JP6189426B2 - Magnetoresistive gear sensor - Google Patents

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チャンスー マルチディメンション テクノロジー カンパニー リミテッド
チャンスー マルチディメンション テクノロジー カンパニー リミテッド
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Description

本発明は、歯車センサの技術分野に関し、特にMTJ素子を検知素子とした磁気抵抗歯車センサに関する。   The present invention relates to the technical field of gear sensors, and more particularly to a magnetoresistive gear sensor using an MTJ element as a sensing element.

歯車センサは主に自動制御システムに応用され、歯車の回転速度及び回転方向を測定する。現在、一般的に使われる歯車センサは光学センサ及び磁気センサである。機械式回転システムでは、振動、衝撃、油汚れ等の悪環境に対し、磁気センサは光学センサに比べて大きな優位をもっている。公知の技術では、異なる種類の磁気センサが多く存在しており、例えばホール(Hall)素子、異方性磁気抵抗(AMR)素子又は巨大磁気抵抗(GMR)を検知素子とした磁気センサが挙げられる。   The gear sensor is mainly applied to an automatic control system, and measures a rotation speed and a rotation direction of a gear. Currently, commonly used gear sensors are optical sensors and magnetic sensors. In the mechanical rotation system, the magnetic sensor has a great advantage over the optical sensor against bad environments such as vibration, shock, and oil contamination. In the known technology, there are many different types of magnetic sensors, for example, a magnetic sensor using a Hall element, an anisotropic magnetoresistance (AMR) element, or a giant magnetoresistance (GMR) as a sensing element. .

ホール素子を検知素子とした磁気センサは感度が非常に低く、通常では、フラックスコンセントレータを用いて磁場を拡大することでホール素子の感度を高める必要があるが、これによってホール素子を検知素子とした磁気センサの大きさ及び重量が増える。また、ホール素子を検知素子とした磁気センサは消費電力が高く、線形性が悪いといった欠点を有する。AMR素子の感度はホール素子より高いが、AMR素子の線形動作範囲が狭い。AMR素子を検知素子とした磁気センサには「set/reset」コイルを配置して、設定/復帰操作を行う必要があるため、AMR素子を検知素子とした磁気センサの製造プロセスが複雑化になるだけではなく、AMR素子を検知素子とした磁気センサの大きさ及び消費電力ともに増加してしまう。GMR素子を検知素子とした磁気センサはホール素子を検知素子としたセンサよりも高い感度をもつが、GMR素子を検知素子とした磁気センサの線形動作範囲が狭い。更に、GMR素子の応答曲線が偶対称となっているため、GMR素子を検知素子とした磁気センサが単極性の勾配磁場しか測定できず、両極性の勾配磁場を測定することができない。   Magnetic sensors using Hall elements as sensing elements have very low sensitivity, and normally it is necessary to increase the sensitivity of the Hall elements by expanding the magnetic field using a flux concentrator. The size and weight of the magnetic sensor increases. In addition, a magnetic sensor using a Hall element as a detection element has disadvantages such as high power consumption and poor linearity. The sensitivity of the AMR element is higher than that of the Hall element, but the linear operation range of the AMR element is narrow. A magnetic sensor using an AMR element as a detection element needs to be set / reset by arranging a “set / reset” coil, which complicates the manufacturing process of the magnetic sensor using the AMR element as a detection element. In addition, the size and power consumption of a magnetic sensor using an AMR element as a sensing element increase. A magnetic sensor using a GMR element as a detection element has higher sensitivity than a sensor using a Hall element as a detection element, but the linear operation range of the magnetic sensor using a GMR element as a detection element is narrow. Further, since the response curve of the GMR element is even-symmetrical, a magnetic sensor using the GMR element as a sensing element can measure only a unipolar gradient magnetic field and cannot measure a bipolar gradient magnetic field.

近年、新しいタイプの磁気抵抗効果センサ、すなわち磁気トンネル接合(MTJ、Magnetic Tunnel Junction)素子を検知素子とした磁気センサが産業上応用され始めている。MTJ素子を検知素子とした磁気センサの動作原理は、磁性多層膜材料のトンネル磁気抵抗(TMR、Tunnel Magnetorsistance)効果を利用して磁場を検知する。MTJ素子はそれより以前に用いられたAMR素子及びGMR素子より大きい抵抗変化率を有する。ホール素子と比べて、MTJ素子は良好な温度安定性、高感度、低消費電力、良い線形性を有し、余計なフラックスコンセントレータも必要としない。AMR素子と比べて、MTJ素子は良好な温度安定性、高感度、幅広い線形動作範囲を有し、余計な「set/reset」コイル構造も必要としない。GMR素子と比べて、MTJ素子は良好な温度安定性、高感度、低消費電力、幅広い線形動作範囲を有する。 In recent years, a new type of magnetoresistive effect sensor, that is, a magnetic sensor using a magnetic tunnel junction (MTJ) element as a detection element has begun to be applied industrially. The principle of operation of a magnetic sensor using an MTJ element as a detection element is to detect a magnetic field by using a tunnel magnetoresistance (TMR) effect of a magnetic multilayer film material. The MTJ element has a higher resistance change rate than the previously used AMR element and GMR element. Compared to the Hall element, the MTJ element has good temperature stability, high sensitivity, low power consumption, and good linearity, and does not require an extra flux concentrator. Compared to AMR elements, MTJ elements have good temperature stability, high sensitivity, a wide linear operating range, and do not require an extra “set / reset” coil structure. Compared to GMR elements, MTJ elements have good temperature stability, high sensitivity, low power consumption, and a wide linear operating range.

通常では、歯車検知用の磁気センサはプリント基板(PCB)式を採用した構造である。PCB式の歯車センサは、通常では、磁気センサチップ、周辺電気回路及び永久磁石で構成されている。磁気センサチップは、その所在する物理的位置における永久磁石により生じた外部磁場Happlyの変化を検知して検知信号を出力しており、周辺電気回路は、磁気センサチップにより出力される検知信号に対して処理及び変換を行う。磁気センサチップの所在する物理的位置における永久磁石により生じた外部磁場Happlyの変化は非常に弱い。従って、PCB式の歯車センサの応用においては、永久磁石により生じた外部磁場Happly以外の干渉磁場による干渉を防止することが喫緊の課題である。 Normally, the magnetic sensor for gear detection has a structure employing a printed circuit board (PCB) type. A PCB-type gear sensor is usually composed of a magnetic sensor chip, a peripheral electric circuit, and a permanent magnet. The magnetic sensor chip detects a change in the external magnetic field H apply generated by the permanent magnet at the physical position where the magnetic sensor chip is located, and outputs a detection signal. The peripheral electric circuit outputs a detection signal output from the magnetic sensor chip. Processing and conversion are performed. The change in the external magnetic field H apply caused by the permanent magnet at the physical location where the magnetic sensor chip is located is very weak. Therefore, in the application of the PCB type gear sensor, it is an urgent task to prevent interference caused by an interference magnetic field other than the external magnetic field H apply generated by the permanent magnet.

MTJ素子は高い感度を有するが、MTJ素子を検知素子とした磁気センサは以下の欠点を有する。 Although the MTJ element has high sensitivity, a magnetic sensor using the MTJ element as a sensing element has the following drawbacks.

(1)永久磁石により生じた外部磁場HapplyがMTJ素子の検知方向に沿う分量が大きく、線形動作範囲からはずれることによりMTJ素子の性能低下を引き起こし、更にMTJ素子が飽和状態に達することにより動作できなくなることを招いてしまう。 (1) The amount of the external magnetic field Happly generated by the permanent magnet is large along the detection direction of the MTJ element, causing the MTJ element to deteriorate in performance by deviating from the linear operation range, and further operating when the MTJ element reaches saturation. It invites you to become impossible.

(2)磁気センサチップがその所在する物理的位置における永久磁石により生じた外部磁場Happlyの変化を検知する際に、永久磁石により生じた外部磁場Happly以外の干渉磁場による干渉を受けやすい。 (2) When the magnetic sensor chip detects a change in the external magnetic field H apply generated by the permanent magnet at the physical position where the magnetic sensor chip is located, the magnetic sensor chip is susceptible to interference by an interference magnetic field other than the external magnetic field H apply generated by the permanent magnet.

(3)歯車の歯の位置を確定できず、また、歯車の歯が欠けた場合に、その欠けた歯の具体位置を確定できない。 (3) The position of the gear teeth cannot be determined, and when the gear teeth are missing, the specific position of the missing teeth cannot be determined.

(4)歯車の運動方向を確定することができない。 (4) The direction of gear movement cannot be determined.

(5)低コストで、大規模の生産を実現し難い。 (5) It is difficult to realize large-scale production at low cost.

従って、歯車の移動状態を精確に検知することができる歯車センサが望まれている。 Therefore, a gear sensor that can accurately detect the movement state of the gear is desired.

本発明は、磁気抵抗歯車センサを提供することを目的とする。
本発明で提供する磁気抵抗歯車センサは、磁気センサチップ及び第1永久磁石を含み、前記磁気センサチップは、少なくとも1つのブリッジを含み、該ブリッジの各アームは少なくとも1つのMTJ素子グループを含む。
An object of the present invention is to provide a magnetoresistive gear sensor.
The magnetoresistive gear sensor provided in the present invention includes a magnetic sensor chip and a first permanent magnet, and the magnetic sensor chip includes at least one bridge, and each arm of the bridge includes at least one MTJ element group.

前記磁気抵抗歯車センサは、前記磁気センサチップと前記第1永久磁石との間に配置される凹形状の軟磁性体を更に含み、且つ、前記軟磁性体の開口は前記磁気センサチップに向けていることが好適である。   The magnetoresistive gear sensor further includes a concave soft magnetic body disposed between the magnetic sensor chip and the first permanent magnet, and the opening of the soft magnetic body faces the magnetic sensor chip. It is preferable that

前記少なくとも1つのMTJ素子グループは複数のMTJ素子グループであり、該複数のMTJ素子グループは直列及び/又は並列に接続されていることが好適である。   Preferably, the at least one MTJ element group is a plurality of MTJ element groups, and the plurality of MTJ element groups are connected in series and / or in parallel.

複数のMTJ素子グループは、同じ検知方向で直列及び/又は並列に接続されていることが好適である。   The plurality of MTJ element groups are preferably connected in series and / or in parallel in the same detection direction.

MTJ素子グループを含む全てのアームは、同じ検知方向を有することが好適である。   All the arms including the MTJ element group preferably have the same detection direction.

前記ブリッジは、ハーフブリッジ、フルブリッジ又はダブルフルブリッジであることが好適である。   The bridge is preferably a half bridge, a full bridge, or a double full bridge.

各MTJ素子グループは、直列及び/又は並列に接続される複数のMTJ素子を含むことことが好適である。   Each MTJ element group preferably includes a plurality of MTJ elements connected in series and / or in parallel.

各MTJ素子グループは、同じ検知方向で直列及び/又は並列に接続される複数のMTJ素子を含むことが好適である。   Each MTJ element group preferably includes a plurality of MTJ elements connected in series and / or in parallel in the same detection direction.

各MTJ素子は多層膜の構造であり、順次に堆積されるピンニング層、ピンド層、トンネルバリア層及び磁性自由層を含むことが好適である。   Each MTJ element has a multilayer structure, and preferably includes a pinning layer, a pinned layer, a tunnel barrier layer, and a magnetic free layer which are sequentially deposited.

前記各MTJ素子グループの両側には一対の第2永久磁石が設けられ、前記MTJ素子グループにバイアス磁界を提供するため、各対の第2永久磁石は対応するMTJ素子グループの検知方向に対して傾斜して配置されていることが好適である。   A pair of second permanent magnets are provided on both sides of each MTJ element group, and each pair of second permanent magnets has a detection direction of the corresponding MTJ element group in order to provide a bias magnetic field to the MTJ element group. It is preferable that the arrangement is inclined.

前記各MTJ素子グループの両側には一対の第2永久磁石が設けられ、前記MTJ素子グループのネールカップリング磁場を取り消すため、各対の第2永久磁石は対応するMTJ素子グループの検知方向に対して傾斜して配置されていることが好適である。   A pair of second permanent magnets are provided on both sides of each MTJ element group, and each pair of second permanent magnets has a detection direction of the corresponding MTJ element group in order to cancel the nail coupling magnetic field of the MTJ element group. It is preferable that they are arranged inclined.

前記MTJ素子グループのネールカップリング磁場を更に取り消すため、各対の第2永久磁石は対応するMTJ素子グループの検知方向に対して傾斜して配置されていることが好適である。   In order to further cancel the nail coupling magnetic field of the MTJ element group, it is preferable that the second permanent magnets of each pair are arranged to be inclined with respect to the detection direction of the corresponding MTJ element group.

各MTJ素子は多層膜の構造であり、順次に堆積されるピンニング層、ピンド層、トンネルバリア層、磁性自由層及びバイアス層を含むことが好適である。   Each MTJ element has a multilayer structure, and preferably includes a pinning layer, a pinned layer, a tunnel barrier layer, a magnetic free layer, and a bias layer, which are sequentially deposited.

各MTJ素子は、前記磁性自由層と前記バイアス層との間に設けられる隔離層を更に含むことが好適である。   Each MTJ element preferably further includes an isolation layer provided between the magnetic free layer and the bias layer.

前記磁気抵抗歯車センサは、前記磁気センサチップと電気的に接続される制御回路を更に含むことが好適である。   It is preferable that the magnetoresistive gear sensor further includes a control circuit electrically connected to the magnetic sensor chip.

前記制御回路は、前記磁気センサチップから出力される電圧信号と歯車の歯の位置との対応関係に基づいて、歯の位置を確定することが好適である。   It is preferable that the control circuit determines a tooth position based on a correspondence relationship between a voltage signal output from the magnetic sensor chip and a gear tooth position.

前記磁気センサチップはダブルフルブリッジを含み、前記ダブルフルブリッジの各アームはMTJ素子グループを含み、前記制御回路は前記磁気センサチップから出力される電圧信号に基づいて歯車の運動方向を確定することが好適である。   The magnetic sensor chip includes a double full bridge, each arm of the double full bridge includes an MTJ element group, and the control circuit determines a movement direction of a gear based on a voltage signal output from the magnetic sensor chip. Is preferred.

前記磁気抵抗歯車センサはケーシングを更に含むことが好適である。   It is preferable that the magnetoresistive gear sensor further includes a casing.

本発明は以下の有益な効果を有する。 The present invention has the following beneficial effects.

(1)前記センサはMTJ素子を検知素子としており、ホール素子、AMR素子又はGMR素子を検知素子としたセンサと比べて、前記センサの温度安定性が良く、感度が高く、消費電力が低く、線形性が良く、線形動作範囲が広く、構造が簡単になる。 (1) The sensor uses an MTJ element as a detection element, and has a higher temperature stability, higher sensitivity, and lower power consumption than the sensor using a Hall element, an AMR element, or a GMR element as a detection element. Good linearity, wide linear operating range, and simple structure.

(2)前記センサに凹形状の軟磁性体が設けられており、永久磁石により生じた外部磁場におけるMTJ素子の検知方向に沿う分量を低減させることで、磁気センサチップ中のMTJ素子をその線形動作範囲内に動作させることを保証し、前記センサの性能を大きく改善することができる。 (2) The sensor is provided with a concave soft magnetic material, and the amount of the MTJ element in the magnetic sensor chip is linearly reduced by reducing the amount along the detection direction of the MTJ element in the external magnetic field generated by the permanent magnet. It can be ensured that it operates within the operating range, and the performance of the sensor can be greatly improved.

(3)前記センサの磁気センサチップにフルブリッジを採用することにより、前記センサは、永久磁石により生じた外部磁場以外の干渉磁場による干渉を受け難くなる。 (3) By adopting a full bridge for the magnetic sensor chip of the sensor, the sensor is less susceptible to interference by an interference magnetic field other than an external magnetic field generated by a permanent magnet.

(4)1つの好適的な実施例では、MTJ素子グループの両側に一対の傾斜した永久磁石を配置し、該傾斜した永久磁石により生じる磁場におけるMTJ素子の検知方向と直交する分量が、MTJ素子にバイアス磁場を提供する。該バイアス磁場を変えることによってMTJ素子の飽和磁場を調整することができ、これによって高感度のセンサを得ることができ、或いは要求に応じて異なる感度のセンサを実現することができる。 (4) In one preferred embodiment, a pair of inclined permanent magnets are arranged on both sides of the MTJ element group, and the amount perpendicular to the detection direction of the MTJ element in the magnetic field generated by the inclined permanent magnet is equal to the MTJ element. To provide a bias magnetic field. The saturation magnetic field of the MTJ element can be adjusted by changing the bias magnetic field, whereby a highly sensitive sensor can be obtained, or a sensor with a different sensitivity can be realized as required.

(5)1つの好適的な実施例では、MTJ素子グループの両側に一対の傾斜した永久磁石を配置し、該傾斜した永久磁石により生じる磁場におけるMTJ素子の検知方向に沿う分量が、MTJ素子グループのネールカップリング磁場を取り消すことができ、これによってMTJ素子の動作ポイントをその線形動作範囲に位置させることを保証し、前記センサの線形性を改善することができる。 (5) In one preferred embodiment, a pair of tilted permanent magnets are arranged on both sides of the MTJ element group, and the amount along the MTJ element detection direction in the magnetic field generated by the tilted permanent magnet is the MTJ element group. Can be canceled, thereby ensuring that the operating point of the MTJ element is located in its linear operating range and improving the linearity of the sensor.

(6)他の好適的な実施例では、MTJ素子の磁性自由層上にバイアス層を配置し、該バイアス層は磁性自由層にMTJ素子の検知方向と直交するバイアス磁場を提供することができる。該バイアス磁場を変えることでMTJ素子の飽和磁場を調整することができ、これによって高感度のセンサを得ることができ、或いは要求に応じて異なる感度のセンサを実現することができる。 (6) In another preferred embodiment, a bias layer is disposed on the magnetic free layer of the MTJ element, and the bias layer can provide a bias magnetic field perpendicular to the detection direction of the MTJ element to the magnetic free layer. . The saturation magnetic field of the MTJ element can be adjusted by changing the bias magnetic field, whereby a highly sensitive sensor can be obtained, or a sensor with a different sensitivity can be realized as required.

(7)前記センサは歯車の歯の位置を確定することができ、歯車の歯が欠けた場合であっても、その欠けた歯の位置を確定することができる。 (7) The sensor can determine the position of the tooth of the gear, and can determine the position of the missing tooth even when the tooth of the gear is missing.

(8)前記センサは歯車の運動速度のみならず、歯車の運動方向も確定することができる。 (8) The sensor can determine not only the speed of movement of the gear but also the direction of movement of the gear.

(9)前記センサは、直線歯車だけではなく、円形歯車にも適用される。 (9) The sensor is applied not only to a linear gear but also to a circular gear.

(10)前記センサは低コストで大規模の生産の実現に有利である。 (10) The sensor is advantageous for realizing large-scale production at low cost.

図1は本発明の実施例1で提供した第1MTJ素子11の構造の模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram of the structure of the first MTJ element 11 provided in Example 1 of the present invention. 図2は理想状態において第1MTJ素子11の抵抗が外部磁場Happlyに対する応答曲線図であり、外部磁場Happlyが第1MTJ素子11の検知方向に沿うものである。FIG. 2 is a response curve diagram of the resistance of the first MTJ element 11 with respect to the external magnetic field H apply in the ideal state, and the external magnetic field H apply is along the detection direction of the first MTJ element 11. 図3は実際に使用中において第1MTJ素子11の抵抗が外部磁場Happlyに対する応答曲線図であり、外部磁場Happlyが第1MTJ素子11の検知方向に沿うものである。FIG. 3 is a response curve diagram of the resistance of the first MTJ element 11 with respect to the external magnetic field H apply during actual use, and the external magnetic field H apply is along the detection direction of the first MTJ element 11. 図4は複数の第1MTJ素子が直列接続されて1つの第1MTJ素子グループ13になる模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram in which a plurality of first MTJ elements are connected in series to form one first MTJ element group 13. 図5は第1MTJ素子グループ13の両側に、一対の傾斜した永久磁石14を配置した模式図である。FIG. 5 is a schematic diagram in which a pair of inclined permanent magnets 14 are arranged on both sides of the first MTJ element group 13. 図6は第1MTJ素子グループ13の両側に、一対の傾斜した永久磁石を配置した後に、その周囲の磁場分布の断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view of the magnetic field distribution around a pair of inclined permanent magnets arranged on both sides of the first MTJ element group 13. 図7は第1MTJ素子グループ13の両側に、一対の傾斜した永久磁石14を配置した平面図である。FIG. 7 is a plan view in which a pair of inclined permanent magnets 14 are arranged on both sides of the first MTJ element group 13. 図8はハーフブリッジ15の物理的位置の平面図である。FIG. 8 is a plan view of the physical position of the half bridge 15. 図9は図8に示すハーフブリッジ15の等価回路図である。FIG. 9 is an equivalent circuit diagram of the half bridge 15 shown in FIG. 図10はフルブリッジ16の物理的位置の平面図である。FIG. 10 is a plan view of the physical position of the full bridge 16. 図11は図10に示すフルブリッジ16の等価回路図である。FIG. 11 is an equivalent circuit diagram of the full bridge 16 shown in FIG. 図12はフルブリッジ16を採用した磁場センサの出力電圧実測値の曲線図である。FIG. 12 is a curve diagram of the actual output voltage of the magnetic field sensor employing the full bridge 16. 図13はダブルフルブリッジ17の物理的位置の平面図である。FIG. 13 is a plan view of the physical position of the double full bridge 17. 図14は図13に示すダブルフルブリッジ17の等価回路図である。FIG. 14 is an equivalent circuit diagram of the double full bridge 17 shown in FIG. 図15は本発明の実施例1で提供した磁気抵抗歯車センサ18の構造の模式図である。FIG. 15 is a schematic diagram of the structure of the magnetoresistive gear sensor 18 provided in the first embodiment of the present invention. 図16は本発明の実施例1で提供した磁気抵抗歯車センサ18から出力した正弦波の電圧信号の模式図である。FIG. 16 is a schematic diagram of a sinusoidal voltage signal output from the magnetoresistive gear sensor 18 provided in the first embodiment of the present invention. 図17は歯車の歯が欠けた際に、本発明の実施例1で提供した磁気抵抗歯車センサ18から出力した正弦波及び矩形波の電圧信号の模式図である。FIG. 17 is a schematic diagram of sine wave and rectangular wave voltage signals output from the magnetoresistive gear sensor 18 provided in the first embodiment of the present invention when gear teeth are missing. 図18は本発明の実施例1で提供した磁気抵抗歯車センサ18から出力した2系統の電圧信号の模式図である。FIG. 18 is a schematic diagram of two voltage signals output from the magnetoresistive gear sensor 18 provided in the first embodiment of the present invention. 図19は本発明の実施例2で提供した第2MTJ素子21の構造の模式図である。FIG. 19 is a schematic diagram of the structure of the second MTJ element 21 provided in Embodiment 2 of the present invention.

以下、図面及び実施例を用いて本発明の内容について詳細に説明する。   Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail with reference to the drawings and embodiments.

<実施例1>
図1は本発明の実施例1で提供した第1MTJ素子11の構造の模式図である。第1MTJ素子11は多層膜の構造であり、図1に示すように、基板111の上に順次に堆積された絶縁層112、ボトム電極層113、ピンニング層114、ピンド層115、トンネルバリア層116、磁性自由層117及びトップ電極層118を含んでいる。ピンド層115と磁性自由層117は強磁性層であり、その材質は例えばFe、Co、Ni、FeCo、FeNi、FeCoB又はFeCoNiを含む。ピンド層115は強磁性層、Ru層と強磁性層とにより形成された複合層であり、例えばFeCo層、Ru層とFeCo層とにより形成された複合層である。ピンニング層114とピンド層115との間の交換結合により、ピンド層115の磁気モーメントの方向1151が一の方向に固定され、且つ外部磁場Happlyの働きによって磁気モーメントの方向1151が変化しない。ピンニング層114は、反強磁性層であり、その材質は例えばPtMn、IrMn又はFeMnを含む。トンネルバリア層116の材質は例えばMgO又はAlを含む。磁性自由層117の磁気モーメントの方向1171は外部磁場Happlyの変化に伴って変わることが可能である。外部磁場Happlyの働きによって、磁性自由層117の磁気モーメントの方向1171は、ピンド層115の磁気モーメントの方向1151と平行の方向から次第にピンド層115の磁気モーメントの方向1151と逆平行の方向に変わることが可能であり、その逆の場合も同じである。本実施例において、磁性自由層117の磁気モーメントの方向1171を第1MTJ素子11の検知方向と定義する。トップ電極層118とボトム電極層113には、通常では、非磁性導電材料が用いられている。基板111の材質としては、通常ではシリコン、石英、耐熱ガラス、GaAs又はAlTiCが用いられている。絶縁層112の面積はボトム電極層113の面積よりも大きい。トップ電極層118及びボトム電極層113はその他の素子と電気的に接続するために用いられる。本実施例では、トップ電極層118及びボトム電極層113は例えばオーム計12と電気的に接続され、第1MTJ素子11の抵抗を測定する。
<Example 1>
FIG. 1 is a schematic diagram of the structure of the first MTJ element 11 provided in Example 1 of the present invention. The first MTJ element 11 has a multilayer film structure. As shown in FIG. 1, the insulating layer 112, the bottom electrode layer 113, the pinning layer 114, the pinned layer 115, and the tunnel barrier layer 116 sequentially deposited on the substrate 111. The magnetic free layer 117 and the top electrode layer 118 are included. The pinned layer 115 and the magnetic free layer 117 are ferromagnetic layers, and materials thereof include, for example, Fe, Co, Ni, FeCo, FeNi, FeCoB, or FeCoNi. The pinned layer 115 is a composite layer formed of a ferromagnetic layer, a Ru layer, and a ferromagnetic layer. For example, the pinned layer 115 is a composite layer formed of a FeCo layer, a Ru layer, and a FeCo layer. By the exchange coupling between the pinning layer 114 and the pinned layer 115, the magnetic moment direction 1151 of the pinned layer 115 is fixed in one direction, and the magnetic moment direction 1151 is not changed by the action of the external magnetic field Happly . The pinning layer 114 is an antiferromagnetic layer, and the material thereof includes, for example, PtMn, IrMn, or FeMn. The material of the tunnel barrier layer 116 includes, for example, MgO or Al 2 O 3 . The direction 1171 of the magnetic moment of the magnetic free layer 117 can be changed with the change of the external magnetic field Happly . Due to the action of the external magnetic field H apply , the magnetic moment direction 1171 of the magnetic free layer 117 gradually changes from a direction parallel to the magnetic moment direction 1151 of the pinned layer 115 to a direction antiparallel to the magnetic moment direction 1151 of the pinned layer 115. It is possible to change and vice versa. In this embodiment, the direction 1171 of the magnetic moment of the magnetic free layer 117 is defined as the detection direction of the first MTJ element 11. For the top electrode layer 118 and the bottom electrode layer 113, a nonmagnetic conductive material is usually used. As the material of the substrate 111, silicon, quartz, heat-resistant glass, GaAs or AlTiC is usually used. The area of the insulating layer 112 is larger than the area of the bottom electrode layer 113. The top electrode layer 118 and the bottom electrode layer 113 are used for electrical connection with other elements. In the present embodiment, the top electrode layer 118 and the bottom electrode layer 113 are electrically connected to the ohmmeter 12, for example, and the resistance of the first MTJ element 11 is measured.

第1MTJ素子11の抵抗の大きさは、磁性自由層117とピンド層115との磁気モーメントの相対配向と関連している。磁性自由層117の磁気モーメントの方向1171がピンド層115の磁気モーメントの方向1151と平行した場合、第1MTJ素子11の抵抗が最も小さく、第1MTJ素子11が低抵抗状態にあると称しており、磁性自由層117の磁気モーメントの方向1171がピンド層115の磁気モーメントの方向1151と逆平行した場合、第1MTJ素子11の抵抗が最も大きく、第1MTJ素子11が高抵抗状態にあると称する。公知の技術を利用し、外部磁場Happlyの変化に伴って第1MTJ素子11の抵抗値を高抵抗状態と低抵抗状態との間で線形変化させることができる。 The magnitude of the resistance of the first MTJ element 11 is related to the relative orientation of the magnetic moment between the magnetic free layer 117 and the pinned layer 115. When the magnetic moment direction 1171 of the magnetic free layer 117 is parallel to the magnetic moment direction 1151 of the pinned layer 115, the resistance of the first MTJ element 11 is the smallest, and the first MTJ element 11 is in a low resistance state. When the magnetic moment direction 1171 of the magnetic free layer 117 is antiparallel to the magnetic moment direction 1151 of the pinned layer 115, the resistance of the first MTJ element 11 is the largest, and the first MTJ element 11 is referred to as being in a high resistance state. By using a known technique, the resistance value of the first MTJ element 11 can be linearly changed between the high resistance state and the low resistance state in accordance with the change of the external magnetic field H apply .

理想状態において、外部磁場Happlyに対する第1MTJ素子11の抵抗の応答曲線図は図2に示す通りであり、外部磁場Happlyは第1MTJ素子11の検知方向に沿っている。第1MTJ素子11が低抵抗状態又は高抵抗状態にある場合、その応答曲線は飽和になる。低抵抗状態にある第1MTJ素子11の抵抗値を例えばR、高抵抗状態にある第1MTJ素子11の抵抗値を例えばRとする。高抵抗状態と低抵抗状態との間において、第1MTJ素子11の抵抗値Rが外部磁場Happlyの変化に伴って線形状に変化する。外部磁場Happlyに対する第1MTJ素子11の抵抗値Rの応答曲線の勾配、すなわち外部磁場Happlyに伴う第1MTJ素子11の抵抗値Rの変化率を第1MTJ素子11の感度と定義する。図2に示すように、外部磁場Happlyに対する第1MTJ素子11の抵抗の応答曲線は、Happly=0の直線を軸対称としておらず、Happly=Hの直線を軸対称としている。通常では、Hをネールカップリング(Neel Coupling)磁場と称する。通常状態において、ネールカップリング磁場Hの範囲は1―40Oeである。 In an ideal state, a response curve diagram of the resistance of the first MTJ element 11 with respect to the external magnetic field H apply is as shown in FIG. 2, and the external magnetic field H apply is along the detection direction of the first MTJ element 11. When the first MTJ element 11 is in a low resistance state or a high resistance state, the response curve is saturated. For example, the resistance value of the first MTJ element 11 in the low resistance state is R L , and the resistance value of the first MTJ element 11 in the high resistance state is R H , for example. Between the high resistance state and the low resistance state, the resistance value R of the first MTJ element 11 changes to a linear shape with a change in the external magnetic field H apply . The slope of the response curve of the resistance value R of the first MTJ element 11 with respect to the external magnetic field H apply , that is, the rate of change of the resistance value R of the first MTJ element 11 with the external magnetic field H apply is defined as the sensitivity of the first MTJ element 11. As shown in FIG. 2, in the response curve of the resistance of the first MTJ element 11 with respect to the external magnetic field H apply, a straight line of H apply = 0 is not axially symmetric, and a straight line of H apply = H 2 O is axially symmetric. Usually, H 2 O is referred to as a Neel Coupling magnetic field. In the normal state, the range of the nail coupling magnetic field H 2 O is 1-40 Oe.

図2に示すように応答曲線の線形範囲内において、第1MTJ素子11の抵抗値Rは下式で近似的に表すことができる。

Figure 0006189426
As shown in FIG. 2, within the linear range of the response curve, the resistance value R of the first MTJ element 11 can be approximately expressed by the following equation.
Figure 0006189426

式(1)において、Hは飽和磁場を示す。飽和磁場Hの定義は、ネールカップリング磁場H=0のときに、外部磁場Happlyに対する第1MTJ素子11の抵抗の応答曲線の線形範囲の接線と正又は負の飽和曲線の接線との交差点に対応する外部磁場の値である。理想状態では、外部磁場Happlyに伴う第1MTJ素子11の抵抗値Rの変化は完璧な線形関係であり、且つヒステリシスがない。実際の状況では、第1MTJ素子11がヒステリシスを有するため、図3に示すように、外部磁場Happlyに対する第1MTJ素子11の抵抗の応答曲線は1本の曲線である。実際のセンサ応用分野では、磁気センサの設計上の制約及び材料の欠陥に起因し、外部磁場Happlyに対する第1MTJ素子11の抵抗の応答曲線が更に湾曲することになる。 In the formula (1), H S represents a saturation magnetic field. The definition of the saturation magnetic field H S is that when the Neel coupling magnetic field H O = 0, the tangent of the linear range of the response curve of the resistance of the first MTJ element 11 to the external magnetic field H apply and the tangent of the positive or negative saturation curve The value of the external magnetic field corresponding to the intersection. In an ideal state, the change in the resistance value R of the first MTJ element 11 due to the external magnetic field H apply is a perfect linear relationship and has no hysteresis. In an actual situation, since the first MTJ element 11 has hysteresis, the response curve of the resistance of the first MTJ element 11 with respect to the external magnetic field H apply is a single curve as shown in FIG. The actual sensor applications, due to defects constraints and material design of the magnetic sensor, the response curve of the resistance of the 1MTJ element 11 is further bent with respect to the external magnetic field H the apply.

応用上において、複数の第1MTJ素子11を直列及び/又は並列に接続して1つの第1MTJ素子グループにすることができる。本実施例では、第1MTJ素子グループ13は6個の第1MTJ素子11を直列に接続することにより形成され、且つ図4に示すように、第1MTJ素子グループ13に係る6個の第1MTJ素子11の検知方向1171が同じである。第1MTJ素子グループ13は他の素子、例えばオーム計12と電気的に接続されている。電流131が第1MTJ素子グループ13を流れるときに、電流131の方向は図4に示す通りである。通常の状況では、電流131の方向はMTJ素子グループ13の抵抗値に影響を与えない。第1MTJ素子グループ13に係る第1MTJ素子11の数を変えることで、第1MTJ素子グループ13の抵抗値を調整することができる。1つの第1MTJ素子グループ13をブリッジの1つのアームとすることができ、直列及び/又は並列に接続される複数の第1MTJ素子グループ13をブリッジの1つのアームとしても良い。   In application, a plurality of first MTJ elements 11 can be connected in series and / or in parallel to form one first MTJ element group. In the present embodiment, the first MTJ element group 13 is formed by connecting six first MTJ elements 11 in series, and as shown in FIG. 4, the six first MTJ element groups 11 related to the first MTJ element group 13. The detection direction 1171 is the same. The first MTJ element group 13 is electrically connected to another element, for example, an ohmmeter 12. When the current 131 flows through the first MTJ element group 13, the direction of the current 131 is as shown in FIG. Under normal circumstances, the direction of the current 131 does not affect the resistance value of the MTJ element group 13. The resistance value of the first MTJ element group 13 can be adjusted by changing the number of the first MTJ elements 11 related to the first MTJ element group 13. One first MTJ element group 13 can be used as one arm of the bridge, and a plurality of first MTJ element groups 13 connected in series and / or in parallel can be used as one arm of the bridge.

第1MTJ素子11又は第1MTJ素子グループ13にバイアス磁界Hcrossを提供し、且つネールカップリング磁場Hを取り消すために、第1MTJ素子11又は第1MTJ素子グループ13の両側に一対の傾斜した永久磁石14を配置することができる。本実施例では、図5に示すように、例えば第1MTJ素子グループ13の両側に一対の永久磁石14が配置され、且つ永久磁石14は第1MTJ素子グループ13の検知方向に対して傾斜して配置されている。永久磁石14を磁化した後、第1MTJ素子グループ13の周囲の磁場分布は図6に示す通りである。本実施例では、永久磁石14の形状は例えば長方体である。図7に示すように、永久磁石14の長辺と第1MTJ素子グループ13の検知方向1171との間の角度の余角を永久磁石14の傾斜角θsnsと定義する。各永久磁石14の長さ、幅及び厚さはそれぞれL、W及びtであり、2つの永久磁石14の間の隙間がGである。 A pair of inclined permanent magnets on both sides of the first MTJ element 11 or the first MTJ element group 13 to provide the bias magnetic field H cross to the first MTJ element 11 or the first MTJ element group 13 and cancel the nail coupling magnetic field H 2 O. 14 can be arranged. In the present embodiment, as shown in FIG. 5, for example, a pair of permanent magnets 14 is disposed on both sides of the first MTJ element group 13, and the permanent magnets 14 are inclined with respect to the detection direction of the first MTJ element group 13. Has been. After the permanent magnet 14 is magnetized, the magnetic field distribution around the first MTJ element group 13 is as shown in FIG. In the present embodiment, the shape of the permanent magnet 14 is, for example, a rectangular parallelepiped. As shown in FIG. 7, the residual angle of the angle between the long side of the permanent magnet 14 and the detection direction 1171 of the first MTJ element group 13 is defined as the inclination angle θ sns of the permanent magnet 14. The length, width and thickness of each permanent magnet 14 are L, W and t, respectively, and the gap between the two permanent magnets 14 is G.

2つの永久磁石14の隙間位置の磁界Hmagは2つの永久磁石14の縁部の磁荷によって生じるものであり、且つ磁界Hmagは永久磁石14の形状及び境界条件と関係があると考えられている。図7に示すように、永久磁石14の残留磁気M141と第1MTJ素子グループ13の検知方向1711との間の角度を永久磁石14の残留磁気M141の傾斜角θmagと定義する。永久磁石14の縁部の磁荷密度ρ は、永久磁石14の残留磁気M141の大きさ、永久磁石14の残留磁気M141の傾斜角θmag及び永久磁石14の傾斜角θsnsと関係している。永久磁石14の縁部の磁荷密度ρ は以下の式で表すことができる。

Figure 0006189426
It is considered that the magnetic field H mag at the gap position between the two permanent magnets 14 is generated by the magnetic charges at the edges of the two permanent magnets 14, and the magnetic field H mag is related to the shape and boundary conditions of the permanent magnets 14. ing. As shown in FIG. 7, it is defined as the inclination angle theta mag remanence M r 141 angle with permanent magnets 14 between the remanence M r 141 of the permanent magnet 14 and the detecting direction 1711 of the 1MTJ element group 13. The magnetic charge density ρ s at the edge of the permanent magnet 14 includes the magnitude of the residual magnetism M r 141 of the permanent magnet 14, the inclination angle θ mag of the residual magnetism M r 141 of the permanent magnet 14, and the inclination angle θ sns of the permanent magnet 14. Is related. The magnetic charge density ρ s at the edge of the permanent magnet 14 can be expressed by the following equation.
Figure 0006189426

永久磁石14の縁部の磁荷によって生じる磁界Hmagは以下の式で表すことができる。

Figure 0006189426
The magnetic field H mag generated by the magnetic charge at the edge of the permanent magnet 14 can be expressed by the following equation.
Figure 0006189426

図7に示すように、永久磁石14の縁部の磁荷によって生じる磁界Hmagにおける第1MTJ素子グループ13の検知方向1171と直交する方向に沿う分量をバイアス磁界Hcrossと定義する。θmag=θsns=π/2のとき、バイアス磁界Hcrossは以下の式で表すことができる。

Figure 0006189426
As shown in FIG. 7, the amount along the direction perpendicular to the detection direction 1171 of the first MTJ element group 13 in the magnetic field H mag generated by the magnetic charge at the edge of the permanent magnet 14 is defined as a bias magnetic field H cross . When θ mag = θ sns = π / 2, the bias magnetic field H cross can be expressed by the following equation.
Figure 0006189426

式(4)より、2つの永久磁石14の形状、寸法、両者間の隙間G及び残留磁気M141の大きさを調整することで、第1MTJ素子グループ13の所在位置のバイアス磁界Hcrossを変えることができる。バイアス磁界Hcrossを変えることにより第1MTJ素子グループ13の飽和磁場を調整することができ、さらに第1MTJ素子グループ13の感度を確定することができる。 From the equation (4), the bias magnetic field H cross at the location of the first MTJ element group 13 is adjusted by adjusting the shape and size of the two permanent magnets 14, the gap G between the two permanent magnets 14, and the size of the residual magnetism M r 141. Can be changed. By changing the bias magnetic field H cross , the saturation magnetic field of the first MTJ element group 13 can be adjusted, and the sensitivity of the first MTJ element group 13 can be determined.

バイアス磁界Hcrossは以下の式で表すこともできる。

Figure 0006189426
The bias magnetic field H cross can also be expressed by the following equation.
Figure 0006189426

永久磁石14の縁部の磁荷によって生じる磁界Hmagにおける第1MTJ素子グループ13の検知方向1171に沿う分量Hoffは、以下の式で表すこともできる。

Figure 0006189426
The amount H off along the detection direction 1171 of the first MTJ element group 13 in the magnetic field H mag generated by the magnetic charge at the edge of the permanent magnet 14 can also be expressed by the following equation.
Figure 0006189426

式(6)より、永久磁石14の形状、寸法及び残留磁気M141の傾斜角θmagを調整することで、永久磁石14の縁部の磁荷によって生じる磁界Hmagにおける第1MTJ素子グループ13の検知方向1171に沿う分量Hoffを変えることができ、これによって第1MTJ素子11自体のネールカップリング磁場Hoを取り消すことができ、第1MTJ素子11の動作ポイントをその線形動作範囲に位置させることを保証できる。 From the equation (6), the first MTJ element group 13 in the magnetic field H mag generated by the magnetic charge at the edge of the permanent magnet 14 is adjusted by adjusting the shape and size of the permanent magnet 14 and the inclination angle θ mag of the residual magnetism M r 141. The amount H off along the detection direction 1171 of the first MTJ element 11 can be changed, so that the nail coupling magnetic field Ho of the first MTJ element 11 itself can be canceled, and the operating point of the first MTJ element 11 is located in the linear operating range. Can guarantee.

図8はX−Y面におけるハーフブリッジ15の物理的位置の平面図である。図9はハーフブリッジ15の等価回路図である。ハーフブリッジ15は2つのアーム151,152を含み、該2つのアームには例えば1つの第1MTJ素子グループ13を採用しており、該2つのアームの抵抗値は例えばR1、R2である。アーム151及びアーム152の検知方向はともに検知方向1171に沿っている。図8に示すように、磁場強度が傾斜度で変化した外部磁場Happlyを検知方向1171に沿って印加し、アーム151の所在する物理的位置での外部磁場Happlyの磁場強度はアーム152の所在する物理的位置での外部磁場Happlyの磁場強度と異なっている。アーム151及びアーム152の両側には一対の傾斜した永久磁石14が配置されている。ハーフブリッジ15の2つの入力端はIN1、IN2であり、例えば入力端IN2がグランドと接続されている。ハーフブリッジ15の出力端はOUT1である。入力端IN1と入力端IN2との間に安定電圧Vbiasを印加し、アーム151の抵抗値R1の変化の大きさとアーム152の抵抗値R2の変化の大きさとが異なり、従って出力端OUT1は電圧信号VOUT1=Vを出力する。 FIG. 8 is a plan view of the physical position of the half bridge 15 in the XY plane. FIG. 9 is an equivalent circuit diagram of the half bridge 15. The half bridge 15 includes two arms 151 and 152. For example, one first MTJ element group 13 is adopted for the two arms, and the resistance values of the two arms are R1 and R2, for example. Both the detection directions of the arm 151 and the arm 152 are along the detection direction 1171. As shown in FIG. 8, the external magnetic field H apply whose magnetic field intensity has changed with the gradient is applied along the detection direction 1171, and the magnetic field strength of the external magnetic field H apply at the physical position where the arm 151 is located is It differs from the magnetic field strength of the external magnetic field Happly at the physical location where it is located. A pair of inclined permanent magnets 14 are arranged on both sides of the arm 151 and the arm 152. The two input terminals of the half bridge 15 are IN1 and IN2, for example, the input terminal IN2 is connected to the ground. The output terminal of the half bridge 15 is OUT1. A stable voltage V bias is applied between the input terminal IN1 and the input terminal IN2, and the magnitude of the change in the resistance value R1 of the arm 151 is different from the magnitude of the change in the resistance value R2 of the arm 152. The signal V OUT1 = V 1 is output.

図10はフルブリッジ16の物理的位置の平面図である。図11は図10に示すフルブリッジ16の等価回路図である。フルブリッジ16は、4つのアーム161、162、163、164を含み、該4つのアームには全て2つの第1MTJ素子グループ13を直列接続することを採用しており、該4つのアームの抵抗はそれぞれR3、R4、R5及びR6である。アーム161、アーム162、アーム163及びアーム164の検知方向はともに検知方向1171に沿っている。磁場強度が傾斜度で変化した外部磁場Happlyを検知方向1171に沿って印加する。図10に示すように、アーム161及びアーム162の所在する物理的位置での外部磁場Happlyの磁場強度はアーム163及びアーム164の所在する物理的位置での外部磁場Happlyの磁場強度と異なっている。各アーム161、アーム162、アーム163及びアーム164の両側には一対の傾斜した永久磁石14が配置されている。フルブリッジ16の2つの入力端はIN3、IN4であり、例えば入力端IN4がグランドと接続されている。フルブリッジ16の2つの出力端はOUT2及びOUT3である。入力端IN3と入力端IN4との間に安定電圧Vbiasを印加し、アーム161の抵抗値R3又はアーム162の抵抗値R4の変化の大きさとアーム163の抵抗値R5又はアーム164の抵抗値R6の変化の大きさとが異なり、従って出力端OUT2と出力端OUT3とがそれぞれ電圧V2及びV3を出力し、フルブリッジ16の出力電圧信号がVOUT2=(V3−V2)である。 FIG. 10 is a plan view of the physical position of the full bridge 16. FIG. 11 is an equivalent circuit diagram of the full bridge 16 shown in FIG. The full bridge 16 includes four arms 161, 162, 163, 164, and the four arms all employ two first MTJ element groups 13 connected in series, and the resistance of the four arms is R3, R4, R5 and R6, respectively. The detection directions of the arm 161, the arm 162, the arm 163, and the arm 164 are all along the detection direction 1171. An external magnetic field H apply in which the magnetic field intensity changes with the gradient is applied along the detection direction 1171. As shown in FIG. 10, the magnetic field strength of the external magnetic field H apply at the physical position where the arm 161 and the arm 162 are located is different from the magnetic field strength of the external magnetic field H apply at the physical position where the arm 163 and the arm 164 are located. ing. A pair of inclined permanent magnets 14 are disposed on both sides of each arm 161, arm 162, arm 163, and arm 164. Two input terminals of the full bridge 16 are IN3 and IN4. For example, the input terminal IN4 is connected to the ground. The two output terminals of the full bridge 16 are OUT2 and OUT3. A stable voltage V bias is applied between the input terminal IN3 and the input terminal IN4, the magnitude of the change in the resistance value R3 of the arm 161 or the resistance value R4 of the arm 162, and the resistance value R5 of the arm 163 or the resistance value R6 of the arm 164. Therefore, the output terminal OUT2 and the output terminal OUT3 output voltages V2 and V3, respectively, and the output voltage signal of the full bridge 16 is V OUT2 = (V3−V2).

理想状態では、フルブリッジ16から出力した電圧信号VOUT2はコモンモード磁場HcMに応答しないが、差動モード磁場HdMには応答する。コモンモード磁場HcMの働きによって、アーム161、アーム162、アーム163及びアーム164の抵抗値の変化は同じであるので、フルブリッジ16は電圧信号を出力しない。理想状態では、フルブリッジ16の4つのアームの抵抗値はともにRになり、すなわちR3=R4=R5=R6=Rであり、且つフルブリッジ16の4つのアームの感度はともにSになり、すなわちSR3=SR4=SR5=SR6=Sであり、従って、以下の式になる。

Figure 0006189426

Figure 0006189426
Figure 0006189426
In the ideal state, the voltage signal VOUT2 output from the full bridge 16 does not respond to the common mode magnetic field HcM, but responds to the differential mode magnetic field HdM . Due to the action of the common mode magnetic field HcM , the change in the resistance value of the arm 161, the arm 162, the arm 163, and the arm 164 is the same, so the full bridge 16 does not output a voltage signal. In an ideal state, the resistance value of the four arms of the full bridge 16 are both in R, i.e., R3 = R4 = R5 = R6 = R, and the sensitivity of the four arms of the full bridge 16 are both in S R, That is, S R3 = S R4 = S R5 = S R6 = S R , and therefore, the following equation is obtained.
Figure 0006189426

Figure 0006189426
Figure 0006189426

式(9)より、フルブリッジ16から出力した電圧信号は差動モード磁場HdMのみと関係し、コモンモード磁場HcMには関係していないことが分かる。従って、フルブリッジ16は、コモンモード磁場HcMの干渉を抑制する大きい能力を有する。フルブリッジ16の典型的な出力は図12に示す通りである。 From Equation (9), it can be seen that the voltage signal output from the full bridge 16 is related only to the differential mode magnetic field H dM and not related to the common mode magnetic field H cM . Therefore, the full bridge 16 has a great ability to suppress interference of the common mode magnetic field HcM . A typical output of the full bridge 16 is as shown in FIG.

実際の応用では、センサに2つのフルブリッジ、すなわちダブルフルブリッジを採用しても良い。図13はダブルフルブリッジ17の物理的位置の平面図である。図14はダブルフルブリッジ17の等価回路図である。ダブルフルブリッジ17は、8つのアーム171、172、173、174、175、176、177及び178を含み、該8つのアームは全て例えば第1MTJ素子グループ13を3つ並列接続することを採用しており、該8つのアームの抵抗値はそれぞれR7、R8、R9、R10、R11、R12、R13及びR14である。図14に示すように、例えばアーム171、アーム172、アーム173及びアーム174は1つのフルブリッジを構成しており、アーム175、アーム176、アーム177及びアーム178は1つのフルブリッジを構成している。好適には、ダブルフルブリッジ17に係る8つのアームの検知方向はともに検知方向1171に沿っている。磁場強度が傾斜度で変化した外部磁場Happlyを検知方向1171に沿って印加する。図13に示すように、アーム171及びアーム172の所在する物理的位置での外部磁場Happlyの磁場強度はアーム173及びアーム174の所在する物理的位置での外部磁場Happlyの磁場強度と異なっており、アーム175及びアーム176の所在する物理的位置での外部磁場Happlyの磁場強度はアーム177及びアーム178の所在する物理的位置での外部磁場Happlyの磁場強度と異なっている。ダブルフルブリッジ17の各アームの両側には、それぞれ一対の傾斜した永久磁石14が配置されている。ダブルフルブリッジ17の2つの入力端はIN5、IN6であり、例えば入力端IN6がグランドと接続されている。ダブルフルブリッジ17の4つの出力端はOUT4、OUT5、OUT6及びOUT7である。入力端IN5と入力端IN6との間に安定電圧Vbiasを印加し、アーム171の抵抗値R7又はアーム172の抵抗値R8の変化の大きさとアーム173の抵抗値R9又はアーム174の抵抗値R10の変化の大きさとが異なり、アーム175の抵抗値R11又はアーム176の抵抗値R12の変化の大きさとアーム177の抵抗値R13又はアーム178の抵抗値R14の変化の大きさとが異なっており、出力端OUT4、出力端OUT5、出力端OUT6及び出力端OUT7がそれぞれ電圧V4、V5、V6及びV7を出力する。ダブルフルブリッジ17は2系統の電圧信号VOUT4=(V5−V4)及びVOUT5=(V7−V6)を出力する。 In actual applications, the sensor may employ two full bridges, i.e. a double full bridge. FIG. 13 is a plan view of the physical position of the double full bridge 17. FIG. 14 is an equivalent circuit diagram of the double full bridge 17. The double full bridge 17 includes eight arms 171, 172, 173, 174, 175, 176, 177 and 178, all of which employ, for example, three first MTJ element groups 13 connected in parallel. The resistance values of the eight arms are R7, R8, R9, R10, R11, R12, R13, and R14, respectively. As shown in FIG. 14, for example, the arm 171, the arm 172, the arm 173, and the arm 174 constitute one full bridge, and the arm 175, the arm 176, the arm 177, and the arm 178 constitute one full bridge. Yes. Preferably, the detection directions of the eight arms related to the double full bridge 17 are both along the detection direction 1171. An external magnetic field H apply in which the magnetic field intensity changes with the gradient is applied along the detection direction 1171. As shown in FIG. 13, the magnetic field strength of the external magnetic field H apply at the physical position where the arm 171 and the arm 172 are located is different from the magnetic field strength of the external magnetic field H apply at the physical position where the arm 173 and the arm 174 are located. The magnetic field strength of the external magnetic field H apply at the physical position where the arm 175 and the arm 176 are located is different from the magnetic field strength of the external magnetic field H apply at the physical position where the arm 177 and the arm 178 are located. A pair of inclined permanent magnets 14 are arranged on both sides of each arm of the double full bridge 17. Two input ends of the double full bridge 17 are IN5 and IN6. For example, the input end IN6 is connected to the ground. Four output terminals of the double full bridge 17 are OUT4, OUT5, OUT6, and OUT7. A stable voltage V bias is applied between the input terminal IN5 and the input terminal IN6, the magnitude of the change in the resistance value R7 of the arm 171 or the resistance value R8 of the arm 172, and the resistance value R9 of the arm 173 or the resistance value R10 of the arm 174. The magnitude of the change in the resistance value R11 of the arm 175 or the resistance value R12 of the arm 176 is different from the magnitude of the change in the resistance value R13 of the arm 177 or the resistance value R14 of the arm 178. The terminal OUT4, the output terminal OUT5, the output terminal OUT6, and the output terminal OUT7 output voltages V4, V5, V6, and V7, respectively. The double full bridge 17 outputs two voltage signals V OUT4 = (V5−V4) and V OUT5 = (V7−V6).

磁気抵抗センサの実際の製造において、ハーフブリッジ15、フルブリッジ16及びダブルフルブリッジ17はともに同一の基板上に同様なプロセスを利用して一回で製造され、通常ではシングルチップ磁気抵抗センサと称しており、或いは同一の基板上に同様なプロセスで複数の第1MTJ素子11を製造し、その後に複数の第1MTJ素子11を切断して単独にパッケージングし、リードワイヤで第1MTJ素子11を電気的に接続して複数の第1MTJ素子グループ13として、更に該複数の第1MTJ素子グループ13をハーフブリッジ15、フルブリッジ16又はダブルフルブリッジ17に電気的に接続する。シングルチップパッケージングした磁気抵抗センサ又はマルチチップパッケージングした磁気抵抗センサは、そのパッドを介して特定用途向け集積回路(Application Specific Integrated Circuit, ASIC)或いはリードフレームのリード線に接続される。   In the actual manufacture of the magnetoresistive sensor, the half bridge 15, the full bridge 16 and the double full bridge 17 are all manufactured once on the same substrate using the same process and are usually referred to as a single chip magnetoresistive sensor. Alternatively, a plurality of first MTJ elements 11 are manufactured by the same process on the same substrate, and then the plurality of first MTJ elements 11 are cut and packaged independently, and the first MTJ elements 11 are electrically connected by lead wires. As a plurality of first MTJ element groups 13, the plurality of first MTJ element groups 13 are further electrically connected to the half bridge 15, the full bridge 16, or the double full bridge 17. A single chip packaged magnetoresistive sensor or a multichip packaged magnetoresistive sensor is connected to an application specific integrated circuit (ASIC) or a lead wire of a lead frame via its pads.

図15に示すように、本実施例で提供した磁気抵抗歯車センサ18は、磁気センサチップ181、永久磁石182、制御回路183、凹形状の軟磁性体184及びケーシング185を含む。磁気センサチップ181、永久磁石182、制御回路183及び軟磁性体184は、ケーシング185内に集中的に配置されている。磁気センサチップ181は少なくとも1つのブリッジを含み、該ブリッジはハーフブリッジ15、フルブリッジ16又はダブルフルブリッジ17であり、ハーフブリッジ15、フルブリッジ16又はダブルフルブリッジ17の各アームは少なくとも1つの第1MTJ素子グループ13を含み、第1MTJ素子グループ13は直列及び/又は並列に連続される複数の第1MTJ素子11を含む。磁気センサチップ181は制御回路183と電気的に接続されている。軟磁性体184は磁気センサチップ181と永久磁石182との間に配置されており、軟磁性体184の開口は磁気センサチップ181に向けている。本実施例では、磁気センサチップ181は1つのダブルフルブリッジ17を含み、ダブルフルブリッジ17の各アームは1つの第1MTJ素子グループ13を含む。永久磁石182は、外部磁場Happlyを生じさせ、且つ強磁材料からなる歯車を磁化させる。軟磁性体184は永久磁石182により生じた外部磁場Happlyにおける検知方向1171に沿う分量を減少させることで、磁気センサチップ181中の第1MTJ素子11をその線形動作範囲内で動作させることを保証する。歯車と磁気センサチップ181との間に相対運動が生じるときに、磁気センサチップ181の所在位置での外部磁場Happlyの磁場強度が変化する。磁気センサチップ181は、その所在する物理的位置での外部磁場Happlyの磁場強度の変化を検知し、且つ制御回路183に電圧信号を出力する。制御回路183は磁気センサチップ181から出力される電圧信号に対して処理及び転換を行う。本実施例において、制御回路183は、磁気センサチップ181から出力した正弦波の電圧信号を矩形波の電圧信号に転換することができる。 As shown in FIG. 15, the magnetoresistive gear sensor 18 provided in this embodiment includes a magnetic sensor chip 181, a permanent magnet 182, a control circuit 183, a concave soft magnetic body 184, and a casing 185. The magnetic sensor chip 181, the permanent magnet 182, the control circuit 183, and the soft magnetic body 184 are concentrated in the casing 185. The magnetic sensor chip 181 includes at least one bridge, and the bridge is a half bridge 15, a full bridge 16 or a double full bridge 17, and each arm of the half bridge 15, the full bridge 16 or the double full bridge 17 has at least one first bridge. The first MTJ element group 13 includes a plurality of first MTJ elements 11 connected in series and / or in parallel. The magnetic sensor chip 181 is electrically connected to the control circuit 183. The soft magnetic body 184 is disposed between the magnetic sensor chip 181 and the permanent magnet 182, and the opening of the soft magnetic body 184 faces the magnetic sensor chip 181. In this embodiment, the magnetic sensor chip 181 includes one double full bridge 17, and each arm of the double full bridge 17 includes one first MTJ element group 13. The permanent magnet 182 generates an external magnetic field H apply and magnetizes a gear made of a ferromagnetic material. The soft magnetic body 184 ensures that the first MTJ element 11 in the magnetic sensor chip 181 is operated within the linear operation range by reducing the amount along the detection direction 1171 in the external magnetic field H apply generated by the permanent magnet 182. To do. When relative motion occurs between the gear and the magnetic sensor chip 181, the magnetic field strength of the external magnetic field H apply at the location of the magnetic sensor chip 181 changes. The magnetic sensor chip 181 detects a change in the magnetic field strength of the external magnetic field H apply at the physical position where the magnetic sensor chip 181 is located, and outputs a voltage signal to the control circuit 183. The control circuit 183 performs processing and conversion on the voltage signal output from the magnetic sensor chip 181. In this embodiment, the control circuit 183 can convert the sine wave voltage signal output from the magnetic sensor chip 181 into a rectangular wave voltage signal.

本実施例では、図15に示すように、例えば磁気抵抗歯車センサ18が静止し、歯車が移動する。歯車の異なる位置ポイントA、B、C、D及びEが順次に磁気抵抗歯車センサを通るときに、磁気抵抗歯車センサ18から出力した例えば正弦波の電圧信号は図16に示す通りである。磁気抵抗歯車センサ18から出力した電圧信号である例えば正弦波と位置ポイントとの対応関係に基づいて、測定したい歯の具体位置を確定することができる。歯車の歯が欠けた場合に、磁気抵抗歯車センサ18から出力した正弦波及び矩形波の電圧信号は図17に示す通りである。磁気抵抗歯車センサ18から出力した電圧信号である例えば正弦波又は矩形波に基づいて、歯車の歯が欠けるか否かを確定することができる。歯車の歯が欠けた場合、磁気抵抗歯車センサ18から出力した電圧信号である例えば正弦波又は矩形波と位置ポイントとの対応関係に基づいて、欠けた歯の具体位置を確定することができる。本実施例で提供した磁気抵抗歯車センサ18の磁気センサチップ181にダブルフルブリッジ17を採用するため、磁気抵抗歯車センサ18は2系統の電圧信号VOUT4及びVOUT5を出力することができ、図18に示すように、該2系統の電圧信号VOUT4とVOUT5との位相差に基づいて歯車の運動方向を確定することができる。磁気抵抗歯車センサ18を応用する際に、磁気センサチップ181の所在する位置において、永久磁石182により生じた外部磁場Happly以外の干渉磁場をコモンモード磁場とすることができる。磁気センサチップ181にダブルフルブリッジ17を採用し、且つダブルフルブリッジがコモンモード磁場による干渉を抑制する高い能力を有するため、磁気抵抗歯車センサ18が永久磁石182により生じた外部磁場Happly以外の干渉磁場による干渉を受け難くなる。 In the present embodiment, as shown in FIG. 15, for example, the magnetoresistive gear sensor 18 is stationary and the gear moves. For example, a sinusoidal voltage signal output from the magnetoresistive gear sensor 18 when different position points A, B, C, D, and E of the gear sequentially pass through the magnetoresistive gear sensor is as shown in FIG. The specific position of the tooth to be measured can be determined based on, for example, the correspondence between the sine wave that is the voltage signal output from the magnetoresistive gear sensor 18 and the position point. When the gear teeth are missing, the sine wave and rectangular wave voltage signals output from the magnetoresistive gear sensor 18 are as shown in FIG. Based on, for example, a sine wave or a rectangular wave that is a voltage signal output from the magnetoresistive gear sensor 18, it can be determined whether or not the gear teeth are missing. When the tooth of the gear is missing, the specific position of the missing tooth can be determined based on the correspondence between the voltage signal output from the magnetoresistive gear sensor 18, for example, a sine wave or rectangular wave, and the position point. To adopt double full-bridge 17 to the magnetic sensor chip 181 of the magnetoresistive gear sensor 18 which is provided in this embodiment, the magnetoresistive gear sensor 18 can output a voltage signal V OUT4 and V OUT5 two systems, FIG. As shown in FIG. 18, the movement direction of the gear can be determined based on the phase difference between the two voltage signals V OUT4 and V OUT5 . When the magnetoresistive gear sensor 18 is applied, an interference magnetic field other than the external magnetic field H apply generated by the permanent magnet 182 can be used as a common mode magnetic field at the position where the magnetic sensor chip 181 is located. Since the double full bridge 17 is employed in the magnetic sensor chip 181 and the double full bridge has a high capability of suppressing interference due to the common mode magnetic field, the magnetoresistive gear sensor 18 is not an external magnetic field H apply generated by the permanent magnet 182. It becomes difficult to receive interference by the interference magnetic field.

<実施例2>
19は本実施例で提供した第2MTJ素子21の構造の模式図である。図19に示すように、第2MTJ素子21は多層膜の構造であり、基板211の上に順次に堆積された絶縁層212、ボトム電極層213、ピンニング層214、ピンド層215、トンネルバリア層216、磁性自由層217、バイアス層218及びトップ電極層219を含む。ピンド層215と磁性自由層217は強磁性層である。ピンド層215と磁性自由層217との材質は、例えばFe、Co、Ni、FeCo、FeNi、FeCo又はFeCoNiを含む。ピンド層215は強磁性層、Ru層と強磁性層とにより形成された複合層であっても良く、例えばFeCo層、Ru層とFeCo層とによって形成された複合層である。ピンニング層214は、反強磁性層であり、その材質は例えばPtMn、IrMn又はFeMnを含む。ピンニング層214とピンド層215との間の交換結合により、ピンド層215の磁気モーメントの方向2151が一の方向に固定され、且つ外部磁場Happlyの働きによって磁気モーメントの方向2151が変化しない。トンネルバリア層216の材質は例えばMgO又はAlを含む。磁性自由層217の磁気モーメントの方向2171は外部磁場Happlyの変化に伴って変わることが可能である。外部磁場Happlyの働きによって、磁性自由層217の磁気モーメントの方向2171は、ピンド層215の磁気モーメントの方向2151と平行の方向から次第にピンド層215の磁気モーメントの方向2151と逆平行の方向に変わることが可能であり、その逆の場合も同じである。バイアス層218は反強磁性層又は永久磁性層である。バイアス層218と磁性自由層217との間の交換結合により、バイアス層218に磁性自由層217のために第2MTJ素子21の検知方向と直交するバイアス磁界Hcrossを提供させることができる。バイアス磁界Hcrossを変えることにより、第2MTJ素子21の飽和磁場を調整することができ、第2MTJ素子21の感度を更に調整することができる。バイアス層218が反強磁性層である場合に、バイアス層218のブロッキング温度(Blocking Temperature)はピンニング層214のブロッキング温度よりも低くなる。バイアス層218により提供されたバイアス磁界Hcrossを低減するため、磁性自由層217とバイアス層218との間に1つの隔離層を堆積しても良い。隔離層の厚さを変えることによって、バイアス磁界Hcrossの大きさを調整することができる。通常では、隔離層には例えばTa、Ru又はCuの非磁性材料を採用する。通常では、トップ電極層219とボトム電極層213に非磁性導電材料を採用する。基板211の材質としては、通常ではシリコン、石英、耐熱ガラス、GaAs又はAlTiCが用いられている。絶縁層212の面積はボトム電極層213の面積よりも大きい。トップ電極層219及びボトム電極層213はその他の素子と電気的に接続するために用いられる。
<Example 2>
FIG. 19 is a schematic diagram of the structure of the second MTJ element 21 provided in the present embodiment. As shown in FIG. 19 , the second MTJ element 21 has a multilayer structure. The insulating layer 212, the bottom electrode layer 213, the pinning layer 214, the pinned layer 215, and the tunnel barrier layer 216 are sequentially deposited on the substrate 211. , A magnetic free layer 217, a bias layer 218, and a top electrode layer 219. The pinned layer 215 and the magnetic free layer 217 are ferromagnetic layers. The material of the pinned layer 215 and the magnetic free layer 217 includes, for example, Fe, Co, Ni, FeCo, FeNi, FeCo, or FeCoNi. The pinned layer 215 may be a composite layer formed of a ferromagnetic layer, a Ru layer, and a ferromagnetic layer. For example, the pinned layer 215 is a composite layer formed of a FeCo layer, a Ru layer, and a FeCo layer. The pinning layer 214 is an antiferromagnetic layer, and the material thereof includes, for example, PtMn, IrMn, or FeMn. Due to the exchange coupling between the pinning layer 214 and the pinned layer 215, the direction 2151 of the magnetic moment of the pinned layer 215 is fixed in one direction, and the direction 2151 of the magnetic moment does not change by the action of the external magnetic field Happly . The material of the tunnel barrier layer 216 includes, for example, MgO or Al 2 O 3 . The direction 2171 of the magnetic moment of the magnetic free layer 217 can be changed with the change of the external magnetic field Happly . Due to the action of the external magnetic field H apply , the magnetic moment direction 2171 of the magnetic free layer 217 gradually changes from a direction parallel to the magnetic moment direction 2151 of the pinned layer 215 to a direction antiparallel to the magnetic moment direction 2151 of the pinned layer 215. It is possible to change and vice versa. The bias layer 218 is an antiferromagnetic layer or a permanent magnetic layer. Due to the exchange coupling between the bias layer 218 and the magnetic free layer 217, the bias layer 218 can be provided with a bias magnetic field H cross orthogonal to the detection direction of the second MTJ element 21 for the magnetic free layer 217. By changing the bias magnetic field H cross , the saturation magnetic field of the second MTJ element 21 can be adjusted, and the sensitivity of the second MTJ element 21 can be further adjusted. When the bias layer 218 is an antiferromagnetic layer, the blocking temperature of the bias layer 218 is lower than the blocking temperature of the pinning layer 214. In order to reduce the bias magnetic field H cross provided by the bias layer 218, an isolation layer may be deposited between the magnetic free layer 217 and the bias layer 218. By changing the thickness of the isolation layer, the magnitude of the bias magnetic field H cross can be adjusted. Normally, a nonmagnetic material such as Ta, Ru or Cu is employed for the isolation layer. Usually, a nonmagnetic conductive material is used for the top electrode layer 219 and the bottom electrode layer 213. As the material of the substrate 211, silicon, quartz, heat-resistant glass, GaAs or AlTiC is usually used. The area of the insulating layer 212 is larger than the area of the bottom electrode layer 213. The top electrode layer 219 and the bottom electrode layer 213 are used for electrical connection with other elements.

応用上において、複数の第2MTJ素子21を直列及び/又は並列に接続して1つの第2MTJ素子グループ23とすることができる。本実施例では、第2MTJ素子グループ23は例えば4個の第2MTJ素子23を並列に接続することにより形成され、且つ第2MTJ素子グループ23に係る4個の第2MTJ素子21の検知方向が同じである。第2MTJ素子グループ23は他の素子、例えばオーム計12と電気的に接続されている。1つの第2MTJ素子グループ23をブリッジの1つのアームとすることができ、直列及び/又は並列に接続される複数の第2MTJ素子グループ23をブリッジの1つのアームとしても良い。説明すべきことは、ブリッジに第2MTJ素子グループ23を採用する場合に、第2MTJ素子グループ23の両側に傾斜した永久磁石14を設ける必要がない。本実施例では、ハーフブリッジ15、フルブリッジ16及びダブルフルブリッジ17の各アームには、例えば1つの第2MTJ素子グループ23を採用する。   In application, a plurality of second MTJ elements 21 can be connected in series and / or in parallel to form one second MTJ element group 23. In the present embodiment, the second MTJ element group 23 is formed, for example, by connecting four second MTJ elements 23 in parallel, and the detection directions of the four second MTJ elements 21 related to the second MTJ element group 23 are the same. is there. The second MTJ element group 23 is electrically connected to other elements, for example, the ohmmeter 12. One second MTJ element group 23 can be used as one arm of the bridge, and a plurality of second MTJ element groups 23 connected in series and / or in parallel can be used as one arm of the bridge. What should be explained is that when the second MTJ element group 23 is employed in the bridge, it is not necessary to provide the inclined permanent magnets 14 on both sides of the second MTJ element group 23. In the present embodiment, for example, one second MTJ element group 23 is employed for each arm of the half bridge 15, the full bridge 16, and the double full bridge 17.

磁気抵抗歯車センサ18に第2MTJ素子グループ23を採用する状況は、実施例1と同様である。   The situation in which the second MTJ element group 23 is adopted for the magnetoresistive gear sensor 18 is the same as in the first embodiment.

センサはMTJ素子を検知素子としており、ホール素子、AMR素子又はGMR素子を検知素子とするセンサと比べて、センサの温度安定性が良く、感度が高く、消費電力が低く、線形性が良く、線形動作範囲が広く、構造が簡単になる。センサに凹形状の軟磁性体が設けられており、永久磁石により生じた外部磁場におけるMTJ素子の検知方向に沿う分量を低減させることで、磁気センサチップ中のMTJ素子をその線形動作範囲内に動作させることを保証し、センサの性能を大きく改善することができる。センサの磁気センサチップにフルブリッジを採用することにより、センサは永久磁石により生じた外部磁場以外の干渉磁場による干渉を受け難くなる。1つの好適的な実施例では、MTJ素子の両側に一対の傾斜した永久磁石を配置し、該傾斜した永久磁石により生じる磁場におけるMTJ素子の検知方向と直交する分量が、MTJ素子にバイアス磁場を提供しており、該バイアス磁場を変えることによってMTJ素子の飽和磁場を調整することができ、これによって高感度のセンサを得ることができ、或いは要求に応じて異なる感度のセンサを実現することができる。1つの好適的な実施例では、MTJ素子の両側に一対の傾斜した永久磁石を配置し、該傾斜した永久磁石により生じる磁場におけるMTJ素子の検知方向に沿う分量が、MTJ素子のネールカップリング磁場を取り消すことができ、これによってMTJ素子の動作ポイントをその線形動作範囲に位置させることを保証し、センサの線形性を改善することができる。他の好適的な実施例では、MTJ素子の磁性自由層上にバイアス層を配置し、該バイアス層は磁性自由層にMTJ素子の検知方向と直交するバイアス磁場を提供することができ、該バイアス磁場を変えることでMTJ素子の飽和磁場を調整することができ、これによって高感度のセンサを得ることができ、或いは要求に応じて異なる感度のセンサを実現することができる。センサは歯車の歯の位置を確定することができ、歯車の歯が欠けた場合であっても、その欠けた歯の位置を確定することができる。センサは歯車の運動速度のみならず、歯車の運動方向も確定することができる。センサは直線歯車だけではなく、円形歯車にも適用される。センサは低コストで大規模の生産の実現に有利である。   The sensor uses an MTJ element as a sensing element, and the sensor has better temperature stability, higher sensitivity, lower power consumption, better linearity than a sensor using a Hall element, AMR element, or GMR element as a sensing element. Wide linear operating range and simple structure. The sensor is provided with a concave soft magnetic material, and by reducing the amount along the detection direction of the MTJ element in the external magnetic field generated by the permanent magnet, the MTJ element in the magnetic sensor chip is within its linear operating range. It can be guaranteed to operate, and the performance of the sensor can be greatly improved. By adopting a full bridge for the magnetic sensor chip of the sensor, the sensor is less susceptible to interference by an interference magnetic field other than an external magnetic field generated by a permanent magnet. In one preferred embodiment, a pair of inclined permanent magnets are arranged on both sides of the MTJ element, and the amount perpendicular to the detection direction of the MTJ element in the magnetic field generated by the inclined permanent magnet is a bias magnetic field applied to the MTJ element. The saturation magnetic field of the MTJ element can be adjusted by changing the bias magnetic field, whereby a highly sensitive sensor can be obtained, or a sensor with a different sensitivity can be realized as required. it can. In one preferred embodiment, a pair of inclined permanent magnets are arranged on both sides of the MTJ element, and the amount along the detection direction of the MTJ element in the magnetic field generated by the inclined permanent magnet is equal to the nail coupling magnetic field of the MTJ element. Can be canceled, thereby ensuring that the operating point of the MTJ element is in its linear operating range and improving the linearity of the sensor. In another preferred embodiment, a bias layer is disposed on the magnetic free layer of the MTJ element, and the bias layer can provide a bias magnetic field perpendicular to the sensing direction of the MTJ element to the magnetic free layer. By changing the magnetic field, the saturation magnetic field of the MTJ element can be adjusted, whereby a highly sensitive sensor can be obtained, or a sensor with a different sensitivity can be realized as required. The sensor can determine the position of the gear teeth, and can determine the position of the missing teeth even if the gear teeth are missing. The sensor can determine not only the speed of movement of the gear but also the direction of movement of the gear. The sensor applies not only to linear gears but also to circular gears. Sensors are advantageous for realizing large-scale production at low cost.

理解すべきことは、以上の好適な実施例を用いて本発明の技術思想に対して行った詳細な説明が、例に過ぎず、本発明を限定するものではない。当業者は本発明の明細書を基に各実施例に記載の技術思想に修正し、又はその中の部分的な技術特徴に対して均等に置換することができるが、これらの修正又は置換は対応する技術思想の本質を本発明の各実施例の技術思想の要旨及び範囲を離脱させるものではない。   It should be understood that the detailed description given to the technical idea of the present invention using the above preferred embodiments is merely an example and does not limit the present invention. A person skilled in the art can modify the technical idea described in each embodiment based on the specification of the present invention, or equivalently replace a partial technical feature therein. The essence of the corresponding technical idea does not depart from the spirit and scope of the technical idea of each embodiment of the present invention.

Claims (7)

磁気センサチップ(181)及び第1永久磁石(182)を含み、
前記磁気センサチップ(181)は、複数のブリッジアームを含む少なくとも1つのセンサブリッジを含み、
該ブリッジの各アームは少なくとも1つのMTJ素子グループ(13,23)を含み、 前記少なくとも1つのMTJ素子グループは複数のMTJ素子グループであり、該複数のMTJ素子グループは直列及び/又は並列に接続されており、
前記MTJ素子グループは、同じ検知方向を有し、前記検出方向は自由層に平行であり、
前記各MTJ素子(11)は多層膜の構造であり、順次に堆積されるピンニング層(114)、ピンド層(115)、トンネルバリア層(116)及び磁性自由層(117)を含み、
前記磁気抵抗ギア歯車センサは、前記磁気センサチップ(181)と前記第1永久磁石(182)との間に配置される凹形状の軟磁性体(184)を更に含み、且つ、前記軟磁性体(184)の開口は前記磁気センサチップ(181)に向けており、
前記センサチップは、フルブリッジ(16)、ハーフブリッジ(15)又はダブルフルブリッジ(17)を有し
前記磁気抵抗ギア歯車センサは、さらに、第1の永久磁石とセンサチップとの間に配置され、
前記磁気抵抗ギア歯車センサは、さらに、外部ハウジング構造を有し
前記各MTJ素子グループ(13)の両側には一対の第2永久磁石(14)が設けられ、前記MTJ素子グループ(13)のネールカップリング磁場を取り消すため、各対の第2永久磁石(14)は対応するMTJ素子グループ(13)の検知方向に対して傾斜して配置されており、
前記第2永久磁石(14)の縁部の磁荷によって生じる磁界H mag における第1MTJ素子グループ(13)の検知方向(1171)に沿う分量H off は、以下の式で表される磁気抵抗歯車センサ。
Figure 0006189426
ここで、磁界H mag は、2つの永久磁石(14)の隙間位置の磁界であり、θ mag は、永久磁石14の残留磁気M r 141の傾斜角である。
Including a magnetic sensor chip (181) and a first permanent magnet (182),
The magnetic sensor chip (181) includes at least one sensor bridge including a plurality of bridge arms;
Each arm of the bridge includes at least one MTJ element group (13, 23), the at least one MTJ element group is a plurality of MTJ element groups, and the plurality of MTJ element groups are connected in series and / or in parallel. Has been
The MTJ element groups have the same detection direction, and the detection direction is parallel to the free layer;
Each MTJ element (11) has a multilayer structure, and includes a pinning layer (114), a pinned layer (115), a tunnel barrier layer (116), and a magnetic free layer (117), which are sequentially deposited,
The magnetoresistive gear sensor further includes a concave soft magnetic body (184) disposed between the magnetic sensor chip (181) and the first permanent magnet (182), and the soft magnetic body The opening of (184) faces the magnetic sensor chip (181),
The sensor chip has a full-bridge (16), the half-bridge (15) or double full bridge (17),
The magnetoresistive gear gear sensor is further disposed between the first permanent magnet and the sensor chip ,
The magnetoresistive gear gear sensor further has an external housing structure ,
A pair of second permanent magnets (14) is provided on both sides of each MTJ element group (13). In order to cancel the nail coupling magnetic field of the MTJ element group (13), each pair of second permanent magnets (14 ) Are arranged inclined with respect to the detection direction of the corresponding MTJ element group (13),
The amount H off along the detection direction (1171) of the first MTJ element group (13) in the magnetic field H mag generated by the magnetic charge at the edge of the second permanent magnet (14) is represented by the following magnetoresistive gear: Sensor.
Figure 0006189426
Here, the magnetic field H mag is the magnetic field at the gap position between the two permanent magnets (14), and θ mag is the inclination angle of the residual magnetism M r 141 of the permanent magnet 14 .
さらに、前記MTJ素子グループ(13)にバイアス磁界を提供するため、各対の第2永久磁石(14)は対応するMTJ素子グループ(13)の検知方向に対して垂直に配置されていることを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗歯車センサ。 Furthermore, in order to provide a bias magnetic field to the MTJ element group (13), each pair of second permanent magnets (14) is disposed perpendicular to the detection direction of the corresponding MTJ element group (13). The magnetoresistive gear sensor according to claim 1. 前記MTJ素子グループ(13)のネールカップリング磁場を更に取り消すため、各対の第2永久磁石(14)は対応するMTJ素子グループ(13)の検知方向に対して傾斜して配置されていることを特徴とする請求項に記載の磁気抵抗歯車センサ。 In order to further cancel the nail coupling magnetic field of the MTJ element group (13), each pair of second permanent magnets (14) is arranged to be inclined with respect to the detection direction of the corresponding MTJ element group (13). The magnetoresistive gear sensor according to claim 2 . 各MTJ素子(21)は多層膜の構造であり、順次に堆積されるピンニング層(214)、ピンド層(215)、トンネルバリア層(216)、磁性自由層(217)及びバイアス層(218)を含むことを特徴とする請求項に記載の磁気抵抗歯車センサ。 Each MTJ element (21) has a multilayer structure, and is sequentially deposited pinning layer (214), pinned layer (215), tunnel barrier layer (216), magnetic free layer (217), and bias layer (218). The magnetoresistive gear sensor according to claim 1 , comprising: 各MTJ素子(21)は、前記磁性自由層(217)と前記バイアス層(218)との間に設けられる隔離層を更に含むことを特徴とする請求項に記載の磁気抵抗歯車センサ。 The magnetoresistive gear sensor according to claim 4 , wherein each MTJ element (21) further includes an isolation layer provided between the magnetic free layer (217) and the bias layer (218). 前記磁気抵抗歯車センサは、磁気センサブリッジと電気的に接続される制御回路(183)を更に含み、
前記制御回路(183)は、前記磁気センサチップ(181)から出力される電圧信号と歯車の歯の位置との対応関係に基づいて、歯の位置を確定することを特徴とする請求項1に記載の磁気抵抗歯車センサ。
The magnetoresistive gear sensor further includes a control circuit (183) electrically connected to the magnetic sensor bridge;
The control circuit (183) determines a tooth position based on a correspondence relationship between a voltage signal output from the magnetic sensor chip (181) and a tooth position of a gear. The magnetoresistive gear sensor as described.
前記磁気センサチップ(181)はダブルフルブリッジを含み、前記ダブルフルブリッジの各アームはMTJ素子グループを含み、前記制御回路は前記磁気センサチップから出力される電圧信号に基づいて歯車の運動方向を確定することを特徴とする請求項に記載の磁気抵抗歯車センサ。 The magnetic sensor chip (181) includes a double full bridge, each arm of the double full bridge includes an MTJ element group, and the control circuit determines a movement direction of a gear based on a voltage signal output from the magnetic sensor chip. The magnetoresistive gear sensor according to claim 6 , wherein the magnetoresistive gear sensor is fixed.
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Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8508221B2 (en) * 2010-08-30 2013-08-13 Everspin Technologies, Inc. Two-axis magnetic field sensor having reduced compensation angle for zero offset
CN102809665B (en) * 2012-06-04 2016-08-03 江苏多维科技有限公司 A kind of magnetic resistance gear sensor
CN203133257U (en) * 2013-03-18 2013-08-14 江苏多维科技有限公司 TMR half-bridge magnetic field gradient sensor chip used for magnetic head of money detector
CN104065367B (en) * 2013-03-20 2017-11-07 江苏多维科技有限公司 A kind of low-watt consumption magnetic resistance switch sensor
CN103645448A (en) * 2013-12-20 2014-03-19 叶友忠 Improved Wheatstone half-bridge circuit and sensor
US9797748B2 (en) * 2013-12-30 2017-10-24 Texas Instruments Incorporated Gear sensing based on differential/asymmetric inductive sensing
JP2015133377A (en) * 2014-01-10 2015-07-23 Tdk株式会社 Magnetic detection element and rotation detection device
DE102014212262A1 (en) * 2014-06-26 2015-12-31 Robert Bosch Gmbh Sensor device for determining at least one rotational property of a rotating element
DE102015210585A1 (en) * 2015-06-10 2016-12-15 Schaeffler Technologies AG & Co. KG Method for resetting a magnetoresistive revolution sensor and corresponding revolution sensor
CN105136349B (en) * 2015-09-01 2017-10-13 宁波希磁电子科技有限公司 A kind of magnetic pressure transducer
US9897667B2 (en) 2016-01-26 2018-02-20 Nxp Usa, Inc. Magnetic field sensor with permanent magnet biasing
US9841469B2 (en) 2016-01-26 2017-12-12 Nxp Usa, Inc. Magnetic field sensor with multiple sense layer magnetization orientations
US10545196B2 (en) * 2016-03-24 2020-01-28 Nxp Usa, Inc. Multiple axis magnetic sensor
US10145907B2 (en) 2016-04-07 2018-12-04 Nxp Usa, Inc. Magnetic field sensor with permanent magnet biasing
US9933496B2 (en) 2016-04-21 2018-04-03 Nxp Usa, Inc. Magnetic field sensor with multiple axis sense capability
CN106052725B (en) * 2016-06-08 2018-07-03 江苏多维科技有限公司 A kind of Z-X axis magnetic resistance sensor
DE102016111984B4 (en) * 2016-06-30 2021-12-23 Infineon Technologies Ag Magnetic sensor components and method for determining a direction of rotation of a magnetic component about an axis of rotation
CN106206934A (en) * 2016-07-14 2016-12-07 长春禹衡光学有限公司 A kind of gear type sensor module based on magnetoresistive chip and method for packing thereof
CN106160670B (en) * 2016-08-18 2023-05-30 江苏多维科技有限公司 Balanced magneto-resistance mixer
US10288494B2 (en) * 2016-11-30 2019-05-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. MTJ-based temperature-sensing device
JP6842164B2 (en) * 2017-03-03 2021-03-17 宮城県 Magnetic foreign matter inspection device and magnetic foreign matter inspection system
CN106997031B (en) * 2017-05-18 2024-05-10 长春禹衡光学有限公司 Sensor module and packaging method thereof
JP6485491B2 (en) * 2017-06-08 2019-03-20 Tdk株式会社 Magnetic sensor and camera module
US10900814B2 (en) 2017-09-07 2021-01-26 Infineon Technologies Ag Magnetic sensor for system-level diagnostics
US10634519B2 (en) 2017-09-07 2020-04-28 Infineon Technologies Ag Magnetic sensor for system-level diagnostics
JP2019082429A (en) * 2017-10-31 2019-05-30 Tdk株式会社 Magnetic sensor
JP2019087688A (en) * 2017-11-09 2019-06-06 Tdk株式会社 Magnetic sensor
DE102018102379B4 (en) * 2018-02-02 2023-02-02 Endress + Hauser Flowtec Ag Coriolis measuring sensor of a Coriolis measuring device with a temperature measuring device integrated in the vibration exciter or vibration sensor and such a Coriolis measuring device
JP6791183B2 (en) * 2018-03-16 2020-11-25 Tdk株式会社 Magnetoresistive element, its manufacturing method, and position detector
CN109142785B (en) * 2018-09-10 2021-03-23 东南大学 Horizontal axis sensitive tunnel magnetic resistance accelerometer device based on 3D prints
US10871529B2 (en) * 2018-09-11 2020-12-22 Honeywell International Inc. Spintronic mechanical shock and vibration sensor device
US11796556B2 (en) 2018-09-19 2023-10-24 Suzhou Littelfuse Ovs Co., Ltd. Speed sensor assembly
CN109668735B (en) * 2018-12-11 2021-08-03 中国航空工业集团公司西安航空计算技术研究所 Method, device and circuit for determining phase reference of engine rotor
CN109752677A (en) * 2019-01-10 2019-05-14 东南大学 A kind of double bridge formula thin-film magnetoresistive sensor
CN112945292A (en) * 2019-12-11 2021-06-11 上海磁宇信息科技有限公司 Gear position/speed sensor
CN111198342B (en) * 2020-01-10 2021-07-06 江苏多维科技有限公司 Magneto-resistance sensor with harmonic wave widening linear range
EP3974857A1 (en) * 2020-09-25 2022-03-30 Showa Denko K.K. Magnetic sensor
US11637482B2 (en) 2020-10-08 2023-04-25 Analog Devices International Unlimited Company Magnetic sensor system for motor control
CN112577531B (en) * 2020-11-05 2022-01-21 北京麦格纳材科技有限公司 Anti-electromagnetic interference structure of magnetic sensor chip and preparation method thereof
US11460323B2 (en) 2021-02-05 2022-10-04 Analog Devices International Unlimited Company Magnetic field sensor package
DE102021201489A1 (en) * 2021-02-17 2022-09-01 Robert Bosch Gesellschaft mit beschränkter Haftung Magnet coupler for magnetic coupling of signal lines

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7123454B2 (en) * 2003-06-12 2006-10-17 Headway Technologies, Inc. Longitudinal bias structure having stability with minimal effect on output
US7768083B2 (en) * 2006-01-20 2010-08-03 Allegro Microsystems, Inc. Arrangements for an integrated sensor
WO2008112187A1 (en) * 2007-03-09 2008-09-18 Nve Corporation Stressed magnetoresistive tamper detection devices
US7639005B2 (en) * 2007-06-15 2009-12-29 Advanced Microsensors, Inc. Giant magnetoresistive resistor and sensor apparatus and method
JP2009122041A (en) * 2007-11-16 2009-06-04 Ricoh Co Ltd Composite sensor
US8080993B2 (en) * 2008-03-27 2011-12-20 Infineon Technologies Ag Sensor module with mold encapsulation for applying a bias magnetic field
US7619407B2 (en) 2008-04-10 2009-11-17 Magic Technologies, Inc. Gear tooth sensor with single magnetoresistive bridge
US8331064B2 (en) * 2008-04-18 2012-12-11 International Business Machines Corporation System having a TMR sensor with leads configured for providing joule heating
US8203332B2 (en) * 2008-06-24 2012-06-19 Magic Technologies, Inc. Gear tooth sensor (GTS) with magnetoresistive bridge
CN202119390U (en) * 2011-03-03 2012-01-18 江苏多维科技有限公司 Angle sensor of bridge type magnetic field of independent packaging
CN102226835A (en) * 2011-04-06 2011-10-26 江苏多维科技有限公司 Single-chip double-axis magnetic field sensor and preparation method thereof
CN202013413U (en) * 2011-04-06 2011-10-19 江苏多维科技有限公司 Single chip bridge type magnetic field sensor
CN202210144U (en) * 2011-04-21 2012-05-02 江苏多维科技有限公司 Single-chip reference full-bridge magnetic field sensor
CN102385043B (en) * 2011-08-30 2013-08-21 江苏多维科技有限公司 Magnetic tunnel junction (MTJ) triaxial magnetic field sensor and packaging method thereof
US8922205B2 (en) * 2011-10-31 2014-12-30 Everspin Technologies, Inc. Apparatus and method for reset and stabilization control of a magnetic sensor
US9329057B2 (en) * 2012-05-31 2016-05-03 Allegro Microsystems, Llc Gear tooth sensor with peak and threshold detectors
CN202599967U (en) * 2012-06-04 2012-12-12 江苏多维科技有限公司 Magneto-resistor gear sensor
CN102809665B (en) 2012-06-04 2016-08-03 江苏多维科技有限公司 A kind of magnetic resistance gear sensor

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