JP6183897B2 - パターンの製造方法 - Google Patents
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第一工程では、図1aに示すモールド8又は図1bに示すモールド8aを作製する。モールド8及び8aのいずれも、底部6と、底部6の表面の周縁に位置する外枠2と、外枠2で囲まれた底部6の表面上に位置する複数の突起部4と、を有する。各突起部4は外枠2と離間している。各突起部同士も互いに離間している。複数の突起部4は、規則的に配列していてもよい。例えば、複数の突起部4が格子状に配列していてもよい。複数の突起部4が等間隔で配列していてもよい。複数の突起部4が異なる間隔で配列していてもよい。
以下では、図1a及び図2aに示すモールド8を用いて、マスク10aを形成する場合について説明する。ただし、モールド8の代わりに図1bに示すモールド8aを用いてもよい。第二工程では、図2bに示すように、外枠2の内側にポリマーの溶液10を供給する。続いて、ポリマーを硬化することにより、突起部4と略同じ形状を有する貫通穴が形成されたマスク10aが得られる(図2c参照。)。突起部4の位置及び数は、マスク10aに形成される貫通穴の位置及び数に対応する。なお、溶液10を構成する溶媒は、ポリマーの硬化に伴って加熱等により蒸発させればよい。
第三工程では、マスク10aをモールド8から剥離する(図2c参照。)。
第四工程では、図2dに示すように、マスク10aを基板12の表面に密着させる。基板12の表面は平坦であることが好ましい。この場合、第五工程においてマスク10aと基板12との間に原料14が侵入し難く、第六工程において得られるパターン14a又は14bにおける構造的欠陥の発生を抑制することができる。基板12の組成は特に限定されない。例えば、基板12は、シリコン、ガラス又はプラスチックから構成されていてよい。
第五工程では、図2e及び図3fに示すように、基板12の表面に密着したマスク10aの貫通穴内に原料14を導入する。例えば、固体状の原料14を貫通穴内に導入してもよい。原料14は液体であってもよい。つまり、原料14が、パターン14aを構成する成分を含むスラリー又は溶液であってもよい。以下では、原料14が液体である場合について説明する。
第六工程では、図3hに示すように、マスク10aを基板12から剥離して、原料14に由来するパターン14aを基板12の表面に形成する。本実施形態では、図3gに示すようにマスク10aを基板12から剥離する前、又は図3hに示すようにマスク10aを基板12から剥離した後、原料14に含まれる液体(例えば水分)を加熱等によって除去し、乾燥したパターン14aを得てよい。マスク10aを基板12から剥離した後、原料14の種類に応じてパターン14aを焼成してもよい。例えば、原料14が、多孔質材料、ゼオライト及び酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種、又は焼結によりこれらの物質になる成分である場合、パターン14aを焼成することが好ましい。パターン14aの焼成により、焼結体からなるパターン14bが基板12の表面に形成される(図3i参照。)。なお、原料14をマスク10aで成形した後、乾燥していない原料14を焼成してもよい。
h4≧h2≧h10≧h14 (1)
[パターンの製造]
図1aのモールド8の代わりに図1bのモールド8aを用いたこと以外は、図2a、2b、2c、2d、2e、図3f、3g、3h及び3iに示す手順で、以下のパターンの製造方法を実施した。
第一工程では、3次元光造形機を用いて、図1bに示すモールド8aをアクリル樹脂から作製した。底部6の表面からの突起部4の高さは2mmであった。底部6の表面からの外枠2の高さも2mmであった。底部6の表面に垂直な方向から見た突起部の形状は、一辺が500μmである正方形であった。隣り合う突起部4同士の間隔は500μmであった。
第二工程では、図2bに示すように、外枠2の内側にポリマーの溶液10を供給し、外枠2で囲まれた空間を溶液10で満たした。溶液10には、ポリマー(主剤)として熱硬化性のPDMSを含有させた。また溶液10中にはポリマーの硬化剤も添加した。溶液中におけるPDMSと硬化剤との質量比(混合比)は、10:1に調整した。
第三工程では、マスク10aをモールド8aから剥離した(図2c参照。)。
第四工程では、マスク10aを、シリコンからなる基板12の表面に密着させた(図2d参照。)。
第五工程では、基板12に密着したマスク10aの貫通穴内に、原料14であるスラリーを導入した(図2e及び図3f参照。)。原料14は、以下の成分を混合することにより調製した。
Y型ゼオライト粉末:4.42g。
シリカ粒子を分散させた水:4.42g。
カルボキシメチルセルロース:0.35g。
超純水:20mL。
なお、Y型ゼオライト粉末としては、東ソー株式会社製のハイシリカゼオライト390HUA(HSZ−390HUA)を用いた。シリカ粒子を分散させた水としては、日産化学工業株式会社製のスノーテックスを用いた。
真空脱気後、基板12をホットプレートにより60℃で加熱して、原料14中の水分を除去し、乾燥したパターン14aを得た(図3g参照。)。乾燥したパターン14aを得た後、マスク10aを基板12から剥離させた(図3h参照。)。マスク10aの剥離後、パターン14aが形成された基板12を電気炉に入れた。電気炉内において、基板12を100℃で30分間加熱した後、800℃で1時間加熱することにより、パターン14aを焼結させた。つまり、ゼオライトの焼結体から構成されるパターン14bを基板12の表面に形成した(図3i参照。)。
パターン14bが形成された基板12を、8mm×8mmの大きさに切断することで、皮膚ガス濃縮チップを作製した。皮膚ガス濃縮チップを、蓋が空いたバイアル瓶の中に入れ、瓶の開口部を被験者の皮膚表面に密着させて、皮膚ガスを15分間捕集した。つまり、皮膚ガス濃縮チップが備えるパターン14bに皮膚ガスを吸着させた。バイアル瓶の開口部の面積は1.13cm2であった。バイアル瓶の体積は16.9mLであった。なお、皮膚ガス濃縮チップのパターン14bに吸着された皮膚ガスは、パターン14bを加熱しない限りパターン14bから脱離しない。したがって、皮膚ガスの捕集中に、被験者の体動等によって瓶の開口部が皮膚表面から離れ、バイアル瓶(皮膚ガスが捕集される空間)の密閉性が一時的に破れてしまったとしても、皮膚ガスの測定の大きな妨げとはならない。
実施例2では、第六工程においてマスク10aを基板12から剥離する前に、原料14中の水分を除去するための加熱を行わなかった。この点を除いて実施例1と同様の方法で、複数のパターン14bを基板12の表面に形成した。実施例2で製造したパターン14bの高さを表面形状測定装置により測定した。パターン14bの高さの平均値は97μmであった。つまり、第六工程においてマスク10aを基板12から剥離する前に原料14中の水分を除去しない場合であっても、パターン14bが十分な高さを有することが確認された。
Claims (8)
- 底部と、前記底部の表面の周縁に位置する外枠と、前記外枠で囲まれた前記底部の表面上に位置する突起部と、を有するモールドを作製する第一工程と、
前記外枠の内側にポリマーの溶液を供給し、前記ポリマーを硬化させて、貫通穴が形成されたマスクを作製する第二工程と、
前記マスクを前記モールドから剥離する第三工程と、
前記マスクを基板に密着させる第四工程と、
前記基板に密着した前記マスクの前記貫通穴内に原料を導入する第五工程と、
前記マスクを前記基板から剥離して、前記原料に由来するパターンを前記基板の表面に形成する第六工程と、
を備え、
前記底部の表面からの前記突起部の高さが、前記底部の表面からの前記外枠の高さ以上である、
パターンの製造方法。 - 前記マスクの厚さが5μm以上1mm未満である、
請求項1に記載のパターンの製造方法。 - 前記第六工程において、前記マスクを前記基板から剥離する前、又は前記マスクを前記基板から剥離した後、前記原料に含まれる液体を除去する、
請求項1又は2に記載のパターンの製造方法。 - 前記第五工程において、前記原料に外力を作用させることにより、前記原料を前記マスクの前記貫通穴内に導入する、
請求項1〜3のいずれか一項に記載のパターンの製造方法。 - 前記外力は、圧力又は電磁気力のうち少なくともいずれかである、
請求項4に記載のパターンの製造方法。 - 前記原料は、多孔質材料、ゼオライト及び酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種である、
請求項1〜5のいずれか一項に記載のパターンの製造方法。 - 前記第六工程において、前記マスクを前記基板から剥離した後、前記基板の前記表面上にある前記原料を焼結させることにより、前記パターンを前記基板の表面に形成する、
請求項6に記載のパターンの製造方法。 - 前記パターンは、人体の皮膚から放出される皮膚ガスを吸着する吸脱着剤を含む、
請求項1〜7のいずれか一項に記載のパターンの製造方法。
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