JP6259630B2 - Tape application method - Google Patents

Tape application method Download PDF

Info

Publication number
JP6259630B2
JP6259630B2 JP2013214446A JP2013214446A JP6259630B2 JP 6259630 B2 JP6259630 B2 JP 6259630B2 JP 2013214446 A JP2013214446 A JP 2013214446A JP 2013214446 A JP2013214446 A JP 2013214446A JP 6259630 B2 JP6259630 B2 JP 6259630B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tape
workpiece
wafer
holding
suction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013214446A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2015079781A (en
Inventor
健次 古田
健次 古田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2013214446A priority Critical patent/JP6259630B2/en
Publication of JP2015079781A publication Critical patent/JP2015079781A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6259630B2 publication Critical patent/JP6259630B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Description

本発明は、表面に凹凸が形成された被加工物の該表面側にテープを貼着するテープ貼着方法に関する。   The present invention relates to a tape attaching method for attaching a tape to a surface of a workpiece having irregularities formed on the surface.

被加工物を個々のチップに分割する方法としては、切削加工やレーザ加工などがある。切削加工による分割の方法としては、被加工物の表面にテープを貼着した後、該テープが貼着された表面側を保持テーブルで保持し、該表面と反対側にある裏面側から切削ブレードによって分割予定ラインに沿ってわずかな切り残し部を設けて切削溝を形成し、該切削溝を起点として被加工物を個々のチップに分割する方法がある(例えば、下記の特許文献1を参照)。   As a method of dividing a workpiece into individual chips, there are cutting and laser processing. As a method of division by cutting, after sticking a tape on the surface of a workpiece, the surface side on which the tape is stuck is held by a holding table, and a cutting blade is cut from the back side opposite to the surface. There is a method of forming a cutting groove by providing a slight uncut portion along the planned dividing line, and dividing the workpiece into individual chips from the cutting groove as a starting point (for example, see Patent Document 1 below) ).

また、レーザ加工による分割の方法としては、被加工物の表面にテープを貼着した後、該テープが貼着された表面側を保持テーブルで保持し、被加工物に対して透過性を有するレーザビームを被加工物の裏面側に向けて照射することにより被加工物の内部に改質層を形成し、該改質層を起点として被加工物を個々のチップに分割する方法がある(例えば、下記の特許文献2を参照)。   Further, as a method of division by laser processing, after a tape is attached to the surface of the workpiece, the surface side to which the tape is attached is held by a holding table, and is permeable to the workpiece. There is a method in which a modified layer is formed inside a workpiece by irradiating a laser beam toward the back side of the workpiece, and the workpiece is divided into individual chips starting from the modified layer ( For example, see Patent Document 2 below).

特開2001−319899号公報JP 2001-319899 A 特開2005−222988号公報JP 2005-2222988 A

しかし、被加工物の表面に凹凸が形成されている場合には、該表面にテープを貼着すると、凹部にテープが入り込んで凹部の底に貼着されてしまう。この状態のままテープが貼着された被加工物の表面側を保持テーブルで吸引保持すると、テープは平坦になろうとするため、該凹部が引っ張られて被加工物に対して均一な高さ位置に切削加工やレーザ加工を施せないおそれがある上、被加工物が局所的に引っ張られて被加工物自体が破損するおそれもある。   However, when unevenness is formed on the surface of the workpiece, if the tape is attached to the surface, the tape enters the recess and is attached to the bottom of the recess. If the surface side of the work piece to which the tape is stuck is sucked and held in this state with a holding table, the tape tends to become flat, so that the concave portion is pulled and a uniform height position with respect to the work piece. In addition, there is a possibility that cutting or laser processing cannot be applied to the workpiece, and the workpiece may be pulled locally and the workpiece itself may be damaged.

本発明は、上記の事情にかんがみてなされたものであり、被加工物に対して均一の高さ位置に加工が施せないおそれを低減するとともに、被加工物自体を破損させないようにすることを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and reduces the possibility that the workpiece cannot be processed at a uniform height position, and prevents the workpiece itself from being damaged. Objective.

本発明は、表面に凹凸が形成された被加工物の該表面にテープを貼着するテープ貼着方法であって、被加工物の裏面側を保持テーブルによって吸引保持し、該表面を露出させる保持ステップと、該保持テーブルにより吸引保持された被加工物の該表面の凸部にテープを貼着するテープ貼着ステップと、該テープ貼着ステップを実施した後、該保持テーブルにおいて被加工物の該裏面側を吸引保持した状態のまま、吸引手段で該テープを吸引して凹部に貼着された該テープを該凹部から引き剥がす引き剥がしステップと、を備えている。   The present invention is a tape adhering method for adhering a tape to a surface of a workpiece having irregularities formed on the surface, wherein the back surface side of the workpiece is sucked and held by a holding table to expose the surface. A holding step, a tape adhering step for adhering a tape to the convex portion of the surface of the workpiece sucked and held by the holding table, and a workpiece on the holding table after performing the tape adhering step. A peeling step of sucking the tape with a suction means and peeling the tape stuck to the concave portion from the concave portion while keeping the back surface side of the vacuum suctioned.

上記の被加工物が、基板の上面に複数のチップが配設されているものである場合は、上記テープ貼着ステップでは、被加工物の該チップの上面にテープを貼着し、上記引き剥がしステップでは、該基板の該上面に貼着された該テープを該基板の上面から引き剥がす。 Additional workpiece, when a plurality of chips on the upper surface of the substrate in which are disposed, in the tape applying step, and attaching a tape on surfaces of the chips of the workpiece, said In the peeling step, the tape attached to the upper surface of the substrate is peeled off from the upper surface of the substrate.

本発明にかかるテープ貼着方法は、テープ貼着ステップを実施して被加工物の表面にテープを貼着した後、被加工物の裏面側を吸引保持した状態のまま吸引手段で被加工物の表面に貼着されたテープを吸引し凹部からテープを引き剥がす引き剥がしステップを実施するため、被加工物の表面に形成された凹部の底にテープが入り込んで貼着されていても、凹部からテープを引き剥がしテープを平坦にすることができる。
したがって、被加工物の裏面を加工する際にテープが貼着された被加工物の表面側を吸引保持しても、凹部が引っ張られることはないため、被加工物に対して均一高さ位置に加工を施せないおそれを低減できる。また、被加工物の表面側を吸引保持しても局所的に被加工物が引っ張られることもないため、被加工物自体が破損するおそれも低減できる。
In the tape attaching method according to the present invention, after the tape attaching step is performed and the tape is attached to the surface of the workpiece, the workpiece is sucked by the suction means while the back side of the workpiece is sucked and held. In order to perform the peeling step of sucking the tape attached to the surface of the workpiece and peeling the tape from the recess, even if the tape enters and adheres to the bottom of the recess formed on the surface of the workpiece, the recess The tape can be peeled off to flatten the tape.
Therefore, even if the surface side of the work piece to which the tape is attached is sucked and held when the back surface of the work piece is processed, the concave portion is not pulled, so the uniform height position with respect to the work piece The possibility that the material cannot be processed can be reduced. Moreover, even if the surface side of the workpiece is sucked and held, the workpiece is not locally pulled, and therefore the possibility of damaging the workpiece itself can be reduced.

ウェーハの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of a wafer. ウェーハの構成を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structure of a wafer. 保持ステップを示す断面図である。It is sectional drawing which shows a holding | maintenance step. テープ貼着ステップを示す断面図である。It is sectional drawing which shows a tape sticking step. 引き剥がしステップを示す断面図である。It is sectional drawing which shows a peeling step. 加工ステップを示す断面図である。It is sectional drawing which shows a process step.

図1に示すウェーハ1は、被加工物の一例であって、円形の基板上に複数のチップが配設されたCOW(Chip on Wafer)である。ウェーハ1の表面2には、格子状の分割予定ライン4によって区画されたそれぞれの領域においてチップ5が配設されている。一方、ウェーハ1の表面2と反対側の面である裏面3には、特に何も形成されておらず、該裏面3が加工される面となっている。   A wafer 1 shown in FIG. 1 is an example of a workpiece, and is a COW (Chip on Wafer) in which a plurality of chips are arranged on a circular substrate. On the surface 2 of the wafer 1, chips 5 are arranged in the respective areas partitioned by the grid-like division planned lines 4. On the other hand, nothing is formed on the back surface 3 which is the surface opposite to the front surface 2 of the wafer 1, and the back surface 3 is a surface to be processed.

図2に示すように、ウェーハ1の表面2に配設された複数のチップ5は所定の高さを有している。このチップ5が配設されたウェーハ1の表面2にはチップ5の厚みに応じた凹凸が形成されている。すなわち、隣り合うチップ5の間に形成された隙間が凹部6aとなっており、チップ5が凸部6bとなっている。以下では、添付の図面を参照しながら、ウェーハ1の表面2を保護するテープを貼着する方法について説明する。   As shown in FIG. 2, the plurality of chips 5 arranged on the surface 2 of the wafer 1 have a predetermined height. Irregularities corresponding to the thickness of the chip 5 are formed on the surface 2 of the wafer 1 on which the chip 5 is disposed. That is, the gap formed between the adjacent chips 5 is a concave portion 6a, and the chip 5 is a convex portion 6b. Below, the method of sticking the tape which protects the surface 2 of the wafer 1 is demonstrated, referring an accompanying drawing.

(1)保持ステップ
まず、図3に示すように、被加工物を保持する保持テーブル7にウェーハ1を搬送する。保持テーブル7は、被加工物を下方から支持する吸引保持面8を有しており、吸引保持面8には、吸引源9が接続されている。ウェーハ1の裏面3側を保持テーブル7の吸引保持面8に載置してウェーハ1の表面2を上向きに露出させた後、吸引源9が作動し、保持テーブル7の吸引保持面8でウェーハ1を吸引保持する。
(1) Holding Step First, as shown in FIG. 3, the wafer 1 is transferred to a holding table 7 that holds a workpiece. The holding table 7 has a suction holding surface 8 that supports a workpiece from below, and a suction source 9 is connected to the suction holding surface 8. After the back surface 3 side of the wafer 1 is placed on the suction holding surface 8 of the holding table 7 to expose the front surface 2 of the wafer 1 upward, the suction source 9 is activated and the suction holding surface 8 of the holding table 7 activates the wafer. 1 is held by suction.

(2)テープ貼着ステップ
保持ステップを実施した後、図4に示すように、例えばロール状の押圧ローラ12を用いて粘着性の表面保護テープ10をウェーハ1の表面2側に押圧して貼着する。具体的には、表面保護テープ10の外周縁を環状のフレーム11に貼着するとともに、表面保護テープ10をウェーハ1の表面2に配設された複数のチップ5の凸部6bに貼り合わせる。このとき、押圧ローラ12が表面保護テープ10の上部を押圧しながら、例えば矢印X1方向に転動することによって、ウェーハ1の表面2に配設された全てのチップ5の凸部6bに表面保護テープ10を貼着する。なお、表面保護テープ10は、表面2と接触する側の面が粘着性を有していればよく、特に限定されるものではない。
(2) Tape Adhering Step After performing the holding step, as shown in FIG. 4, the adhesive surface protective tape 10 is pressed against the surface 2 side of the wafer 1 and pasted using, for example, a roll-shaped pressing roller 12. To wear. Specifically, the outer peripheral edge of the surface protection tape 10 is attached to the annular frame 11, and the surface protection tape 10 is attached to the convex portions 6 b of the plurality of chips 5 disposed on the surface 2 of the wafer 1. At this time, the pressing roller 12 rolls, for example, in the direction of the arrow X1 while pressing the upper portion of the surface protection tape 10, thereby protecting the convex portions 6b of all the chips 5 disposed on the surface 2 of the wafer 1 with surface protection. The tape 10 is stuck. The surface protective tape 10 is not particularly limited as long as the surface on the side in contact with the surface 2 has adhesiveness.

(3)引き剥がしステップ
貼着ステップを実施することにより、図5(a)に示すように、表面保護テープ10が、ウェーハ1の表面2における凹部6aに入り込んで凹部6aの底部に貼着されることがあるため、吸引パッド13を用いて、凹部6aに入り込んだ表面保護テープ10の沈み込み部10aを引き剥がす。吸引パッド13は、多孔質部材14を有しており、多孔質部材14の下面が被吸引物を吸引する吸引保持面15となっている。吸引保持面15は、多孔質部材14を介して吸引孔16に連通しており、当該吸引孔16は吸引源17に接続されている。なお、凹部6aの底部は、ウェーハ1の表面2と同一平面上にある。
(3) Peeling step By performing the sticking step, as shown in FIG. 5A, the surface protection tape 10 enters the concave portion 6a on the surface 2 of the wafer 1 and is stuck to the bottom of the concave portion 6a. Therefore, using the suction pad 13, the sinking portion 10a of the surface protection tape 10 that has entered the recess 6a is peeled off. The suction pad 13 has a porous member 14, and the lower surface of the porous member 14 is a suction holding surface 15 for sucking an object to be sucked. The suction holding surface 15 communicates with the suction hole 16 via the porous member 14, and the suction hole 16 is connected to the suction source 17. The bottom of the recess 6 a is on the same plane as the surface 2 of the wafer 1.

図5(b)に示すように、吸引パッド13の吸引保持面15を下向きにして表面保護テープ10と対面させるとともに下降させ、吸引パッド13の吸引保持面15を表面保護テープ10に接触させる。この際、図5(c)に示すように、吸引源9が継続して作動し、保持テーブル7においてウェーハ1の裏面3を吸引保持した状態のまま、吸引源17が作動し、吸引パッド13の吸引保持面15において表面保護テープ10を吸引する。   As shown in FIG. 5 (b), the suction holding surface 15 of the suction pad 13 faces downward and faces the surface protection tape 10 and is lowered to bring the suction holding surface 15 of the suction pad 13 into contact with the surface protection tape 10. At this time, as shown in FIG. 5C, the suction source 9 is continuously operated, and the suction source 17 is operated while the back surface 3 of the wafer 1 is sucked and held by the holding table 7, and the suction pad 13 is operated. The surface protection tape 10 is sucked at the suction holding surface 15.

吸引パッド13は、凸部6bに貼着されている部分だけでなく凹部6aに入り込んで貼着された表面保護テープ10の沈み込み部10aを吸引し、該沈み込み部10aを凹部6aの底部から上方に引き剥がす。その結果、図5(d)に示すように、表面保護テープ10の全面が吸引保持面15にならって平坦になる。全ての凹部6aの底部から表面保護テープ10の沈み込み部10aを引き剥がしたら、吸引源17の作動を停止するとともに吸引パッド13を表面保護テープ10から離間させ、引き剥がしステップを終了する。   The suction pad 13 sucks not only the portion attached to the convex portion 6b but also the submerged portion 10a of the surface protective tape 10 that has entered and stuck into the concave portion 6a, and the submerged portion 10a is sucked into the bottom portion of the concave portion 6a. Peel upward from. As a result, as shown in FIG. 5D, the entire surface of the surface protection tape 10 becomes flat along with the suction holding surface 15. When the sinking portion 10a of the surface protection tape 10 is peeled off from the bottom of all the recesses 6a, the operation of the suction source 17 is stopped and the suction pad 13 is separated from the surface protection tape 10 to complete the peeling step.

(4)加工ステップ
引き剥がしステップを実施した後、図6に示すように、保持手段30によりウェーハ1を保持するとともに、レーザビーム照射ヘッド20によってウェーハ1の内部に分割起点となる改質層を形成する。保持手段30は、ウェーハ1を保持する保持部31と、保持部31の外周側に連設されフレーム11が載置されるフレーム載置部32と、フレーム載置部32に配設された軸部33と、軸部33を支点として回転しフレーム載置部32に載置されたフレーム11をクランプするクランプ部34と、を少なくとも備えている。
(4) Processing Step After performing the peeling step, as shown in FIG. 6, the wafer 1 is held by the holding means 30, and a modified layer serving as a division starting point is formed inside the wafer 1 by the laser beam irradiation head 20. Form. The holding unit 30 includes a holding unit 31 that holds the wafer 1, a frame mounting unit 32 that is connected to the outer peripheral side of the holding unit 31 and on which the frame 11 is mounted, and a shaft that is disposed on the frame mounting unit 32. And at least a clamp portion 34 that rotates about the shaft portion 33 as a fulcrum and clamps the frame 11 placed on the frame placement portion 32.

ウェーハ1に貼着された表面保護テープ10側を保持部31の上面に載置するとともに、フレーム11をフレーム載置部32に載置する。また、軸部33を支点にしてクランプ部34が回転し、フレーム11の上部を押さえて固定する。   The surface protection tape 10 attached to the wafer 1 is placed on the upper surface of the holding unit 31 and the frame 11 is placed on the frame placement unit 32. Further, the clamp portion 34 rotates with the shaft portion 33 as a fulcrum, and the upper portion of the frame 11 is pressed and fixed.

レーザビーム照射ヘッド20は、ウェーハ1に対し透過性を有する波長のレーザビーム21の集光点をウェーハ1の内部に位置づけ、保持手段30がウェーハ1を例えば矢印X2方向に水平移動させつつ、レーザビーム照射ヘッド20によって、図1に示した分割予定ライン4に沿ってレーザビーム21をウェーハ1の裏面3に向けて照射し、ウェーハ1の内部に改質層22を形成する。そして、全ての分割予定ライン4に沿ってレーザビーム21を照射しウェーハ1の内部に改質層22を形成した後、表面保護テープ10を剥離し、ウェーハ1に外力を加えて改質層22を起点にして個々のチップに分割する。   The laser beam irradiation head 20 positions the condensing point of the laser beam 21 having a wavelength transmissive to the wafer 1 inside the wafer 1, and the holding means 30 moves the wafer 1 horizontally, for example, in the direction of the arrow X2, while moving the laser. The beam irradiation head 20 irradiates the laser beam 21 toward the back surface 3 of the wafer 1 along the scheduled division line 4 shown in FIG. 1 to form a modified layer 22 inside the wafer 1. And after irradiating the laser beam 21 along all the division | segmentation scheduled lines 4 and forming the modified layer 22 in the inside of the wafer 1, the surface protection tape 10 is peeled and external force is applied to the wafer 1 and the modified layer 22 Is divided into individual chips.

加工ステップの前に引き剥がしステップを実行したことにより、表面保護テープ10のうち凹部6aに貼着されていた部分が引き剥がされて表面保護テープ10が平坦になっている。したがって、ウェーハ1も保持部31の上面に沿って平坦となって保持されるため、ウェーハ1の均一高さ位置にレーザビーム21を集光することができる。また、加工ステップは、切削ブレードによる切削によっても行うことができるが、この場合も、ウェーハに対する切削ブレードの切り込み深さを均一にすることができる。   By performing the peeling step before the processing step, the portion of the surface protective tape 10 that has been stuck to the recess 6a is peeled off and the surface protective tape 10 is flattened. Accordingly, since the wafer 1 is also held flat along the upper surface of the holding unit 31, the laser beam 21 can be condensed at a uniform height position of the wafer 1. The processing step can also be performed by cutting with a cutting blade. In this case as well, the cutting depth of the cutting blade with respect to the wafer can be made uniform.

以上のとおり、本実施形態に示すテープ貼着方法では、テープ貼着ステップを実施してウェーハ1の表面2側に形成された凸部6bに表面保護テープ10を貼着した後、ウェーハ1の裏面3側を保持テーブル7で吸引保持した状態のまま吸引パッド13で表面保護テープ10の沈み込み部10aを吸引して凹部6aから沈み込み部10aを引き剥がす引き剥がしステップを実施するため、ウェーハ1の表面2に形成された凹部6aの底部に表面保護テープ10が入り込んでいたとしても、表面保護テープ10を平坦にすることができる。
したがって、ウェーハ1の裏面3を加工する際に表面保護テープ10が貼着されたウェーハの表面3側を吸引保持しても、凹部6aが引っ張られることはなく、ウェーハ1に対して均一高さ位置に切削加工やレーザ加工を施せないおそれを低減できる。また、ウェーハ1の表面2側が局所的に引っ張られることもないため、ウェーハ1自体が破損するおそれも低減できる。
As described above, in the tape adhering method shown in the present embodiment, after the tape adhering step is performed and the surface protection tape 10 is adhered to the convex portion 6b formed on the surface 2 side of the wafer 1, the wafer 1 In order to carry out a peeling step in which the sinking portion 10a of the surface protection tape 10 is sucked by the suction pad 13 while the back surface 3 is sucked and held by the holding table 7, and the sinking portion 10a is peeled off from the recess 6a. Even if the surface protection tape 10 enters the bottom of the recess 6a formed on the surface 2 of the surface 1, the surface protection tape 10 can be flattened.
Therefore, even when the front surface 3 side of the wafer to which the surface protective tape 10 is adhered is sucked and held when the back surface 3 of the wafer 1 is processed, the concave portion 6a is not pulled and the uniform height with respect to the wafer 1 is obtained. The possibility that cutting or laser processing cannot be performed on the position can be reduced. Moreover, since the surface 2 side of the wafer 1 is not pulled locally, the possibility that the wafer 1 itself is damaged can be reduced.

なお、本実施形態では、被加工物としてCOWを例に挙げて説明したが、COWに限らず、表面に凹凸が形成された被加工物であれば、本発明を適用することができる。   In the present embodiment, COW has been described as an example of the workpiece. However, the present invention is not limited to COW and may be any workpiece that has irregularities formed on the surface.

1:ウェーハ 2:表面 3:裏面 4:分割予定ライン 5:チップ
6a:凹部 6b:凸部 7:保持テーブル 8:保持面 9:吸引源
10:表面保護テープ 10a:沈み込み部 11:フレーム 12:押圧ローラ
13:吸引パッド 14:多孔質部材 15:吸引保持面 16:吸引孔
17:吸引源 20:レーザビーム照射ヘッド 21:レーザビーム 22:改質層
30:保持手段 31:保持部 32:フレーム載置部 33:軸部 34:クランプ部
1: Wafer 2: Front surface 3: Back surface 4: Line to be divided 5: Chip 6a: Concave portion 6b: Convex portion 7: Holding table 8: Holding surface 9: Suction source 10: Surface protection tape 10a: Sinking portion 11: Frame 12 : Pressing roller 13: Suction pad 14: Porous member 15: Suction holding surface 16: Suction hole 17: Suction source 20: Laser beam irradiation head 21: Laser beam 22: Modified layer 30: Holding means 31: Holding part 32: Frame placement part 33: Shaft part 34: Clamp part

Claims (2)

表面に凹凸が形成された被加工物の該表面にテープを貼着するテープ貼着方法であって、
被加工物の裏面側を保持テーブルによって吸引保持し、該表面を露出させる保持ステップと、
該保持テーブルにより吸引保持された被加工物の該表面の凸部にテープを貼着するテープ貼着ステップと、
該テープ貼着ステップを実施した後、該保持テーブルにおいて被加工物の該裏面側を吸引保持した状態のまま、吸引手段で該テープを吸引して凹部に貼着された該テープを該凹部から引き剥がす引き剥がしステップと、を備えたテープ貼着方法。
A tape adhering method for adhering a tape to the surface of a workpiece having irregularities formed on the surface,
A holding step of sucking and holding the back side of the workpiece by a holding table and exposing the surface;
A tape adhering step of adhering a tape to the convex portion of the surface of the workpiece sucked and held by the holding table;
After performing the tape adhering step, the tape adhered to the recess by sucking the tape with the suction means while the back side of the workpiece is sucked and held on the holding table is removed from the recess. A tape sticking method comprising: a peeling step for peeling.
被加工物は、基板の上面に複数のチップが配設されており、
前記テープ貼着ステップでは、被加工物の該チップの上面に前記テープを貼着し、
前記引き剥がしステップでは、該基板の該上面に貼着された該テープを該基板の上面から引き剥がす請求項1に記載のテープ貼着方法。
The workpiece is provided with a plurality of chips on the upper surface of the substrate,
The tape sticking step, adhered to the tape on surfaces of the chips of the workpiece,
The tape sticking method according to claim 1, wherein in the peeling step, the tape stuck on the upper surface of the substrate is peeled off from the upper surface of the substrate.
JP2013214446A 2013-10-15 2013-10-15 Tape application method Active JP6259630B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013214446A JP6259630B2 (en) 2013-10-15 2013-10-15 Tape application method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013214446A JP6259630B2 (en) 2013-10-15 2013-10-15 Tape application method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2015079781A JP2015079781A (en) 2015-04-23
JP6259630B2 true JP6259630B2 (en) 2018-01-10

Family

ID=53010999

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013214446A Active JP6259630B2 (en) 2013-10-15 2013-10-15 Tape application method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6259630B2 (en)

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0689912A (en) * 1992-09-08 1994-03-29 Fujitsu Ltd Jig and method for removing semiconductor chip
JP4266106B2 (en) * 2001-09-27 2009-05-20 株式会社東芝 Adhesive tape peeling device, adhesive tape peeling method, semiconductor chip pickup device, semiconductor chip pickup method, and semiconductor device manufacturing method
JP2004221187A (en) * 2003-01-10 2004-08-05 Toshiba Corp Manufacturing apparatus and method of semiconductor device
JP4814284B2 (en) * 2008-06-12 2011-11-16 三菱電機株式会社 Tape applicator
JP5216472B2 (en) * 2008-08-12 2013-06-19 日東電工株式会社 Method and apparatus for attaching protective tape to semiconductor wafer
JP5869245B2 (en) * 2011-07-15 2016-02-24 リンテック株式会社 Sheet sticking device, sheet sticking method and transfer device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2015079781A (en) 2015-04-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI609418B (en) Method for manufacturing semiconductor device and wafer mounting apparatus
KR101938426B1 (en) Forming method of chip with die attach film
JP2016001677A (en) Wafer processing method
JP2015217461A (en) Processing method of wafer
JP2006179868A (en) Method and device for peeling off film
JP2007059829A (en) Machining method of wafer, and pressure-sensitive adhesive tape used for the same
JP6457231B2 (en) Wafer division method
JP2014063813A (en) Processing method
JP4680693B2 (en) Plate-shaped member dividing device
JP6009240B2 (en) Wafer processing method
KR20180050225A (en) Method for processing wafer
JP2018074082A (en) Processing method of wafer
JP6887313B2 (en) Wafer processing method
JP2015138857A (en) Wafer processing method
JP4565977B2 (en) Film peeling method and film peeling apparatus
JP2018074083A (en) Processing method of wafer
JP2016219757A (en) Method of dividing workpiece
JP6259630B2 (en) Tape application method
JP2014013807A (en) Wafer processing method
JP2015072994A (en) Processing method of wafer
JP2016040810A (en) Breaking device
JP2014011381A (en) Wafer processing method
JP2004031535A (en) Method and apparatus for peeling adhesive sheet
JP5930840B2 (en) Processing method of plate
JP2009158700A (en) Method of cutting bonding member

Legal Events

Date Code Title Description
RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20150430

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160810

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170510

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170523

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170718

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20171114

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20171211

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6259630

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250