JP6200934B2 - ビームアンテナ - Google Patents
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-
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Description
11 第1材料層
112 第1導体層
12 第2材料層
121 第1薄膜層
1211 絶縁ゲル
1212 トリガー粒子
13 第1放射導体ユニット
14 エネルギー伝送導体構造
141 第1端子
142 第2端子
2 ビームアンテナ
21 第1材料層
211 信号源
212 第1導体層
213 マイクロストリップ伝送線構造
22 第2材料層
221 第1薄膜層
2211、2221 絶縁ゲル
2212、2222 トリガー粒子
222 第2薄膜層
23 第1放射導体ユニット
231 スロット構造
24 第2放射導体ユニット
25 エネルギー伝送導体構造
251 第1端子
252 第2端子
3 ビームアンテナ
31 第1材料層
311 信号源
312 第1導体層
313 マイクロストリップ伝送線構造
32 第2材料層
321 第1薄膜層
322 第2薄膜層
33 第1放射導体ユニット
341、342、343、344 第2放射導体ユニット
35 エネルギー伝送導体構造
3211、3221 絶縁ゲル
3212、3222 トリガー粒子
4 ビームアンテナ
41 第1材料層
412 第1導体層
42 第2材料層
421 第1薄膜層
43 第1放射導体ユニット
44 エネルギー伝送導体構造
411 信号源
421 第1薄膜層
4211 絶縁ゲル
4212 トリガー粒子
441 第1端子
442 第2端子
5 ビームアンテナ
51 第1材料層
511 信号源
512 第1導体層
52 第2材料層
521 第1薄膜層
522 第2薄膜層
5211、5221 絶縁ゲル
5212、5222 トリガー粒子
53 第1放射導体ユニット
531 共平面導波路構造
54 第2放射導体ユニット
55 エネルギー伝送導体構造
551 第1端子
552 第2端子
6 ビームアンテナ
61 第1材料層
611 信号源
612 第1導体層
62 第2材料層
621 第1薄膜層
6211 絶縁ゲル
6212 トリガー粒子
63 第1放射導体ユニット
631 スリット構造
64、65 エネルギー伝送導体構造
641 第1端子
642 第2端子
7 ビームアンテナ
71 第1材料層
711 信号源
712 第1導体層
72 第2材料層
721 第1薄膜層
73 第1放射導体ユニット
74 エネルギー伝送導体構造
7211 絶縁ゲル
7212 トリガー粒子
731、732 メアンダ構造
741 第1端子
742 第2端子
8 ビームアンテナ
81 第1材料層
811 信号源
812 第1導体層
82 第2材料層
821 第1薄膜層
8211 絶縁ゲル
8212 トリガー粒子
83 第1放射導体ユニット
831 スリット構造
832 メアンダ構造
84 エネルギー伝送導体構造
841 第1端子
842 第2端子
850 GSMシステム
Claims (23)
- ビームアンテナであって、
表面に接着された第1導体層および前記第1導体層に電気結合または接続された信号源を有する第1材料層と、
表面に接着された少なくとも1つの第1薄膜層を有し、前記第1薄膜層が、
高分子材料で構成された絶縁ゲルと、
有機金属粒子、キレーション、およびエネルギーギャップが3eVより大きいかそ
れに等しい半導体材料のうちの少なくとも1つを含むとともに、レーザーエネルギー
により照射された時に活性化されるよう適合され、前記レーザーエネルギーの波長が
430nm〜1080nmの間である複数のトリガー粒子と、
を含む第2材料層と、
前記第1薄膜層の表面に接着された少なくとも1つの第1放射導体ユニットと、
前記第1材料層と前記第2材料層の間に配置されるとともに、前記信号源に電気結合または接続された第1端子、および前記第1放射導体ユニットに電気結合または接続され、前記ビームアンテナを励起して少なくとも1つの共振モードを生成し、少なくとも1つの通信システム帯域の動作周波数をカバーする第2端子を有するエネルギー伝送導体構造と、
を含み、
前記第1薄膜層は前記第1放射導体ユニットと前記第2材料層との間に設置されたビームアンテナ。 - 前記第1薄膜層の前記トリガー粒子が、エネルギーギャップが3eVより大きいかそれに等しい半導体材料であり、前記半導体材料が、窒化ガリウム(GaN)、二酸化チタン(TiO2)、窒化アルミニウム(AIN)、二酸化ケイ素(SiO2)、硫化亜鉛(ZnS)、酸化亜鉛(ZnO)、炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、酸化アルミニウム(Al2O3)、窒化ホウ素(BN)、または窒化ケイ素(Si3N4)のうちの1つ、あるいはその組み合わせである請求項1に記載のビームアンテナ。
- 前記第1薄膜層の前記トリガー粒子が、有機金属粒子であり、前記有機金属粒子の構造が、R−M−X、R−M−R’、またはR−M−Rであり、Mが、金属であり、RおよびR’が、シクロアルキル基、アルキル基、複素環基またはカルボン酸基、ハロゲン化アルキル基、芳香族炭化水素基であり、Xが、ハロゲン化合物またはアミン基であり、Mが、金、ニッケル、錫、銅、パラジウム、銀、またはアルミニウムのうちの1つ、あるいはその組み合わせである請求項1に記載のビームアンテナ。
- 前記第1薄膜層の前記トリガー粒子が、キレーションであり、前記トリガー粒子が、キレート剤によりキレート化された金属から形成され、前記キレート剤が、ピロリジンジチオカルバミン酸アンモニウム(APDC)、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、NTA(nitrilotri actiate)、N−N’−ビス(カルボキシメチル)ニトロ三酢酸、またはジエチレントリアミペンタアセテート酸(DTPA)のうちの少なくとも1つであり、前記金属が、金、銀、銅、錫、アルミニウム、ニッケル、またはパラジウムのうちの1つ、あるいはその組み合わせである請求項1に記載のビームアンテナ。
- 前記エネルギー伝送導体構造が、導波路構造、同軸伝送線構造、マイクロストリップ伝送線路構造、共平面導波路構造、バイワイヤ伝送線構造、ポゴピン・フィードイン構造、導体弾性片構造、または整合回路のうちの1つ、あるいはその組み合わせである請求項1に記載のビームアンテナ。
- 前記第1薄膜層の前記絶縁ゲルが、9000cPよりも小さい粘度を有し、前記トリガー粒子が、前記第1薄膜層において前記絶縁ゲルの0.1〜28重量%を構成する請求項1に記載のビームアンテナ。
- 前記第1材料層と前記第2材料層の間の距離が、前記ビームアンテナにより生成された最低共振モードの最小動作周波数の波長の0.39倍よりも小さい請求項1に記載のビームアンテナ。
- 前記第2材料層の厚さが、前記ビームアンテナにより生成された最低共振モードの最小動作周波数の波長の0.001〜0.15倍である請求項1に記載のビームアンテナ。
- 前記第1薄膜層の厚さが、10〜290μmである請求項1に記載のビームアンテナ。
- 前記信号源が、導波路構造、同軸伝送線構造、マイクロストリップ伝送線路構造、共平面導波路構造、バイワイヤ伝送線構造、ポゴピン・フィードイン構造、導体弾性片構造、または整合回路のうちの1つ、あるいはその組み合わせを介して前記エネルギー伝送導体構造の前記第1端子に電気結合または接続された請求項1に記載のビームアンテナ。
- 前記第1放射導体ユニットが、パッチ構造、短絡回路構造、メアンダ構造、スロット構造、またはスリット構造のうちの1つ、あるいはその組み合わせを有する請求項1に記載のビームアンテナ。
- ビームアンテナであって、
表面に接着された第1導体層および前記第1導体層に電気結合または接続された信号源を有する第1材料層と、
異なる表面にそれぞれ接着された第1薄膜層および第2薄膜層を有し、前記第1薄膜層および前記第2薄膜層が、それぞれ、
高分子材料で構成された絶縁ゲルと、
有機金属粒子、キレーション、およびエネルギーギャップが3eVより大きいかそ
れに等しい半導体材料のうちの少なくとも1つを含むとともに、レーザーエネルギー
により照射された時に活性化されるよう適合され、前記レーザーエネルギーの波長が
430nm〜1080nmの間である複数のトリガー粒子とを含む、
前記第1薄膜層と前記第2薄膜層の間に配置された第2材料層と、
前記第1薄膜層の表面に接着された少なくとも1つの第1放射導体ユニットと、
前記第2材料層との間に設置された前記第2薄膜層の表面に接着され、前記第1放射導体ユニットが電気結合または接続された少なくとも1つの第2放射導体ユニットと、
前記第1材料層と前記第2材料層の間に配置されるとともに、前記信号源に電気結合または接続された第1端子、および前記第1放射導体ユニットに電気結合または接続され、前記ビームアンテナを励起して少なくとも1つの共振モードを生成し、少なくとも1つの通信システム帯域の動作周波数をカバーする第2端子を有するエネルギー伝送導体構造と、
を含み、
前記第1薄膜層は前記第1放射導体ユニットと前記第2材料層との間に設置されたビームアンテナ。 - 前記第1薄膜層および前記第2薄膜層の前記トリガー粒子が、エネルギーギャップが3eVより大きいかそれに等しい半導体材料であり、前記半導体材料が、窒化ガリウム(GaN)、二酸化チタン(TiO2)、窒化アルミニウム(AIN)、二酸化ケイ素(SiO2)、硫化亜鉛(ZnS)、酸化亜鉛(ZnO)、炭化ケイ素(SiC)、窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)、酸化アルミニウム(Al2O3)、窒化ホウ素(BN)、または窒化ケイ素(Si3N4)のうちの1つ、あるいはその組み合わせである請求項12に記載のビームアンテナ。
- 前記第1薄膜層および前記第2薄膜層の前記トリガー粒子が、有機金属粒子であり、前記有機金属粒子の構造が、R−M−X、R−M−R’、またはR−M−Rであり、Mが、金属であり、RおよびR’が、シクロアルキル基、アルキル基、複素環基またはカルボン酸基、ハロゲン化アルキル基、芳香族炭化水素基であり、Xが、ハロゲン化合物またはアミン基であり、Mが、金、ニッケル、錫、銅、パラジウム、銀、またはアルミニウムのうちの1つ、あるいはその組み合わせである請求項12に記載のビームアンテナ。
- 前記第1薄膜層および前記第2薄膜層の前記トリガー粒子が、キレーションであり、前記トリガー粒子が、キレート剤によりキレート化された金属から形成され、前記キレート剤が、ピロリジンジチオカルバミン酸アンモニウム(APDC)、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)、NTA(nitrilotri actiate)、N−N’−ビス(カルボキシメチル)ニトロ三酢酸、またはジエチレントリアミペンタアセテート酸(DTPA)のうちの少なくとも1つであり、前記金属が、金、銀、銅、錫、アルミニウム、ニッケル、またはパラジウムのうちの1つ、あるいはその組み合わせである請求項12に記載のビームアンテナ。
- 前記エネルギー伝送導体構造が、導波路構造、同軸伝送線構造、マイクロストリップ伝送線路構造、共平面導波路構造、バイワイヤ伝送線構造、ポゴピン・フィードイン構造、導体弾性片構造、または整合回路のうちの1つ、あるいはその組み合わせである請求項12に記載のビームアンテナ。
- 前記第1薄膜層および前記第2薄膜層の前記絶縁ゲルが、9000cPよりも小さい粘度を有し、前記トリガー粒子が、前記第1薄膜層および前記第2薄膜層において前記絶縁ゲル0.1〜28重量%を構成する請求項12に記載のビームアンテナ。
- 前記第1材料層と前記第2材料層の間の距離が、前記ビームアンテナにより生成された最低共振モードの最小動作周波数の波長の0.39倍よりも小さい請求項12に記載のビームアンテナ。
- 前記第2材料層の厚さが、前記ビームアンテナにより生成された最低共振モードの最小動作周波数の波長の0.001〜0.15倍である請求項12に記載のビームアンテナ。
- 前記第1薄膜層および前記第2薄膜層の厚さが、10〜290μmである請求項12に記載のビームアンテナ。
- 前記信号源が、導波路構造、同軸伝送線構造、マイクロストリップ伝送線路構造、共平面導波路構造、バイワイヤ伝送線構造、ポゴピン・フィードイン構造、導体弾性片構造、または整合回路のうちの1つ、あるいはその組み合わせを介して前記エネルギー伝送導体構造の前記第1端子に電気結合または接続された請求項12に記載のビームアンテナ。
- 前記第1放射導体ユニットが、導波路構造、マイクロストリップ伝送線路構造、共平面導波路構造、バイワイヤ伝送線構造、スロット構造、ビアホール導体構造、または整合回路のうちの1つ、あるいはその組み合わせを介して前記第2放射導体ユニットに電気結合または接続された請求項12に記載のビームアンテナ。
- 前記第1放射導体ユニットおよび前記第2放射導体ユニットが、パッチ構造、短絡回路構造、メアンダ構造、スロット構造、またはスリット構造のうちの1つ、あるいはその組み合わせを有する請求項12に記載のビームアンテナ。
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