JP6192217B2 - 処理システム制御器、及びこの処理システム制御器を用いた処理システム条件設定装置、処理システム - Google Patents
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Description
このディスク型処理装置は、例えば、工業用原材料、中間製品等の含水処理対象物に関して、含水量を減らして容積の減容する場合においても用いられている。
請求項1に記載の発明は、含水処理対象物と処理補助物とが混合手段に投入され、前記混合手段によって前記含水処理対象物と前記処理補助物とを混合して処理対象物を形成し、前記処理対象物をディスク型処理装置に供給して、前記ディスク型処理装置内に配置された回転軸の軸線方向に形成され前記回転軸周りに回転する複数のディスクと前記ディスクに設けられた送り羽根によって撹拌し前記軸線方向に移送しながら前記処理対象物が含有する水分量を減量して処理物を生成する処理システムに適用される処理システム制御器であって、前記混合手段に投入する前記含水処理対象物及び前記処理補助物の比率と、前記ディスク型処理装置内における前記ディスクへの前記処理対象物の付着状況とを対応させて、前記比率を適正範囲に設定するように構成された処理条件設定部を備えていることを特徴とする。
その結果、ディスク型処理装置内で処理物を生成する処理システムで含水処理対象物を処理する際に、処理対象物がディスク型処理装置内に付着等するのを抑制可能な処理対象物を形成することができる。その結果、含水処理対象物を処理システムによって効率的かつ安定して処理することができる。
この明細書において、含水処理対象物とは、例えば、活性汚泥、原料、中間生成物等、余剰の水分を含有しており、水分を減少させる対象をいう。
また、処理物とは、ディスク型処理装置により処理されて、定常状態において、所定の性状を有するものであり、ディスク型処理装置の排出口から排出されるものの他、排出口の上流側に形成された採取口から採取するものを含む概念である。
また、処理補助物とは、含水処理対象物と混合することにより含水処理対象物の性状を調整する物であり、例えば、原料、中間生成物等と混合する補助的材料や、ディスク型処理装置で処理されてリターンされる処理物やその後一旦貯留された処理物、他のプラント等で処理されて生成された処理物を含む。
その結果、ディスク型処理装置内で処理物を生成する処理システムで含水処理対象物を処理する際に、処理対象物がディスク型処理装置内に付着するのを抑制しつつ処理対象物を形成することができる。その結果、含水処理対象物を処理システムによって効率的かつ安定して処理することができる。
本発明に係る処理システム条件設定装置によれば、処理する際の処理対象物の挙動、生成される処理物の性状等と対応する含水処理対象物と含水処理対象物との混合比率を、効率的に設定することができる。
本発明に係る処理システムによれば、処理システムにおいて、ディスク型処理装置により、含水処理対象物を安定的かつ効率的に処理物に処理することができる。
以下、図1から図9を参照して、この発明の第1の実施形態に係る処理システム条件設定装置について説明する。図1〜図4は、第1の実施形態に係る処理システム条件設定装置の概略構成を示す正面図であり、図5、図6は、処理システム条件設定装置の概略構成を説明する系統図である。
図1において、符号1は処理システム条件設定装置を、符号M1は活性汚泥(含水処理対象物を、符号M10は処理対象物を、符号M20は処理物を示しており処理物M20の一部は処理補助物を構成している。
また、処理物M20の排出量を調整することにより、処理対象物M10及び処理物M20のドラム11内の滞留時間を調整できるようになっている。
そして、中空回転軸2の一方側は、ドラム11の外側においてスプロケットが連結され、スプロケットは、チェーン等の伝達機構を介して、モータ等からなる図示しない駆動源と連結されていて、この駆動源が駆動されてスプロケットを回転することにより、中空回転軸2が回転するように構成されている。
また、中空回転軸2内を流通する熱媒体は、各ディスク17に供給されるようになっている。
パイプ17Bは、例えば、中空回転軸16の周方向に間隔をあけて複数配置され、それぞれ中空回転軸16の外周面に開口され、外周面から内方に向かって延在された構成とされている。
かかる構成により、ミキシングコンベア25は、適度な混合状態の処理対象物M10を形成して、投入口12に移送することができるようになっている。
バグフィルタ31は、ディスク方処理装置10から排出されるキャリアエアと、図示しないコンプレッサから供給される圧縮エアと、蒸気供給装置40から供給される蒸気とが導入されてダストを分離するとともに、蒸気を含んだ廃気をコンデンサ32に移送するように構成されている。
ボイラ41は、原水を軟水器42により改質して軟水タンク43に貯留された軟水に、薬注器44から軟水タンク43に注入された薬品によりカルシウム分等の付着が抑制するようにされた水が供給され、燃料タンク45から供給された燃料で軟水を加熱、沸騰させてスチームヘッダ47に移送して貯留するようになっている。
図9(A)、図9(Bに示した混合比は、フライトコンベア21のロータリーバルブRV01の設定値と、ディスク型処理装置10の運転条件は、例えば、ゲート制御用電動シリンダGC01の設定値と対応している。
(1)まず、含水処理対象物ホッパ26Aに活性汚泥M1を投入して、ディスク型処理装置10により処理する。このとき、予め準備した処理物M20を、最初から混合してもよいし、処理物M20が生成されるまで、活性汚泥M1のみを供給してもよい。
また、処理物M20の性状(水分量、温度等)は、ゲート制御用電動シリンダGC01の高さ調整によりおこなう。
(4)次いで、ディスク型処理装置10に投入された処理物対象物M10の挙動と、処理物M20の性状とを観察して、データ入力機器51Aを介して入力し、処理物対象物M10の挙動と、処理物M20とを、ロータリーバルブRV01、回転駆動部MC01、ゲート制御用電動シリンダGC01の設定値と対応させる。
次に、図10を参照して、この発明の第2の実施形態に係る処理システムについて説明する。
図10は、本発明の第2の実施形態に係る処理システムの概略構成を示す図であり、符号1Aは、処理システムを示している。
また、フライトコンベア21への投入量調整をロータリーバルブRV01以外によりおこない、又はミキシングコンベア25における混合条件の調整を回転駆動部MC01以外によりおこなってもよい。
M10 処理対象物
M20 処理物(処理補助物)
MC01 回転駆動部
GC01 ゲート制御用電動シリンダ
RV01 ロータリーバルブ
1 処理システム条件設定装置
10 ディスク型処理装置
20 還流手段
21 フライトコンベア(移送手段)
25 ミキシングコンベア(混合手段)
50 制御部(処理システム制御器)
Claims (7)
- 含水処理対象物と処理補助物とが混合手段に投入され、前記混合手段によって前記含水処理対象物と前記処理補助物とを混合して処理対象物を形成し、前記処理対象物をディスク型処理装置に供給して、前記ディスク型処理装置内に配置された回転軸の軸線方向に形成され前記回転軸周りに回転する複数のディスクと前記ディスクに設けられた送り羽根によって撹拌し前記軸線方向に移送しながら前記処理対象物が含有する水分量を減量して処理物を生成する処理システムに適用される処理システム制御器であって、
前記混合手段に投入する前記含水処理対象物及び前記処理補助物の比率と、前記ディスク型処理装置内における前記ディスクへの前記処理対象物の付着状況とを対応させて、前記比率を適正範囲に設定するように構成された処理条件設定部を備えていることを特徴とする処理システム制御器。 - 請求項1に記載の処理システム制御器であって、
前記処理条件設定部は、
前記混合手段に投入する前記含水処理対象物及び前記処理補助物の比率と、前記ディスク型処理装置内で生成される前記処理物の性状とを対応させて、前記比率を適正範囲に設定するように構成されていることを特徴とする処理システム制御器。 - 請求項1又は請求項2に記載の処理システム制御器であって、
前記処理条件設定部は、
前記含水処理対象物と前記処理補助物とを混合して前記処理対象物を生成する混合手段と、前記混合手段で形成された処理対象物が供給されて前記処理対象物が含有する水分量を減量して処理物を生成するディスク型処理装置と、前記混合手段に投入する前記処理補助物の投入量調整手段と、を備えた処理システムにおいて、
前記含水処理対象物と前記処理補助物とが前記混合手段に所定比率で投入されるように、前記投入量調整手段を制御することを特徴とする処理システム制御器。 - 請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の処理システム制御器であって、
前記処理条件設定部は、
前記含水処理対象物と前記処理補助物とを混合して前記処理対象物を生成する混合手段と、前記混合手段で形成された処理対象物が供給されて前記処理対象物が含有する水分量を減量して処理物を生成するディスク型処理装置と、前記ディスク型処理装置で処理された前記処理物の一部を前記処理補助物として前記混合手段に移送する移送手段と、を備えた処理システムにおいて、
前記混合手段に前記処理補助物と前記含水処理対象物とが所定比率で投入されるように、前記ディスク型処理装置から前記混合手段に移送する前記処理物の量を制御することを特徴とする処理システム制御器。 - 請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の処理システム制御器であって、
前記処理条件設定部は、
前記混合手段に投入する前記含水処理対象物及び前記処理補助物の比率と、前記ディスク型処理装置内における前記ディスクへの前記処理対象物の付着状況とを対応させて、前記比率の適正範囲を記憶可能に構成されていることを特徴とする処理システム制御器。 - 請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の処理システム制御器を備えることを特徴とする処理システム条件設定装置。
- 請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の処理システム制御器を備えることを特徴とする処理システム。
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