができる。

スパッタリング法及びＰＥＣＶＤ法におけるプラズマの生成方法としては、ＤＣ（Ｄｉｒｅｃｔ Ｃｕｒｒｅｎｔ）方式、ＲＦ（Ｒａｄｉｏ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）方式、ＭＦ（Ｍｉｄｄｌｅ Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）方式、ＤＣパルス方式、ＲＦパルス方式、及びＤＣ＋ＲＦ重畳方式等を挙げることができる。

真空成膜では通常、金属、或いは、珪素等の酸化物、窒化物又は窒化酸化物等の膜が形成される。第１及び第２の無機薄膜層１３，２３としては、アルミニウム、チタン、銅、インジウム、スズ等の金属、又はそれらの酸化物（アルミナ等）、或いは、珪素、珪素酸化物の膜が好ましい。また、金属や珪素の酸化物だけでなく、金属や珪素の窒化物や窒化酸化物の膜が形成されてもよい。また、複数の金属を含む膜が形成されてもよい。上述のアルミニウム、チタン、銅、インジウム、珪素の酸化物、窒化物、窒化酸化物は、透明性とバリア性の両方に優れる。珪素を含む酸化物、窒化酸化物はバリア性が高く特に好ましい。

真空成膜により形成される第１及び第２の無機薄膜層１３，２３の厚さは、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。第１及び第２の無機薄膜層１３，２３の厚さが５ｎｍ以上であると、より良好なバリア性を得ることができる傾向がある。また、第１及び第２の無機薄膜層１３，２３の厚さが１００ｎｍ以下であると、クラックの発生を抑制し、クラックによる水蒸気バリア性及び酸素バリア性の低下を抑制できる傾向がある。更に、第１及び第２の無機薄膜層１３，２３の厚さが１００ｎｍ以下であると、材料使用量の低減及び膜形成時間の短縮等に起因してコストを低減できるので、経済的観点から好ましい。

（ガスバリア性被覆層）
第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４は、後工程での二次的な各種損傷を防止すると共に、高いバリア性を付与するために設けられるものである。第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４は、シロキサン結合を含んでいてもよい。第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４は、大気中で成膜されたものでも真空中で成膜されたものでもよい。第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４を大気中で形成する場合は、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、エチレンビニルアルコールのような極性を持つ化合物、ポリ塩化ビニリデン等の塩素を含む化合物、及びＳｉ原子を含む化合物、Ｔｉ原子を含む化合物、Ａｌ原子を含む化合物、Ｚｒ原子を含む化合物等を含有する塗布液を第１及び第２の無機薄膜層１３，２３上に塗布し、乾燥硬化させることで形成することができる。

第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４を大気中で形成する際の塗布液の塗布方法としては、具体的には、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。

シロキサン結合を含む化合物は、例えば、シラン化合物を用い、シラノール基を反応させて形成されることが好ましい。このようなシラン化合物としては、下記式（１）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^１ _ｎ（ＯＲ^２）_４−ｎＳｉ …（１）
［式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を示す。］

上記式（１）で表される化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、及びジメチルジエトキシシラン等が挙げられる。窒素を含むポリシラザンを使用してもよい。

また、第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４には、他の金属原子からなる前駆体から作られる材料を使用してもよい。Ｔｉ原子を含む化合物としては、例えば、下記式（２）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^１ _ｎ（ＯＲ^２）_４−ｎＴｉ …（２）
［式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を示す。］

上記式（２）で表される化合物としては、例えば、テトラメトキシチタニウム、テトラエトキシチタニウム、テトライソプロポキシチタニウム、及びテトラブトキシチタニウム等が挙げられる。

Ａｌ原子を含む化合物としては、例えば、下記式（３）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^１ _ｍ（ＯＲ^２）_３−ｍＡｌ …（３）
［式中、ｍは０〜２の整数を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を示す。］

上記式（３）で表される化合物としては、例えば、トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、及びトリブトキシアルミニウム等が挙げられる。

Ｚｒ原子を含む化合物としては、例えば、下記式（４）で表される化合物が挙げられる。
Ｒ^１ _ｎ（ＯＲ^２）_４−ｎＺｒ …（４）
［式中、ｎは０〜３の整数を示し、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に炭化水素基を示し、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基を示す。］

上記式（４）で表される化合物としては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、及びテトラブトキシジルコニウム等が挙げられる。

第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４を大気中で形成する場合、上記塗布液は塗布後、硬化される。硬化方法としては、特に限定されないが、紫外線硬化及び熱硬化等が挙げられる。紫外線硬化の場合、塗布液は重合開始剤及び二重結合を有する化合物を含んでいてもよい。また必要に応じて、加熱エージングがされてもよい。

第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４を大気中で形成する別の方法として、マグネシウム、カルシウム、亜鉛、アルミニウム、ケイ素、チタン、ジルコニウムなどの無機酸化物の粒子同士が、リン化合物に由来するリン原子を介して脱水縮合することで得られる反応生成物をガスバリア性被覆層とする方法を用いることもできる。具体的には、無機酸化物の表面に存在する官能基（例えば、水酸基）と、無機酸化物と反応可能なリン化合物の部位（例えば、リン原子に直接結合したハロゲン原子や、リン原子に直接結合した酸素原子）とが、縮合反応を起こし、結合する。反応生成物は、例えば、無機酸化物とリン化合物とを含む塗布液を第１及び第２の無機薄膜層１３，２３の表面に塗布し、形成した塗膜を熱処理することにより、無機酸化物の粒子同士が、リン化合物に由来するリン原子を介して結合する反応を進行させることで得られる。熱処理の温度の下限は、１１０℃以上であり、１２０℃以上であることが好ましく、１４０℃以上であることがより好ましく、１７０℃以上であることが更に好ましい。熱処理温度が低いと、十分な反応速度を得ることが難しくなり、生産性が低下する原因となる。熱処理の温度の好ましい上限は、基材の種類などによって異なるが、２２０℃以下であり、１９０℃以下であることが好ましい。熱処理は、空気中、窒素雰囲気下、又はアルゴン雰囲気下などで実施することができる。

第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４を大気中で形成する場合は、凝集等しない限り、上記塗布液は更に樹脂を含んでいてもよい。上記樹脂としては、具体的にはアクリル樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。上記塗布液は、これらの樹脂のうち、塗布液中の他の材料との相溶性が高い樹脂を含むことが好ましい。

上記塗布液は、更に、フィラー、レベリング剤、消泡剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、並びに、シランカップリング剤及びチタンキレート剤等を必要に応じて含んでいてもよい。

大気中で形成される第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４の厚さは、硬化後の膜厚で５０ｎｍ〜２０００ｎｍであることが好ましく、１００ｎｍ〜１０００ｎｍであることがより好ましい。大気中で形成さる第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４の厚さが５０ｎｍ以上であると、膜形成がしやすくなる傾向がある。大気中で形成される第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４の厚さが２０００ｎｍ以下であると、割れ又はカールを抑制できる傾向がある。

第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４の屈折率は、接着層４との屈折率差ΔＲ_１及びΔＲ_２がいずれも０．０５以下となるような値であれば特に限定されないが、その材質等から、好ましくは１．４０〜１．６０である。

（接着層）
接着層４は、図１に示すように、第１のバリアフィルム１と第２のバリアフィルム２とを貼り合わせて積層するために、第１のバリアフィルム１と第２のバリアフィルム２との間に設けられている。接着層４としては、高分子フィルム用の接着剤又は粘着剤として一般的なものを使用することができ、第１のバリアフィルム１及び第２のバリアフィルム２の貼り合わせる側の表面に応じて適宜選択される。接着層４の材料の候補としては、エポキシ系、ポリエステル系、アクリル系、ゴム系、フェノール系、及びウレタン系等の接着剤又は粘着剤が挙げられる。

接着剤又は粘着剤の塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。

接着層４の厚さは０．５μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。接着層４の厚さが０．５μｍ以上であることにより十分な接着性が得られる傾向があるとともに、第１及び第２の無機薄膜層１３，２３間の距離Ｄを１．０μｍ以上とすることが容易となる傾向があり、２０μｍ以下であることによりガスバリア性積層フィルム１００の総厚を薄くできるとともに、コストアップを抑制することができる傾向がある。また、接着層４の厚さが２０μｍ以下であることにより、接着層４の端部から水蒸気及び酸素が侵入することを抑制することができ、ガスバリア性積層フィルム１００のガスバリア性が低下することを抑制することができる。

また、接着層４を介して第１のバリアフィルム１と第２のバリアフィルム２とを貼り合わせた後、エージングすることができる。エージングは、例えば、２０〜８０℃で１〜１０日間行われる。

接着層４の屈折率は、第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４との屈折率差ΔＲ_１及びΔＲ_２がいずれも０．０５以下となるような値であれば特に限定されないが、屈折率差ΔＲ_１及びΔＲ_２を低減しやすいことから、１．４０〜１．６０であることが好ましく、第１及び第２のガスバリア性被覆層１４，２４の屈折率と同等の値であることが最も好ましい。

接着層４は、屈折率を調整するために、微粒子を含有していてもよい。微粒子としては、低屈折率調整剤として、多孔質シリカ微粒子や中空シリカ、高屈折率調整剤として、ジルコニア微粒子、チタニア微粒子等が挙げられる。これらは１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。微粒子の含有量は、十分な接着性を維持する観点から、接着層４全量を基準として、２５質量％以下であることが好ましい。微粒子の平均粒子径は、十分な接着性を維持しつつ、十分な屈折率調整機能を得る観点から、０．５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。含有させる微粒子の種類、含有量を適宜調整することで、接着層４の屈折率を所望の値（例えば屈折率１．４０〜１．６０）に調整することができる。

接着層４は、必要に応じて、硬化剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、及び分散剤等を含んでいてもよい。

（マット層）
マット層５は、１以上の光学的機能や帯電防止機能を発揮させるために、第２のバリアフィルム２の第２の基材２１表面に設けられている。ここで、光学的機能としては、特に限定されるものではないが、干渉縞（モアレ）防止機能、反射防止機能、拡散機能等が挙げられる。これらの中でも、マット層５は、光学的機能として少なくとも干渉縞防止機能を有することが好ましい。本実施形態では、マット層５が少なくとも干渉縞防止機能を有するものである場合について説明する。

マット層５は、バインダー樹脂と、微粒子とを含んで構成されていてもよい。そして、マット層５の表面から微粒子の一部が露出するように微粒子がバインダー樹脂に埋め込まれることにより、マット層５の表面には微細な凹凸が生じていてもよい。このようなマット層５をガスバリア性積層フィルムの表面に設けることにより、ニュートンリング等の干渉縞の発生をより十分に防止することができ、結果として高効率かつ高精細、長寿命の発光デバイスを得ることが可能となる。

バインダー樹脂としては、特に限定されるものではないが、光学的透明性に優れた樹脂を用いることができる。より具体的には、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、ポリウレタンアクリレート系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂などの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などを用いることができる。また、有機樹脂以外に、シリカバインダーを用いることもできる。これらの中でも、材料の幅広さからアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂を用いることが望ましく、耐光性や光学特性に優れることからアクリル系樹脂を使用することがより望ましい。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。

微粒子としては、特に限定されるものではないが、例えば、シリカ、クレー、タルク、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、酸化チタン、アルミナなどの無機微粒子の他、スチレン樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂などの有機微粒子を用いることができる。これらの中でも、微粒子としては、シリカ、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂等からなる屈折率１．４０〜１．５５の微粒子を用いることが、透過率の上で好ましい。屈折率が低い微粒子は高価であり、一方、屈折率が高すぎる微粒子は透過率を損ねる傾向がある。これらは、１種だけでなく、複数種を組み合わせて使用することもできる。

微粒子の平均粒径は、０．１〜３０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがより好ましい。微粒子の平均粒径が０．１μｍ以上であると、優れた干渉縞防止機能が得られる傾向があり、３０μｍ以下であると、透明性がより向上する傾向がある。

マット層５における微粒子の含有量は、マット層５全量を基準として０．５〜３０質量％であることが好ましく、３〜１０質量％であることがより好ましい。微粒子の含有量が０．５質量％以上であると、光拡散機能と干渉縞の発生を防止する効果がより向上する傾向があり、３０質量％以下であると、輝度を低減させることがない。

マット層５は、上述したバインダー樹脂及び微粒子を含む塗布液を第１のバリアフィルム１又は第２のバリアフィルム２の表面上に塗布し、乾燥硬化させることで形成することができる。塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。

マット層５の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．３〜１０μｍであることがより好ましい。マット層５の厚さが０．１μｍ以上であることにより、均一な膜が得られやすく、光学的機能を十分に得やすくなる傾向がある。一方、マット層５の厚さが２０μｍ以下であることにより、マット層５に微粒子を用いた場合、マット層５の表面へ微粒子が露出して、凹凸付与効果が得られやすくなる傾向がある。

［波長変換シート］
図２は、本発明の波長変換シートの一実施形態を示す模式断面図である。図２に示した波長変換シートは、量子ドット等の蛍光体を含んでおり、例えばＬＥＤ波長変換用として、バックライトユニットに用いることができるものである。

図２に示す波長変換シート２００は、蛍光体を含む蛍光体層（波長変換層）７と、蛍光体層７の一方の面７ａ側及び他方の面７ｂ側にそれぞれ設けられたガスバリア性積層フィルム１００，１００とを備えて概略構成されている。これによって、ガスバリア性積層フィルム１００，１００の間に蛍光体層７が包み込まれた（すなわち、封止された）構造となっている。ここで、蛍光体層７には、バリア性を付与する必要があることから、一対のガスバリア性積層フィルム１００，１００によって、蛍光体層７を挟んだ構成にすることが望ましい。以下、波長変換シート２００を構成する各層について詳細に説明する。

（ガスバリア性積層フィルム）
ガスバリア性積層フィルム１００，１００としては、図１に示したガスバリア性積層フィルム１００を用いることができる。波長変換シート２００において、蛍光体層７の一方の面７ａ側に配置されるガスバリア性積層フィルム１００と、他方の面７ｂ側に配置されるガスバリア性積層フィルム１００とは、同一であっても異なっていてもよい。

（蛍光体層）
蛍光体層７は、封止樹脂９及び蛍光体８を含む数十〜数百μｍの厚さの薄膜である。封止樹脂９としては、例えば、感光性樹脂又は熱硬化性樹脂を使用することができる。封止樹脂９の内部には、蛍光体８が１種以上混合された状態で封止されている。封止樹脂９は、蛍光体層７と一対のガスバリア性積層フィルム１００，１００とを積層する際に、これらを接合するとともに、これらの空隙を埋める役割を果たす。また、蛍光体層７は、１種類の蛍光体８のみが封止された蛍光体層が２層以上積層されたものであってもよい。それら１層又は２層以上の蛍光体層に用いられる２種類以上の蛍光体８は、励起波長が同一のものが選択される。この励起波長は、ＬＥＤ光源が照射する光の波長に基づいて選択される。２種類以上の蛍光体８の蛍光色は相互に異なる。ＬＥＤ光源として青色ＬＥＤ（ピーク波長４５０ｎｍ）を用いつつ、２種類の蛍光体８を用いる場合、各蛍光色は、好ましくは、赤色、緑色である。各蛍光の波長、及びＬＥＤ光源が照射する光の波長は、カラーフィルタの分光特性に基づき選択される。蛍光のピーク波長は、例えば赤色が６５０ｎｍ、緑色が５５０ｎｍである。

次に、蛍光体８の粒子構造を説明する。蛍光体８としては、色純度が高く、輝度の向上が期待できる量子ドットが好ましく用いられる。量子ドットとしては、例えば、発光部としてのコアが保護膜としてのシェルにより被膜されたものが挙げられる。上記コアとしては、例えば、セレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）等が挙げられ、上記シェルとしては、例えば、硫化亜鉛（ＺｎＳ）等が挙げられる。ＣｄＳｅの粒子の表面欠陥がバンドギャップの大きいＺｎＳにより被覆されることで量子効率が向上する。また、蛍光体８は、コアが第１シェル及び第２シェルにより二重に被覆されたものであってもよい。この場合、コアにはＣｓＳｅ、第１シェルにはセレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、第２シェルにはＺｎＳが使用できる。また、量子ドット以外の蛍光体８として、ＹＡＧ：Ｃｅ等を用いることもできる。

上記蛍光体８の平均粒子径は、好ましくは１〜２０ｎｍである。また、蛍光体層７の厚さは、好ましくは１〜５００μｍである。

蛍光体層７における蛍光体８の含有量は、蛍光体層７全量を基準として、１〜２０質量％であることが好ましく、３〜１０質量％であることがより好ましい。

封止樹脂９としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、及び紫外線硬化型樹脂等を使用することができる。これらの樹脂は、１種を単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。

熱可塑性樹脂としては、例えば、アセチルセルロース、ニトロセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース及びメチルセルロース等のセルロース誘導体；酢酸ビニルとその共重合体、塩化ビニルとその共重合体、及び塩化ビニリデンとその共重合体等のビニル系樹脂；ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラール等のアセタール樹脂；アクリル樹脂とその共重合体、メタアクリル樹脂とその共重合体等のアクリル系樹脂；ポリスチレン樹脂；ポリアミド樹脂；線状ポリエステル樹脂；フッ素樹脂；並びに、ポリカーボネート樹脂等を用いることができる。

熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、及びシリコーン樹脂等が挙げられる。

紫外線硬化型樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、及びポリエステルアクリレート等の光重合性プレポリマーが挙げられる。また、これら光重合性プレポリマーを主成分とし、希釈剤として単官能や多官能のモノマーを使用することもできる。

［バックライトユニット］
図３にバックライトユニットの一実施形態を示す。本実施形態のバックライトユニット５００は、ＬＥＤ（発光ダイオード）光源３０と導光板４０と波長変換シート２００とを備える。また、図では省略されているが、バックライトユニット５００は、反射板や、拡散板、プリズムシートなどを備えていてもよい。

ＬＥＤ光源３０は、導光板４０の側面に設置され、導光板４０上（光の進行方向）に波長変換シート２００が配置される。ＬＥＤ光源３０の内部には、発光色が青色のＬＥＤ素子が複数個設けられている。このＬＥＤ素子は、紫ＬＥＤ、又はさらに低波長のＬＥＤであってもよい。ＬＥＤ光源は、導光板側面に向かって光を照射する。本実施形態の波長変換シート２００を用いたバックライトユニットの場合、この照射された光は、例えば、導光板を経てアクリルやエポキシ等の樹脂と蛍光体とを混合した層（蛍光体層）７に入射することになる。

導光板４０は、ＬＥＤ光源３０から照射された光を効率的に導くものであり、公知の材料が使用される。導光板４０としては、例えば、アクリルフィルム、ポリカーボネートフィルム、及びシクロオレフィンフィルム等が使用される。導光板４０は、例えば、シルク印刷方式、射出成型や押出成型などの成型方式、インクジェット方式などにより形成することができる。導光板４０の厚さは、例えば、１００〜１０００μｍである。

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。例えば、上述のガスバリア性積層フィルム１００の構成、波長変換シート２００の構成、及び、バックライトユニット５００の構成は一例であり、これに限定されるものではない。

また、図１に示したガスバリア性積層フィルム１００は、２枚のバリアフィルム（第１及び第２のバリアフィルム１，２）を備えているが、本発明のガスバリア性積層フィルムは、第１及び第２のバリアフィルム１，２以外の別のバリアフィルムを更に１枚以上備えていてもよい。その場合、特に限定されないが、別のバリアフィルムの無機薄膜層と、それに隣接する第１の無機薄膜層１３又は第２の無機薄膜層２３との距離も１．０μｍ以上であることが、複数の無機薄膜層間の光学的な薄膜干渉の発生を抑制して本発明の効果を十分に得る観点から好ましい。すなわち、ガスバリア性積層フィルムに３つ以上の無機薄膜層が含まれる場合、全ての隣接する無機薄膜層間の距離が１．０μｍ以上であることが、本発明の効果を十分に得る観点から好ましい。

また、図１に示したガスバリア性積層フィルム１００において、第１の基材１１と第１の無機薄膜層１３との間、及び、第２の基材２１と第２の無機薄膜層２３との間には、基材と無機薄膜層との密着性を向上させるために、アンカーコート層が設けられていてもよい。アンカーコート層は、水分や酸素の透過を防止するバリア性を有していてもよい。

アンカーコート層は、例えば、ポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、オキサゾリン基含有樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコーン樹脂またはアルキルチタネート等から選択された樹脂を用いて形成することができる。アンカーコート層は、上述した樹脂を単独で用いて、または上述した樹脂を２種類以上組み合わせた複合樹脂を用いて、形成することができる。

アンカーコート層は、上述した樹脂を含む溶液を第１及び第２の基材１１，２１上に塗布し、乾燥硬化させることで形成することができる。塗布方法としては、グラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、及びダイコーター等による塗布方法が挙げられる。

アンカーコート層の厚さは、５〜５００ｎｍの範囲内とすることが好ましく、１０〜１００ｎｍの範囲内とすることがより好ましい。ここで、厚さが５ｎｍ以上であると、第１及び第２の基材１１，２１と第１及び第２の無機薄膜層１３，２３との間の密着性、並びに、水分や酸素に対するバリア性が向上する傾向があり、５００ｎｍ以下であると、内部応力が十分抑制された均一な層を形成することができる傾向がある。

また、図２に示した波長変換シート２００においては、２枚のガスバリア性積層フィルムがいずれも図１に示した本発明の構成を有するガスバリア性積層フィルム１００である場合を示したが、いずれか一方のガスバリア性積層フィルムは、本発明の構成を有していなくてもよい。なお、その場合、ＬＥＤ光源及び導光板側に配置されるガスバリア性積層フィルムが図１に示した本発明の構成を有するガスバリア性積層フィルム１００であることが、ＬＥＤ光源からの青色光を透過しやすいことから好ましい。

また、図２に示した波長変換シート２００においては、両面にマット層５が設けられているが、マット層５は片面のみに設けられていてもよい。

また、図２に示した波長変換シート２００において、ガスバリア性積層フィルム１００，１００の蛍光体層７に接する側の面には、ガスバリア性積層フィルム１００，１００と蛍光体層７との接着性を向上するために、改質処理が施されていたり、ウレタン樹脂等からなる易接着層が設けられていてもよい。

さらに、図２に示した波長変換シート２００において、蛍光体層７の両端面（ガスバリア性積層フィルム１００，１００で被覆されていない図中の左右の端面）が封止樹脂で封止されていてもよく、蛍光体層７全体が封止樹脂で覆われていてもよい。

なお、本発明のガスバリア性積層フィルムは、波長変換シートの保護フィルムに限らず、エレクトロルミネッセンス発光ユニット、及び、太陽電池等の産業資材の基材（保護フィルム）として用いることもできる。

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

（実施例１）
第１の基材として、厚さ２３μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用意した。電子ビーム加熱式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料（キヤノンオプトロン株式会社製）を１．５×１０^−２Ｐａの圧力下で電子ビーム加熱によって蒸発させ、上記ＰＥＴフィルム上に第１の無機薄膜層として厚さ３０ｎｍの酸化珪素層を形成した。なお、蒸着における加速電圧は４０ｋＶであり、エミッション電流は０．２Ａであった。

この第１の無機薄膜層上に、テトラエトキシシランの加水分解物とポリビニルアルコールとを質量比１：１で混合した塗布液をバーコート法にて塗布し、１２０℃で１分間乾燥硬化させ、厚さ３００ｎｍの第１のガスバリア性被覆層を形成した。これにより、第１の基材、第１の無機薄膜層、及び第１のガスバリア性被覆層からなる第１のバリアフィルムを得た。

また、上記第１のバリアフィルムと同様の方法で、第２の基材（厚さ２３μｍ）、第２の無機薄膜層（厚さ３０ｎｍ）、及び第２のガスバリア性被覆層（厚さ３００ｎｍ）からなる第２のバリアフィルムを作製した。

次に、第１のバリアフィルムの第１のガスバリア性被覆層上に、接着剤を塗布して接着層とし、該接着層に、第２のバリアフィルムの第２のガスバリア性被覆層側の面を貼り合わせて積層体とした。接着層は、アクリル共重合体溶液を主剤とした粘着剤用塗液（サイデン化学社製）に、イソシアネート系硬化剤（三井化学社製、商品名：Ｄ−１１０Ｎ）を混合したアクリル系粘着剤塗液を塗布し加熱乾燥したものである。接着層の硬化後の厚さは５．０μｍであった。

次に、第２のバリアフィルムの第２の基材上に、アクリル樹脂と、シリカ微粒子（平均粒径３μｍ）とを含む塗液をウエットコーティング法により塗工し、３μｍの厚さのマット層を形成した。これにより、図１に示したものと同様の構成を有するガスバリア性積層フィルムを得た。

（実施例２）
接着剤の塗布量を調整して接着層の硬化後の厚さを３．０μｍとした以外は実施例１と同様にしてガスバリア性積層フィルムを得た。

（実施例３）
接着剤の塗布量を調整して接着層の硬化後の厚さを９．０μｍとした以外は実施例１と同様にしてガスバリア性積層フィルムを得た。

（実施例４）
接着剤として、実施例１で用いたアクリル系粘着剤塗液に多孔質シリカ微粒子分散液を添加したものを用い、接着層の屈折率が１．４５となるように調整したこと以外は実施例１と同様にして、ガスバリア性積層フィルムを得た。

（実施例５）
接着剤として、実施例１で用いたアクリル系粘着剤塗液にジルコニア微粒子分散液を添加したものを用い、接着層の屈折率が１．５５となるように調整したこと以外は実施例１と同様にして、ガスバリア性積層フィルムを得た。

（比較例１）
基材として、厚さ２３μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを用意した。電子ビーム加熱式の真空蒸着装置を用いて、酸化珪素材料（キヤノンオプトロン株式会社製）を１．５×１０^−２Ｐａの圧力下で電子ビーム加熱によって蒸発させ、上記ＰＥＴフィルム上に無機薄膜層として厚さ３０ｎｍの酸化珪素層を形成した。なお、蒸着における加速電圧は４０ｋＶであり、エミッション電流は０．２Ａであった。

この無機薄膜層上に、テトラエトキシシランの加水分解物とポリビニルアルコールとを質量比１：１で混合した塗布液をバーコート法にて塗布し、１２０℃で１分間乾燥硬化させ、厚さ３００ｎｍのガスバリア性被覆層を形成した。

このガスバリア性被覆層上に、上記と同様の方法で無機薄膜層として厚さ３０ｎｍの酸化珪素層を形成し、更に当該無機薄膜層上に、上記と同様の方法で厚さ３００ｎｍのガスバリア性被覆層を形成した。これにより、基材、無機薄膜層、ガスバリア性被覆層、無機薄膜層、及びガスバリア性被覆層からなる第１のバリアフィルムを得た。

次に、第１のバリアフィルムのガスバリア性被覆層上に、接着剤を塗布して接着層とし、該接着層に、第２のフィルムとして厚さ１６μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムを貼り合わせ、４０℃で２日間エージングを実施した。接着剤としては、実施例１で用いたものと同様の接着剤を用いた。接着層の硬化後の厚さは５．０μｍであった。

次に、第２のフィルム上に、アクリル樹脂と、シリカ微粒子（平均粒径３μｍ）とを含む塗液をウエットコーティング法により塗工し、３μｍの厚さのマット層を形成した。これによりガスバリア性積層フィルムを得た。

（比較例２）
接着剤の塗布量を調整して接着層の硬化後の厚さを０．３μｍとした以外は実施例１と同様にしてガスバリア性積層フィルムを得た。

（比較例３）
接着剤として、実施例１で用いたアクリル系粘着剤塗液に多孔質シリカ微粒子分散液を添加したものを用い、接着層の屈折率が１．４０となるように調整したこと以外は実施例１と同様にして、ガスバリア性積層フィルムを得た。

（比較例４）
接着剤として、実施例１で用いたアクリル系粘着剤塗液にジルコニア微粒子分散液を添加したものを用い、接着層の屈折率が１．６０となるように調整したこと以外は実施例１と同様にして、ガスバリア性積層フィルムを得た。

＜屈折率の測定＞
実施例及び比較例で作製したガスバリア性積層フィルムにおける接着層及びガスバリア性被覆層の屈折率は、各層を形成して厚さを特定した後、分光反射率曲線について光学シミュレーションを行うことにより求めた。なお、実施例１〜５及び比較例２〜４において、第１のガスバリア性被覆層と第２のガスバリア性被覆層の屈折率は同一である。また、比較例１においては、接着層に隣接するガスバリア性被覆層の屈折率を測定した。また、屈折率の測定結果を用いて、接着層とガスバリア性被覆層との屈折率差を求めた。結果を表１に示す。

＜光透過率の測定＞
実施例及び比較例で作製したガスバリア性積層フィルムの光透過率は、分光光度計（商品名、ＳＨＩＭＡＺＵ ＵＶ−２４５０）を用い、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び６５０ｎｍにおいて測定した。測定にあたっては、ガスバリア性積層フィルムのマット層とは反対側（ＰＥＴフィルム側）の面から測定光を照射した。ここで、最も重要な透過率は波長４５０ｎｍの青色光の透過率であり、その値が８５．０％以上であることが望ましい。結果を表１に示す。

表１に示した結果から明らかなように、２つの無機薄膜層間の距離Ｄが１．０μｍ以上であり、且つ、接着層とガスバリア性被覆層との屈折率差が０．０５以下である実施例１〜５のガスバリア性積層フィルムは、上記条件を満たさない比較例１〜４のガスバリア性積層フィルムと比較して良好な光透過率を有しており、特に４５０ｎｍの青色光に対して８５．０％以上の高い透過率を有することが確認された。

本発明のガスバリア性積層フィルムは、液晶ディスプレイのバックライトユニットに用いる発光体を含有した波長変換シート、特に量子ドット発光体を含有した波長変換シート、エレクトロルミネッセンス発光ユニット、及び、太陽電池等の産業資材の基材として好適に用いることができる。

１…第１のバリアフィルム、２…第２のバリアフィルム、４…接着層、５…マット層、７…蛍光体層、８…蛍光体、９…封止樹脂、１１…第１の基材、１３…第１の無機薄膜層、１４…第１のガスバリア性被覆層、１５…第１のバリア層、２１…第２の基材、２３…第２の無機薄膜層、２４…第２のガスバリア性被覆層、２５…第２のバリア層、３０…ＬＥＤ光源、４０…導光板、１００…ガスバリア性積層フィルム、２００…波長変換シート、５００…バックライトユニット。

Claims (3)

1. 蛍光体を含む蛍光体層と、ガスバリア性積層フィルムと、を備える波長変換シートであって、
   前記ガスバリア性積層フィルムが、
   第１の基材、該第１の基材上に形成された第１の無機薄膜層、及び、該第１の無機薄膜層上に形成された第１のガスバリア性被覆層、を有する第１のバリアフィルムと、
   第２の基材、該第２の基材上に形成された第２の無機薄膜層、及び、該第２の無機薄膜層上に形成された第２のガスバリア性被覆層、を有する第２のバリアフィルムと、
   を備え、
   前記第１のバリアフィルムと前記第２のバリアフィルムとが、前記第１のガスバリア性被覆層と前記第２のガスバリア性被覆層とが対向するように、接着層を介して積層された状態となっており、
   前記第１の無機薄膜層と前記第２の無機薄膜層との間の距離が１．０μｍ以上であり、
   前記第１のガスバリア性被覆層と前記接着層との屈折率差、及び、前記第２のガスバリア性被覆層と前記接着層との屈折率差が、いずれも０．０５以下である、ガスバリア性積層フィルムであり、
   前記蛍光体が量子ドットを含む、波長変換シート。
2. 前記第１の無機薄膜層と前記第２の無機薄膜層との間の距離が２０μｍ以下である、請求項１に記載の波長変換シート。
3. 前記ガスバリア性積層フィルムが、前記第１のバリアフィルム又は前記第２のバリアフィルム上に、干渉縞防止機能を有するマット層を更に備える、請求項１又は２に記載の波長変換シート。

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