JP6196547B2 - 光電極及びその製造方法、色素増感太陽電池 - Google Patents
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この場合、色素で光励起された電子は半導体層を10〜20μm程度で拡散する必要があるが、上記の拡散過程において半導体層から電解液(電解質層)や色素への再結合反応(暗電流)が発生し、これが、変換効率の低下の主要因となっている。
また、透明導電層を半導体層で被覆しない構成だと、ITO等の透明導電材料からなる透明導電層には色素が吸着し難いことから、光電極、ひいては太陽電池としての特性や歩留まりが低下するおそれがあった。
請求項2に記載の発明は、光電極であって、基材上に、少なくとも、導電層、無機材料層及び色素がこの順で連続する複合層を有してなり、前記導電層は、有機材料からなる芯材が、スズドープ酸化インジウム、フッ素ドープ酸化スズ、アルミドープ酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、酸化インジウム/酸化亜鉛、及びガリウムドープ酸化亜鉛のうちの何れかからなる導電材料膜で被覆されたコアシェル構造の粒子からなる透明の導電膜であり、さらに、前記無機材料層が、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化バナジウム、及び酸化ジルコニウムのうちの何れかの無機材料からなることを特徴とする。
本発明によれば、導電層上に無機材料層及び色素が連続してなる複合層を有してなるので、色素で光励起された電子が無機材料層を経由して導電層に移動する一方、無機材料の遮蔽効果により、導電層に一度移動した電子が、電解質や色素と再結合反応するのを抑制することが可能となる。従って、高い電流値が得られるとともに、変換効率に優れた光電極が実現できる。
また、本発明によれば、導電層を、無機材料又は有機材料からなる芯材が導電材料膜で被覆された、絶縁材料と導電材料とからなる構成とすることで、芯材によって導電層における光屈折率を調整することが可能となる。これにより、導電層から電解質や色素への電子の再結合反応が生じるのを抑制しながら、色素による光励起が顕著に得られる。
本発明によれば、導電層が無機材料層で被覆され、導電層と色素との間に無機材料層が介在することで、色素で光励起された電子が無機材料層を経由して導電層に移動する一方、導電層から電解質や色素への電子の再結合反応が生じるのを確実に防止できる。
本発明によれば、無機材料層に色素が吸着することで無機材料層が被覆された構成なので、上述した無機材料層から電解質や色素への電子の再結合反応が生じるのをより効果的に抑制することが可能となる。
本発明によれば、複合層を、前記導電層と前記無機材料層とからなる多孔質構造とすることで、無機材料層上への色素が吸着可能な面積が増加し、色素の吸着量を増加させることができるので、変換効率が向上し、高い電池特性を得ることが可能となる。
本発明によれば、無機材料層の厚みを上記の適正範囲に制限することで、色素で光励起された電子を導電層に確実に拡散させながら、導電層から電解質や色素への電子の再結合反応が生じるのを確実に防止することができる。
本発明によれば、無機材料層が上記材料からなる構成とすることで、色素で光励起された電子が導電層を効果的に拡散するとともに、導電層から電解質や色素への電子の再結合反応が生じるのを確実に防止することができる。
請求項9に記載の発明は、請求項8に記載の光電極の製造方法であって、前記導電層を、粉体吹付法により、前記コアシェル構造の粒子を前記基材上に吹き付け、多孔質構造で形成することを特徴とする。
本発明によれば、導電層、無機材料層及び色素がこの順で連続する複合層を形成するにあたり、無機材料層に色素を吸着させることで、上述したように、導電層から電解質や色素への電子の再結合反応が生じるのを抑制し、高い電流値が得られるとともに変換効率に優れた光電極を製造することが可能となる。
本発明によれば、上記の光電極を備えた構成なので、高い電流値が得られるとともに変換効率に優れ、電池特性に優れた色素増感太陽電池が実現できる。
すなわち、本発明によれば、導電層上に無機材料層及び色素が連続してなる複合層を有してなるので、色素で光励起された電子が無機材料層を経由して導電層に移動する一方、無機材料の遮蔽効果により、導電層に一度移動した電子が、電解質や色素と再結合反応するのを抑制することが可能となるので、高い電流値が得られるとともに、変換効率が向上する。
従って、上記光電極を色素増感太陽電池に適用することにより、高い電流値が得られるとともに変換効率に優れ、電池特性に優れた色素増感太陽電池が実現できるという効果を奏する。
図1及び図2は、本発明の一実施形態である光電極1を示す模式断面図である。
図1に示すように、本実施形態の光電極1は、少なくとも、導電層12、無機材料層13及び色素14がこの順で連続する複合層10を有してなり、概略構成される。また、図1に例示する光電極1は、基材11上に、上記層構造とされた複合層10が積層されてなる。
このような導電層12には、例えば、スズドープ酸化インジウム(ITO)、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)、アルミドープ酸化亜鉛(AZO)、酸化スズ(SnO)、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)、酸化インジウム/酸化亜鉛(IZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(GZO)等の透光性を有する各種導電材料を用いることができる。
本発明に係る光電極に備えられる無機材料層13は、従来の光電極に備えられていた半導体層に代えて設けられるものであり、従来の半導体材料を用いた層に比べ、絶縁性が高い点で異なるものである。
無機材料層13の厚みが上記範囲内であれば、後述の色素14で光励起された電子を導電層12に確実に拡散させながら、導電層12から色素14や電解質への再結合反応が生じるのを確実に防止することができる。
無機材料層の厚みが0.2nm未満だと、無機材料層であっても絶縁性が低下することから、導電層に受け渡された電子が再び無機材料層を通ることで、色素や電解質への再結合反応が生じ易くなる。
また、無機材料層の厚みが5nmを超えると、無機材料層が厚すぎて電子が通りにくくなり、色素で光励起された電子を導電層まで受け渡すのが困難になり、電池機能が得られ難くなる。
導電層12が無機材料層13で被覆され、導電層12と色素14との間に無機材料層13が介在することで、色素14で光励起された電子が導電層12をより効果的に拡散してゆくとともに、導電層12から、色素14や、色素増感太陽電池に備えられる電解質(図3の電解質23を参照)への電子の再結合反応が生じるのを確実に防止できる。
さらに、コアシェル構造の粒子を構成する芯材12aにより、導電材料膜12bにおける光屈折率を適正に調整できる効果が得られる。
従って、導電層12を、図4に例示するようなコアシェル構造の粒子から形成し、さらに、導電層12を無機材料層13で覆うことにより、導電層12に一度移動した電子が色素14や電解質と再結合反応するのを抑制しながら、コアシェル構造とされた粒子によって光屈折率が適正化されることで、色素14における光励起が顕著となり、変換効率が向上する効果が得られる。
また、導電材料膜12bとしても、上記にて例示した透明材料等を何ら制限無く用いることができる。
図2の模式図に示すように、導電層12の表面には、この導電層12を覆うように無機材料層13が形成されている。そして、色素14は、図2中に示すようなカルボン酸基からなる色素吸着基14aが、無機材料層13を構成する金属酸化物の金属(M:メタル)と結合することで、色素主骨格Aが無機材料層13に吸着され、色素14で無機材料層13の表面を被覆した状態となる。
次に、本発明に係る光電極の製造方法の一実施形態について、主に図5(a)〜(c)の工程図を参照しながら説明する(図1及び図3も適宜参照)。
本実施形態の製造方法は、図1に示すような光電極1を製造するにあたり、少なくとも、導電層12の表面に無機材料層13を積層した後、この無機材料層13に色素14を吸着させる工程を備える。
以下、本実施形態の製造方法に備えられる各工程について詳述する。
まず、導電層形成工程においては、図5(a)に示すように、PENフィルム又はPETフィルム等からなる基材11の一方の面に、スパッタリング法や印刷法等により、ITO等からなる透明の導電層12を形成する。
より具体的には、例えば、ITO等の透明導電膜材料を含むペーストを作製し、基材11上に上記ペーストを所定面積で塗布した後、大気雰囲気下において所定温度及び時間での焼成もしくは乾燥を行うことで、基材11上に多孔質構造の導電層12を積層することができる。
無機材料層13の形成方法としては、特に限定されず、従来からこの分野で用いられている成膜方法を用いることができる。具体的には、例えば、上記手順で得られた基材11及び導電層12の積層物を、アルミニウムテトライソプロポキシドを0.5質量%で含有したイソプロパノール溶液に浸漬させ、この状態において70℃・30分間の条件で処理した後、エタノール溶液で上記の積層物を洗浄することにより、導電層12上にAlOxからなる無機材料層13を形成することが可能である。
次に、原料粒子である無機材料からなる粒子を搬送ガス中に分散させて、亜音速〜超音速程度まで加速させ、導電層12の表面に吹き付ける。この際に吹き付ける無機材料の粒子の平均粒径は、例えば、10nm以上500nm未満であることが好ましい。無機材料からなる粒子の平均粒径を500nm未満とすることにより、導電層12又は既に堆積している無機材料の粒子に衝突した際に、この粒子を砕くことなく、吹き付け時の粒径を保持した状態で成膜することができる。また、無機材料からなる粒子の平均粒径を10nm以上とすることにより、色素14を吸着するための十分な表面積の確保が可能な連通孔を有する多孔質膜として、無機材料層13を形成することができる。
上述のような無機材料層形成工程により、図5(b)に示すように、導電層12の上に無機材料からなる粒子が結合されてなる、所定の膜厚の無機材料層13を形成する。
次に、図5(c)に示すように、無機材料層13の表面に色素14を吸着させる。
具体的には、例えば、まず、アセトニトリルとtert−ブタノールとを1:1で混合させた混合溶液中に、増感色素N719を0.3mMの濃度で溶解させた色素溶液を調整する。
次いで、この色素溶液中に、上記の無機材料層13までが形成された積層物を、例えば、20時間で浸漬させることにより、色素14を無機材料層13の表面に吸着させる。
図3は、本発明の一実施形態である色素増感太陽電池2を示す模式断面図である。
図3に示すように、本実施形態の色素増感太陽電池2は、上述した本実施形態の光電極1を備えてなるものであり、光電極1の複合層10の上に、さらに、光電極1の基材11との間で一定の厚み寸法を有するように配置された対向基材21と、この対向基材21の板面上に形成された対向電極22と、複合層10と対向電極22との間の空隙部に重点された電解質23とを備えて構成される。
このような樹脂材料を対向基材21に用いることにより、軽量で薄く、フレキシブルな色素増感太陽電池2を製造することが可能となる。
例えば、まず、光電極1と、対向基材21上に形成された対向電極22との間に電解質23を配置して封止し、必要に応じて、光電極1及び/又は対向電極22に図視略の引き出し配線を電気的に接続することにより、本実施形態の色素増感太陽電池2を製造することができる。
以上説明したように、本発明に係る光電極1によれば、導電層12上に無機材料層13及び色素14が連続してなる複合層10を有してなるので、色素14で光励起された電子が無機材料層13を経由して導電層12に移動する一方、無機材料層13の遮蔽効果により、導電層12に一度移動した電子が、色素14や電解質と再結合反応するのを抑制することが可能となるので、高い電流値が得られるとともに、変換効率が向上する。
従って、光電極1を色素増感太陽電池2に適用することにより、高い電流値が得られるとともに変換効率に優れ、電池特性に優れた色素増感太陽電池2が実現できるという効果を奏する。
(多孔質構造を有する導電層の形成)
まず、アンチモンドープ酸化スズ(ATO)粒子(粒径φ19nm):19質量%、エチルセルロース:9質量%、テルピネオール:72質量%からなるペーストを作成した。
次いで、透明導電材料からなる基材として、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)膜を配したガラス基板を準備し、上記手順で得られたペーストを、スクリーン印刷法を用いて4mm×4mmの面積でFTO膜上に塗布した。
次いで、上記手順でペーストが塗布された積層物を、大気雰囲気下で500℃・30分間の焼成処理を行うことにより、表層が多孔質層とされた導電層を形成した。
次に、上記手順で多孔質構造の導電層までが形成された積層物を、アルミニウムテトライソプロポキシドを0.5質量%で含有するイソプロパノール溶液に浸漬させ、この状態で70℃・30分間の条件で処理した。
そして、浸漬後の積層物をエタノール溶液で洗浄することにより、導電層上に、AlOxからなる無機材料層を形成した。
次に、アセトニトリルとtert−ブタノールとを1:1の割合で混合した混合溶液に、増感色素N719を0.3mMの濃度で溶解させた色素溶液を調整した。
そして、この色素溶液中に、無機材料層までを形成した積層物を20時間で浸漬させることにより、上記の増感色素を無機材料層に吸着させた。
(絶縁性を有する無機材料層の形成)
上記実施例1と同様の手順で導電層までが形成された積層物を、酸化マグネシウム(MgO)を0.5質量%で含有したイソプロパノール溶液に浸漬させ、この状態で、70℃・30分間で処理した。
その後、上記処理後の積層物をエタノール溶液で洗浄し、MgOXからなる無機材料層までが形成された積層物を得た。
そして、その後の工程は上記実施例1と同様として、MgOXからなる無機材料層に色素が吸着した、実施例2の光電極を作製した。
(半導体層の形成)
FTO膜を配したガラス基板上に、ソラロニクス社の酸化チタンペースト(Ti−Nanoxide TL)を、ブレード法を用いて印刷した。
そして、120℃・30分間で低温乾燥させることで多孔質構造の半導体層を形成した後、この半導体層に、実施例1と同様の手順で色素を吸着させることにより、比較例1の光電極を作製した。
(半導体層の形成)
上記実施例1と同様の手順で導電層までが形成された積層物を、チタンテトライソプロポキシドを0.5質量%で含有したイソプロパノール溶液に浸漬させ、この状態で、70℃・30分間で処理した。
その後、上記処理後の積層物をエタノール溶液で洗浄し、TiOXからなる半導体層までが形成された積層物を得た。
そして、その後の工程は上記実施例1と同様として、半導体層に色素が吸着した比較例2の光電極を作製した。
無機材料層を形成せずに、導電層に色素を吸着させた点以外は、実施例1と同様の手順で、比較例3の光電極を作製した。
(色素増感太陽電池の作製)
上記実施例1、2及び比較例1〜3で作製した光電極と、白金製の対向電極とを、厚さ30μmの樹脂性ガスケット(セパレーター:商品名;ハイミラン)を介して重ね合せてクリップ止めした。
そして、光電極と対向電極との間に電解液を注入することにより、各例の色素増感太陽電池を組み立てた。なお、上記の対向電極は、ガラス基板の表面に白金がコーティングされた構成を有する。また、電解液としては、0.05M:ヨウ素、0.6M:ジメチルプロピルイミダゾリウムヨージド、0.1M:ヨウ化リチウムを、溶媒であるアセトニトリルに溶解して得られた電解液を用いた。
次に、上記手順で得られた色素増感太陽電池の暗電流を測定した。
この暗電流とは、太陽光が入射しない状態で測定した電流値であり、通常の太陽光を照射した状態で測定した場合とは逆の電流値特性を確認するものである。
再結合頻度を評価するための指標として、暗状態(太陽光が入射しない状態)でのIV曲線を実測で取得し、0Vにおける傾きを並列抵抗として評価した。この並列抵抗は、電圧をδV微小変化させた場合のリーク電流δIで、[並列抵抗]=δV/δIで表され、並列抵抗が大きいほどリーク電流δIが小さくなる。同一バイアスにおけるリーク電流の流れやすさは、逆反応(即ち再結合反応)の発生のしやすさを示すものであり、並列抵抗が大きいほど逆反応が発生しにくいことを意味する。
下記表2に、各実施例及び比較例の評価試験結果を示す。
表2の結果に示すように、本発明に係る構成、即ち、導電層、無機材料層及び色素がこの順で連続する複合層を有してなる光電極を用いて作製した実施例1、2の色素増感太陽電池は、比較例1〜3に比べて並列抵抗が大きな値となり、再結合(逆反応)頻度が低いことが明らかとなった。
また、比較例2で作製した色素増感太陽電池も、導電層を半導体層で被覆した構成の光電極を用いたため、並列抵抗が407(Ω)と、比較例1よりもさらに低く、再結合頻度が非常に高いものであることが確認された。
また、比較例3で作製した色素増感太陽電池は、導電層上に直接色素を積層した構成の光電極を用いたため、並列抵抗が615(Ω)と、実施例1、2に比べて低く、上記同様、再結合頻度が高いものであることが確認された。
10…複合層、
11…基材、
12…導電層、
12a…芯材、
12b…導電材料膜、
13…無機材料層、
14…色素、
14a…色素吸着基、
A…色素主骨格、
2…色素増感太陽電池、
21…対向基材、
22…対向電極、
23…電解質、
Claims (10)
- 基材上に、少なくとも、導電層、無機材料層及び色素がこの順で連続する複合層を有してなり、
前記導電層は、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化バナジウム、及び酸化ジルコニウムのうちの何れかの無機材料からなる芯材が、スズドープ酸化インジウム、フッ素ドープ酸化スズ、アルミドープ酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、酸化インジウム/酸化亜鉛、及びガリウムドープ酸化亜鉛のうちの何れかからなる導電材料膜で被覆されたコアシェル構造の粒子からなる透明の導電膜であり、
さらに、前記無機材料層が、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化バナジウム、及び酸化ジルコニウムのうちの何れかの無機材料からなることを特徴とする光電極。 - 基材上に、少なくとも、導電層、無機材料層及び色素がこの順で連続する複合層を有してなり、
前記導電層は、有機材料からなる芯材が、スズドープ酸化インジウム、フッ素ドープ酸化スズ、アルミドープ酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、酸化インジウム/酸化亜鉛、及びガリウムドープ酸化亜鉛のうちの何れかからなる導電材料膜で被覆されたコアシェル構造の粒子からなる透明の導電膜であり、
さらに、前記無機材料層が、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化バナジウム、及び酸化ジルコニウムのうちの何れかの無機材料からなることを特徴とする光電極。 - 前記導電層が前記無機材料層で被覆されていることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光電極。
- 前記複合層は、前記無機材料層に前記色素が吸着し、且つ、前記無機材料層の表面の少なくとも一部が前記色素で被覆されるように連続してなる層であることを特徴とする請求項1〜請求項3の何れか一項に記載の光電極。
- 前記複合層は、前記導電層と前記無機材料層とからなる多孔質構造とされていることを特徴とする請求項1〜請求項4の何れか一項に記載の光電極。
- 前記無機材料層の厚みが0.2〜5nmの範囲であることを特徴とする請求項1〜請求項5の何れか一項に記載の光電極。
- 前記無機材料層を構成する無機材料が、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化バナジウム、酸化ジルコニウムのうちの何れかであることを特徴とする請求項1〜請求項6の何れか一項に記載の光電極。
- 請求項1〜請求項7の何れか一項に記載の光電極を製造する方法であって、
少なくとも、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化バナジウム、及び酸化ジルコニウムのうちの何れかの無機材料、又は有機材料からなる芯材が、スズドープ酸化インジウム、フッ素ドープ酸化スズ、アルミドープ酸化亜鉛、酸化スズ、アンチモンドープ酸化スズ、酸化インジウム/酸化亜鉛、及びガリウムドープ酸化亜鉛のうちの何れかからなる導電材料膜で被覆されたコアシェル構造の粒子からなる透明の導電層の表面に、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化バナジウム、及び酸化ジルコニウムのうちの何れかの無機材料からなる無機材料層を積層した後、該無機材料層に色素を吸着させる工程を備えることを特徴とする光電極の製造方法。 - 前記導電層を、粉体吹付法により、前記コアシェル構造の粒子を前記基材上に吹き付け、多孔質構造で形成することを特徴とする請求項8に記載の光電極の製造方法。
- 請求項1〜請求項7の何れか一項に記載の光電極を備えてなることを特徴とする色素増感太陽電池。
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