JP6173024B2 - Laminated wafer processing method and adhesive sheet - Google Patents

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Description

本発明は、ウェーハ上に複数のチップが配置された積層ウェーハの加工方法、及び当該積層ウェーハの加工方法に使用される粘着シートに関する。   The present invention relates to a laminated wafer processing method in which a plurality of chips are arranged on a wafer, and an adhesive sheet used in the laminated wafer processing method.

近年、集積回路等が形成されたチップを厚み方向に積層する三次元実装技術が注目されている。三次元実装技術の一つであるチップ・オン・ウェーハ(CoW:Chip on Wafer)では、支持基板となるウェーハ上に複数のチップを配置して積層ウェーハを形成する(例えば、特許文献1参照)。   In recent years, attention has been paid to a three-dimensional mounting technique in which chips formed with integrated circuits and the like are stacked in the thickness direction. In chip-on-wafer (CoW), which is one of three-dimensional mounting techniques, a stacked wafer is formed by arranging a plurality of chips on a wafer serving as a support substrate (see, for example, Patent Document 1). .

この積層ウェーハを各チップのサイズに分割することで、複数のチップが積層配置された積層チップを形成できる。積層ウェーハは、例えば、切削ブレードを備える切削装置で各チップのサイズに分割される(例えば、特許文献2参照)。   By dividing this laminated wafer into the size of each chip, a laminated chip in which a plurality of chips are arranged in a stacked manner can be formed. A laminated wafer is divided | segmented into the size of each chip | tip with the cutting device provided with a cutting blade, for example (for example, refer patent document 2).

特開2012−209522号公報JP 2012-209522 A 特開2007−214201号公報JP 2007-214201 A

ところで、上述のチップ・オン・ウェーハの支持基板として、配置されるチップに対応するバンプ(電極)等を備えたインターポーザウェーハを用いることがある。インターポーザウェーハを用いて形成された積層ウェーハの分割後には、インターポーザウェーハ側を上方に位置付けるように積層チップを粘着シートに支持させて、バンプ等の検査が行われる。   By the way, an interposer wafer provided with bumps (electrodes) or the like corresponding to the chip to be arranged may be used as the above-described chip-on-wafer support substrate. After the laminated wafer formed using the interposer wafer is divided, the laminated chip is supported on the adhesive sheet so that the interposer wafer side is positioned upward, and inspection of bumps and the like is performed.

この検査の前工程を簡略化するには、積層ウェーハのチップ側に粘着シートを貼着して、インターポーザウェーハ側を上方に位置付けた状態で積層ウェーハを分割すれば良い。   In order to simplify the pre-inspection process, an adhesive sheet may be attached to the chip side of the laminated wafer, and the laminated wafer may be divided with the interposer wafer side positioned upward.

しかしながら、インターポーザウェーハの外周領域(外周余剰領域)にはチップが配置されていないので、この方法では、インターポーザウェーハの外周領域を粘着シートで支持できない。   However, since no chip is arranged in the outer peripheral region (outer peripheral surplus region) of the interposer wafer, this method cannot support the outer peripheral region of the interposer wafer with the adhesive sheet.

そのため、この方法を用いてインターポーザウェーハを分割すると、外周領域とチップの配置領域(チップ領域)との境界にクラックを生じる恐れがある。また、外周領域を分割した端材チップが飛散して、インターポーザウェーハやチップを損傷させる恐れもある。   For this reason, when the interposer wafer is divided using this method, there is a possibility that a crack is generated at the boundary between the outer peripheral region and the chip arrangement region (chip region). Moreover, there is a possibility that the end material chips that divide the outer peripheral region are scattered and damage the interposer wafer and the chips.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、積層ウェーハを適切に分割可能な積層ウェーハの加工方法、及び当該積層ウェーハの加工方法に使用される粘着シートを提供することである。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a laminated wafer processing method capable of appropriately dividing a laminated wafer, and an adhesive sheet used in the laminated wafer processing method. Is to provide.

本発明によれば、円盤状のウェーハと、交差する複数の分割予定ラインで区画された該ウェーハの表面の各領域にそれぞれ積層されたチップと、を備え、複数の該チップが積層されたチップ領域と、該チップ領域を囲繞する外周余剰領域とを有し、該チップ領域と該外周余剰領域との間に段差が形成された積層ウェーハの加工方法であって、積層ウェーハの該チップ側に粘着シートを貼着する粘着シート貼着ステップと、該粘着シート貼着ステップを実施した後、該積層ウェーハのウェーハ裏面側から分割予定ラインに沿ってレーザビーム又は切削ブレードで該ウェーハを分割する分割ステップと、を備え、該粘着シートは、基材層と、該基材層上に配設された糊層と、該積層ウェーハの該外周余剰領域に対応して該糊層上に形成された突起部と、を有し、該突起部は、該ウェーハの外周縁に沿う円環状に形成され、該突起部の外周の径は、該ウェーハの外周の径より大きく、該突起部の上面は該ウェーハに対して接着性を有し、該粘着シート貼着ステップを実施した後、該積層ウェーハの該チップが該粘着シートの該糊層に貼着されるとともに該外周余剰領域が該突起部で支持された状態で該積層ウェーハに該分割ステップが実施されることを特徴とする積層ウェーハの加工方法が提供される。 According to the present invention, it is provided with: a disk-shaped wafer; and a chip laminated on each region of the surface of the wafer partitioned by a plurality of intersecting scheduled lines, and a chip in which a plurality of the chips are laminated A laminated wafer having a region and an outer peripheral surplus region surrounding the chip region, wherein a step is formed between the chip region and the outer peripheral surplus region, on the chip side of the laminated wafer Adhesive sheet adhering step for adhering the adhesive sheet , and dividing the wafer with a laser beam or a cutting blade along the planned dividing line from the wafer back side of the laminated wafer after performing the adhesive sheet adhering step And the adhesive sheet is formed on the glue layer corresponding to the outer peripheral surplus area of the laminated wafer, and the glue layer disposed on the glue layer. Protrusion When having a protrusion portion is formed in an annular shape along the outer peripheral edge of the wafer, projecting diameter of the outer periphery of the raised portion is greater than the diameter of the outer periphery of the wafer, projecting the upper surface of the raised portion, said After having carried out the pressure sensitive adhesive sheet sticking step with respect to the wafer, the chip of the laminated wafer is stuck to the glue layer of the pressure sensitive adhesive sheet, and the outer peripheral area is the protrusion. Provided is a method for processing a laminated wafer, wherein the dividing step is performed on the laminated wafer in a supported state.

また、本発明によれば、前記積層ウェーハの加工方法で使用される粘着シートであって、基材層と、該基材層上に配設された糊層と、前記積層ウェーハの前記外周余剰領域に対応して該糊層上に形成された突起部と、を有し、該突起部は、前記ウェーハの外周縁に沿う円環状に形成され、該突起部の外周の径は、該ウェーハの外周の径より大きく、該突起部の上面は、該ウェーハに対して接着性を有することを特徴とする粘着シートが提供される。 Further, according to the present invention, there is provided a pressure-sensitive adhesive sheet used in the method for processing a laminated wafer, wherein the substrate layer, a glue layer disposed on the substrate layer, and the outer peripheral surplus of the laminated wafer A protrusion formed on the glue layer corresponding to the region, and the protrusion is formed in an annular shape along the outer peripheral edge of the wafer, and the diameter of the outer periphery of the protrusion is A pressure-sensitive adhesive sheet is provided in which the upper surface of the protrusion is larger in diameter than the outer periphery of the wafer and has an adhesiveness to the wafer.

本発明によれば、積層ウェーハの外周余剰領域に対応して突起部を備える粘着シートを用いて、積層ウェーハの外周余剰領域を粘着シートの突起部に支持させた状態で積層ウェーハを分割するので、分割の際の積層ウェーハの撓みを低減できる。その結果、外周余剰領域とチップ領域との境界においてクラックの発生を抑制できる。   According to the present invention, the laminated wafer is divided in a state where the outer peripheral surplus area of the laminated wafer is supported by the protruding portion of the adhesive sheet using the adhesive sheet having the protrusion corresponding to the outer peripheral surplus area of the laminated wafer. The bending of the laminated wafer during the division can be reduced. As a result, the occurrence of cracks can be suppressed at the boundary between the outer peripheral surplus region and the chip region.

また、積層ウェーハの外周余剰領域は粘着シートの突起部に接着されるので、外周余剰領域を分割した端材チップの飛散を抑制して積層ウェーハの損傷を防止できる。このように、本発明によれば、積層ウェーハを適切に分割できる。   Moreover, since the outer periphery surplus area | region of a laminated wafer is adhere | attached on the projection part of an adhesive sheet, the scattering of the end material chip which divided | segmented the outer periphery surplus area | region can be suppressed, and damage to a laminated wafer can be prevented. Thus, according to the present invention, the laminated wafer can be appropriately divided.

本実施の形態に係る積層ウェーハの構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of the laminated wafer which concerns on this Embodiment. 本実施の形態で使用される粘着シートの構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of the adhesive sheet used by this Embodiment. 本実施の形態の粘着シート貼着ステップを模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the adhesive sheet sticking step of this Embodiment. 本実施の形態の粘着シート貼着ステップを模式的に示す一部断面側面図である。It is a partial cross section side view which shows typically the adhesive sheet sticking step of this Embodiment. 本実施の形態の分割ステップを模式的に示す一部断面側面図である。It is a partial cross section side view which shows typically the division | segmentation step of this Embodiment.

以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、本実施の形態では、切削ブレードでウェーハを切削し分割する積層ウェーハの加工方法を説明するが、本発明の積層ウェーハの加工方法はこれに限定されない。例えば、レーザビームでウェーハを加工し分割する積層ウェーハの加工方法でも良い。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In this embodiment, a method for processing a laminated wafer in which a wafer is cut and divided by a cutting blade will be described, but the method for processing a laminated wafer of the present invention is not limited to this. For example, a laminated wafer processing method in which a wafer is processed and divided by a laser beam may be used.

本実施の形態の積層ウェーハの加工方法は、粘着シート貼着ステップ(図3及び図4参照)と、分割ステップ(図5参照)とを含む。なお、分割ステップは、切削ブレード等の加工手段を備える加工装置(切削装置)で実施される。   The method for processing a laminated wafer according to the present embodiment includes an adhesive sheet attaching step (see FIGS. 3 and 4) and a dividing step (see FIG. 5). The dividing step is performed by a processing device (cutting device) provided with processing means such as a cutting blade.

粘着シート貼着ステップでは、複数のチップ12が配置された積層ウェーハ2のチップ12側(表面側)に、積層ウェーハ2の外周余剰領域8に対応する突起部18を備えた粘着シート14を貼着する。   In the adhesive sheet adhering step, an adhesive sheet 14 having a protrusion 18 corresponding to the outer peripheral surplus region 8 of the laminated wafer 2 is attached to the chip 12 side (front surface side) of the laminated wafer 2 on which the plurality of chips 12 are arranged. To wear.

分割ステップでは、ウェーハ4の裏面4b側(積層ウェーハ2の裏面側)から切削ブレード26を切り込ませ、分割予定ライン(ストリート)10(図1参照)に沿ってウェーハ4を分割する。以下、本実施の形態に係る積層ウェーハの加工方法を詳述する。   In the dividing step, the cutting blade 26 is cut from the back surface 4b side of the wafer 4 (the back surface side of the laminated wafer 2), and the wafer 4 is divided along the planned dividing line (street) 10 (see FIG. 1). Hereinafter, the processing method of the laminated wafer according to the present embodiment will be described in detail.

図1は、本実施の形態に係る積層ウェーハの加工方法の対象となる積層ウェーハの構成例を示す斜視図である。図1に示すように、本実施の形態の積層ウェーハ2は、円盤状の外形を有するウェーハ4を備えている。ウェーハ4は、代表的には、バンプ(不図示)等が形成されたインターポーザウェーハであり、中央のチップ領域6と、チップ領域6を囲む外周余剰領域8とを有する。   FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a laminated wafer that is a target of the laminated wafer processing method according to the present embodiment. As shown in FIG. 1, the laminated wafer 2 according to the present embodiment includes a wafer 4 having a disk-shaped outer shape. The wafer 4 is typically an interposer wafer on which bumps (not shown) and the like are formed, and has a central chip region 6 and an outer peripheral surplus region 8 surrounding the chip region 6.

ウェーハ4の表面4a側のチップ領域6は、交差する複数の分割予定ライン(ストリート)10で複数の領域に区画されており、各領域にはIC等のデバイスを備えた所定厚みのチップ12が配置されている。これにより、チップ領域6と外周余剰領域8との間には段差が生じている。   The chip region 6 on the surface 4a side of the wafer 4 is divided into a plurality of regions by a plurality of intersecting scheduled lines (streets) 10, and a chip 12 having a predetermined thickness including a device such as an IC is provided in each region. Has been placed. Thereby, a step is generated between the chip region 6 and the outer peripheral surplus region 8.

本実施の形態の加工方法では、まず、上述した積層ウェーハ2のチップ12側(表面側)に、粘着シート14を貼着する粘着シート貼着ステップを実施する。図2は、本実施の形態で使用される粘着シートの構成例を示す斜視図である。   In the processing method of the present embodiment, first, the pressure-sensitive adhesive sheet sticking step for sticking the pressure-sensitive adhesive sheet 14 to the chip 12 side (surface side) of the laminated wafer 2 described above is performed. FIG. 2 is a perspective view illustrating a configuration example of the pressure-sensitive adhesive sheet used in the present embodiment.

図2に示すように、本実施の形態で使用される粘着シート14は、基材シート16を備えている。基材シート16は、積層ウェーハ2の表面側の全体を覆うことができる程度の面積を有しており、フィルム状の基材層16a(図4及び図5参照)と、基材層16aに設けられた糊層16b(図4及び図5参照)とで構成されている。   As shown in FIG. 2, the pressure-sensitive adhesive sheet 14 used in the present embodiment includes a base sheet 16. The base material sheet 16 has an area that can cover the entire front surface side of the laminated wafer 2, and has a film-like base material layer 16 a (see FIGS. 4 and 5) and a base material layer 16 a. It is comprised with the provided adhesive layer 16b (refer FIG.4 and FIG.5).

基材シート16の基材層16aは、PO(ポリオレフィン)、PVC(ポリ塩化ビニル)、PET(ポリエチレンテレフタレート)等の樹脂材料で形成されている。糊層16bは、ゴムやアクリル等の樹脂材料で形成されており、積層ウェーハ2のチップ12に対して接着性を示す。   The base material layer 16a of the base material sheet 16 is formed of a resin material such as PO (polyolefin), PVC (polyvinyl chloride), or PET (polyethylene terephthalate). The glue layer 16 b is formed of a resin material such as rubber or acrylic, and exhibits adhesiveness to the chip 12 of the laminated wafer 2.

基材シート16の糊層16b側には、積層ウェーハ2の外周余剰領域8(ウェーハ4の外周余剰領域8)に対応する円環状の突起部18が設けられている。この突起部18は、積層ウェーハ2のチップ12と同程度の厚みを有する基材層18a(図4及び図5参照)と、基材層18aに設けられた糊層18b(図4及び図5参照)とで構成されている。なお、糊層18bは、基材シート16とは反対側(突起部18の上面側)に設けられる。   An annular protrusion 18 corresponding to the outer peripheral surplus region 8 (outer peripheral surplus region 8 of the wafer 4) of the laminated wafer 2 is provided on the adhesive layer 16 b side of the base material sheet 16. The protrusion 18 includes a base material layer 18a (see FIGS. 4 and 5) having a thickness comparable to the chip 12 of the laminated wafer 2, and a paste layer 18b (see FIGS. 4 and 5) provided on the base material layer 18a. Reference). The adhesive layer 18b is provided on the side opposite to the base sheet 16 (upper surface side of the protruding portion 18).

突起部18の基材層18aは、PO(ポリオレフィン)、PVC(ポリ塩化ビニル)等の柔軟性を有する樹脂材料で形成されている。糊層18bは、ゴムやアクリル等の樹脂材料で形成されており、積層ウェーハ2の外周余剰領域8に対して接着性を示す。   The base material layer 18a of the protrusion 18 is formed of a flexible resin material such as PO (polyolefin) or PVC (polyvinyl chloride). The adhesive layer 18 b is formed of a resin material such as rubber or acrylic, and exhibits adhesion to the outer peripheral surplus region 8 of the laminated wafer 2.

突起部18は、例えば、基材層18aと糊層18bとを備えるテープ等を、基材シート16(糊層16b)において積層ウェーハ2の外周余剰領域8と対応する位置に接着することで形成される。ただし、突起部18はこれに限定されない。突起部18は、後述する分割ステップにおいて、外周余剰領域8が撓まない程度に積層ウェーハ2を支持できれば良い。   The protrusion 18 is formed, for example, by adhering a tape or the like including the base material layer 18a and the adhesive layer 18b to a position corresponding to the outer peripheral surplus region 8 of the laminated wafer 2 on the base material sheet 16 (adhesive layer 16b). Is done. However, the protrusion 18 is not limited to this. The protrusion 18 only needs to be able to support the laminated wafer 2 to such an extent that the outer peripheral surplus region 8 is not bent in the division step described later.

例えば、積層ウェーハ2の外周余剰領域8と対応する位置に光硬化型の樹脂(代表的には、紫外線硬化樹脂)を塗布し、突起部18として用いても良い。この場合、粘着シート貼着ステップを実施した後、分割ステップの前に、光(紫外線)を照射して樹脂を硬化させる。   For example, a photocurable resin (typically, an ultraviolet curable resin) may be applied to the position corresponding to the outer peripheral surplus region 8 of the laminated wafer 2 and used as the protrusion 18. In this case, after performing the adhesive sheet sticking step, the resin is cured by irradiating light (ultraviolet rays) before the dividing step.

また、基材シート16の糊層16bと同一の材料で突起部18を構成しても良い。この場合、例えば、基材シート16を形成する際に、積層ウェーハ2の外周余剰領域8と対応する位置の糊層16bを厚くすれば良い。もちろん、基材シート16の形成後に、積層ウェーハ2の外周余剰領域8と対応する位置の糊層16bを厚くしても良い。   Further, the protrusion 18 may be made of the same material as that of the adhesive layer 16 b of the base sheet 16. In this case, for example, when the base sheet 16 is formed, the glue layer 16b at a position corresponding to the outer peripheral surplus region 8 of the laminated wafer 2 may be thickened. Of course, the glue layer 16b at a position corresponding to the outer peripheral surplus region 8 of the laminated wafer 2 may be thickened after the base sheet 16 is formed.

突起部18の内周の径dは、ウェーハ4の外周の径より小さく設定される。一方で、突起部18の外周の径Dは、ウェーハ4の外周の径より大きく設定されることが好ましい。これにより、積層ウェーハ2に粘着シート14を貼着する際の位置決め精度の要求が緩和され、粘着シート貼着ステップを容易に実施できるようになる。   An inner diameter d of the protrusion 18 is set smaller than an outer diameter of the wafer 4. On the other hand, the outer diameter D of the protrusion 18 is preferably set larger than the outer diameter of the wafer 4. Thereby, the request | requirement of the positioning accuracy at the time of sticking the adhesive sheet 14 on the laminated wafer 2 is eased, and an adhesive sheet sticking step can be easily implemented now.

このように構成された粘着シート14を、積層ウェーハ2のチップ12側(表面側)に貼着する。図3は、粘着シート貼着ステップを模式的に示す斜視図であり、図4は、粘着シート貼着ステップを模式的に示す一部断面側面図である。   The pressure-sensitive adhesive sheet 14 configured in this manner is attached to the chip 12 side (surface side) of the laminated wafer 2. FIG. 3 is a perspective view schematically showing the adhesive sheet attaching step, and FIG. 4 is a partial cross-sectional side view schematically showing the adhesive sheet attaching step.

粘着シート貼着ステップでは、図3及び図4に示すように、まず、粘着シート14を環状のフレーム20に貼着する。具体的には、粘着シート14の突起部18を、フレーム20の中央に形成された開口部20a内に位置付けるようにする。その後、粘着シート14を、環状フレーム20の形状に合わせて裁断する。   In the adhesive sheet attaching step, as shown in FIGS. 3 and 4, first, the adhesive sheet 14 is attached to the annular frame 20. Specifically, the protrusion 18 of the adhesive sheet 14 is positioned in the opening 20 a formed in the center of the frame 20. Thereafter, the adhesive sheet 14 is cut according to the shape of the annular frame 20.

次に、積層ウェーハ2のチップ12側を、フレーム20に貼着された粘着シート14の突起部18側に対向させて、粘着シート14の突起部18と積層ウェーハ2の外周余剰領域8とが重なるように位置を合わせる。そして、粘着シート14と積層ウェーハ2とを接近させて、粘着シート14を積層ウェーハ2に貼着する。   Next, the chip 12 side of the laminated wafer 2 is opposed to the protruding portion 18 side of the adhesive sheet 14 attached to the frame 20, and the protruding portion 18 of the adhesive sheet 14 and the outer peripheral surplus region 8 of the laminated wafer 2 are formed. Adjust the position so that they overlap. Then, the pressure-sensitive adhesive sheet 14 and the laminated wafer 2 are brought close to each other, and the pressure-sensitive adhesive sheet 14 is adhered to the laminated wafer 2.

その結果、積層ウェーハ2のチップ領域6に設けられた複数のチップ12には、突起部18で囲まれた領域に相当する基材シート16が接着され、積層ウェーハ2の外周余剰領域8には、突起部18が接着される。   As a result, the base sheet 16 corresponding to the region surrounded by the protrusions 18 is bonded to the plurality of chips 12 provided in the chip region 6 of the laminated wafer 2, and the outer peripheral surplus region 8 of the laminated wafer 2 is attached to the plurality of chips 12. The protrusion 18 is bonded.

突起部18は、チップ12と同程度の厚みに形成されているので、ウェーハ4の表面4a(または、裏面4b)の高さ位置(基材シート16を基準とする高さ位置)は、チップ領域6と、粘着シート14の突起部18に支持される外周余剰領域8とで同程度になる。   Since the protrusion 18 is formed to have the same thickness as the chip 12, the height position of the front surface 4 a (or the back surface 4 b) of the wafer 4 (the height position with respect to the base sheet 16) is the chip. The region 6 and the outer peripheral surplus region 8 supported by the protrusion 18 of the pressure-sensitive adhesive sheet 14 have the same degree.

そのため、後の分割ステップにおいて、ウェーハ4の外周余剰領域8の撓みを抑制できる。なお、この粘着シート貼着ステップは、例えば、オペレータの手作業で実施されるが、シート貼着装置などを用いてオペレータの手を介さずに実施されても良い。   Therefore, it is possible to suppress the bending of the outer peripheral surplus area 8 of the wafer 4 in the subsequent division step. In addition, although this adhesive sheet sticking step is implemented by an operator's manual work, for example, you may implement without using an operator's hand using a sheet sticking apparatus etc.

粘着シート貼着ステップの後には、積層ウェーハ2を分割する分割ステップを実施する。図5は、分割ステップを模式的に示す一部断面側面図である。分割ステップでは、まず、粘着シート14を介してフレーム20に支持された積層ウェーハ2を、保持テーブル22に保持させる。   After the adhesive sheet attaching step, a dividing step for dividing the laminated wafer 2 is performed. FIG. 5 is a partial cross-sectional side view schematically showing the dividing step. In the dividing step, first, the laminated wafer 2 supported by the frame 20 via the adhesive sheet 14 is held on the holding table 22.

具体的には、保持テーブル22が備えるクランプ24でフレーム20を固定し、積層ウェーハ2のチップ12側を、粘着シート14を介して保持テーブル22に吸着保持させる。   Specifically, the frame 20 is fixed by a clamp 24 provided in the holding table 22, and the chip 12 side of the laminated wafer 2 is sucked and held on the holding table 22 via the adhesive sheet 14.

次に、切削ブレード26の位置を分割予定ライン10(図5において不図示、図1参照)に合わせ、回転する切削ブレード26をウェーハ4の裏面4b側に切り込ませて加工送りする。この加工送りと、加工送りの方向に対して垂直な方向への割り出し送りとを繰り返し行うことで、積層ウェーハ2は分割予定ライン10に沿って分割される。   Next, the position of the cutting blade 26 is aligned with the division line 10 (not shown in FIG. 5, refer to FIG. 1), and the rotating cutting blade 26 is cut into the back surface 4b side of the wafer 4 and processed. By repeatedly performing this process feed and index feed in a direction perpendicular to the process feed direction, the laminated wafer 2 is divided along the scheduled division line 10.

なお、切削ブレード26の切り込み深さは、ウェーハ4を完全に切断できる深さであれば特に限定されない。例えば、粘着シート14の基材シート16に至る深さでも良いし、それより浅くても構わない。   The cutting depth of the cutting blade 26 is not particularly limited as long as it is a depth that can completely cut the wafer 4. For example, the depth to the base material sheet 16 of the adhesive sheet 14 may be sufficient, and it may be shallower than that.

このように、本実施の形態の積層ウェーハの加工方法によれば、積層ウェーハ2の外周余剰領域8に対応して突起部18を備える粘着シート14を用いて、積層ウェーハ2の外周余剰領域8を粘着シート14の突起部18に支持させた状態で積層ウェーハ2を分割するので、分割の際の積層ウェーハ2の撓みを低減できる。その結果、外周余剰領域8とチップ領域6との境界においてクラックの発生を抑制できる。   Thus, according to the method for processing a laminated wafer of the present embodiment, the outer peripheral surplus region 8 of the laminated wafer 2 using the adhesive sheet 14 provided with the protrusions 18 corresponding to the outer peripheral surplus region 8 of the laminated wafer 2. Since the laminated wafer 2 is divided with the protrusions 18 of the pressure-sensitive adhesive sheet 14 being supported, the bending of the laminated wafer 2 during the division can be reduced. As a result, it is possible to suppress the occurrence of cracks at the boundary between the outer peripheral surplus region 8 and the chip region 6.

また、積層ウェーハ2の外周余剰領域8は粘着シート14の突起部18に接着されるので、外周余剰領域8を分割した端材チップの飛散を抑制して積層ウェーハ2の損傷を防止できる。このように、本発明によれば、積層ウェーハ2を適切に分割できる。   Moreover, since the outer peripheral surplus area 8 of the laminated wafer 2 is bonded to the protrusion 18 of the adhesive sheet 14, it is possible to prevent the end chip from dividing the outer peripheral surplus area 8 from being scattered and prevent the laminated wafer 2 from being damaged. Thus, according to the present invention, the laminated wafer 2 can be appropriately divided.

なお、本発明は上記実施の形態の記載に限定されず、種々変更して実施可能である。例えば、上記実施の形態では、切削ブレード26を用いて積層ウェーハ2を加工する積層ウェーハの加工方法を示しているが、レーザビームを照射して積層ウェーハ2を加工する積層ウェーハの加工方法としても良い。この場合には、レーザビームを照射可能なレーザ加工ヘッドを備える加工装置(レーザ加工装置)が用いられる。   In addition, this invention is not limited to description of the said embodiment, A various change can be implemented. For example, in the above-described embodiment, the laminated wafer processing method for processing the laminated wafer 2 using the cutting blade 26 is shown. However, as the laminated wafer processing method for processing the laminated wafer 2 by irradiating the laser beam, good. In this case, a processing apparatus (laser processing apparatus) including a laser processing head capable of irradiating a laser beam is used.

また、上記実施の形態では、粘着シート貼着ステップにおいて、粘着シート14をフレーム20に貼着して裁断した後に、粘着シート14を積層ウェーハ2に貼着しているが、粘着シート貼着ステップはこれに限定されない。   Moreover, in the said embodiment, although the adhesive sheet 14 is stuck to the laminated wafer 2 after sticking the adhesive sheet 14 to the flame | frame 20 in the adhesive sheet sticking step, the adhesive sheet sticking step Is not limited to this.

例えば、粘着シート14を積層ウェーハ2に貼着してからフレーム20に貼着し、その後、粘着シート14を裁断するようにしても良い。この場合、粘着シート14と積層ウェーハ2との貼着時に粘着シート14がフレーム20に貼着されていないので、粘着シート14と積層ウェーハ2との面接触を防ぐことができる。これにより、積層ウェーハ2と粘着シート14との界面における気泡の発生を抑制できる。   For example, the adhesive sheet 14 may be attached to the laminated wafer 2 and then attached to the frame 20, and then the adhesive sheet 14 may be cut. In this case, since the adhesive sheet 14 is not attached to the frame 20 when the adhesive sheet 14 and the laminated wafer 2 are attached, surface contact between the adhesive sheet 14 and the laminated wafer 2 can be prevented. Thereby, generation | occurrence | production of the bubble in the interface of the laminated wafer 2 and the adhesive sheet 14 can be suppressed.

その他、上記実施の形態に係る構成、方法などは、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。   In addition, the configurations, methods, and the like according to the above-described embodiments can be changed as appropriate without departing from the scope of the object of the present invention.

2 積層ウェーハ
4 ウェーハ
4a 表面
4b 裏面
6 チップ領域
8 外周余剰領域
10 分割予定ライン(ストリート)
12 チップ
14 粘着シート
16 基材シート
16a 基材層
16b 糊層
18 突起部
18a 基材層
18b 糊層
20 フレーム
20a 開口部
22 保持テーブル
24 クランプ
26 切削ブレード
2 Laminated wafer 4 Wafer 4a Front surface 4b Back surface 6 Chip area 8 Peripheral surplus area 10 Scheduled line (street)
12 Chip 14 Adhesive Sheet 16 Base Material Sheet 16a Base Material Layer 16b Adhesive Layer 18 Projection 18a Base Material Layer 18b Adhesive Layer 20 Frame 20a Opening 22 Holding Table 24 Clamp 26 Cutting Blade

Claims (2)

円盤状のウェーハと、交差する複数の分割予定ラインで区画された該ウェーハの表面の各領域にそれぞれ積層されたチップと、を備え、複数の該チップが積層されたチップ領域と、該チップ領域を囲繞する外周余剰領域とを有し、該チップ領域と該外周余剰領域との間に段差が形成された積層ウェーハの加工方法であって、
積層ウェーハの該チップ側に粘着シートを貼着する粘着シート貼着ステップと、
該粘着シート貼着ステップを実施した後、該積層ウェーハのウェーハ裏面側から分割予定ラインに沿ってレーザビーム又は切削ブレードで該ウェーハを分割する分割ステップと、を備え、
該粘着シートは、基材層と、該基材層上に配設された糊層と、該積層ウェーハの該外周余剰領域に対応して該糊層上に形成された突起部と、を有し、該突起部は、該ウェーハの外周縁に沿う円環状に形成され、該突起部の外周の径は、該ウェーハの外周の径より大きく、該突起部の上面は該ウェーハに対して接着性を有し、
該粘着シート貼着ステップを実施した後、該積層ウェーハの該チップが該粘着シートの該糊層に貼着されるとともに該外周余剰領域が該突起部で支持された状態で該積層ウェーハに該分割ステップが実施されることを特徴とする積層ウェーハの加工方法。
A disk-shaped wafer, and chips stacked on each area of the surface of the wafer divided by a plurality of intersecting scheduled lines, a chip area where the plurality of chips are stacked, and the chip area A peripheral wafer surrounding region, and a method of processing a laminated wafer in which a step is formed between the chip region and the peripheral surplus region,
An adhesive sheet attaching step of attaching an adhesive sheet to the chip side of the laminated wafer;
A step of dividing the wafer with a laser beam or a cutting blade along a line to be divided from the wafer back side of the laminated wafer after performing the adhesive sheet attaching step;
The pressure-sensitive adhesive sheet has a base material layer, a glue layer disposed on the base material layer, and a protrusion formed on the glue layer corresponding to the excess outer peripheral area of the laminated wafer. and, the protrusion portion is formed in an annular shape along the outer peripheral edge of the wafer, projecting diameter of the outer periphery of the raised portion is greater than the diameter of the outer periphery of the wafer, the upper surface of said protrusions with respect to the wafer Have adhesiveness,
After performing the adhesive sheet attaching step, the chip of the laminated wafer is attached to the adhesive layer of the adhesive sheet, and the outer peripheral surplus area is supported by the protrusions on the laminated wafer. A method for processing a laminated wafer, wherein a division step is performed.
請求項1に記載の積層ウェーハの加工方法で使用される粘着シートであって、
基材層と、
該基材層上に配設された糊層と、
前記積層ウェーハの前記外周余剰領域に対応して該糊層上に形成された突起部と、を有し、
該突起部は、前記ウェーハの外周縁に沿う円環状に形成され、該突起部の外周の径は、該ウェーハの外周の径より大きく、該突起部の上面は、該ウェーハに対して接着性を有することを特徴とする粘着シート。
A pressure-sensitive adhesive sheet used in the method for processing a laminated wafer according to claim 1 ,
A base material layer;
A glue layer disposed on the substrate layer;
A protrusion formed on the adhesive layer corresponding to the outer peripheral surplus area of the laminated wafer,
The protrusion is formed in an annular shape along the outer peripheral edge of the wafer, the outer diameter of the protrusion is larger than the outer diameter of the wafer , and the upper surface of the protrusion is adhesive to the wafer. A pressure-sensitive adhesive sheet comprising:
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