JP6165805B2 - Curable composition, method for producing cured film, cured film, touch panel and display device - Google Patents

Curable composition, method for producing cured film, cured film, touch panel and display device Download PDF

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Description

本発明は、硬化性組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、並びに、上記硬化膜を用いたタッチパネル、液晶表示装置、有機EL表示装置及びタッチパネル表示装置等の各種表示装置に関する。   The present invention relates to a curable composition, a method for producing a cured film, a cured film, and various display devices such as a touch panel, a liquid crystal display device, an organic EL display device, and a touch panel display device using the cured film.

透明材料は、絶縁膜、保護膜、光取り出し層、スペーサー、マイクロレンズ等として各種表示装置、撮像装置、太陽電池等の多くの部分構造として使用されている。
また、透明材料の用途として、装置の性能向上のため、屈折率を調整する材料として用いられることが知られている。
屈折率調整用透明材料としては、金属アルコキシドを用いた組成物が知られている(例えば、特許文献1及び2参照)。
また、パターンニング性能のある金属アルコキシドを用いた組成物としては、特許文献3及び4に記載された組成物が知られている。
The transparent material is used as an insulating film, a protective film, a light extraction layer, a spacer, a microlens and the like as many partial structures of various display devices, imaging devices, solar cells, and the like.
In addition, it is known that the transparent material is used as a material for adjusting the refractive index in order to improve the performance of the apparatus.
As a transparent material for adjusting the refractive index, a composition using a metal alkoxide is known (for example, see Patent Documents 1 and 2).
Moreover, the composition described in patent document 3 and 4 is known as a composition using the metal alkoxide with patterning performance.

国際公開第2010/050580号International Publication No. 2010/050580 特開2002−6104号公報JP 2002-6104 A 特開2012−203061号公報JP 2012-203061 A 特開2011−178587号公報JP 2011-178588 A

近年では、表示装置や撮像装置の高精細化が進み、製造の過程において種々の薬品が使用される。しかし、特許文献1及び2に記載された組成物には、耐薬品性が十分ではなかった。
また、特許文献3及び4に記載された組成物でも、耐薬品性が十分ではなかった。
このように、従来の金属アルコキシドを用いたパターンニング材料は、屈折率、耐薬品性及び保存安定性を満足させることができていなかった。
本発明が解決しようとする課題は、得られる硬化膜の屈折率と耐薬品性とを両立することができ、また、保存安定性に優れた硬化性組成物、上記硬化性組成物を硬化させた硬化膜及びその製造方法、並びに、上記硬化膜を有する有機EL表示装置、液晶表示装置、タッチパネル及びタッチパネル表示装置を提供することである。
In recent years, high definition of display devices and imaging devices has progressed, and various chemicals are used in the manufacturing process. However, the compositions described in Patent Documents 1 and 2 have insufficient chemical resistance.
In addition, even the compositions described in Patent Documents 3 and 4 have insufficient chemical resistance.
Thus, the patterning material using the conventional metal alkoxide has not been able to satisfy the refractive index, the chemical resistance and the storage stability.
The problem to be solved by the present invention is to achieve both the refractive index and chemical resistance of the cured film obtained, and to cure the curable composition having excellent storage stability and the curable composition. It is to provide an organic EL display device, a liquid crystal display device, a touch panel, and a touch panel display device having the cured film.

本発明の上記課題は、以下の<1>、<7>、<8>、及び、<11>〜<14>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>〜<6>、<9>、及び、<10>と共に以下に記載する。
<1> 成分Aとして下記a1及びa2よりなる群から選ばれた少なくとも1種と、成分Bとして下記b1及びb2よりなる群から選ばれた少なくとも1種と、成分Cとして光重合開始剤と、成分Dとして溶剤と、を含有し、成分Aの含有量が、硬化性組成物の全固形分に対し、40〜90質量%であり、成分Bの含有量が、硬化性組成物の全固形分に対し、5〜59質量%であり、下記チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物と、下記チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物との総含有量が、成分Aの含有量100質量部に対し、15〜140質量部であることを特徴とする硬化性組成物、
a1:アルコキシ基を有する、チタン化合物及び/又はジルコニウム化合物、
a2:チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物、
b1:チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、
b2:チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物。
The above-described problems of the present invention have been solved by means described in the following <1>, <7>, <8>, and <11> to <14>. It is described below together with <2> to <6>, <9>, and <10>, which are preferred embodiments.
<1> At least one selected from the group consisting of the following a1 and a2 as the component A, at least one selected from the group consisting of the following b1 and b2 as the component B, and a photopolymerization initiator as the component C, A solvent as component D, the content of component A is 40 to 90% by mass with respect to the total solid content of the curable composition, and the content of component B is the total solid content of the curable composition And a compound having the following titanium and / or zirconium coordinating group and two or more ethylenically unsaturated groups, and a compound having the following titanium and / or zirconium coordinating group. And a total content of 15 to 140 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component A,
a1: a titanium compound and / or a zirconium compound having an alkoxy group,
a2: titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or a zirconium atom,
b1: a compound having a titanium and / or zirconium coordinating group and two or more ethylenically unsaturated groups,
b2: A compound having a titanium and / or zirconium coordination group and a compound having two or more ethylenically unsaturated groups.

<2> 上記チタン及び/又はジルコニウム配位性基が、チタン原子及び/又はジルコニウム原子に酸素原子によって配位可能な基である、<1>に記載の硬化性組成物、
<3> 上記チタン及び/又はジルコニウム配位性基が、1,2−ジケトン構造、1,3−ジケトン構造、1,4−ジケトン構造、α−ヒドロキシケトン構造、α−ヒドロキシエステル構造、α−ケトエステル構造、β−ケトエステル構造、マロン酸ジエステル構造、フマル酸ジエステル構造、及び、フタル酸ジエステル構造よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構造を有する基である、<1>又は<2>に記載の硬化性組成物、
<4> 上記a2が、アルコキシ基を有するチタン化合物、アルコキシ基を有するジルコニウム化合物、ハロゲノ基を有するチタン化合物、及び、ハロゲノ基を有するジルコニウム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種を、チタン原子及びジルコニウム原子の総モル量1.0モルに対して、0.5〜1.9倍モル当量の水により加水分解縮合させて得られるチタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物である、<1>〜<3>のいずれか1つに記載の硬化性組成物、
<5> 成分Aが上記a2を含む、<1>〜<4>のいずれか1つに記載の硬化性組成物、
<6> 成分Bが上記b2を含有する場合、硬化性組成物の全固形分に対するチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物の含有量をBW1質量%、2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物の含有量をBW2質量%としたとき、BW1:BW2が、2:8〜8:2である、<1>〜<5>のいずれか1つに記載の硬化性組成物、
<7> 少なくとも工程1〜工程5をこの順に含む硬化膜の製造方法、
工程1:<1>〜<6>のいずれか1つに記載の硬化性組成物を基板上に塗布する塗布工程
工程2:塗布された硬化性組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
工程3:溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程
工程4:露光された硬化性組成物を水性現像液により現像する現像工程
工程5:現像された硬化性組成物を熱処理する熱処理工程
<8> <1>〜<6>のいずれか1つに記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜、
<9> 層間絶縁膜又はオーバーコート膜である、<8>に記載の硬化膜、
<10> 波長550nmにおける屈折率が1.78〜2.40である、<8>又は<9>に記載の硬化膜、
<11> <8>〜<10>のいずれか1つに記載の硬化膜を有する液晶表示装置、
<12> <8>〜<10>のいずれか1つに記載の硬化膜を有する有機EL表示装置、
<13> <8>〜<10>のいずれか1つに記載の硬化膜を有するタッチパネル、
<14> <8>〜<10>のいずれか1つに記載の硬化膜を有するタッチパネル表示装置。
<2> The curable composition according to <1>, wherein the titanium and / or zirconium coordinating group is a group capable of coordinating with a titanium atom and / or a zirconium atom by an oxygen atom,
<3> The titanium and / or zirconium coordinating group is a 1,2-diketone structure, 1,3-diketone structure, 1,4-diketone structure, α-hydroxyketone structure, α-hydroxyester structure, α- <1> or <2>, which is a group having at least one structure selected from the group consisting of a ketoester structure, a β-ketoester structure, a malonic acid diester structure, a fumaric acid diester structure, and a phthalic acid diester structure A curable composition of
<4> At least one selected from the group consisting of a titanium compound having an alkoxy group, a zirconium compound having an alkoxy group, a titanium compound having a halogeno group, and a zirconium compound having a halogeno group is used as the titanium atom. And titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate obtained by hydrolytic condensation with 0.5 to 1.9 times molar equivalent of water with respect to 1.0 mol of the total molar amount of zirconium atoms, The curable composition according to any one of 1> to <3>,
<5> The curable composition according to any one of <1> to <4>, wherein the component A includes the a2.
<6> When component B contains b2 above, the content of the compound having titanium and / or zirconium coordinating groups with respect to the total solid content of the curable composition is 1% by weight of BW, and two or more ethylenic unsaturations The curable composition according to any one of <1> to <5>, in which BW1: BW2 is 2: 8 to 8: 2 when the content of the compound having a group is BW2% by mass;
<7> A method for producing a cured film including at least Step 1 to Step 5 in this order,
Process 1: Application | coating process which apply | coats the curable composition as described in any one of <1>-<6> on a board | substrate Process 2: The solvent removal process of removing a solvent from the apply | coated curable composition Process 3 : Exposure step of exposing at least a part of the curable composition from which the solvent has been removed with actinic rays Step 4: development step of developing the exposed curable composition with an aqueous developer Step 5: developed curable composition Heat-treatment process which heat-treats a thing <8> Cured film formed by hardening | curing the curable composition as described in any one of <1>-<6>,
<9> The cured film according to <8>, which is an interlayer insulating film or an overcoat film,
<10> The cured film according to <8> or <9>, wherein the refractive index at a wavelength of 550 nm is 1.78 to 2.40,
<11> A liquid crystal display device having the cured film according to any one of <8> to <10>,
<12> An organic EL display device having the cured film according to any one of <8> to <10>,
<13> A touch panel having the cured film according to any one of <8> to <10>,
<14> A touch panel display device having the cured film according to any one of <8> to <10>.

本発明によれば、得られる硬化膜の屈折率と耐薬品性とを両立することができ、また、保存安定性に優れた硬化性組成物、上記硬化性組成物を硬化させた硬化膜及びその製造方法、並びに、上記硬化膜を有する有機EL表示装置、液晶表示装置、タッチパネル及びタッチパネル表示装置を提供することができた。   According to the present invention, both the refractive index and the chemical resistance of the cured film obtained can be achieved, and the curable composition excellent in storage stability, the cured film obtained by curing the curable composition, and The production method, and the organic EL display device, the liquid crystal display device, the touch panel, and the touch panel display device having the cured film can be provided.

液晶表示装置の一例の構成概念図を示す。液晶表示装置におけるアクティブマトリックス基板の模式的断面図を示し、層間絶縁膜である硬化膜17を有している。1 is a conceptual diagram of a configuration of an example of a liquid crystal display device. The schematic sectional drawing of the active matrix substrate in a liquid crystal display device is shown, and it has the cured film 17 which is an interlayer insulation film. 有機EL表示装置の一例の構成概念図を示す。ボトムエミッション型の有機EL表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜4を有している。1 shows a conceptual diagram of a configuration of an example of an organic EL display device. A schematic cross-sectional view of a substrate in a bottom emission type organic EL display device is shown, and a planarizing film 4 is provided. タッチパネル付き表示装置の一例におけるタッチパネルの電極パターンを示す平面図である。It is a top view which shows the electrode pattern of the touchscreen in an example of the display apparatus with a touchscreen. 図3に示すA−A’線に沿った断面構造を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure along the line A-A ′ shown in FIG. 3. 図3に示すB−B’線に沿った断面構造を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure along the line B-B ′ shown in FIG. 3.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。また、本発明における有機EL素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
なお、本明細書中において、“(メタ)アクリレート”はアクリレート及びメタクリレートを表し、“(メタ)アクリル”はアクリル及びメタクリルを表し、“(メタ)アクリロイル”はアクリロイル及びメタクリロイルを表す。
本発明において、「a1及びa2よりなる群から選ばれた少なくとも1種」等を、単に「成分A」等ともいう。
また、本発明において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明において、好ましい態様の組み合わせは、より好ましい。
Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the specification of the present application, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value. The organic EL element in the present invention refers to an organic electroluminescence element.
In the notation of groups (atomic groups) in this specification, the notation that does not indicate substitution and non-substitution includes not only those having no substituent but also those having a substituent. For example, the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
In addition, the chemical structural formula in this specification may be expressed as a simplified structural formula in which a hydrogen atom is omitted.
In the present specification, “(meth) acrylate” represents acrylate and methacrylate, “(meth) acryl” represents acryl and methacryl, and “(meth) acryloyl” represents acryloyl and methacryloyl.
In the present invention, “at least one selected from the group consisting of a1 and a2” and the like are also simply referred to as “component A” and the like.
In the present invention, “mass%” and “wt%” are synonymous, and “part by mass” and “part by weight” are synonymous.
In the present invention, a combination of preferred embodiments is more preferred.

本発明のチタノキサン、ジルコノキサン及びチタノキサン−ジルコノキサン縮合物における重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法(GPC)法にて測定される。   The weight average molecular weight and the number average molecular weight in the titanoxane, zircoxane and titanoxane-zircoxane condensate of the present invention are measured by gel permeation chromatography (GPC).

本発明の硬化性組成物(以下、単に「組成物」ともいう。)は、成分Aとして下記a1及びa2よりなる群から選ばれた少なくとも1種と、成分Bとして下記b1及びb2よりなる群から選ばれた少なくとも1種と、成分Cとして光重合開始剤と、成分Dとして溶剤と、を含有し、成分Aの含有量が、硬化性組成物の全固形分に対し、40〜90質量%であり、成分Bの含有量が、硬化性組成物の全固形分に対し、5〜59質量%であり、下記チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物と、下記チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物との総含有量が、成分Aの含有量100質量部に対し、15〜140質量部であることを特徴とする。
a1:アルコキシ基を有する、チタン化合物及び/又はジルコニウム化合物、
a2:チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物、
b1:チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、
b2:チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物。
The curable composition of the present invention (hereinafter also simply referred to as “composition”) is at least one selected from the group consisting of the following a1 and a2 as component A, and the group consisting of b1 and b2 below as component B At least one selected from the above, a photopolymerization initiator as component C, and a solvent as component D, and the content of component A is 40 to 90 mass based on the total solid content of the curable composition %, The content of component B is 5 to 59% by mass with respect to the total solid content of the curable composition, and the following titanium and / or zirconium coordinating groups and two or more ethylenically unsaturated groups And the total content of the compound having the following titanium and / or zirconium coordination group is 15 to 140 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component A.
a1: a titanium compound and / or a zirconium compound having an alkoxy group,
a2: titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or a zirconium atom,
b1: a compound having a titanium and / or zirconium coordinating group and two or more ethylenically unsaturated groups,
b2: A compound having a titanium and / or zirconium coordination group and a compound having two or more ethylenically unsaturated groups.

本発明者らは上記観点に鑑み鋭意検討を重ねた結果、成分A〜成分Dを含有し、かつ上記に示す特定の含有量である硬化性組成物とすることにより、得られる硬化物の屈折率と現像性とを両立することができ、また、保存安定性に優れることを見いだし、本発明を完成するに至ったものである。
成分Aのチタン原子及び/又はジルコニウム原子に成分Bにおけるチタン及び/又はジルコニウム配位性基が配位することにより、硬化性組成物の均一性や成分Aの他の成分との相溶性が向上し、得られる硬化物の屈折率と現像性とを両立することができ、また、保存安定性に優れると推定されるが、詳細な効果の発現機構については不明である。
As a result of intensive studies in view of the above-mentioned viewpoints, the inventors of the present invention have the components A to D and the curable composition having the specific content shown above. The present invention has been completed by finding that both the rate and the developability can be achieved and that the storage stability is excellent.
By coordinating the titanium and / or zirconium coordinating group in component B to the titanium atom and / or zirconium atom of component A, the uniformity of the curable composition and the compatibility with other components of component A are improved. However, it is estimated that both the refractive index and developability of the resulting cured product can be achieved, and that the storage stability is excellent, but the detailed mechanism of the effect is unclear.

本発明の硬化性組成物は、光による重合後、得られた硬化膜等の硬化物を熱処理することにより、硬化物の強度がより高くなる組成物であることが好ましい。
また、本発明の硬化性組成物は、透明硬化物製造用硬化性組成物であることが好ましく、透明硬化膜製造用硬化性組成物であることがより好ましい。
更に、本発明の硬化性組成物は、得られる硬化物の波長550nmにおける屈折率が1.78以上である硬化性組成物であることが好ましく、得られる硬化物の波長550nmにおける屈折率が1.80以上である硬化性組成物であることがより好ましく、得られる硬化物の波長550nmにおける屈折率が1.83以上である硬化性組成物であることが更に好ましい。また、硬化物の屈折率の上限は特に限定されないが、視認性改良の観点から、波長550nmにおける屈折率が2.40以下であることが好ましく、2.30以下であることがより好ましく、2.20以下であることが更に好ましい。
また、本発明の硬化性組成物は、層間絶縁膜用又はオーバーコート膜用硬化性組成物として好適に用いることができる。
The curable composition of the present invention is preferably a composition in which the strength of the cured product is increased by heat-treating the obtained cured product such as a cured film after polymerization by light.
In addition, the curable composition of the present invention is preferably a curable composition for producing a transparent cured product, and more preferably a curable composition for producing a transparent cured film.
Furthermore, the curable composition of the present invention is preferably a curable composition having a refractive index of 1.78 or more at a wavelength of 550 nm of the obtained cured product, and the refractive index of the obtained cured product at a wavelength of 550 nm is 1. More preferably, the curable composition is 80 or more, and it is more preferable that the obtained cured product has a refractive index of 1.83 or more at a wavelength of 550 nm. The upper limit of the refractive index of the cured product is not particularly limited, but from the viewpoint of improving visibility, the refractive index at a wavelength of 550 nm is preferably 2.40 or less, more preferably 2.30 or less, and 2 More preferably, it is 20 or less.
Moreover, the curable composition of this invention can be used suitably as a curable composition for interlayer insulation films or overcoat films.

成分A:a1及びa2よりなる群から選ばれた少なくとも1種
本発明の硬化性組成物は、成分Aとして、下記a1及びa2よりなる群から選ばれた少なくとも1種を含有し、成分Aの含有量が、硬化性組成物の全固形分に対し、40〜90質量%である。
a1:アルコキシ基を有する、チタン化合物及び/又はジルコニウム化合物、
a2:チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物。
また、当業者であれば言うまでもないが、上記a1は、「アルコキシ基を有するチタン化合物及び/又はアルコキシ基を有するジルコニウム化合物」と同義であり、上記a2は、「チタン原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有する、チタノキサン、ジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有するジルコノキサン、又は、チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有するチタノキサン−ジルコノキサン縮合物」と同義である。
また、成分Aは、ルチル型やアナターゼ型の酸化チタン粒子や、ジルコニア粒子を含まないものであることは言うまでもない。
Component A: at least one selected from the group consisting of a1 and a2 The curable composition of the present invention contains, as Component A, at least one selected from the group consisting of the following a1 and a2, Content is 40-90 mass% with respect to the total solid of a curable composition.
a1: a titanium compound and / or a zirconium compound having an alkoxy group,
a2: A titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly linked to a titanium atom or a zirconium atom.
In addition, it goes without saying to those skilled in the art that the a1 has the same meaning as “a titanium compound having an alkoxy group and / or a zirconium compound having an alkoxy group”, and the a2 has an “alkoxy group directly bonded to a titanium atom”. It is synonymous with a titanoxane having at least one, a zircoxane having at least one alkoxy group directly bonded to a zirconium atom, or a titanoxane-zirconoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or a zirconium atom.
It goes without saying that Component A does not contain rutile or anatase titanium oxide particles or zirconia particles.

成分Aの含有量は、硬化性組成物の全固形分に対し、40〜90質量%であり、屈折率とパターニング性(現像性)の両立の観点から、50〜90質量%であることが好ましく、55〜85質量%であることがより好ましく、60〜85質量%であることが更に好ましい。なお、硬化性組成物における「固形分」とは、溶剤等の揮発性成分を除いた成分を表し、また、成分Bには一部沸点の低い化合物も含まれるが、チタン又はジルコニウムに配位することで揮発性が失われるため、本発明における成分Bは固形分に含まれるものとする。また、上記固形分は、固体でなく、液状のものであってもよいことは言うまでもない。   The content of Component A is 40 to 90% by mass with respect to the total solid content of the curable composition, and is 50 to 90% by mass from the viewpoint of coexistence of refractive index and patternability (developability). It is preferably 55 to 85% by mass, and more preferably 60 to 85% by mass. The “solid content” in the curable composition represents a component excluding a volatile component such as a solvent, and the component B includes a compound having a low boiling point, but is coordinated to titanium or zirconium. In this case, since the volatility is lost, the component B in the present invention is included in the solid content. Needless to say, the solid content may be liquid instead of solid.

成分Aとしては、a1単独、a2単独、a1とa2との混合物のいずれでもよいが、組成物の保存安定性の観点から、a2単独、又は、a1とa2との混合物であることが好ましく、a2単独であることがより好ましい。
また、a1として、チタン化合物とジルコニウム化合物とを併用してもよい。
また、成分Aとしては、屈折率及び保存安定性の観点から、a2を少なくとも含むことが好ましい。
成分Aとしては、屈折率及び現像性の観点からは、チタン化合物及び/又はチタノキサンが好ましく、また、低温硬化性、硬化速度及び安定性の観点からは、ジルコニウム化合物及び/又はジルコノキサンが好ましい。
Component A may be any of a1 alone, a2 alone, or a mixture of a1 and a2, but from the viewpoint of the storage stability of the composition, it is preferably a2 alone or a mixture of a1 and a2. It is more preferable that a2 is used alone.
Further, as a1, a titanium compound and a zirconium compound may be used in combination.
Component A preferably contains at least a2 from the viewpoints of refractive index and storage stability.
Component A is preferably a titanium compound and / or titanoxane from the viewpoints of refractive index and developability, and is preferably a zirconium compound and / or zircoxane from the viewpoints of low-temperature curability, curing speed and stability.

a1としては、チタンモノアルコキシド、チタンジアルコキシド、チタントリアルコキシド、チタンテトラアルコキシド、ジルコニウムモノアルコキシド、ジルコニウムジアルコキシド、ジルコニウムトリアルコキシド、及び、ジルコニウムテトラアルコキシドが挙げられるが、膜物性の観点から、チタンテトラアルコキシド、及び、ジルコニウムテトラアルコキシドが好ましく、チタンテトラアルコキシドがより好ましい。
なお、a1は、アルコキシ基を少なくとも1つ有していればよく、ハロゲノ基やアルキル基等の他の基を有していてもよい。
チタンテトラアルコキシドとしては、下記式a1−1で表されるチタンテトラアルコキシドであることが、膜物性の観点から好ましい。
また、ジルコニウムテトラアルコキシドとしては、下記式a1−2で表されるジルコニウムテトラアルコキシドであることが、膜物性の観点から好ましい。
Examples of a1 include titanium monoalkoxide, titanium dialkoxide, titanium trialkoxide, titanium tetraalkoxide, zirconium monoalkoxide, zirconium dialkoxide, zirconium trialkoxide, and zirconium tetraalkoxide. From the viewpoint of film properties, titanium tetraalkoxide Alkoxides and zirconium tetraalkoxides are preferred, and titanium tetraalkoxides are more preferred.
In addition, a1 should just have at least 1 alkoxy group, and may have other groups, such as a halogeno group and an alkyl group.
The titanium tetraalkoxide is preferably a titanium tetraalkoxide represented by the following formula a1-1 from the viewpoint of film properties.
The zirconium tetraalkoxide is preferably a zirconium tetraalkoxide represented by the following formula a1-2 from the viewpoint of film properties.

式a1−1及び式a1−2中、R1〜R4はそれぞれ独立に、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数6〜18のアリール基、又は、炭素数7〜18のアラルキル基を表す。 In formula a1-1 and formula a1-2, R 1 to R 4 each independently represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. Represent.

式a1−1及び式a1−2におけるR1〜R4はそれぞれ独立に、膜物性の観点から、炭素数1〜18のアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜8のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1〜5のアルキル基であることが特に好ましい。 R 1 to R 4 in Formula a1-1 and Formula a1-2 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms from the viewpoint of film properties. It is more preferable that it is a C1-C5 alkyl group.

式a1−1で表されるチタンテトラアルコキシドとしては、以下の具体例に限定はされないが、例えば、チタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトラn−プロポキシド、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラn−ブトキシド、チタンテトライソブトキシド、チタンジn−ブトキシジイソプロポキシド、チタンジt−ブトキシジイソプロポキシド、チタンテトラt−ブトキシド、チタンテトライソオクチロキシド、チタンテトラステアリルアルコキシド等が挙げられる。
式a1−2で表されるジルコニウムテトラアルコキシドとしては、以下の具体例に限定はされないが、例えば、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラn−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラn−ブトキシド、ジルコニウムテトライソブトキシド、ジルコニウムジn−ブトキシジイソプロポキシド、ジルコニウムジt−ブトキシジイソプロポキシド、ジルコニウムテトラt−ブトキシド、ジルコニウムテトライソオクチロキシド、ジルコニウムテトラステアリルアルコキシド等が挙げられる。
これらは、1種単独又は2種類以上混合して用いることができる。
The titanium tetraalkoxide represented by the formula a1-1 is not limited to the following specific examples. For example, titanium tetramethoxide, titanium tetraethoxide, titanium tetra n-propoxide, titanium tetraisopropoxide, titanium Examples include tetra n-butoxide, titanium tetraisobutoxide, titanium di n-butoxy diisopropoxide, titanium di t-butoxy diisopropoxide, titanium tetra t-butoxide, titanium tetraisooctyloxide, titanium tetrastearyl alkoxide, and the like.
The zirconium tetraalkoxide represented by the formula a1-2 is not limited to the following specific examples. For example, zirconium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra n-propoxide, zirconium tetraisopropoxide, zirconium Tetra n-butoxide, zirconium tetraisobutoxide, zirconium di-n-butoxy diisopropoxide, zirconium di-t-butoxy diisopropoxide, zirconium tetra-t-butoxide, zirconium tetraisooctyloxide, zirconium tetrastearyl alkoxide, etc. It is done.
These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

チタノキサンは、ポリチタノキサンとも称され、Ti−O−Ti結合を2以上有する化合物である。その製造方法としては、例えば、上記式a1−1で表されるチタンテトラアルコキシドを、水を用いて加水分解縮合させて得る方法が挙げられる。この他にも、チタンテトラクロライドなどのハロゲン化チタンを加水分解・縮合させてもよい。中でも合成の容易性から、チタンアルコキシド、チタンクロライドが好ましく、チタンアルコキシドがより好ましい。
ジルコノキサンは、ポリジルコノキサンとも称され、Zr−O−Zr結合を2以上有する化合物である。また、その製造方法としては、原料をジルコニウムアルコキシドやハロゲン化ジルコニウム等のジルコニウム化合物に変更する以外は、上記チタノキサンの製造方法と同様な方法が挙げられる。
チタノキサン−ジルコノキサン縮合物は、上記チタン化合物及び上記ジルコニウム化合物の両方を使用し、加水分解縮合した縮合物である。また、その製造方法としては、原料としてチタン化合物とジルコニウム化合物とを併用する以外は、上記製造方法と同様な方法が挙げられる。
Titanoxane is also referred to as polytitanoxane and is a compound having two or more Ti—O—Ti bonds. Examples of the production method include a method obtained by hydrolyzing and condensing the titanium tetraalkoxide represented by the formula a1-1 with water. In addition, titanium halide such as titanium tetrachloride may be hydrolyzed and condensed. Of these, titanium alkoxides and titanium chlorides are preferable, and titanium alkoxides are more preferable because of ease of synthesis.
Zirconoxane is also referred to as polyzircoxane and is a compound having two or more Zr—O—Zr bonds. Moreover, as the manufacturing method, the same method as the manufacturing method of the said titanoxane is mentioned except changing a raw material into zirconium compounds, such as a zirconium alkoxide and a halogenated zirconium.
The titanoxane-zircoxoxane condensate is a condensate obtained by hydrolysis and condensation using both the titanium compound and the zirconium compound. Moreover, as the manufacturing method, the same method as the said manufacturing method is mentioned except using a titanium compound and a zirconium compound together as a raw material.

上記a2は、アルコキシ基を有するチタン化合物、アルコキシ基を有するジルコニウム化合物、ハロゲノ基を有するチタン化合物、及び、ハロゲノ基を有するジルコニウム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種を、チタン原子及びジルコニウム原子の総モル量1.0モルに対して、0.5〜1.9倍モル当量の水により加水分解縮合させて得られるチタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物であることが好ましく、アルコキシ基を有するチタン化合物及びアルコキシ基を有するジルコニウム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種をチタン原子及びジルコニウム原子の総モル量1.0モルに対して、0.5〜1.9倍モル当量の水により加水分解縮合させて得られるチタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物であることがより好ましい。
ハロゲノ基を有するチタン化合物及び/又はハロゲノ基を有するジルコニウム化合物を用いる場合、アルコキシ基を有するチタン化合物及び/又はアルコキシ基を有するジルコニウム化合物と併用するか、ハロゲノ基を有するチタン化合物及びハロゲノ基を有するジルコニウム化合物であり、かつ少なくともアルコキシ基を1つ以上有する化合物を用いるか、又は、水に加えアルコール化合物を添加して加水分解縮合することが好ましい。
ハロゲノ基を有するチタン化合物及びハロゲノ基を有するジルコニウム化合物としては、チタンモノハライド、チタンジハライド、チタントリハライド、チタンテトラハライド、ジルコニウムモノハライド、ジルコニウムジハライド、ジルコニウムトリハライド、及び、ジルコニウムテトラハライドが挙げられるが、膜物性の観点から、チタンテトラハライド、及び、ジルコニウムテトラハライドが好ましく挙げられ、チタンテトラハライドがより好ましい。これらは、1種単独又は2種類以上混合して用いることができる。
A2 represents at least one selected from the group consisting of a titanium compound having an alkoxy group, a zirconium compound having an alkoxy group, a titanium compound having a halogeno group, and a zirconium compound having a halogeno group. It is preferably a titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate obtained by hydrolytic condensation with 0.5 to 1.9 times molar equivalent of water with respect to 1.0 mol of the total molar amount of 0.5 to 1.9 times the molar equivalent of at least one selected from the group consisting of a titanium compound having a group and a zirconium compound having an alkoxy group with respect to 1.0 mol of the total molar amount of titanium atom and zirconium atom Titanoxane and zirco obtained by hydrolytic condensation with water More preferably Jirukonokisan condensate - hexane and / or Chitanokisan.
When using a titanium compound having a halogeno group and / or a zirconium compound having a halogeno group, it is used in combination with a titanium compound having an alkoxy group and / or a zirconium compound having an alkoxy group, or has a titanium compound having a halogeno group and a halogeno group. It is preferable to use a compound which is a zirconium compound and has at least one alkoxy group or hydrolytically condenses by adding an alcohol compound in addition to water.
Examples of the titanium compound having a halogeno group and the zirconium compound having a halogeno group include titanium monohalide, titanium dihalide, titanium trihalide, titanium tetrahalide, zirconium monohalide, zirconium dihalide, zirconium trihalide, and zirconium tetrahalide. Among them, titanium tetrahalide and zirconium tetrahalide are preferable from the viewpoint of film physical properties, and titanium tetrahalide is more preferable. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

また、上記加水分解縮合には、水だけでなく、溶剤等を使用してもよく、添加剤として、アルコール化合物を使用してもよい。また、溶剤としては、アルコール化合物が好適に挙げられる。
得られる膜の機械強度の観点から、上記加水分解縮合に用いられる水の量は、原料におけるチタン原子及びジルコニウム原子の総モル量1.0モルに対して、0.5〜1.9モル当量であることが好ましく、下限としては、膜強度の観点から、0.9モル当量以上が好ましく、1.2モル当量以上がより好ましく、また、上限としては、膜柔軟性の観点から、1.8モル当量以下が好ましく、1.7モル当量以下がより好ましい。
成分Aは、組成物の保存安定性及び膜物性の観点から、チタン原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有するチタノキサン(以下、単に「チタノキサン」ともいう。)、ジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有するジルコノキサン(以下、単に「ジルコノキサン」ともいう。)、又は、チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有するチタノキサン−ジルコノキサン縮合物(以下、単に「チタノキサン−ジルコノキサン縮合物」ともいう。)を含むことが好ましく、チタノキサン又はジルコノキサンを含むことがより好ましく、チタノキサンを含むことが更に好ましい。
Moreover, not only water but a solvent etc. may be used for the said hydrolysis condensation, and an alcohol compound may be used as an additive. Moreover, as a solvent, an alcohol compound is mentioned suitably.
From the viewpoint of the mechanical strength of the resulting film, the amount of water used for the hydrolysis condensation is 0.5 to 1.9 molar equivalents relative to 1.0 mole of the total molar amount of titanium atoms and zirconium atoms in the raw material. The lower limit is preferably 0.9 molar equivalent or more, more preferably 1.2 molar equivalent or more from the viewpoint of film strength, and the upper limit is preferably 1. from the viewpoint of film flexibility. It is preferably 8 molar equivalents or less, and more preferably 1.7 molar equivalents or less.
Component A includes a titanoxane having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom (hereinafter also simply referred to as “titanoxan”) and an alkoxy group directly bonded to a zirconium atom from the viewpoint of storage stability and film properties of the composition. Zirconoxane having at least one (hereinafter, also simply referred to as “zircoxane”), or titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or zirconium atom (hereinafter, simply “titanoxan-zircoxane condensate”). It is also preferable to include titanoxane or zirconoxane, and it is more preferable to include titanoxane.

チタノキサン、ジルコノキサン及びチタノキサン−ジルコノキサン縮合物は、直鎖状、分枝状、三次元網目状、ペンダント状、ラダー状、籠状等のいずれの重合体形態であってもよく、特にその形態は限定されるものではないが、成分Bと相溶性を有することが好ましい。また、チタノキサン及びジルコノキサンは、常温(25℃)で固体であっても液体であってもよい。   The titanoxane, zirconoxane and titanoxane-zircoxane condensate may be in any polymer form such as linear, branched, three-dimensional network, pendant, ladder, cage, etc. Although it is not, it is preferable to have compatibility with component B. Moreover, titanoxane and zircoxane may be solid or liquid at normal temperature (25 ° C.).

チタノキサン、ジルコノキサン及びチタノキサン−ジルコノキサン縮合物の重量平均分子量としては、特に制限されないが、500〜50,000が好ましく、1,000〜20,000がより好ましい。   Although it does not restrict | limit especially as a weight average molecular weight of a titanoxane, a zircoxane, and a titanoxane zircoxane condensate, 500-50,000 are preferable and 1,000-20,000 are more preferable.

上記チタノキサンは、下記式a2−1で表されるチタノキサンであることが膜物性の観点から好ましい。
また、上記ジルコノキサンは、下記式a2−2で表されるジルコノキサンであることが膜物性の観点から好ましい。
Tiαβ(OR)γ (a2−1)
Zrαβ(OR)γ (a2−2)
式a2−1及び式a2−2中、Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数6〜18のアリール基、又は、炭素数7〜18のアラルキル基を表し、α、β及びγは、下記の条件a’〜c’を満たし、αは正の整数を表し、β及びγは正の数を表す。
a’:200≧α≧2、
b’:1.9α≧β≧1.0α、
c’:γ=4α−2β
The titanoxane is preferably a titanoxane represented by the following formula a2-1 from the viewpoint of film properties.
Moreover, it is preferable from a viewpoint of film | membrane physical property that the said zirconia is a zirconia represented by the following formula a2-2.
Ti α O β (OR) γ (a2-1)
Zr α O β (OR) γ (a2-2)
In formula a2-1 and formula a2-2, R each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. , Α, β, and γ satisfy the following conditions a ′ to c ′, α represents a positive integer, and β and γ represent a positive number.
a ′: 200 ≧ α ≧ 2,
b ′: 1.9α ≧ β ≧ 1.0α,
c ′: γ = 4α-2β

上記a2におけるチタノキサン、ジルコノキサン及びチタノキサン−ジルコノキサン縮合物は、単一の組成のものであっても、2種類以上の混合物であってもよい。
また、本発明における硬化性組成物の全固形分に対するチタン原子及びジルコニウム原子の総含有量は、高屈折率及び膜物性の観点から、5〜60質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましく、15〜40質量%が更に好ましい。
The titanoxane, zircoxane and titanoxane-zircoxane condensate in a2 may be of a single composition or a mixture of two or more.
In addition, the total content of titanium atoms and zirconium atoms with respect to the total solid content of the curable composition in the present invention is preferably 5 to 60% by mass and more preferably 10 to 50% by mass from the viewpoint of high refractive index and film properties. Preferably 15-40 mass% is further more preferable.

成分B:b1及びb2よりなる群から選ばれた少なくとも1種
本発明の硬化性組成物は、成分Bとして、下記b1及びb2よりなる群から選ばれた少なくとも1種を含有し、成分Bの含有量が、硬化性組成物の全固形分に対し、5〜59質量%であり、下記チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物と、下記チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物の総含有量が、成分Aの含有量100質量部に対し、15〜140質量部である。
b1:チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、
b2:チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物。
Component B: at least one selected from the group consisting of b1 and b2 The curable composition of the present invention contains, as Component B, at least one selected from the group consisting of b1 and b2 below. A compound having a content of 5 to 59% by mass with respect to the total solid content of the curable composition and having the following titanium and / or zirconium coordinating group and two or more ethylenically unsaturated groups, and the following titanium And / or the total content of the compound having a zirconium coordination group is 15 to 140 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the component A.
b1: a compound having a titanium and / or zirconium coordinating group and two or more ethylenically unsaturated groups,
b2: A compound having a titanium and / or zirconium coordination group and a compound having two or more ethylenically unsaturated groups.

成分Aの含有するチタン原子及びジルコニア原子の原子数の総数に対する、チタン及び/又はジルコニウム配位性基の数の割合は、20〜500%であることが好ましく、40〜400%であることがより好ましい。   The ratio of the number of titanium and / or zirconium coordinating groups to the total number of titanium atoms and zirconia atoms contained in Component A is preferably 20 to 500%, and preferably 40 to 400%. More preferred.

本発明の硬化性組成物は、成分Bとして、チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を少なくとも含有するか、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物の両方を少なくとも含有する。
また、本発明において、成分Bに該当する化合物は、1つ以上のチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有するか、2つ以上のエチレン性不飽和基を有するか、又は、その両方を有する化合物である。
The curable composition of the present invention contains at least a compound having titanium and / or zirconium coordinating groups and two or more ethylenically unsaturated groups as component B, or titanium and / or zirconium coordinating groups. As well as compounds having two or more ethylenically unsaturated groups.
In the present invention, the compound corresponding to component B has one or more titanium and / or zirconium coordinating groups, two or more ethylenically unsaturated groups, or both. A compound.

本発明の硬化性組成物において、成分Bの含有量は、硬化膜の屈折率と現像性との両立の観点から、硬化性組成物の全固形分に対し、5〜59質量%であり、10〜55質量%であることが好ましく、15〜50質量%であることがより好ましく、25〜45質量%であることが更に好ましい。
また、本発明の硬化性組成物において、上記チタン及び/又はジルコニウム配位性基及び2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物と、上記チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物との総含有量は、硬化膜の屈折率と現像性との両立、及び、保存安定性などの観点から、成分Aの含有量100質量部に対し、15〜140質量部であり、15〜80質量部であることが好ましく、20〜60質量部であることがより好ましい。
In the curable composition of the present invention, the content of component B is 5 to 59% by mass with respect to the total solid content of the curable composition from the viewpoint of achieving both the refractive index of the cured film and the developability. It is preferably 10 to 55% by mass, more preferably 15 to 50% by mass, and still more preferably 25 to 45% by mass.
Further, in the curable composition of the present invention, the compound having the titanium and / or zirconium coordination group and two or more ethylenic unsaturated groups, and the compound having the titanium and / or zirconium coordination group, The total content of is 15 to 140 parts by mass with respect to 100 parts by mass of component A from the viewpoints of compatibility between the refractive index of the cured film and developability, and storage stability. It is preferable that it is a mass part, and it is more preferable that it is 20-60 mass parts.

本発明における「チタン及び/又はジルコニウム配位性基」とは、チタン原子及び/又はジルコニウム原子と配位結合を形成可能な基であり、チタン原子又はジルコニウム原子のいずれか1方のみと配位結合を形成可能であってもよいし、チタン原子及びジルコニウム原子の両方と配位結合を形成可能であってもよい。
また、チタン及び/又はジルコニウム配位性基により形成される配位は、単座配位(一座配位)、二座配位、三座配位、及び、四座以上の配位のいずれであってもよいが、上記配位性基は、単座配位又は二座配位の配位性基であることが好ましく、二座配位の配位性基であることがより好ましい。
更に、チタン及び/又はジルコニウム配位性基は、チタン原子及び/又はジルコニウム原子に配位して、チタン原子及び/又はジルコニウム原子上の中性配位子となる基であることが好ましい。
チタン及び/又はジルコニウム配位性基を少なくとも有する化合物が、成分Aに配位した場合、成分Aにおける配位されたチタン原子又はジルコニウム原子のd軌道のエネルギー準位が分裂する。よって、エネルギー準位の分裂を観測することで配位の有無が分かる。
チタン及び/又はジルコニウム配位性基であるか否かを確認する方法としては、配位の有無を観測する方法が挙げられる。具体的な配位の有無の観測方法としては、公知の観測方法を使用でき、例えば、分光学的手法や電子スピン共鳴法(ESR)などが挙げられる。
The “titanium and / or zirconium coordination group” in the present invention is a group capable of forming a coordination bond with a titanium atom and / or a zirconium atom, and is coordinated with only one of a titanium atom and a zirconium atom. A bond may be formed, or a coordinate bond may be formed with both a titanium atom and a zirconium atom.
The coordination formed by the titanium and / or zirconium coordination group is any of monodentate coordination (monodentate coordination), bidentate coordination, tridentate coordination, and tetradentate coordination or more. However, the coordination group is preferably a monodentate or bidentate coordination group, and more preferably a bidentate coordination group.
Furthermore, the titanium and / or zirconium coordinating group is preferably a group that coordinates to a titanium atom and / or a zirconium atom and becomes a neutral ligand on the titanium atom and / or the zirconium atom.
When a compound having at least a titanium and / or zirconium coordinating group is coordinated to component A, the energy level of the d orbital of the coordinated titanium atom or zirconium atom in component A is split. Therefore, the presence or absence of coordination can be determined by observing the splitting of energy levels.
Examples of a method for confirming whether or not a titanium and / or zirconium coordination group include a method for observing the presence or absence of coordination. As a specific observation method for the presence or absence of coordination, a known observation method can be used, and examples thereof include spectroscopic techniques and electron spin resonance (ESR).

本発明におけるチタン及び/又はジルコニウム配位性基は、組成物の安定性や膜物性の観点から、酸素原子を有する基であることが好ましく、2以上の酸素原子を有する基であることがより好ましく、2つの酸素原子が2〜4原子の他の原子を間に介して結合している構造を少なくとも有する基であることが更に好ましく、2つの酸素原子が3又は4原子の他の原子を間に介して結合している構造を少なくとも有する基であることが特に好ましい。また、上記酸素原子の少なくとも1つは、カルボニル基又はエステル構造におけるカルボニル基の酸素原子であることが好ましい。
また、本発明におけるチタン及び/又はジルコニウム配位性基は、組成物の安定性や膜物性の観点から、チタン原子及び/又はジルコニウム原子に酸素原子によって配位可能な基であることが好ましい。
The titanium and / or zirconium coordinating group in the present invention is preferably a group having an oxygen atom, more preferably a group having two or more oxygen atoms, from the viewpoint of the stability of the composition and film physical properties. More preferably, the oxygen atom is more preferably a group having at least a structure in which two oxygen atoms are bonded to each other via 2 to 4 atoms, and the two oxygen atoms are the other atoms having 3 or 4 atoms. Particularly preferred is a group having at least a structure bonded therebetween. In addition, at least one of the oxygen atoms is preferably a carbonyl group or an oxygen atom of a carbonyl group in an ester structure.
In addition, the titanium and / or zirconium coordinating group in the present invention is preferably a group capable of coordinating with a titanium atom and / or a zirconium atom by an oxygen atom from the viewpoint of the stability of the composition and film properties.

本発明におけるチタン及び/又はジルコニウム配位性基としては、1,2−ジケトン構造、1,3−ジケトン構造、1,4−ジケトン構造、α−ヒドロキシケトン構造、α−ヒドロキシエステル構造、α−ケトエステル構造、β−ケトエステル構造、マロン酸ジエステル構造、フマル酸ジエステル構造、及び、フタル酸ジエステル構造よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構造を有する基であることが好ましく、1,2−ジケトン構造、1,3−ジケトン構造、α−ヒドロキシケトン構造、α−ヒドロキシエステル構造、α−ケトエステル構造、β−ケトエステル構造、及び、フタル酸ジエステル構造よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構造を有する基であることがより好ましく、1,3−ジケトン構造、β−ケトエステル構造、及び、フタル酸ジエステル構造よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構造を有する基であることが更に好ましく、1,3−ジケトン構造、及び、β−ケトエステル構造よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構造を有する基であることが特に好ましい。上記態様であると、得られる硬化膜の屈折率及びクラック耐性により優れる。   Examples of the titanium and / or zirconium coordinating group in the present invention include 1,2-diketone structure, 1,3-diketone structure, 1,4-diketone structure, α-hydroxyketone structure, α-hydroxyester structure, α- It is preferably a group having at least one structure selected from the group consisting of a ketoester structure, a β-ketoester structure, a malonic acid diester structure, a fumaric acid diester structure, and a phthalic acid diester structure, and a 1,2-diketone structure A group having at least one structure selected from the group consisting of 1,3-diketone structure, α-hydroxyketone structure, α-hydroxyester structure, α-ketoester structure, β-ketoester structure, and phthalic acid diester structure And more preferably a 1,3-diketone structure, a β-ketoester structure, and More preferably, it is a group having at least one structure selected from the group consisting of a tartrate diester structure, and has at least one structure selected from the group consisting of a 1,3-diketone structure and a β-ketoester structure. Particularly preferred is a group having It is excellent in the refractive index and crack resistance of the cured film obtained as it is the said aspect.

本発明におけるチタン又はジルコニウム配位性基としては、下記式b−1〜式b−5で表される構造のいずれかを有する基が好ましく、下記式b−1、式b−2又は式b−5で表される構造を有する基がより好ましく、下記式b−1又は式b−2で表される構造を有する基が更に好ましい。   As the titanium or zirconium coordinating group in the present invention, a group having any of the structures represented by the following formulas b-1 to b-5 is preferable, and the following formula b-1, formula b-2 or formula b is preferred. A group having a structure represented by -5 is more preferred, and a group having a structure represented by the following formula b-1 or formula b-2 is more preferred.

式b−1〜式b−5中、L1及びL2はそれぞれ独立に、単結合又は炭素数1若しくは2のアルキレン基を表し、R’はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基又はアルコキシカルボニル基を表し、nbは0〜4の整数を表し、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。 In Formula b-1 to Formula b-5, L 1 and L 2 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 or 2 carbon atoms, and R ′ each independently represents an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom. Represents an acyl group or an alkoxycarbonyl group, nb represents an integer of 0 to 4, and the wavy line represents a bonding position with another structure.

1及びL2は、メチレン基であることが好ましい。
R’の炭素数は、0〜20であることが好ましい。また、R’はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子であることが好ましい。
nbは0又は1であることが好ましく、0であることがより好ましい。
L 1 and L 2 are preferably methylene groups.
The carbon number of R ′ is preferably 0-20. R ′ is preferably independently an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom.
nb is preferably 0 or 1, and more preferably 0.

チタン又はジルコニウム配位性基として具体的には、下記に示す基が好ましく挙げられる。なお、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。   Specific examples of the titanium or zirconium coordinating group include the following groups. Note that the wavy line represents the coupling position with another structure.

成分Bにおけるエチレン性不飽和基としては、特に制限はないが、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、アリル基、スチリル基、及び、ビニルオキシ基が好ましく挙げられ、(メタ)アクリロキシ基、及び、アリル基がより好ましく挙げられ、(メタ)アクリロキシ基が特に好ましく挙げられる。   The ethylenically unsaturated group in Component B is not particularly limited, but (meth) acryloxy group, (meth) acrylamide group, allyl group, styryl group, and vinyloxy group are preferably exemplified, and (meth) acryloxy group, And an allyl group is more preferable, and a (meth) acryloxy group is particularly preferable.

b1:チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物
b1としては、現像性の観点から、1,3−ジケトン構造又はβ−ケトエステル構造を有する多官能(メタ)アクリレート化合物、又は、フタル酸ジエステル構造を有する多官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましく、フタル酸ジエステル構造を有する多官能エチレン性不飽和化合物であることがより好ましい。
また、チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
上記チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物としては、下記式で表される化合物が例示される。
b1: Compound having a titanium and / or zirconium coordinating group and two or more ethylenically unsaturated groups As b1, a polyfunctional compound having a 1,3-diketone structure or β-ketoester structure from the viewpoint of developability ( It is preferably a meth) acrylate compound or a polyfunctional ethylenically unsaturated compound having a phthalic acid diester structure, and more preferably a polyfunctional ethylenically unsaturated compound having a phthalic acid diester structure.
Moreover, the compound which has a titanium and / or a zirconium coordination group, and two or more ethylenically unsaturated groups may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
Examples of the compound having a titanium and / or zirconium coordinating group and two or more ethylenically unsaturated groups include compounds represented by the following formulae.

硬化膜の耐薬品性の観点から、フタル酸ジエステル構造を有する多官能エチレン性不飽和化合物であることが好ましく、上記式(b1−1)で表されるフタル酸ジアリルを特に好ましく例示される。   From the viewpoint of chemical resistance of the cured film, a polyfunctional ethylenically unsaturated compound having a phthalic acid diester structure is preferable, and diallyl phthalate represented by the above formula (b1-1) is particularly preferable.

b2:チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物
上記b2におけるチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物は、エチレン性不飽和基を有しないチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物であってもよく、また、エチレン性不飽和基を1つ有するチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物であってもよい。
また、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
上記エチレン性不飽和基を有しないチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物としては、1,2−ジケトン化合物、1,3−ジケトン化合物、1,4−ジケトン化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−ヒドロキシエステル化合物、α−ケトエステル化合物、β−ケトエステル化合物、マロン酸ジエステル化合物、フマル酸ジエステル化合物、又は、フタル酸ジエステル化合物が好ましく、1,2−ジケトン化合物、1,3−ジケトン化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−ケトエステル化合物、β−ケトエステル化合物、又は、フタル酸ジエステル化合物がより好ましく、1,3−ジケトン化合物、又は、β−ケトエステル化合物が更に好ましい。
上記エチレン性不飽和基を有しないチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物の具体例としては、下記に示す化合物が挙げられる。
b2: Compound having titanium and / or zirconium coordinating group and compound having two or more ethylenically unsaturated groups The compound having titanium and / or zirconium coordinating group in b2 above has an ethylenically unsaturated group. It may be a compound having no titanium and / or zirconium coordinating group, or a compound having titanium and / or zirconium coordinating group having one ethylenically unsaturated group.
Moreover, the compound which has a titanium and / or a zirconium coordination group may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
Examples of the compound having titanium and / or zirconium coordinating group having no ethylenically unsaturated group include 1,2-diketone compound, 1,3-diketone compound, 1,4-diketone compound, α-hydroxyketone compound An α-hydroxyester compound, an α-ketoester compound, a β-ketoester compound, a malonic acid diester compound, a fumaric acid diester compound, or a phthalic acid diester compound, preferably a 1,2-diketone compound, a 1,3-diketone compound, An α-hydroxyketone compound, an α-ketoester compound, a β-ketoester compound, or a phthalic acid diester compound is more preferable, and a 1,3-diketone compound or β-ketoester compound is still more preferable.
Specific examples of the compound having titanium and / or zirconium coordinating group having no ethylenically unsaturated group include the following compounds.

これらの中でも、アセチルアセトン(2,4−ペンタジオン)、アセト酢酸エチル(3−オキソ酪酸エチル)、又は、乳酸エチルが好ましく、アセチルアセトン、又は、アセト酢酸エチルが特に好ましい。   Among these, acetylacetone (2,4-pentadione), ethyl acetoacetate (ethyl 3-oxobutyrate), or ethyl lactate is preferable, and acetylacetone or ethyl acetoacetate is particularly preferable.

チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を1つ有する化合物としては、現像性の観点から、1,3−ジケトン構造又はβ−ケトエステル構造を有する単官能(メタ)アクリレート化合物であることが好ましい。チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を1つ有する化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
上記チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を1つ有する化合物としては、硬化膜の耐薬品性の観点から、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する単官能(メタ)アクリレート化合物であることが好ましく、下記に示す化合物であることがより好ましい。
The compound having one titanium and / or zirconium coordinating group and one ethylenically unsaturated group is a monofunctional (meth) acrylate compound having a 1,3-diketone structure or β-ketoester structure from the viewpoint of developability. Preferably there is. The compound having one titanium and / or zirconium coordinating group and one ethylenically unsaturated group may be used alone or in combination of two or more.
The compound having one titanium and / or zirconium coordinating group and one ethylenically unsaturated group is monofunctional (meth) having titanium and / or zirconium coordinating group from the viewpoint of chemical resistance of the cured film. It is preferable that it is an acrylate compound, and it is more preferable that it is a compound shown below.

上記b2において、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物の分子量は、550〜5,000であることが好ましく、550〜2,000であることがより好ましい。   In the above b2, the molecular weight of the compound having a titanium and / or zirconium coordinating group is preferably 550 to 5,000, and more preferably 550 to 2,000.

上記b2において、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物としては、耐薬品性の観点からは、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有し、エチレン性不飽和基を有しない化合物であることが好ましく、屈折率の観点からは、チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を1つ有する化合物であることが好ましい。   In the above b2, the compound having a titanium and / or zirconium coordinating group is a compound having a titanium and / or zirconium coordinating group and having no ethylenically unsaturated group from the viewpoint of chemical resistance. It is preferable that the compound has a titanium and / or zirconium coordination group and one ethylenically unsaturated group from the viewpoint of refractive index.

上記b2における2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物としては、2つ以上のエチレン性不飽和基を有する多官能エチレン性不飽和化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、エステル化合物、アミド化合物、ウレタン化合物及びその他の化合物が挙げられる。   The compound having two or more ethylenically unsaturated groups in b2 is not particularly limited as long as it is a polyfunctional ethylenically unsaturated compound having two or more ethylenically unsaturated groups. You can choose. Examples include ester compounds, amide compounds, urethane compounds, and other compounds.

上記エステル化合物としては、例えば、多官能(メタ)アクリル酸エステル、イタコン酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エステル、マレイン酸エステル、その他のエステル化合物などが挙げられる。これらの中でも、多官能(メタ)アクリル酸エステル(多官能(メタ)アクリレート化合物)等が好ましい。   Examples of the ester compound include polyfunctional (meth) acrylic acid ester, itaconic acid ester, crotonic acid ester, isocrotonic acid ester, maleic acid ester, and other ester compounds. Among these, polyfunctional (meth) acrylic acid ester (polyfunctional (meth) acrylate compound) and the like are preferable.

上記多官能(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ソルビトールトリ(メタ)アクリレート、ソルビトールテトラ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。中でも、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、及び、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが特に好ましい。   Examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include polyethylene glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, Tetramethylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate , Dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, sorbi Rutori (meth) acrylate, sorbitol tetra (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate. Among these, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate are particularly preferable.

上記多官能(メタ)アクリル酸エステルの他の例としては、グリセリンやトリメチロールエタン、ビスフェノールA等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号公報、特公昭50−6034号公報、特開昭51−37193号公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号公報、特公昭49−43191号公報、及び特公昭52−30490号公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類、特開昭60−258539号公報に記載の(メタ)アクリル酸エステルやウレタン(メタ)アクリレートやビニルエステルなどが挙げられる。   Other examples of the polyfunctional (meth) acrylic acid ester include those obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to a polyfunctional alcohol such as glycerin, trimethylolethane, bisphenol A, and the like, and 48-41708, JP-B-50-6034, JP-A-51-37193, urethane acrylates, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, and JP-B-52 -30490, polyester acrylates, epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid esters and urethanes described in JP-A-60-258539 Examples thereof include (meth) acrylate and vinyl ester.

他の多官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、日本接着協会誌Vol.20,No.7,第300〜308頁に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマーなどが挙げられる。   Other polyfunctional ethylenically unsaturated compounds include, for example, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, Japan Adhesion Association Vol. 20, no. 7, photocurable monomers and oligomers described on pages 300 to 308, and the like.

また、上記のアミド化合物としては、例えば、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド(モノマー)などが挙げられ、具体的には、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス(メタ)アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス(メタ)アクリルアミド、キシリレンビス(メタ)アクリルアミドなどが挙げられ、また、特開昭60−258539号公報に記載の(メタ)アクリル酸アミドなどが挙げられる。
また、上記のウレタン化合物としては、イソシアネートと水酸基との付加反応を用いて製造されるウレタン連鎖重合性化合物が例示され、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとのウレタン化物、ペンタエリスリトールトリアクリレートとトルエンジイソシアネートとのウレタン化物、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソホロンジイソシアネートとのウレタン化物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとのウレタン化物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとトルエンジイソシアネートとのウレタン化物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとイソホロンジイソシアネートとのウレタン化物等が挙げられる。
具体的には、特開2011−126921号公報、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類が例示され、これらの記載は本願明細書に組み込まれる。
Examples of the amide compounds include amides (monomers) of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyvalent amine compounds. Specific examples include methylenebis (meth) acrylamide, 1,6-hexamethylene. Examples thereof include bis (meth) acrylamide, diethylenetriamine tris (meth) acrylamide, and xylylene bis (meth) acrylamide, and (meth) acrylic acid amide described in JP-A-60-258539.
Examples of the urethane compound include urethane chain polymerizable compounds produced by the addition reaction of isocyanate and hydroxyl group. For example, urethanized products of pentaerythritol triacrylate and hexamethylene diisocyanate, pentaerythritol triacrylate. Urethanes of toluene and diisocyanates, Urethanes of pentaerythritol triacrylate and isophorone diisocyanate, Urethanes of dipentaerythritol pentaacrylate and hexamethylene diisocyanate, Urethanes of dipentaerythritol pentaacrylate and toluene diisocyanate, Dipentaerythritol Examples include urethanized products of pentaacrylate and isophorone diisocyanate.
Specific examples include urethane acrylates as described in JP 2011-126921 A, JP 51-37193 A, JP 2-32293 A, and JP 2-16765 A. These descriptions are incorporated herein.

また、他の多官能エチレン性不飽和化合物としては、特開昭60−258539号公報、国際公開第2010/050580号に記載のアリル化合物やアルケニル基含有化合物、などが挙げられる。
具体的には、1,2−ジビニルベンゼン、1,4−ジビニルベンゼン、1,2−ジアリルベンゼン、1,3−ジアリルベンゼン、1,4−ジアリルベンゼン、1,3,5−トリビニルベンゼン、1,3,5−トリアリルベンゼン、1,2,4,5−テトラアリルベンゼン、へキサアリルベンゼン、ジビニルトルエン、ビスフェノールAジアリルエーテル、1,2−ジアリルオキシベンゼン、1,4−ジアリルオキシベンゼン、テレフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン、ジビニルメチルフェニルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジアリルジフェニルシランなどを挙げることができる。
Examples of other polyfunctional ethylenically unsaturated compounds include allyl compounds and alkenyl group-containing compounds described in JP-A-60-258539 and International Publication No. 2010/050580.
Specifically, 1,2-divinylbenzene, 1,4-divinylbenzene, 1,2-diallylbenzene, 1,3-diallylbenzene, 1,4-diallylbenzene, 1,3,5-trivinylbenzene, 1,3,5-triallylbenzene, 1,2,4,5-tetraallylbenzene, hexallylbenzene, divinyltoluene, bisphenol A diallyl ether, 1,2-diallyloxybenzene, 1,4-diallyloxybenzene , Diallyl terephthalate, diallyl isophthalate, 1,4-bis (dimethylvinylsilyl) benzene, divinylmethylphenylsilane, divinyldiphenylsilane, diallyldiphenylsilane, and the like.

上記多官能エチレン性不飽和化合物におけるエチレン性不飽和基の数は、2〜20であることが好ましく、2〜16であることがより好ましく、3〜10であることが更に好ましい。
上記多官能エチレン性不飽和化合物の分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)は、塗布性の観点から、100〜2,000であることが好ましく、200〜1,000であることがより好ましい。
上記多官能エチレン性不飽和化合物は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有しない2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物の含有量は、硬化性組成物の全固形分に対して、1〜50質量%が好ましく、3〜40質量%がより好ましく、5〜25質量%が更に好ましい。
The number of ethylenically unsaturated groups in the polyfunctional ethylenically unsaturated compound is preferably 2-20, more preferably 2-16, and even more preferably 3-10.
The molecular weight of the polyfunctional ethylenically unsaturated compound (when having a molecular weight distribution, the weight average molecular weight) is preferably from 100 to 2,000, preferably from 200 to 1,000, from the viewpoint of applicability. Is more preferable.
The said polyfunctional ethylenically unsaturated compound may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. The content of the compound having two or more ethylenically unsaturated groups not having titanium and / or zirconium coordinating groups is preferably 1 to 50% by mass with respect to the total solid content of the curable composition. -40 mass% is more preferable, and 5-25 mass% is still more preferable.

2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
本発明の硬化性組成物がb2を含有する、すなわち、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物と2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物とを含有する場合、本発明の硬化性組成物の全固形分に対する、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物の含有量をBM1W質量%、2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物の含有量をBW2質量%としたとき、BW1:BW2は、1:20〜20:1であることが好ましく、1:10〜10:1であることがより好ましく、2:8〜8:2であることが更に好ましく、3:7〜7:3であることが特に好ましい。BW1:BW2が上記範囲内であると、硬化性に優れ、また、高屈折率の硬化物が得られるので好ましい。
A compound having two or more ethylenically unsaturated groups may be used alone or in combination of two or more.
When the curable composition of the present invention contains b2, that is, a compound having a titanium and / or zirconium coordinating group and a compound having two or more ethylenically unsaturated groups, the curing of the present invention. The content of the compound having titanium and / or zirconium coordinating group with respect to the total solid content of the conductive composition is BM 1 W mass%, and the content of the compound having two or more ethylenically unsaturated groups is BW 2 mass% When BW1: BW2 is preferably 1:20 to 20: 1, more preferably 1:10 to 10: 1, still more preferably 2: 8 to 8: 2. 7-7: 3 is particularly preferred. It is preferable for BW1: BW2 to be in the above range because a cured product having excellent curability and a high refractive index can be obtained.

本発明の硬化性組成物がb1を含有する、すなわち、チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を2つ以上有する化合物を含有する場合、b1に加え、更に、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有し、エチレン性不飽和基を有しない化合物(以下、単にチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物ともいう。)を併用してもよく、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有しない単官能又は多官能エチレン性不飽和化合物(以下、単に単官能又は多官能エチレン性不飽和化合物ともいう。)を併用してもよく、また、チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を1つ有する化合物を併用してもよい。これらの中でも、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物、又は、チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を1つ有する化合物を併用することが好ましい。   When the curable composition of the present invention contains b1, that is, contains a compound having two or more titanium and / or zirconium coordinating groups and ethylenically unsaturated groups, in addition to b1, titanium and / or Alternatively, a compound having a zirconium coordinating group and not having an ethylenically unsaturated group (hereinafter, also simply referred to as a compound having titanium and / or a zirconium coordinating group) may be used in combination. A monofunctional or polyfunctional ethylenically unsaturated compound having no zirconium coordinating group (hereinafter also simply referred to as monofunctional or polyfunctional ethylenically unsaturated compound) may be used in combination, and titanium and / or zirconium A compound having one coordinating group and one ethylenically unsaturated group may be used in combination. Among these, it is preferable to use a compound having a titanium and / or zirconium coordinating group, or a compound having one titanium and / or zirconium coordinating group and one ethylenically unsaturated group.

上記チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物としては、b2において記載したエチレン性不飽和基を有しないチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物が例示され、好ましい範囲も同様である。
上記多官能エチレン性不飽和化合物(2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物)としては、b2において記載した2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物が例示され、好ましい範囲も同様である。
上記チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を1つ有する化合物としては、b2において記載した、チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を1つ有する化合物が例示され、好ましい範囲も同様である。
Examples of the compound having a titanium and / or zirconium coordinating group include compounds having a titanium and / or zirconium coordinating group having no ethylenically unsaturated group described in b2, and the preferred range is also the same. .
Examples of the polyfunctional ethylenically unsaturated compound (compound having two or more ethylenically unsaturated groups) include compounds having two or more ethylenically unsaturated groups described in b2, and the preferred range is also the same. is there.
As the compound having one titanium and / or zirconium coordinating group and one ethylenically unsaturated group, the compound having one titanium and / or zirconium coordinating group and one ethylenically unsaturated group described in b2 is used. The preferred ranges are also the same.

上記単官能エチレン性不飽和化合物としては、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有しない、1つのエチレン性不飽和基を有する化合物であれば特に限定されないが、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸類及びそれらの塩、(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド類、(メタ)アクリロニトリル類、スチレン類等の単官能エチレン性不飽和化合物が挙げられる。
また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類とイソシアネート類又はエポキシ類との付加反応物、及び、単官能又は多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
更に、イソシアナト基(イソシアネート基)や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類とアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲノ基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類とアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
単官能エチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、上記例示した化合物の他、公知の種々の化合物を用いることができ、例えば、特開2009−204962号公報に記載の化合物などを使用してもよい。
The monofunctional ethylenically unsaturated compound is not particularly limited as long as it is a compound having one ethylenically unsaturated group not having titanium and / or zirconium coordinating groups, but acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid. Monofunctional ethylenically unsaturated compounds such as unsaturated carboxylic acids such as crotonic acid, isocrotonic acid and maleic acid and their salts, (meth) acrylates, (meth) acrylamides, (meth) acrylonitriles and styrenes Can be mentioned.
In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group and an isocyanate or an epoxy, and a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid A dehydration condensation reaction product or the like is also preferably used.
Furthermore, isocyanato groups (isocyanate groups), addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having an electrophilic substituent such as an epoxy group and alcohols, amines, thiols, halogeno groups, and tosyloxy A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a group and an alcohol, amine or thiol is also suitable.
As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.
There is no restriction | limiting in particular as a monofunctional ethylenically unsaturated compound, In addition to the compound illustrated above, well-known various compounds can be used, For example, the compound etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-204962 are used. May be.

更に単官能エチレン性不飽和化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸誘導体、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等のN−ビニル化合物類、アリルグリシジルエーテル等のアリル化合物の誘導体が好ましく用いられる。   Furthermore, as monofunctional ethylenically unsaturated compounds, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) Preferred are (meth) acrylic acid derivatives such as acrylate, benzyl (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate, N-vinyl compounds such as N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam, and derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether. Used.

また、本発明の硬化性組成物がb2を含有する、すなわち、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物、並びに、エチレン性不飽和基を2つ以上有する化合物を含有する場合、b2に加え、上述したエチレン性不飽和基を1つ有する化合物、すなわち、単官能エチレン性不飽和化合物を含有してもよい。   In addition, when the curable composition of the present invention contains b2, that is, a compound having titanium and / or zirconium coordination group and a compound having two or more ethylenically unsaturated groups, b2 In addition, the above-described compound having one ethylenically unsaturated group, that is, a monofunctional ethylenically unsaturated compound may be contained.

本発明において、耐薬品性の点ではb1が好ましく、屈折率の点ではb2が好ましい。   In the present invention, b1 is preferable in terms of chemical resistance, and b2 is preferable in terms of refractive index.

成分C:光重合開始剤
本発明の硬化性組成物は、成分Cとして、光重合開始剤を含有する。
光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。
本発明に用いることができる光重合開始剤は、活性光線(以下、単に「光」ともいう。)により、2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物等の重合性化合物の重合を開始、促進可能な化合物である。
「活性光線」とは、その照射により成分Cより開始種を発生させることができるエネルギーを付与することができる活性エネルギー線であれば、特に制限はなく、広くα線、γ線、X線、紫外線(UV)、可視光線、電子線などを包含するものである。これらの中でも、紫外線を少なくとも含む光が好ましい。
Component C: Photopolymerization initiator The curable composition of the present invention contains a photopolymerization initiator as Component C.
The photopolymerization initiator preferably contains a radical photopolymerization initiator.
The photopolymerization initiator that can be used in the present invention starts polymerization of a polymerizable compound such as a compound having two or more ethylenically unsaturated groups by actinic rays (hereinafter also simply referred to as “light”). It is a compound that can be promoted.
"Actinic light" is not particularly limited as long as it is an active energy ray that can give energy capable of generating a starting species from component C by irradiation, and is widely α-ray, γ-ray, X-ray, It includes ultraviolet rays (UV), visible rays, electron beams, and the like. Among these, light containing at least ultraviolet rays is preferable.

光重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル化合物、有機ハロゲン化化合物、オキサジアゾール化合物、カルボニル化合物、アルキルフェノン化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン(オキシド)化合物が挙げられる。これらの中でも、感度の点から、オキシムエステル化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、アルキルフェノン化合物が好ましく、オキシムエステル化合物がより好ましい。   Examples of the photopolymerization initiator include oxime ester compounds, organic halogenated compounds, oxadiazole compounds, carbonyl compounds, alkylphenone compounds, benzoin compounds, acridine compounds, organic peroxide compounds, azo compounds, coumarin compounds, azide compounds, Examples include metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, onium salt compounds, and acylphosphine (oxide) compounds. Among these, from the viewpoint of sensitivity, an oxime ester compound, a hexaarylbiimidazole compound, and an alkylphenone compound are preferable, and an oxime ester compound is more preferable.

オキシムエステル化合物としては、特開2000−80068号公報、特開2001−233842号公報、特表2004−534797号公報、特開2007−231000号公報、特開2009−134289号公報に記載の化合物を使用できる。
オキシムエステル化合物は、下記式C−1又は式C−2で表される化合物であることが好ましい。
Examples of the oxime ester compound include compounds described in JP-A No. 2000-80068, JP-A No. 2001-233842, JP-T No. 2004-534797, JP-A No. 2007-231000, and JP-A No. 2009-134289. Can be used.
The oxime ester compound is preferably a compound represented by the following formula C-1 or formula C-2.

式C−1又は式C−2中、Arは芳香族基又はヘテロ芳香族基を表し、R1はアルキル基、芳香族基又はアルコキシ基を表し、R2は水素原子又はアルキル基を表し、更にR2はAr基と結合し環を形成してもよい。 In Formula C-1 or Formula C-2, Ar represents an aromatic group or a heteroaromatic group, R 1 represents an alkyl group, an aromatic group, or an alkoxy group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, Furthermore, R 2 may be bonded to an Ar group to form a ring.

Arは、芳香族基又はヘテロ芳香族基を表し、ベンゼン環化合物、ナフタレン環化合物又はカルバゾール環化合物から芳香環上の水素原子を1つ除いた基であることが好ましく、R2と共に環を形成したナフタレニル基、カルバゾイル基がより好ましい。ヘテロ芳香族基におけるヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子が好ましく挙げられる。中でも、窒素原子が好ましい。
1は、アルキル基、芳香族基又はアルコキシ基を表し、メチル基、エチル基、ベンジル基、フェニル基、ナフチル基、メトキシ基又はエトキシ基が好ましく、メチル基、エチル基、フェニル基又はメトキシ基がより好ましい。
2は、水素原子又はアルキル基を表し、水素原子又は置換アルキル基が好ましく、水素原子、Arと共に環を形成する置換アルキル基又はトルエンチオアルキル基がより好ましい。
また、Arは、炭素数4〜20の基であることが好ましく、R1は、炭素数1〜30の基であることが好ましく、また、R2は、炭素数1〜50の基であることが好ましい。
Ar represents an aromatic group or a heteroaromatic group, and is preferably a group obtained by removing one hydrogen atom on an aromatic ring from a benzene ring compound, a naphthalene ring compound or a carbazole ring compound, and forms a ring with R 2 More preferred are a naphthalenyl group and a carbazoyl group. Preferable examples of the hetero atom in the heteroaromatic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. Of these, a nitrogen atom is preferable.
R 1 represents an alkyl group, an aromatic group or an alkoxy group, preferably a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, a phenyl group, a naphthyl group, a methoxy group or an ethoxy group, and a methyl group, an ethyl group, a phenyl group or a methoxy group. Is more preferable.
R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, preferably a hydrogen atom or a substituted alkyl group, and more preferably a hydrogen atom, a substituted alkyl group that forms a ring with Ar, or a toluenethioalkyl group.
Ar is preferably a group having 4 to 20 carbon atoms, R 1 is preferably a group having 1 to 30 carbon atoms, and R 2 is a group having 1 to 50 carbon atoms. It is preferable.

オキシムエステル化合物は、下記式C−3、式C−4又は式C−5で表される化合物であることが更に好ましく、下記式C−5で表される化合物であることが特に好ましい。   The oxime ester compound is more preferably a compound represented by the following formula C-3, formula C-4 or formula C-5, and particularly preferably a compound represented by the following formula C-5.

式C−3〜式C−5中、R1はアルキル基、芳香族基又はアルコキシ基を表し、Xは−CH2−、−C24−、−O−又は−S−を表し、R3はそれぞれ独立に、ハロゲン原子を表し、R4はそれぞれ独立に、アルキル基、フェニル基、アルキル置換アミノ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、R5は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、R6はアルキル基を表し、n1及びn2はそれぞれ独立に、0〜6の整数を表し、n3は0〜5の整数を表す。 In formula C-3 to formula C-5, R 1 represents an alkyl group, an aromatic group or an alkoxy group, X represents —CH 2 —, —C 2 H 4 —, —O— or —S—, R 3 independently represents a halogen atom, R 4 are each independently an alkyl group, a phenyl group, an alkyl-substituted amino group, an arylthio group, an alkylthio group, an alkoxy group, an aryloxy group or a halogen atom, R 5 Represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, R 6 represents an alkyl group, n1 and n2 each independently represents an integer of 0 to 6, and n3 represents an integer of 0 to 5.

1はアルキル基、芳香族基又はアルコキシ基を表し、R11−X’−アルキレン基−で表される基が好ましい。R11はアルキル基又はアリール基を表し、X’は硫黄原子又は酸素原子を表す。R11はアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。R11としての、アルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子(好ましくは、フッ素原子、塩素原子若しくは臭素原子)又はアルキル基で置換されていてもよい。
Xは硫黄原子が好ましい。
3及びR4は、芳香環上の任意の位置で結合することができる。
4はアルキル基、フェニル基、アルキル置換アミノ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、アルキル基、フェニル基、アリールチオ基又はハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アリールチオ基又はハロゲン原子がより好ましく、アルキル基又はハロゲン原子が更に好ましい。アルキル基としては、炭素数1〜5のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子又はフッ素原子が好ましい。
また、R4の炭素数は、0〜50であることが好ましく、0〜20であることがより好ましい。
5は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、アルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素数1〜5のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。アリール基としては、炭素数6〜10のアリール基が好ましい。
6はアルキル基を表し、炭素数1〜5のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
n1及びn2はそれぞれ、式C−3又は式C−4における芳香環上のR3の置換数を表し、n3は式C−5における芳香環上のR4の置換数を表す。
n1〜n3はそれぞれ独立に、0〜2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましい。
R 1 represents an alkyl group, an aromatic group or an alkoxy group, and a group represented by R 11 —X′-alkylene group— is preferred. R 11 represents an alkyl group or an aryl group, and X ′ represents a sulfur atom or an oxygen atom. R 11 is preferably an aryl group, more preferably a phenyl group. The alkyl group and aryl group as R 11 may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom) or an alkyl group.
X is preferably a sulfur atom.
R 3 and R 4 can be bonded at any position on the aromatic ring.
R 4 represents an alkyl group, a phenyl group, an alkyl-substituted amino group, an arylthio group, an alkylthio group, an alkoxy group, an aryloxy group or a halogen atom, preferably an alkyl group, a phenyl group, an arylthio group or a halogen atom, an alkyl group, an arylthio group A group or a halogen atom is more preferred, and an alkyl group or a halogen atom is still more preferred. As an alkyl group, a C1-C5 alkyl group is preferable and a methyl group or an ethyl group is more preferable. As a halogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, or a fluorine atom is preferable.
The number of carbon atoms of R 4 is preferably 0 to 50, and more preferably from 0 to 20.
R 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and an alkyl group is preferable. As an alkyl group, a C1-C5 alkyl group is preferable and a methyl group or an ethyl group is more preferable. As the aryl group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is preferable.
R 6 represents an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
n1 and n2 each represent the number of substitutions of R 3 on the aromatic ring in formula C-3 or formula C-4, and n3 represents the number of substitutions of R 4 on the aromatic ring in formula C-5.
n1 to n3 are each independently preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.

以下に、本発明で好ましく用いられるオキシムエステル化合物の例を示す。しかしながら、本発明で用いられるオキシムエステル化合物がこれらに限定されるものではないことは言うまでもない。なお、Meはメチル基を表し、Phはフェニル基を表す。また、これら化合物におけるオキシムの二重結合のシス−トランス異性は、EZのどちら一方であっても、EZの混合物であってもよい。   Below, the example of the oxime ester compound preferably used by this invention is shown. However, it goes without saying that the oxime ester compounds used in the present invention are not limited to these. Me represents a methyl group and Ph represents a phenyl group. Further, the cis-trans isomerism of the double bond of oxime in these compounds may be either one of EZ or a mixture of EZ.

有機ハロゲン化化合物の例としては、具体的には、若林等、「Bull Chem. Soc. Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号公報、特開昭48−36281号公報、特開昭55−32070号公報、特開昭60−239736号公報、特開昭61−169835号公報、特開昭61−169837号公報、特開昭62−58241号公報、特開昭62−212401号公報、特開昭63−70243号公報、特開昭63−298339号公報、M.P.Hutt“Journal of Heterocyclic Chemistry”1(No3),(1970)等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、s−トリアジン化合物が挙げられる。   Specific examples of the organic halogenated compounds include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc. Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, and Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605. JP, 48-34881, JP 55-3070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62-58241, JP-A 62-212401, JP-A 63-70243, JP-A 63-298339, M.S. P. Examples include compounds described in Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry” 1 (No. 3), (1970), and particularly, oxazole compounds substituted with a trihalomethyl group and s-triazine compounds.

ヘキサアリールビイミダゾール化合物の例としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の各明細書に記載の種々の化合物が挙げられる。   Examples of hexaarylbiimidazole compounds include, for example, JP-B-6-29285, US Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. Examples include various compounds described in the specification.

アシルホスフィン(オキサイド)化合物としては、モノアシルホスフィンオキサイド化合物、及び、ビスアシルホスフィンオキサイド化合物が例示され、具体的には例えば、BASF社製のIRGACURE 819、ダロキュア4265、ダロキュアTPOなどが挙げられる。
アルキルフェノン化合物としては、ベンジルメチルケタール化合物、α−ヒドロキシアルキルフェノン化合物、α−アミノアルキルフェノン化合物が例示され、具体的には、BASF社製のIRGACURE 907、IRGACURE 127が例示できる。
Examples of the acylphosphine (oxide) compound include a monoacylphosphine oxide compound and a bisacylphosphine oxide compound. Specific examples include IRGACURE 819, Darocur 4265, Darocur TPO, and the like manufactured by BASF.
Examples of the alkylphenone compounds include benzylmethyl ketal compounds, α-hydroxyalkylphenone compounds, and α-aminoalkylphenone compounds. Specific examples include IRGACURE 907 and IRGACURE 127 manufactured by BASF.

光重合開始剤は、1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、露光波長に吸収を持たない光重合開始剤を用いる場合には、増感剤を使用することもできる。
本発明の硬化性組成物における光重合開始剤の総量は、組成物中の全固形分100質量部に対して、0.5〜30質量部であることが好ましく、1〜20質量部であることがより好ましく、1〜10質量部であることが更に好ましく、2〜5質量部であることが特に好ましい。
なお、本発明においては、光重合開始剤が、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する場合でも、b1におけるチタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、又は、b2におけるチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物としては扱わないものとする。
A photoinitiator can be used 1 type or in combination of 2 or more types. Moreover, when using the photoinitiator which does not have absorption in an exposure wavelength, a sensitizer can also be used.
The total amount of the photopolymerization initiator in the curable composition of the present invention is preferably 0.5 to 30 parts by mass, and 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content in the composition. More preferably, it is 1-10 mass parts, More preferably, it is 2-5 mass parts.
In the present invention, even when the photopolymerization initiator has a titanium and / or zirconium coordination group, it has a titanium and / or zirconium coordination group in b1 and two or more ethylenic unsaturated groups. It is not treated as a compound or a compound having a titanium and / or zirconium coordinating group in b2.

増感剤
本発明の硬化性組成物には、光重合開始剤の他に、増感剤を加えることもできる。
増感剤は、活性光線又は放射線を吸収して励起状態となる。励起状態となった増感剤は、成分Cとの相互作用により、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じ、重合を開始・促進できる。
好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ350nmから450nm域に吸収波長を有する化合物を挙げることができる。多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン、フェナントレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、キサントン類(例えば、キサントン、チオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、ローダシアニン類、オキソノール類、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン、ベンゾフラビン)、アクリドン類(例えば、アクリドン、10−ブチル−2−クロロアクリドン)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン、9,10−ジブトキシアントラセン)、スクアリリウム類(例えば、スクアリウム)、スチリル類、ベーススチリル類、クマリン類(例えば、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン、ケトクマリン)、カルバゾール類(例えば、N−ビニルカルバゾール)、カンファーキノン類、フェノチアジン類。
この他、本発明において用いることができる典型的な増感剤としては、クリベロ〔J. V. Crivello, Adv. in Polymer Sci., 62, 1 (1984)〕に開示しているものが挙げられる。
増感剤の好ましい具体例としては、ピレン、ペリレン、アクリジンオレンジ、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、ベンゾフラビン、N−ビニルカルバゾール、9,10−ジブトキシアントラセン、アントラキノン、クマリン、ケトクマリン、フェナントレン、カンファーキノン、フェノチアジン類などを挙げることができる。増感剤は、重合開始剤100質量部に対し、30〜200質量部の割合で添加することが好ましい。
Sensitizer In addition to the photopolymerization initiator, a sensitizer may be added to the curable composition of the present invention.
The sensitizer absorbs actinic rays or radiation and enters an excited state. The sensitizer in the excited state is capable of initiating / promoting polymerization by causing an action such as electron transfer, energy transfer, and heat generation due to the interaction with the component C.
Examples of preferred sensitizers include compounds belonging to the following compounds and having an absorption wavelength in the 350 nm to 450 nm region. Polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene, anthracene, phenanthrene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), xanthones (eg, xanthone, thioxanthone, dimethylthioxanthone, Diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone), cyanines (eg thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg merocyanine, carbomerocyanine), rhodocyanines, oxonols, thiazines (eg thionine) , Methylene blue, toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine, benzoflavin), acridones For example, acridone, 10-butyl-2-chloroacridone), anthraquinones (eg, anthraquinone, 9,10-dibutoxyanthracene), squaryliums (eg, squalium), styryls, base styryls, coumarins (eg, , 7-diethylamino-4-methylcoumarin, ketocoumarin), carbazoles (for example, N-vinylcarbazole), camphorquinones, phenothiazines.
In addition, typical sensitizers that can be used in the present invention include those disclosed in Crivello [JV Crivello, Adv. In Polymer Sci., 62, 1 (1984)].
Preferred specific examples of the sensitizer include pyrene, perylene, acridine orange, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, benzoflavin, N-vinylcarbazole, 9,10-dibutoxyanthracene, anthraquinone, coumarin, ketocoumarin, phenanthrene, camphorquinone. And phenothiazines. The sensitizer is preferably added at a ratio of 30 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerization initiator.

成分D:溶剤
本発明の硬化性組成物は、成分Dとして、溶剤を含有する。また、本発明における溶剤は、成分B以外の化合物であり、成分Bに該当する化合物は、溶剤に含めないものとする。
本発明の硬化性組成物は、必須成分と、後述の任意成分とを、溶剤に溶解又は分散した溶液又は分散液として調製されることが好ましい。
本発明の硬化性組成物に使用される溶剤としては、公知の溶剤を用いることができ、アルコール類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ブチレングリコールジアセテート類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。この他の具体例としては特開2009−098616号公報の段落0062を参照できる。
これらの溶剤の中でも、好ましい具体例としては、ブタノール、テトラヒドロフルフリルアルコール、フェノキシエタノール、1,3−ブチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを挙げることができ、ブタノール、1,3−ブチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテルをより好ましく挙げることができる。
溶剤の沸点は、塗布性の観点から、100℃〜300℃が好ましく、120℃〜250℃がより好ましい。
本発明に用いることができる溶剤は、1種単独、又は、2種以上を併用することができる。沸点の異なる溶剤を併用することも好ましい。
本発明の硬化性組成物における溶剤の含有量は、塗布に適した粘度に調整するという観点から、硬化性組成物の全固形分100質量部あたり、100〜3,000質量部であることが好ましく、200〜2,000質量部であることがより好ましく、250〜1,000質量部であることが更に好ましい。
Component D: Solvent The curable composition of the present invention contains a solvent as Component D. Moreover, the solvent in this invention is a compound other than the component B, and the compound applicable to the component B shall not be included in a solvent.
The curable composition of the present invention is preferably prepared as a solution or dispersion in which essential components and optional components described below are dissolved or dispersed in a solvent.
As the solvent used in the curable composition of the present invention, known solvents can be used, such as alcohols, ethylene glycol monoalkyl ethers, ethylene glycol dialkyl ethers, ethylene glycol monoalkyl ether acetates, propylene glycol. Monoalkyl ethers, propylene glycol dialkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ether acetates, diethylene glycol dialkyl ethers, diethylene glycol monoalkyl ether acetates, dipropylene glycol monoalkyl ethers, butylene glycol diacetates, dipropylene glycol dialkyl ether Dipropylene glycol monoalkyl ether acetates, esters, ketones, amino acids S, lactones and the like. As other specific examples, reference can be made to paragraph 0062 of JP-A-2009-098616.
Among these solvents, preferred specific examples include butanol, tetrahydrofurfuryl alcohol, phenoxyethanol, 1,3-butylene glycol diacetate, diethylene glycol methyl ethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, butanol, 1, More preferable examples include 3-butylene glycol diacetate and diethylene glycol methyl ethyl ether.
The boiling point of the solvent is preferably from 100 ° C to 300 ° C, more preferably from 120 ° C to 250 ° C, from the viewpoint of applicability.
The solvent which can be used for this invention can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. It is also preferred to use solvents having different boiling points in combination.
The content of the solvent in the curable composition of the present invention is 100 to 3,000 parts by mass per 100 parts by mass of the total solid content of the curable composition from the viewpoint of adjusting to a viscosity suitable for coating. Preferably, it is 200 to 2,000 parts by mass, and more preferably 250 to 1,000 parts by mass.

本発明の硬化性組成物の粘度は、1〜200mPa・sが好ましく、2〜100mPa・sがより好ましく、3〜50mPa・sが更に好ましい。
粘度は、例えば、東機産業(株)製のRE−80L型回転粘度計を用いて、25±0.2℃で測定することが好ましい。測定時の回転速度は、5mPa・s未満は100rpm、5mPa・s以上10mPa・s未満は50rpm、10mPa・s以上30mPa・s未満は20rpm、30mPa・s以上は10rpmで、それぞれ行うことが好ましい。
The viscosity of the curable composition of the present invention is preferably 1 to 200 mPa · s, more preferably 2 to 100 mPa · s, and still more preferably 3 to 50 mPa · s.
The viscosity is preferably measured at 25 ± 0.2 ° C. using, for example, a RE-80L rotational viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. The rotation speed during measurement is preferably 100 rpm for less than 5 mPa · s, 50 rpm for 5 mPa · s to less than 10 mPa · s, 20 rpm for 10 mPa · s to less than 30 mPa · s, and 10 rpm for 30 mPa · s or more.

成分F:界面活性剤
本発明の硬化性組成物は、界面活性剤を含有してもよい。
界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。また、界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤が好ましく、フッ素系ノニオン界面活性剤がより好ましい。
本発明に用いることができる界面活性剤としては、例えば、市販品である、メガファックF142D、同F172、同F173、同F176、同F177、同F183、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781、同F781−F、同R30、同R08、同F−472SF、同BL20、同R−61、同R−90(DIC(株)製)、フロラードFC−135、同FC−170C、同FC−430、同FC−431、Novec FC−4430(住友スリーエム(株)製)、アサヒガードAG7105、7000、950、7600、サーフロンS−112、同S−113、同S−131、同S−141、同S−145、同S−382、同SC−101、同SC−102、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC−106(旭硝子(株)製)、エフトップEF351、同352、同801、同802(三菱マテリアル電子化成(株)製)、フタージェント250(ネオス(株)製)が挙げられる。また、上記以外にも、KP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄社化学(株)製)、エフトップ(三菱マテリアル電子化成(株)製)、メガファック(DIC(株)製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒガード、サーフロン(旭硝子(株)製)、PolyFox(OMNOVA社製)等の各シリーズを挙げることができる。
Component F: Surfactant The curable composition of the present invention may contain a surfactant.
As the surfactant, any of anionic, cationic, nonionic, or amphoteric surfactants can be used, but a preferred surfactant is a nonionic surfactant. Moreover, as the surfactant, a fluorine-based surfactant is preferable, and a fluorine-based nonionic surfactant is more preferable.
As the surfactant that can be used in the present invention, for example, commercially available products such as MegaFuck F142D, F172, F173, F176, F177, F183, F479, F482, F554, and F780 are commercially available. F781, F781-F, R30, R08, F-472SF, BL20, R-61, R-90 (manufactured by DIC Corporation), Florard FC-135, FC-170C, FC-430, FC-431, Novec FC-4430 (Sumitomo 3M), Asahi Guard AG 7105, 7000, 950, 7600, Surflon S-112, S-113, S-131, S -141, S-145, S-382, SC-101, SC-102, SC-103, SC-104, SC-1 05, the same SC-106 (Asahi Glass Co., Ltd.), F-top EF351, 352, 801, 802 (Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.), and Footent 250 (Neos Co., Ltd.). . In addition to the above, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), F-Top (manufactured by Mitsubishi Materials Denka Kasei Co., Ltd.), MegaFuck (manufactured by DIC Corporation) , FLORARD (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi Guard, Surflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PolyFox (manufactured by OMNOVA), and the like.

また、界面活性剤としては、下記式F−1で表される構成単位A及び構成単位Bを含み、テトラヒドロフランを溶媒としてゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が1,000以上10,000以下である共重合体を好ましい例として挙げることができる。   Further, the surfactant includes a structural unit A and a structural unit B represented by the following formula F-1, and has a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) of 1 measured by gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as a solvent. As a preferable example, a copolymer having a molecular weight of 1,000 or more and 10,000 or less can be given.

式F−1中、R401及びR403はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R402は炭素数1以上4以下の直鎖アルキレン基を表し、R404は水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、Lは炭素数3以上6以下のアルキレン基を表し、p及びqは重合比を表す質量百分率であり、pは10質量%以上80質量%以下の数値を表し、qは20質量%以上90質量%以下の数値を表し、rは1以上18以下の整数を表し、sは1以上10以下の整数を表す。 In Formula F-1, R 401 and R 403 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 402 represents a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R 404 represents a hydrogen atom or 1 carbon atom. Represents an alkyl group having 4 or less, L represents an alkylene group having 3 to 6 carbon atoms, p and q are mass percentages representing a polymerization ratio, and p represents a numerical value of 10% by mass to 80% by mass. Q represents a numerical value of 20% by mass or more and 90% by mass or less, r represents an integer of 1 or more and 18 or less, and s represents an integer of 1 or more and 10 or less.

上記Lは、下記式F−2で表される分岐アルキレン基であることが好ましい。式F−2におけるR405は、炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数1以上3以下のアルキル基が好ましく、炭素数2又は3のアルキル基がより好ましい。
式F−1におけるpとqとの和(p+q)は、p+q=100、すなわち、100質量%であることが好ましい。
L is preferably a branched alkylene group represented by the following formula F-2. R 405 in Formula F-2 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms in terms of compatibility and wettability with respect to the coated surface. More preferred is an alkyl group of 3.
The sum (p + q) of p and q in Formula F-1 is preferably p + q = 100, that is, 100% by mass.

上記共重合体の重量平均分子量(Mw)は、1,500以上5,000以下がより好ましい。
これら界面活性剤は、1種単独又は2種以上を混合して使用することができる。
本発明の硬化性組成物における界面活性剤の含有量は、配合する場合、硬化性組成物の全固形分中100質量部に対して、0.001〜5.0質量部が好ましく、0.01〜2.0質量部がより好ましい。
The weight average molecular weight (Mw) of the copolymer is more preferably from 1,500 to 5,000.
These surfactants can be used singly or in combination of two or more.
When blended, the content of the surfactant in the curable composition of the present invention is preferably 0.001 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass in the total solid content of the curable composition. 01-2.0 mass parts is more preferable.

成分G:アルコキシシラン化合物
本発明の組成物は、密着改良剤としてアルコキシシラン化合物を含有してもよい。アルコキシシラン化合物を用いると、本発明の組成物により形成された膜と基板との密着性を向上できたり、本発明の組成物により形成された膜の性質を調整することができる。
本発明の組成物に用いることができるアルコキシシラン化合物は、基材となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、モリブデン、チタン、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物であることが好ましい。具体的には、公知のシランカップリング剤等も有効である。
シランカップリング剤としては、エポキシ基又は(メタ)アクリロキシ基を有するアルコキシシラン化合物が好ましく挙げられる。
シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが挙げられる。これらのうち、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランやγ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランがより好ましい。
本発明の硬化性組成物に用いることができるアルコキシシラン化合物は、特にこれらに限定することなく、公知のものを使用することができる。
Component G: Alkoxysilane Compound The composition of the present invention may contain an alkoxysilane compound as an adhesion improver. When the alkoxysilane compound is used, the adhesion between the film formed from the composition of the present invention and the substrate can be improved, or the properties of the film formed from the composition of the present invention can be adjusted.
The alkoxysilane compound that can be used in the composition of the present invention includes an inorganic material as a base material, for example, a silicon compound such as silicon, silicon oxide, or silicon nitride, a metal such as gold, copper, molybdenum, titanium, or aluminum, and an insulating film. It is preferable that it is a compound which improves adhesiveness. Specifically, a known silane coupling agent or the like is also effective.
Preferred examples of the silane coupling agent include alkoxysilane compounds having an epoxy group or a (meth) acryloxy group.
Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrialkoxysilane, and γ-glycidoxy. Propyl dialkoxysilane, γ-methacryloxypropyltrialkoxysilane, γ-methacryloxypropyl dialkoxysilane, γ-chloropropyltrialkoxysilane, γ-mercaptopropyltrialkoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Examples include trialkoxysilane, vinyltrialkoxysilane, and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. Of these, γ-glycidoxypropyltrialkoxysilane, γ-methacryloxypropyltrialkoxysilane, and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane are more preferable.
The alkoxysilane compound that can be used in the curable composition of the present invention is not particularly limited, and known compounds can be used.

アルコキシシラン化合物は、1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明の硬化性組成物がアルコキシシラン化合物を含有する場合、アルコキシシラン化合物の含有量は、硬化性組成物中の全固形分100質量部に対して、0.1〜30質量部が好ましく、0.5〜20質量部がより好ましい。
An alkoxysilane compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
When the curable composition of the present invention contains an alkoxysilane compound, the content of the alkoxysilane compound is preferably 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content in the curable composition. 0.5-20 mass parts is more preferable.

成分H:架橋剤
本発明の硬化性組成物は、必要に応じ、架橋剤を含有してもよい。架橋剤を添加することにより、本発明の硬化性組成物により得られる硬化膜をより強固な膜とすることができる。
架橋剤としては、熱によって架橋反応が起こるものであれば制限はなく(ただし、上述した各成分は除く。)、公知の架橋剤を用いることができる。
本発明の硬化性組成物が架橋剤を有する場合、架橋剤の含有量は、硬化性組成物中の全固形分100質量部に対して、0.1〜50質量部であることが好ましく、0.1〜30質量部であることがより好ましく、0.5〜20質量部であることが更に好ましい。この範囲で添加することにより、機械的強度及び耐溶剤性に優れた硬化膜が得られる。異種の架橋剤を複数併用することもでき、その場合は架橋剤を全て合算して含有量を計算する。
Component H: Crosslinking agent The curable composition of this invention may contain a crosslinking agent as needed. By adding a crosslinking agent, the cured film obtained by the curable composition of the present invention can be made a stronger film.
The cross-linking agent is not limited as long as it causes a cross-linking reaction by heat (however, the above-described components are excluded), and a known cross-linking agent can be used.
When the curable composition of the present invention has a crosslinking agent, the content of the crosslinking agent is preferably 0.1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content in the curable composition, It is more preferable that it is 0.1-30 mass parts, and it is still more preferable that it is 0.5-20 mass parts. By adding in this range, a cured film excellent in mechanical strength and solvent resistance can be obtained. A plurality of different kinds of crosslinking agents can be used in combination, and in that case, the content is calculated by adding all the crosslinking agents.

成分I:酸化防止剤
本発明の硬化性組成物は、酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。
このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、アミド類、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤(ヒンダードフェノール類)、ヒンダードアミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤(アルキルホスファイト類)、イオウ系酸化防止剤(チオエーテル類)が好ましく、フェノール系酸化防止剤が最も好ましい。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を混合してもよい。
具体例としては、特開2005−29515号公報の段落0026〜0031に記載の化合物、特開2011−227106号公報の段落0106〜0116に記載の化合物を挙げることができ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
好ましい市販品として、アデカスタブAO−60、アデカスタブAO−80(以上、(株)ADEKA製)、イルガノックス1035、イルガノックス1098、イルガノックス1726、IRGAFOS168(以上、BASF社製)を挙げることができる。
Component I: Antioxidant The curable composition of the present invention may contain an antioxidant. As an antioxidant, a well-known antioxidant can be contained. By adding an antioxidant, there is an advantage that coloring of the cured film can be prevented, or a decrease in film thickness due to decomposition can be reduced, and heat-resistant transparency is excellent.
Examples of such antioxidants include phosphorus antioxidants, amides, hydrazides, hindered amine antioxidants, sulfur antioxidants, phenol antioxidants, ascorbic acids, zinc sulfate, sugars, Examples thereof include nitrates, sulfites, thiosulfates, and hydroxylamine derivatives. Among these, phenolic antioxidants (hindered phenols), hindered amine antioxidants, phosphorus antioxidants (alkyl phosphites), sulfur oxidation, etc., in particular from the viewpoint of coloring the cured film and reducing the film thickness Inhibitors (thioethers) are preferred, and phenolic antioxidants are most preferred. These may be used individually by 1 type and may mix 2 or more types.
Specific examples include the compounds described in paragraphs 0026 to 0031 of JP-A-2005-29515, and the compounds described in paragraphs 0106 to 0116 of JP-A-2011-227106. Embedded in the book.
Preferred commercial products include ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-80 (manufactured by ADEKA Corporation), Irganox 1035, Irganox 1098, Irganox 1726, IRGAFOS 168 (manufactured by BASF).

本発明の硬化性組成物が酸化防止剤を含有する場合、酸化防止剤の含有量は、硬化性組成物中の全固形成分100質量部に対し、0.1〜10質量部であることが好ましく、0.2〜5質量部であることがより好ましく、0.5〜4質量部であることが更に好ましい。   When the curable composition of the present invention contains an antioxidant, the content of the antioxidant is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of all solid components in the curable composition. Preferably, it is 0.2-5 mass parts, More preferably, it is 0.5-4 mass parts.

成分J:金属酸化物粒子
本発明の硬化性組成物は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、金属酸化物粒子を含有することができる。金属酸化物粒子の金属には、B、Si、Ge、As、Sb、Te等の半金属も含まれるものとする。
好ましい金属酸化物粒子としては、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Ti、Zr、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、インジウム/スズ酸化物、アンチモン/スズ酸化物がより好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが特に好ましく、酸化チタンが最も好ましい。酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
Component J: Metal Oxide Particles The curable composition of the present invention can contain metal oxide particles for the purpose of adjusting the refractive index and light transmittance. The metal of the metal oxide particles includes semimetals such as B, Si, Ge, As, Sb, and Te.
Preferred metal oxide particles include Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, La, Ce, Gd, Tb, Dy, Yb, Lu, Ti, Zr, Hf, Nb, Mo, W, Zn, Oxide particles containing atoms such as B, Al, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, Bi, and Te are preferable. Titanium oxide, titanium composite oxide, zinc oxide, zirconium oxide, indium / tin oxide, antimony / Tin oxide is more preferable, titanium oxide, titanium composite oxide, and zirconium oxide are further preferable, titanium oxide and zirconium oxide are particularly preferable, and titanium oxide is most preferable. Titanium oxide is particularly preferably a rutile type having a high refractive index. The surface of these metal oxide particles can be treated with an organic material in order to impart dispersion stability.

硬化性組成物の透明性の観点から、金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、1〜200nmが好ましく、3〜80nmがより好ましく、5〜50nmが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子200個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。   From the viewpoint of transparency of the curable composition, the average primary particle diameter of the metal oxide particles is preferably 1 to 200 nm, more preferably 3 to 80 nm, and particularly preferably 5 to 50 nm. Here, the average primary particle diameter of the particles refers to an arithmetic average obtained by measuring the particle diameter of 200 arbitrary particles with an electron microscope. When the particle shape is not spherical, the longest side is the diameter.

また、金属酸化物粒子は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用することもできる。
本発明の硬化性組成物における金属酸化物粒子の含有量は、硬化性組成物により得られる光学部材に要求される屈折率や、光透過性等を考慮して、適宜決定すればよいが、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して、0〜40質量%とすることが好ましく、1〜30質量%とすることがより好ましく、2〜20質量%とすることが更に好ましい。
なお、金属酸化物粒子の含有量は、成分Aの含有量よりも少ないことが好ましく、成分Aの含有量を100質量部としたとき、80質量部以下であることが好ましく、50質量部以下であることがより好ましく、30質量部以下であることが更に好ましい。
Moreover, a metal oxide particle may be used individually by 1 type, and can also use 2 or more types together.
The content of the metal oxide particles in the curable composition of the present invention may be appropriately determined in consideration of the refractive index required for the optical member obtained from the curable composition, light transmittance, etc. It is preferable to set it as 0-40 mass% with respect to the total solid of the curable composition of this invention, It is more preferable to set it as 1-30 mass%, It is still more preferable to set it as 2-20 mass%.
The content of the metal oxide particles is preferably less than the content of component A. When the content of component A is 100 parts by mass, it is preferably 80 parts by mass or less, and 50 parts by mass or less. It is more preferable that it is 30 parts by mass or less.

本発明において、金属酸化物粒子は、適当な分散剤及び溶剤中でボールミル、ロッドミル等の混合装置を用いて混合・分散することにより調製された分散液として使用に供することもできる。   In the present invention, the metal oxide particles can be used as a dispersion prepared by mixing and dispersing in a suitable dispersant and solvent using a mixing device such as a ball mill or a rod mill.

(その他の成分)
本発明の硬化性組成物には、必要に応じて、可塑剤、重合禁止剤、熱酸発生剤、酸増殖剤、バインダーポリマー等のその他の成分を添加することができる。これらの成分については、例えば、特開2009−98616号公報、特開2009−244801号公報に記載のもの、その他公知のものを用いることができる。また、“高分子添加剤の新展開((株)日刊工業新聞社)”に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の硬化性組成物に添加してもよい。
(Other ingredients)
If necessary, the curable composition of the present invention may contain other components such as a plasticizer, a polymerization inhibitor, a thermal acid generator, an acid multiplier, and a binder polymer. As these components, for example, those described in JP2009-98616A, JP2009-244801A, and other known ones can be used. Further, various ultraviolet absorbers described in “New Development of Polymer Additives (Nikkan Kogyo Shimbun Co., Ltd.)”, metal deactivators, and the like may be added to the curable composition of the present invention.

−重合禁止剤−
本発明の硬化性組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。
重合禁止剤とは、重合開始剤から発生した重合開始ラジカル成分に対して水素供与(又は、水素授与)、エネルギー供与(又は、エネルギー授与)、電子供与(又は、電子授与)などを実施し、重合開始ラジカルを失活させ、重合開始を禁止する役割をはたす物質である。例えば、特開2007−334322号公報の段落0154〜0173に記載の化合物などを用いることができる。
好ましい化合物として、フェノチアジン、フェノキサジン、ヒドロキノン、3,5−ジブチル−4−ヒドロキシトルエンを挙げることができる。
重合禁止剤の含有量は、特に制限はないが、硬化性組成物の全固形分に対して、0.0001〜5質量%であることが好ましい。
-Polymerization inhibitor-
The curable composition of the present invention may contain a polymerization inhibitor.
With the polymerization inhibitor, hydrogen donation (or hydrogen donation), energy donation (or energy donation), electron donation (or electron donation), etc. are performed on the polymerization initiation radical component generated from the polymerization initiator, It is a substance that plays a role of deactivating polymerization initiation radicals and prohibiting polymerization initiation. For example, compounds described in paragraphs 0154 to 0173 of JP2007-334322A can be used.
Preferable compounds include phenothiazine, phenoxazine, hydroquinone, and 3,5-dibutyl-4-hydroxytoluene.
Although there is no restriction | limiting in particular in content of a polymerization inhibitor, It is preferable that it is 0.0001-5 mass% with respect to the total solid of a curable composition.

(硬化性組成物の調製方法)
本発明の硬化性組成物の調製方法としては、特に制限はなく、公知の方法により調製することができ、例えば、各成分を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解及び/又は分散して硬化性組成物を調製することができる。また、例えば、各成分を、それぞれ予め溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して硬化性組成物を調製することもできる。以上のように調製した硬化性組成物は、例えば、孔径0.2μmのフィルター等を用いてろ過した後に、使用することもできる。
(Method for preparing curable composition)
There is no restriction | limiting in particular as a preparation method of the curable composition of this invention, It can prepare by a well-known method, For example, each component is mixed by a predetermined ratio and arbitrary methods, and stir-dissolves and / or It can be dispersed to prepare a curable composition. For example, after making each component into the solution which respectively melt | dissolved in the solvent previously, these can be mixed in a predetermined ratio and a curable composition can also be prepared. The curable composition prepared as described above can be used after being filtered using, for example, a filter having a pore diameter of 0.2 μm.

(硬化膜及びその製造方法)
本発明の硬化膜は、本発明の硬化性組成物を硬化させた硬化膜である。また、本発明の硬化膜は、本発明の硬化膜の製造方法により得られた硬化膜であることが好ましい。
本発明の硬化膜の製造方法は、本発明の硬化性組成物を硬化させ硬化膜を製造する方法であれば、特に制限はないが、以下の工程1〜工程5をこの順で含むことが好ましい。
工程1:本発明の硬化性組成物を基板上に塗布する塗布工程
工程2:塗布された硬化性組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
工程3:溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程
工程4:露光された硬化性組成物を水性現像液により現像する現像工程
工程5:現像された硬化性組成物を熱処理する熱処理工程
(Curing film and manufacturing method thereof)
The cured film of the present invention is a cured film obtained by curing the curable composition of the present invention. Moreover, it is preferable that the cured film of this invention is a cured film obtained by the manufacturing method of the cured film of this invention.
The method for producing a cured film of the present invention is not particularly limited as long as it is a method for producing a cured film by curing the curable composition of the present invention, but may include the following steps 1 to 5 in this order. preferable.
Process 1: Application | coating process which apply | coats the curable composition of this invention on a board | substrate Process 2: The solvent removal process of removing a solvent from the apply | coated curable composition Process 3: At least curable composition from which the solvent was removed An exposure process in which a part is exposed with actinic rays Step 4: A development process in which the exposed curable composition is developed with an aqueous developer Step 5: A heat treatment process in which the developed curable composition is heat-treated

上記塗布工程では、本発明の硬化性組成物を基板上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とすることが好ましい。硬化性組成物を基板へ塗布する前にアルカリ洗浄やプラズマ洗浄といった基板の洗浄を行うことができる。更に基板洗浄後にヘキサメチルジシラザン等で基板表面を処理することができる。この処理を行うことにより、硬化性組成物の基板への密着性が向上する傾向にある。
上記の基板としては、無機基板、樹脂、樹脂複合材料などが挙げられる。
無機基板としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、シリコンナイトライド、及び、それらのような基板上にモリブデン、チタン、アルミ、銅などを蒸着した複合基板が挙げられる。
樹脂としては、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アリルジグリコールカーボネート樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリベンズアゾール、ポリフェニレンサルファイド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン等のフッ素樹脂、液晶ポリマー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アイオノマー樹脂、シアネート樹脂、架橋フマル酸ジエステル、環状ポリオレフィン、芳香族エーテル樹脂、マレイミド−オレフィン共重合体、セルロース、エピスルフィド樹脂等の合成樹脂が挙げられる。これらの基板は、上記の形態のまま用いられる場合は少なく、通常、最終製品の形態によって、例えば、TFT素子のような多層積層構造が形成されている。
In the coating step, it is preferable to apply the curable composition of the present invention on a substrate to form a wet film containing a solvent. Before applying the curable composition to the substrate, the substrate can be cleaned such as alkali cleaning or plasma cleaning. Furthermore, the substrate surface can be treated with hexamethyldisilazane or the like after cleaning the substrate. By performing this treatment, the adhesiveness of the curable composition to the substrate tends to be improved.
Examples of the substrate include inorganic substrates, resins, and resin composite materials.
Examples of the inorganic substrate include glass, quartz, silicon, silicon nitride, and a composite substrate in which molybdenum, titanium, aluminum, copper, or the like is vapor-deposited on such a substrate.
Examples of resins include polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, allyl diglycol carbonate resin, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, Fluorine resin such as polybenzazole, polyphenylene sulfide, polycycloolefin, norbornene resin, polychlorotrifluoroethylene, liquid crystal polymer, acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, ionomer resin, cyanate resin, crosslinked fumaric acid diester, cyclic polyolefin, Synthetic trees such as aromatic ether resin, maleimide-olefin copolymer, cellulose, episulfide resin And the like. These substrates are rarely used in the above-described form, and usually, a multilayer laminated structure such as a TFT element is formed depending on the form of the final product.

本発明の硬化性組成物は、スパッタリングにより製膜された金属膜や金属酸化物に対する密着がよいため、基板としては、スパッタリングにより製膜された金属膜を含むことが好ましい。金属としては、チタン、銅、アルミニウム、インジウム、スズ、マンガン、ニッケル、コバルト、モリブデン、タングステン、クロム、銀、ネオジウム及びこれらの酸化物又は合金であることが好ましく、モリブデン、チタン、アルミニウム、銅及びこれらの合金であることが更に好ましい。なお、金属や金属酸化物は1種単独で用いても、複数種を併用してもよい。   Since the curable composition of the present invention has good adhesion to a metal film or metal oxide formed by sputtering, the substrate preferably includes a metal film formed by sputtering. The metal is preferably titanium, copper, aluminum, indium, tin, manganese, nickel, cobalt, molybdenum, tungsten, chromium, silver, neodymium and oxides or alloys thereof, molybdenum, titanium, aluminum, copper and More preferably, these alloys are used. In addition, a metal and a metal oxide may be used individually by 1 type, or may use multiple types together.

基板への塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、流延塗布法、スリットアンドスピン法、インクジェット法、印刷法(フレキソ、グラビア、スクリーン等)等の方法を用いることができる。インクジェット法、印刷法は必要な箇所に絞って組成物を設置することができ、組成物を省液化できるため、好ましい。
塗布したときの湿潤膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じた膜厚で塗布することができるが、0.05〜10μmの範囲であることが好ましい。
更に、基板に本発明の硬化性組成物を塗布する前に、特開2009−145395号公報に記載されているような、いわゆる、プリウェット法を適用することも可能である。
The coating method on the substrate is not particularly limited. For example, a slit coating method, a spray method, a roll coating method, a spin coating method, a casting coating method, a slit and spin method, an ink jet method, a printing method (flexo, gravure, screen, etc.) ) Etc. can be used. The ink jet method and the printing method are preferable because the composition can be placed in a necessary position and the composition can be saved.
The wet film thickness when applied is not particularly limited and can be applied with a film thickness according to the application, but is preferably in the range of 0.05 to 10 μm.
Furthermore, before applying the curable composition of the present invention to the substrate, a so-called prewetting method as described in JP-A-2009-145395 can be applied.

上記溶剤除去工程では、塗布された上記の膜から、減圧(バキューム)及び/又は加熱等により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させる。溶剤除去工程の加熱条件は、好ましくは70〜130℃で30〜300秒間程度である。
なお、上記塗布工程と上記溶剤除去工程とは、この順に行っても、同時に行っても、交互に繰り返してもよい。例えば、上記塗布工程におけるインクジェット塗布が全て終了した後、上記溶剤除去工程を行ってもよいし、基板を加熱しておき、上記塗布工程におけるインクジェット塗布方式による硬化性組成物の吐出を行いながら溶剤除去を行ってもよい。
In the solvent removal step, the solvent is removed from the applied film by vacuum (vacuum) and / or heating to form a dry coating film on the substrate. The heating conditions for the solvent removal step are preferably 70 to 130 ° C. and about 30 to 300 seconds.
In addition, the said application | coating process and the said solvent removal process may be performed in this order, may be performed simultaneously, or may be repeated alternately. For example, the solvent removal step may be performed after the inkjet coating in the coating step is completed, or the substrate is heated and the solvent is discharged while the curable composition is discharged by the inkjet coating method in the coating step. Removal may be performed.

上記露光工程は、活性光線を用いて光重合開始剤より重合開始種を発生させ、エチレン性不飽和基を有する化合物の重合を行い、溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部を硬化する工程である。
上記露光工程に用いることができる露光光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、LED光源、エキシマレーザー発生装置などを用いることができ、i線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)などの300nm以上450nm以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。また、必要に応じて長波長カットフィルター、短波長カットフィルター、バンドパスフィルターのような分光フィルターを通して照射光を調整することもできる。
露光装置としては、ミラープロジェクションアライナー、ステッパー、スキャナー、プロキシミティ、コンタクト、マイクロレンズアレイ、レンズスキャナ、レーザー露光など各種方式の露光装置を用いることができる。
また、上記露光工程における露光量としても、特に制限はないが、1〜3,000mJ/cm2であることが好ましく、1〜500mJ/cm2であることがより好ましい。
上記露光工程における露光は、酸素遮断された状態で行うことが、硬化促進の観点から好ましい。酸素を遮断する手段としては、窒素雰囲気下で露光したり、酸素遮断膜を設けることが例示される。
また、上記露光工程における露光は、溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部に行われればよく、例えば、全面露光であっても、パターン露光であってもよい。
また、上記露光工程後に、露光後加熱処理:Post Exposure Bake(以下、「PEB」ともいう。)を行うことができる。PEBを行う場合の温度は、30℃以上130℃以下であることが好ましく、40℃以上120℃以下がより好ましく、50℃以上110℃以下が特に好ましい。
加熱の方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、ホットプレート、オーブン、赤外線ヒーターなどが挙げられる。
また、加熱時間としては、ホットプレートの場合は1分〜30分程度が好ましく、それ以外の場合は20分〜120分程度が好ましい。この範囲で基板、装置へのダメージなく加熱することができる。
The exposure step generates a polymerization initiation species from a photopolymerization initiator using an actinic ray, polymerizes a compound having an ethylenically unsaturated group, and cures at least a part of the curable composition from which the solvent is removed. It is a process to do.
As an exposure light source that can be used in the above exposure process, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a chemical lamp, an LED light source, an excimer laser generator, and the like can be used. ), Actinic rays having a wavelength of 300 nm to 450 nm, such as g-line (436 nm), can be preferably used. Moreover, irradiation light can also be adjusted through spectral filters, such as a long wavelength cut filter, a short wavelength cut filter, and a band pass filter, as needed.
As the exposure apparatus, various types of exposure apparatuses such as a mirror projection aligner, a stepper, a scanner, a proximity, a contact, a microlens array, a lens scanner, and a laser exposure can be used.
Further, even if the exposure amount in the exposure step is not particularly limited, it is preferably from 1~3,000mJ / cm 2, more preferably 1 to 500 mJ / cm 2.
The exposure in the exposure step is preferably performed in a state where oxygen is blocked from the viewpoint of curing acceleration. Examples of means for blocking oxygen include exposure in a nitrogen atmosphere and provision of an oxygen blocking film.
Moreover, the exposure in the said exposure process should just be performed to at least one part of the curable composition from which the solvent was removed, for example, may be whole surface exposure or pattern exposure.
Further, after the exposure step, post-exposure heat treatment (Post Exposure Bake (hereinafter also referred to as “PEB”)) can be performed. The temperature for performing PEB is preferably 30 ° C. or higher and 130 ° C. or lower, more preferably 40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, and particularly preferably 50 ° C. or higher and 110 ° C. or lower.
The heating method is not particularly limited, and a known method can be used. For example, a hot plate, an oven, an infrared heater, etc. are mentioned.
The heating time is preferably about 1 to 30 minutes in the case of a hot plate, and is preferably about 20 to 120 minutes in other cases. Within this range, the substrate and the apparatus can be heated without damage.

本発明の硬化膜の製造方法は、露光された硬化性組成物を現像液により現像する現像工程を更に含むことが好ましい。
現像工程では、パターン状に露光された硬化性組成物を、溶剤やアルカリ性現像液で現像し、パターンを形成する。現像工程で使用する現像液には、塩基性化合物が含まれることが好ましい。塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類;ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどを使用することができる。現像液としては、上記塩基性化合物を含有する水溶液が好ましく、また、上記アルカリ類の水溶液にメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。
好ましい現像液として、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの0.4〜2.5質量%水溶液を挙げることができる。
現像液のpHは、好ましくは10.0〜14.0である。現像時間は、好ましくは30〜500秒間であり、また、現像の手法は液盛り法(パドル法)、シャワー法、ディップ法等のいずれでもよい。
現像の後に、リンス工程を行うこともできる。リンス工程では、現像後の基板を純水などで洗うことで、付着している現像液除去、現像残渣除去を行う。リンス方法は公知の方法を用いることができる。例えばシャワーリンスやディップリンスなどを挙げることができる。
パターン露光及び現像については、公知の方法や公知の現像液を用いることができる。例えば、特開2011−186398号公報、特開2013−83937号公報に記載のパターン露光方法及び現像方法を好適に用いることができる。
It is preferable that the manufacturing method of the cured film of this invention further includes the image development process which develops the exposed curable composition with a developing solution.
In the development step, the pattern-exposed curable composition is developed with a solvent or an alkaline developer to form a pattern. The developer used in the development step preferably contains a basic compound. Examples of the basic compound include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkalis such as sodium bicarbonate and potassium bicarbonate Metal bicarbonates; tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, choline hydroxide, and other ammonium hydroxides; sodium silicate, metasilicic acid Sodium or the like can be used. As the developer, an aqueous solution containing the basic compound is preferable, and an aqueous solution obtained by adding an appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol or a surfactant to the alkaline aqueous solution is used as the developer. You can also.
As a preferred developing solution, a 0.4 to 2.5% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide can be mentioned.
The pH of the developer is preferably 10.0 to 14.0. The development time is preferably 30 to 500 seconds, and the development method may be any of a liquid piling method (paddle method), a shower method, a dip method, and the like.
A rinsing step can also be performed after development. In the rinsing step, the developed substrate and the development residue are removed by washing the developed substrate with pure water or the like. A known method can be used as the rinsing method. For example, a shower rinse, a dip rinse, etc. can be mentioned.
For pattern exposure and development, a known method or a known developer can be used. For example, the pattern exposure method and the development method described in JP 2011-186398 A and JP 2013-83937 A can be suitably used.

本発明の硬化膜の製造方法は、上記現像工程後、現像された硬化性組成物を熱処理する工程(ポストベーク)を含むことが好ましい。本発明の硬化性組成物を現像した後に熱処理を行うことにより、より強度に優れた硬化膜を得ることができる。
上記熱処理の温度としては、80℃〜300℃であることが好ましく、100℃〜280℃であることがより好ましく、120℃〜200℃であることが特に好ましい。上記態様であると、成分Aの縮合が適度に生じると推定され、硬化膜の物性により優れる。
また、上記熱処理の時間としては、特に制限はないが、1分〜360分が好ましく、5分〜240分がより好ましく、10分〜120分が更に好ましい。
また、上記本発明の硬化膜の製造方法における光及び/又は熱による硬化は、連続して行ってもよいし、逐次行ってもよい。
また、熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより、透明性をより向上させることもできる。
熱処理工程(ポストベーク)の前に、比較的低温でベークを行った後に熱処理工程を行うこともできる(ミドルベーク工程の追加)。ミドルベークを行う場合は、90〜150℃で1〜60分加熱した後に、200℃以上の高温でポストベークすることが好ましい。また、ミドルベーク、ポストベークを3段階以上の多段階に分けて加熱することもできる。このようなミドルベーク、ポストベークの工夫により、パターンのテーパー角を調整することができる。これらの加熱は、ホットプレート、オーブン、赤外線ヒーターなど、公知の加熱方法を使用することができる。
なお、ポストベークに先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により全面再露光(ポスト露光)した後、ポストベークを行ってもよい。ポスト露光することにより、膜の硬化反応を更に促進することができる。ポスト露光工程を含む場合の好ましい露光量としては、100〜3,000mJ/cm2が好ましく、100〜500mJ/cm2が特に好ましい。
It is preferable that the manufacturing method of the cured film of this invention includes the process (post-baking) of heat-processing the developed curable composition after the said image development process. By performing heat treatment after developing the curable composition of the present invention, a cured film having higher strength can be obtained.
The temperature of the heat treatment is preferably 80 ° C to 300 ° C, more preferably 100 ° C to 280 ° C, and particularly preferably 120 ° C to 200 ° C. In the above embodiment, it is estimated that the condensation of Component A occurs moderately, and the physical properties of the cured film are superior.
The time for the heat treatment is not particularly limited, but is preferably 1 minute to 360 minutes, more preferably 5 minutes to 240 minutes, and still more preferably 10 minutes to 120 minutes.
Moreover, the curing by light and / or heat in the method for producing a cured film of the present invention may be performed continuously or sequentially.
In addition, when the heat treatment is performed in a nitrogen atmosphere, the transparency can be further improved.
Prior to the heat treatment step (post-bake), the heat treatment step can be performed after baking at a relatively low temperature (addition of a middle bake step). When performing middle baking, it is preferable to post-bake at a high temperature of 200 ° C. or higher after heating at 90 to 150 ° C. for 1 to 60 minutes. Further, middle baking and post baking can be heated in three or more stages. The taper angle of the pattern can be adjusted by devising such middle baking and post baking. These heating methods can use well-known heating methods, such as a hotplate, oven, and an infrared heater.
Prior to post-baking, the substrate on which the pattern is formed may be re-exposed (post-exposure) with actinic rays and then post-baked. Post-exposure can further accelerate the curing reaction of the film. As a preferable exposure amount when the post-exposure step is included, 100 to 3,000 mJ / cm 2 is preferable, and 100 to 500 mJ / cm 2 is particularly preferable.

(硬化膜)
本発明の硬化膜や硬化物(以下、硬化膜等ということがある。)は、本発明の硬化性組成物を硬化して得られたものである。
本発明の硬化膜等は、上述したように現像した硬化膜等であっても、現像していない硬化膜等であってもよいが、本発明の効果をより発揮できる現像した硬化膜等であることが好ましい。なお、現像していない硬化膜等である場合には、上記現像工程を有していない以外は、同様の方法で得ることができる。
本発明の硬化膜等は、成分Aと、成分B等とにより形成された有機−無機ハイブリッド硬化膜等であって、金属酸化物の結晶の膜ではない。硬化膜等中の金属酸化物の結晶成分は、30体積%以下が好ましく、10体積%以下がより好ましく、含まないことが更に好ましい。このような態様とすることで、クラック耐性が向上する。結晶成分の含有量は、硬化膜等のX線回折などにより評価できる。
本発明の硬化膜等は、屈折率が高く、高い透明性を有するため、マイクロレンズ、光導波路、反射防止膜、太陽電池や有機EL発光素子の光取り込み/取り出し効率改善層、LED用封止材及びLED用チップコート材等の光学部材、有機EL表示装置や液晶表示装置などの表示装置に使用される保護膜や絶縁膜、タッチパネルに使用される配線電極の保護膜として好適に用いることができる。
また、本発明の硬化膜は、液晶表示装置又は有機EL装置等におけるカラーフィルターの保護膜、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサー、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)用デバイスの構造部材等にも好適に用いることができる。
(Cured film)
The cured film or cured product of the present invention (hereinafter sometimes referred to as a cured film) is obtained by curing the curable composition of the present invention.
The cured film or the like of the present invention may be a cured film or the like developed as described above, or a cured film or the like that has not been developed, but a developed cured film or the like that can further exert the effects of the present invention. Preferably there is. In addition, when it is a cured film etc. which are not developed, it can obtain by the same method except not having the said image development process.
The cured film of the present invention is an organic-inorganic hybrid cured film formed of component A, component B, etc., and is not a metal oxide crystal film. The crystal component of the metal oxide in the cured film or the like is preferably 30% by volume or less, more preferably 10% by volume or less, and still more preferably not contained. By setting it as such an aspect, crack tolerance improves. The content of the crystal component can be evaluated by X-ray diffraction of a cured film or the like.
Since the cured film of the present invention has a high refractive index and high transparency, the microlens, the optical waveguide, the antireflection film, the layer for improving the light intake / extraction efficiency of the solar cell or the organic EL light emitting element, the LED sealing It is suitably used as a protective film for a wiring electrode used in a touch panel, an optical member such as an LED chip coating material, a protective film or an insulating film used in a display device such as an organic EL display device or a liquid crystal display device. it can.
Further, the cured film of the present invention includes a protective film for a color filter in a liquid crystal display device or an organic EL device, a spacer for keeping the thickness of a liquid crystal layer in the liquid crystal display device constant, and a device for MEMS (Micro Electro Mechanical Systems). It can use suitably also for these structural members.

また、本発明の硬化膜等は、タッチパネルに使用される配線電極等の視認性低減層に使用することができる。なお、タッチパネルに使用される配線電極の視認性低減層とは、タッチパネルに使用される配線電極等の視認性を低減する、すなわち、配線電極等を見えにくくする層であり、例えば、タッチ検出電極(例えば、酸化インジウムスズ(ITO)製)間の層間絶縁膜、電極の保護膜(オーバーコート膜)などが挙げられる。また、インデックスマッチング層(IM層、又は、屈折率調整層ということがある。)にも好適である。インデックスマッチング層とは、表示装置の光の反射率や透過率を調整する層である。インデックスマッチング層については特開2012−146217号公報に詳述されており、この内容は本明細書取り込まれる。本発明の硬化膜を視認性低減層に使用することで優れた視認性のタッチパネルとすることができる。
中でも、本発明の硬化膜は、表示装置等における層間絶縁膜又はオーバーコート膜として好適である。
タッチ検出電極間の層間絶縁膜や保護膜に使用される場合は、視認性改良の観点から硬化膜の屈折率は電極の屈折率に近いことが好ましく、具体的には波長550nmにおける屈折率が1.78〜2.40が好ましく、1.80〜2.30がより好ましく、1.83〜2.20が更に好ましい。
Moreover, the cured film of this invention can be used for visibility reduction layers, such as a wiring electrode used for a touch panel. Note that the visibility reduction layer of the wiring electrode used for the touch panel is a layer that reduces the visibility of the wiring electrode used for the touch panel, that is, the layer that makes the wiring electrode etc. difficult to see. Examples thereof include interlayer insulating films (for example, made of indium tin oxide (ITO)), electrode protective films (overcoat films), and the like. It is also suitable for an index matching layer (sometimes referred to as an IM layer or a refractive index adjustment layer). The index matching layer is a layer for adjusting the light reflectance and transmittance of the display device. The index matching layer is described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-146217, the contents of which are incorporated herein. An excellent visibility touch panel can be obtained by using the cured film of the present invention for the visibility-reducing layer.
Among these, the cured film of the present invention is suitable as an interlayer insulating film or an overcoat film in a display device or the like.
When used as an interlayer insulating film or a protective film between touch detection electrodes, the refractive index of the cured film is preferably close to the refractive index of the electrode from the viewpoint of improving visibility, and specifically, the refractive index at a wavelength of 550 nm is 1.78 to 2.40 are preferable, 1.80 to 2.30 are more preferable, and 1.83 to 2.20 are still more preferable.

(液晶表示装置)
本発明の液晶表示装置は、本発明の硬化膜を有することを特徴とする。
本発明の液晶表示装置としては、本発明の硬化性組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の液晶表示装置を挙げることができる。
例えば、本発明の液晶表示装置が具備するTFT(Thin-Film Transistor)の具体例としては、アモルファスシリコン−TFT、低温ポリシリコン−TFT、酸化物半導体TFT(例えば、インジウムガリウム亜鉛酸化物、いわゆる、IGZO)等が挙げられる。本発明の硬化膜は電気特性に優れるため、これらのTFTに組み合わせて好ましく用いることができる。
また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶駆動方式としてはTN(Twisted Nematic)方式、VA(Vertical Alignment)方式、IPS(In-Plane-Switching)方式、FFS(Fringe Field Switching)方式、OCB(Optically Compensated Bend)方式などが挙げられる。
パネル構成においては、COA(Color Filter on Array)方式の液晶表示装置でも本発明の硬化膜を用いることができ、例えば、特開2005−284291号公報の有機絶縁膜(115)や、特開2005−346054号公報の有機絶縁膜(212)として用いることができる。また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶配向膜の具体的な配向方式としてはラビング配向法、光配向法などが挙げられる。また、特開2003−149647号公報や特開2011−257734号公報に記載のPSA(Polymer Sustained Alignment)技術によってポリマー配向支持されていてもよい。
また、本発明の硬化性組成物及び本発明の硬化膜は、上記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、平坦化膜や層間絶縁膜以外にも、カラーフィルターの保護膜や、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルター上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。
(Liquid crystal display device)
The liquid crystal display device of the present invention has the cured film of the present invention.
The liquid crystal display device of the present invention is not particularly limited except that it has a flattening film and an interlayer insulating film formed using the curable composition of the present invention, and known liquid crystal display devices having various structures are used. Can be mentioned.
For example, as specific examples of TFT (Thin-Film Transistor) included in the liquid crystal display device of the present invention, amorphous silicon TFT, low temperature polysilicon TFT, oxide semiconductor TFT (for example, indium gallium zinc oxide, so-called, IGZO) and the like. Since the cured film of the present invention is excellent in electrical characteristics, it can be preferably used in combination with these TFTs.
Further, liquid crystal driving methods that can be taken by the liquid crystal display device of the present invention include TN (Twisted Nematic) method, VA (Vertical Alignment) method, IPS (In-Plane-Switching) method, FFS (Fringe Field Switching) method, OCB (OCB) method. Optically Compensated Bend) method.
In the panel configuration, the cured film of the present invention can also be used in a COA (Color Filter on Array) type liquid crystal display device. For example, the organic insulating film (115) of Japanese Patent Laid-Open No. 2005-284291, -346054 can be used as the organic insulating film (212). Specific examples of the alignment method of the liquid crystal alignment film that can be taken by the liquid crystal display device of the present invention include a rubbing alignment method and a photo alignment method. Further, the polymer alignment may be supported by the PSA (Polymer Sustained Alignment) technique described in JP2003-149647A or JP2011-257734A.
Moreover, the curable composition of this invention and the cured film of this invention are not limited to the said use, but can be used for various uses. For example, in addition to the planarization film and interlayer insulating film, a protective film for the color filter, a spacer for keeping the thickness of the liquid crystal layer in the liquid crystal display device constant, a microlens provided on the color filter in the solid-state imaging device, etc. Can be suitably used.

図1は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置10の一例を示す概念的断面図である。このカラー液晶表示装置10は、背面にバックライトユニット12を有する液晶パネルであって、液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた2枚のガラス基板14,15の間に配置されたすべての画素に対応するTFT16の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜17中に形成されたコンタクトホール18を通して、画素電極を形成するITO透明電極19が配線されている。ITO透明電極19の上には、液晶20の層とブラックマトリックスを配置したRGBカラーフィルター22が設けられている。
バックライトの光源としては、特に限定されず公知の光源を用いることができる。例えば白色LED、青色・赤色・緑色などの多色LED、蛍光灯(冷陰極管)、有機ELなどを挙げる事ができる。
また、液晶表示装置は、3D(立体視)型のものとしたり、タッチパネル型のものとしたりすることも可能である。更にフレキシブル型にすることも可能であり、特開2011−145686号公報に記載の第2層間絶縁膜(48)や、特開2009−258758号公報に記載の層間絶縁膜(520)として用いることができる。
FIG. 1 is a conceptual cross-sectional view showing an example of an active matrix liquid crystal display device 10. The color liquid crystal display device 10 is a liquid crystal panel having a backlight unit 12 on the back surface, and the liquid crystal panel includes all pixels disposed between two glass substrates 14 and 15 having a polarizing film attached thereto. The elements of the TFT 16 corresponding to are arranged. Each element formed on the glass substrate is wired with an ITO transparent electrode 19 that forms a pixel electrode through a contact hole 18 formed in the cured film 17. On the ITO transparent electrode 19, an RGB color filter 22 in which a liquid crystal 20 layer and a black matrix are arranged is provided.
The light source of the backlight is not particularly limited, and a known light source can be used. For example, a white LED, a multicolor LED such as blue, red, and green, a fluorescent lamp (cold cathode tube), and an organic EL can be used.
Further, the liquid crystal display device can be a 3D (stereoscopic) type or a touch panel type. Further, a flexible type can also be used, and it is used as the second interlayer insulating film (48) described in JP2011-145686A or the interlayer insulating film (520) described in JP2009-258758A. Can do.

(有機EL表示装置)
本発明の有機EL表示装置は、本発明の硬化膜を有することを特徴とする。
本発明の有機EL表示装置としては、本発明の硬化性組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機EL表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。
例えば、本発明の有機EL表示装置が具備するTFT(Thin-Film Transistor)の具体例としては、アモルファスシリコン−TFT、低温ポリシリコン−TFT、酸化物半導体TFT等が挙げられる。本発明の硬化膜は電気特性に優れるため、これらのTFTに組み合わせて好ましく用いることができる。
(Organic EL display device)
The organic EL display device of the present invention has the cured film of the present invention.
The organic EL display device of the present invention is not particularly limited except that it has a planarizing film and an interlayer insulating film formed using the curable composition of the present invention, and various known organic EL devices having various structures. A display device and a liquid crystal display device can be given.
For example, specific examples of TFT (Thin-Film Transistor) included in the organic EL display device of the present invention include amorphous silicon-TFT, low-temperature polysilicon-TFT, and oxide semiconductor TFT. Since the cured film of the present invention is excellent in electrical characteristics, it can be preferably used in combination with these TFTs.

図2は、有機EL表示装置の一例の構成概念図である。ボトムエミッション型の有機EL表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜4を有している。
ガラス基板6上にボトムゲート型のTFT1を形成し、このTFT1を覆う状態でSi34からなる絶縁膜3が形成されている。絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2(高さ1.0μm)が絶縁膜3上に形成されている。配線2は、TFT1間、又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。
更に、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上に平坦化膜4が形成されている。
平坦化膜4上には、ボトムエミッション型の有機EL素子が形成されている。すなわち、平坦化膜4上に、ITOからなる第一電極5が、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成されている。また、第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。
第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8が形成されており、この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
更に、図2には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られる。
FIG. 2 is a conceptual diagram of an example of an organic EL display device. A schematic cross-sectional view of a substrate in a bottom emission type organic EL display device is shown, and a planarizing film 4 is provided.
A bottom gate type TFT 1 is formed on a glass substrate 6, and an insulating film 3 made of Si 3 N 4 is formed so as to cover the TFT 1. A contact hole (not shown) is formed in the insulating film 3, and then a wiring 2 (height: 1.0 μm) connected to the TFT 1 through the contact hole is formed on the insulating film 3. The wiring 2 is used to connect the TFT 1 with an organic EL element formed between the TFTs 1 or in a later process.
Further, in order to flatten the unevenness due to the formation of the wiring 2, a planarizing film 4 is formed on the insulating film 3 in a state where the unevenness due to the wiring 2 is embedded.
On the planarizing film 4, a bottom emission type organic EL element is formed. That is, the first electrode 5 made of ITO is formed on the planarizing film 4 so as to be connected to the wiring 2 through the contact hole 7. The first electrode 5 corresponds to the anode of the organic EL element.
An insulating film 8 having a shape covering the periphery of the first electrode 5 is formed. By providing the insulating film 8, a short circuit between the first electrode 5 and the second electrode formed in the subsequent process is prevented. can do.
Further, although not shown in FIG. 2, a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron transport layer are sequentially deposited through a desired pattern mask, and then a second layer made of Al is formed on the entire surface above the substrate. An active matrix organic material in which two electrodes are formed and sealed by bonding using a sealing glass plate and an ultraviolet curable epoxy resin, and each organic EL element is connected to a TFT 1 for driving it. An EL display device is obtained.

(タッチパネル及びタッチパネル表示装置)
本発明のタッチパネルは、絶縁層及び/又は保護層の、全部又は一部が本発明の硬化性組成物の硬化物からなるタッチパネルである。また、本発明のタッチパネルは、透明基板、電極及び絶縁層及び/又は保護層を少なくとも有することが好ましい。
本発明のタッチパネル表示装置は、本発明のタッチパネルを有するタッチパネル表示装置であることが好ましい。本発明のタッチパネルとしては、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、電磁誘導方式など公知の方式いずれでもよい。中でも、静電容量方式が好ましい。
静電容量方式のタッチパネルとしては、特開2010−28115号公報に開示されるものや、国際公開第2012/057165号に開示されるものが挙げられる。この他のタッチパネルとしては、いわゆる、インセル型(例えば、特表2012−517051号公報の図5、図6、図7、図8)、いわゆる、オンセル型(例えば、特開2012−43394号公報の図14、国際公開第2012/141148号の図2(b))、OGS型、TOL型、その他の構成(例えば、特開2013−164871号公報の図6)を挙げることができる。
(Touch panel and touch panel display device)
The touch panel of the present invention is a touch panel in which all or part of the insulating layer and / or protective layer is made of a cured product of the curable composition of the present invention. Moreover, it is preferable that the touch panel of this invention has a transparent substrate, an electrode, an insulating layer, and / or a protective layer at least.
The touch panel display device of the present invention is preferably a touch panel display device having the touch panel of the present invention. As the touch panel of the present invention, any of known methods such as a resistive film method, a capacitance method, an ultrasonic method, and an electromagnetic induction method may be used. Among these, the electrostatic capacity method is preferable.
Examples of the capacitive touch panel include those disclosed in JP 2010-28115 A and those disclosed in International Publication No. 2012/057165. As another touch panel, a so-called in-cell type (for example, FIG. 5, FIG. 6, FIG. 7 and FIG. 8 of JP-T-2012-517051), a so-called on-cell type (for example, JP-A-2012-43394). FIG. 14, FIG. 2 (b) of International Publication No. 2012/141148, OGS type, TOL type, and other configurations (for example, FIG. 6 of JP 2013-164871 A).

以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「%」は質量基準である。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

(合成例1)
チタニウムテトラノルマルブトキシド34.0g(0.10モル)をノルマルブチルアルコール12.0gに溶解させた後、水2.7g(0.15モル)とノルマルブチルアルコール24.0gとの混合液を室温にて滴下した。滴下終了後、室温にて一時間撹拌した後、更に110℃にて一時間加熱還流し、チタノキサンA−6を得た。固形分濃度は20質量%であった。
(Synthesis Example 1)
After dissolving 34.0 g (0.10 mol) of titanium tetranormal butoxide in 12.0 g of normal butyl alcohol, a mixed solution of 2.7 g (0.15 mol) of water and 24.0 g of normal butyl alcohol was brought to room temperature. And dripped. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and further heated to reflux at 110 ° C. for 1 hour to obtain titanoxane A-6. The solid content concentration was 20% by mass.

(合成例2)
チタニウムテトラノルマルブトキシド34.0g(0.10モル)をノルマルブチルアルコール12.0gに溶解させた後、水1.8g(0.10モル)とノルマルブチルアルコール24.0gとの混合液を室温にて滴下した。滴下終了後、室温にて一時間撹拌した後、更に110℃にて一時間加熱還流し、チタノキサンA−7を得た。固形分濃度は29質量%であった。
(Synthesis Example 2)
After dissolving 34.0 g (0.10 mol) of titanium tetranormal butoxide in 12.0 g of normal butyl alcohol, a mixture of 1.8 g (0.10 mol) of water and 24.0 g of normal butyl alcohol was brought to room temperature. And dripped. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and further heated to reflux at 110 ° C. for 1 hour to obtain titanoxane A-7. The solid content concentration was 29% by mass.

(合成例3)
チタニウムテトラノルマルブトキシド34.0g(0.10モル)をノルマルブチルアルコール12.0gに溶解させた後、水1.35g(0.075モル)とノルマルブチルアルコール24.0gとの混合液を室温にて滴下した。滴下終了後、室温にて一時間撹拌した後、更に110℃にて一時間加熱還流し、チタノキサンA−8を得た。固形分濃度は34質量%であった。
(Synthesis Example 3)
After dissolving 34.0 g (0.10 mol) of titanium tetranormal butoxide in 12.0 g of normal butyl alcohol, a mixture of 1.35 g (0.075 mol) of water and 24.0 g of normal butyl alcohol was brought to room temperature. And dripped. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and further heated to reflux at 110 ° C. for 1 hour to obtain titanoxane A-8. The solid content concentration was 34% by mass.

(合成例4)
チタニウムテトラターシャリーブトキシド34.0g(0.10モル)をターシャリーブチルアルコール12.0gに溶解させた後、水1.8g(0.10モル)とターシャリーブチルアルコール24.0gとの混合液を室温にて滴下した。滴下終了後、室温にて一時間撹拌した後、更に100℃にて一時間加熱還流し、チタノキサンA−9を得た。固形分濃度は29質量%であった。
(Synthesis Example 4)
After dissolving 34.0 g (0.10 mol) of titanium tetratertiary butoxide in 12.0 g of tertiary butyl alcohol, a mixed solution of 1.8 g (0.10 mol) of water and 24.0 g of tertiary butyl alcohol. Was added dropwise at room temperature. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and further heated to reflux at 100 ° C. for 1 hour to obtain titanoxane A-9. The solid content concentration was 29% by mass.

(合成例5)
チタニウムテトライソプロポキシド28.4g(0.10モル)をイソプロピルアルコール12.0gに溶解させた後、水1.8g(0.10モル)とイソプロピルアルコール24.0gとの混合液を室温にて滴下した。滴下終了後、室温にて一時間撹拌した後、更に85℃にて一時間加熱還流し、チタノキサンA−10を得た。固形分濃度は27質量%であった。
(Synthesis Example 5)
After dissolving 28.4 g (0.10 mol) of titanium tetraisopropoxide in 12.0 g of isopropyl alcohol, a mixed solution of 1.8 g (0.10 mol) of water and 24.0 g of isopropyl alcohol was dissolved at room temperature. It was dripped. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour and further heated to reflux at 85 ° C. for 1 hour to obtain titanoxane A-10. The solid content concentration was 27% by mass.

(合成例6)
チタニウムテトラエトキシド22.8g(0.10モル)をエチルアルコール12.0gに溶解させた後、水1.8g(0.10モル)とエチルアルコール24.0gとの混合液を室温にて滴下した。滴下終了後、室温にて一時間撹拌した後、更に78℃にて一時間加熱還流し、チタノキサンA−11溶液を得た。固形分濃度は25質量%であった。
(Synthesis Example 6)
After dissolving 22.8 g (0.10 mol) of titanium tetraethoxide in 12.0 g of ethyl alcohol, a mixed solution of 1.8 g (0.10 mol) of water and 24.0 g of ethyl alcohol was added dropwise at room temperature. did. After completion of the dropwise addition, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and further heated to reflux at 78 ° C. for 1 hour to obtain a titanoxane A-11 solution. The solid content concentration was 25% by mass.

(合成例7)
四塩化チタン5.0g(0.026モル)をイソプロピルアルコール100gに撹拌しながら溶解させた後、2時間室温(25℃)で撹拌した。アンモニアガスと窒素の混合ガス(1/1体積比)をバブリングすることにより、塩化アンモニウムを沈殿させた。その混合液をろ過し、塩化アンモニウムを除去した。更に減圧下で溶剤を留去し、目的とするチタンイソプロポキシドを得た。その後、合成例1と同様の操作に付し、チタノキサンA−12を得た。固形分濃度は、19質量%であった。
(Synthesis Example 7)
Titanium tetrachloride (5.0 g, 0.026 mol) was dissolved in 100 g of isopropyl alcohol with stirring, and then stirred at room temperature (25 ° C.) for 2 hours. Ammonium chloride was precipitated by bubbling a mixed gas of ammonia gas and nitrogen (1/1 volume ratio). The mixture was filtered to remove ammonium chloride. Further, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the target titanium isopropoxide. Thereafter, the same operation as in Synthesis Example 1 was performed to obtain titanoxane A-12. The solid content concentration was 19% by mass.

(実施例1)
<硬化性組成物の作製>
以下のようにして、調製した。
・A−1:PC−200(チタノキサン、マツモトファインケミカル(株)製、固形分31.0%)
・R−1:アセチルアセトン(和光純薬工業(株)製)
・M−1:多官能エチレン性不飽和化合物
・C−1:IRGACURE CGI−124(1−[4−(フェニルチオ)フェニル]−1,2−オクタンジオン−2−(O−ベンゾイルオキシム)、BASF社製)
・F−1:メガファックF−554(パーフルオロアルキル基含有ノニオン界面活性剤、DIC(株)製)
を表1に記載の添加量及び固形分となるように、添加溶剤1(ジエチレングリコールメチルエチルエーテル)にて調整し、マグネチックスターラーで1時間撹拌した。
次いで、0.45μmのメンブレンフィルターにてろ過を行い、実施例1の硬化性組成物を作製した。
Example 1
<Preparation of curable composition>
Prepared as follows.
A-1: PC-200 (Titanoxane, manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., solid content 31.0%)
R-1: Acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
M-1: polyfunctional ethylenically unsaturated compound C-1: IRGACURE CGI-124 (1- [4- (phenylthio) phenyl] -1,2-octanedione-2- (O-benzoyloxime), BASF (Made by company)
F-1: Megafac F-554 (perfluoroalkyl group-containing nonionic surfactant, manufactured by DIC Corporation)
Was adjusted with additive solvent 1 (diethylene glycol methyl ethyl ether) so as to have the addition amount and solid content shown in Table 1, and stirred with a magnetic stirrer for 1 hour.
Subsequently, it filtered with the 0.45 micrometer membrane filter, and produced the curable composition of Example 1. FIG.

(実施例2〜31、34〜57及び比較例1〜23
<硬化性組成物の作製>
下記表1〜表4に記載の各成分及びその配合量、並びに、固形分量に変更した以外は、実施例1の硬化性組成物の作製と同様にして、実施例2〜31、34〜57及び比較例1〜23の硬化性組成物をそれぞれ作製した。
なお、表1〜表4において、組成物の固形分量以外の各成分の添加量は、全固形分量100質量部に対する質量部を表し、「−」は該当する成分を含有していないことを意味する。また、各成分の添加量は、固形分量で記載している。
表1〜表4中、「添加溶剤」は「溶剤」と同義である。
(Examples 2 to 31, 34 to 57 and Comparative Examples 1 to 23 )
<Preparation of curable composition>
Examples 2 to 31, 34 to 57 were performed in the same manner as in the preparation of the curable composition of Example 1, except that the components described in Tables 1 to 4 below and the blending amounts thereof were changed to solid amounts. and a curable composition of Comparative example 1 to 23 were produced.
In Tables 1 to 4, the added amount of each component other than the solid content of the composition represents parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content, and “-” means that the corresponding component is not contained. To do. Moreover, the addition amount of each component is described by the amount of solid content.
In Tables 1 to 4, “addition solvent” has the same meaning as “solvent”.

上述した以外の表1〜表4における略記の詳細を以下に示す。
A−2:チタノキサン(T−3072、マツモトファインケミカル(株)製)
A−3:チタノキサン(B−2、日本曹達(株)製)
A−4:チタノキサン(B−4、日本曹達(株)製)
A−5:ジルコノキサン(ZA−65、マツモトファインケミカル(株)製)
A−6〜A−12:合成例1〜7で作製したチタノキサン
A−13:チタニウムテトラノルマルブトキシド(和光純薬工業(株)製)をノルマルブチルアルコールで30質量%に希釈したもの
R−2:アセト酢酸メチル(和光純薬工業(株)製)
R−3:乳酸エチル(東京化成工業(株)製)
R−4:2−アセトアセトキシエチルメタクリレート(東京化成工業(株)製)
M−1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとジペンタエリスリトールペンタアクリレートとの質量比70:30の混合物(日本化薬(株)製)
M−2:ペンタエリスリトールテトラアクリレートとペンタエリスリトールトリアクリレートとの質量比37〜45:63〜55の混合物(東亞合成(株)製)
M−3:エチレンオキサイド変性ビスフェノールAジアクリレート、下記化合物(新中村化学(株)製)
M−4:メチルメタクリレート(東京化成工業(株)製)
M−5:ベンジルメタクリレート(東京化成工業(株)製)
M−6:フタル酸ジアリル(東京化成工業(株)製)
C−2:IRGACURE CGI−242(1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタン−1−オンオキシム−O−アセテート、BASF社製)
C−3:IRGACURE 907(2−メチル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1、BASF社製)
C−4:オキシムエステル系光重合開始剤(下記化合物、特開2009−134289号公報に記載の特定化合物1の合成方法を参照し、合成した。)
添加溶剤2:ジエチレングリコールメチルエチルエーテル/1,3−ブチレングリコールジアセテート=9/1(質量比)の混合溶液
C−5:2,2’−ビス(クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール(保土ヶ谷化学工業(株)製)
C−6:ジエチルアミノベンゾフェノン(保土ヶ谷化学工業(株)製)
Details of abbreviations in Tables 1 to 4 other than those described above are shown below.
A-2: Titanoxane (T-3072, manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.)
A-3: Titanoxane (B-2, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)
A-4: Titanoxane (B-4, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.)
A-5: Zirconoxane (ZA-65, manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd.)
A-6 to A-12: Titanoxane prepared in Synthesis Examples 1 to 7 A-13: Titanium tetranormal butoxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) diluted to 30% by mass with normal butyl alcohol R-2 : Methyl acetoacetate (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
R-3: Ethyl lactate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
R-4: 2-acetoacetoxyethyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
M-1: Mixture of 70:30 mass ratio of dipentaerythritol hexaacrylate and dipentaerythritol pentaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)
M-2: mixture of pentaerythritol tetraacrylate and pentaerythritol triacrylate in a mass ratio of 37 to 45:63 to 55 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
M-3: Ethylene oxide modified bisphenol A diacrylate, the following compound (made by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
M-4: Methyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
M-5: benzyl methacrylate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
M-6: diallyl phthalate (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.)
C-2: IRGACURE CGI-242 (1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethane-1-one oxime-O-acetate, manufactured by BASF)
C-3: IRGACURE 907 (2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1, manufactured by BASF)
C-4: Oxime ester photopolymerization initiator (synthesized with reference to the synthesis method of the specific compound 1 described in the following compound, JP-A-2009-134289)
Addition solvent 2: Mixed solution of diethylene glycol methyl ethyl ether / 1,3-butylene glycol diacetate = 9/1 (mass ratio) C-5: 2,2′-bis (chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5 '-Tetraphenyl-1,2'-biimidazole (Hodogaya Chemical Co., Ltd.)
C-6: Diethylaminobenzophenone (Hodogaya Chemical Co., Ltd.)

(硬化性組成物の評価)
作製された硬化性組成物について、以下のようにして評価を行った。評価結果を表1〜表4に示す。
(Evaluation of curable composition)
The produced curable composition was evaluated as follows. The evaluation results are shown in Tables 1 to 4.

<保存安定性評価>
100mm×100mmのガラス基板(商品名:XG、コーニング社製)上に、硬化性組成物を膜厚1.0μmとなるように塗布し、80℃のオーブンで100秒乾燥(プリベーク)した。得られた基板上の膜を目視により観察し、以下の基準で評価した。
1:塗布後、基板全面が白濁している
2:塗布後、基板全面がわずかに白濁している
3:塗布後、基板の半分程度がわずかに白濁している
4:塗布後、基板の一部がわずかに白濁している
5:プリベーク後、白濁なし
<Storage stability evaluation>
The curable composition was applied on a 100 mm × 100 mm glass substrate (trade name: XG, manufactured by Corning) so as to have a film thickness of 1.0 μm, and dried (prebaked) in an oven at 80 ° C. for 100 seconds. The film on the obtained substrate was visually observed and evaluated according to the following criteria.
1: After coating, the entire surface of the substrate is clouded 2: After coating, the entire surface of the substrate is slightly clouded 3: After coating, about half of the substrate is slightly clouded 4: After coating, Part is slightly cloudy 5: No cloudiness after pre-baking

<屈折率評価>
得られた硬化性組成物を、スピナーを用いてシリコンウエハ基板上に塗布し、80℃で100秒乾燥することによって厚さ0.5μmの膜を形成した。この基板を、超高圧水銀灯を用いて100mJ/cm2(i線で測定)で露光し、その後オーブンにて220℃で30分加熱した。
エリプソメーターVUV−VASE(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン(株)製)を用いて、550nmでの硬化膜の屈折率を測定した。屈折率が高いほうが好ましく、1.78以上がより好ましい。評価基準は以下の通りである。
1:1.75未満
2:1.75以上1.78未満
3:1.78以上1.80未満
4:1.80以上1.83未満
5:1.83以上
<Refractive index evaluation>
The obtained curable composition was applied onto a silicon wafer substrate using a spinner, and dried at 80 ° C. for 100 seconds to form a film having a thickness of 0.5 μm. This substrate was exposed to 100 mJ / cm 2 (measured by i-line) using an ultrahigh pressure mercury lamp, and then heated in an oven at 220 ° C. for 30 minutes.
The refractive index of the cured film at 550 nm was measured using an ellipsometer VUV-VASE (manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.). A higher refractive index is preferable, and 1.78 or more is more preferable. The evaluation criteria are as follows.
1: Less than 1.75 2: 1.75 or more and less than 1.78 3: 1.78 or more and less than 1.80 4: 1.80 or more and less than 1.83 5: 1.83 or more

<現像性評価(解像性、マージン及び直線性)>
100mm×100mmのガラス基板(商品名:XG、コーニング社製)上に、硬化性組成物を膜厚1.0μmとなるように塗布し、80℃のオーブンで100秒乾燥(プリベーク)した。その後、ラインアンドスペース1:1の1μm〜100μmラインがあるマスクで100mJ/cm2の露光(照度は24mW/cm2)をし、アルカリ現像液(水酸化テトラメチルアンモニウム2.38質量%水溶液)を用いて25℃で現像した。
<Developability evaluation (resolution, margin and linearity)>
The curable composition was applied on a 100 mm × 100 mm glass substrate (trade name: XG, manufactured by Corning) so as to have a film thickness of 1.0 μm, and dried (prebaked) in an oven at 80 ° C. for 100 seconds. Then, 100 mJ / cm 2 exposure (illuminance is 24 mW / cm 2 ) was performed with a mask having 1 μm to 100 μm lines of line and space 1: 1, and an alkali developer (tetramethylammonium hydroxide 2.38 mass% aqueous solution) And developed at 25 ° C.

−解像性評価−
現像後の基板について、パターン形成するか否かを光学顕微鏡で確認した。評価基準を以下に示す。
1:解像しない
2:20μm以上のパターンが形成できる
3:10μm以上20μm未満のパターンが形成できる
4:5μm以上10μm未満のパターンが形成できる
5:5μm未満のパターンが形成できる
-Resolution evaluation-
Whether or not the pattern was formed on the substrate after development was confirmed with an optical microscope. The evaluation criteria are shown below.
1: No resolution 2: A pattern of 20 μm or more can be formed 3: A pattern of 10 μm or more and less than 20 μm can be formed 4: A pattern of 5 μm or more but less than 10 μm can be formed 5: A pattern of 5 μm or less can be formed

−マージン評価−
現像性評価において、アルカリ現像液(水酸化テトラメチルアンモニウム2.38質量%水溶液)を用いて25℃の浸漬時間を変更し、50μmパターン部が、残渣なく切れる時間を評価した。この時間が長いほど現像マージンが広いことを示す。評価基準を以下に示す。
1:10秒未満
2:10秒以上20秒未満
3:20秒以上
-Margin evaluation-
In the evaluation of developability, the immersion time at 25 ° C. was changed using an alkali developer (tetramethylammonium hydroxide 2.38 mass% aqueous solution), and the time for the 50 μm pattern portion to be cut without residue was evaluated. The longer this time, the wider the development margin. The evaluation criteria are shown below.
1: Less than 10 seconds 2: More than 10 seconds but less than 20 seconds 3: More than 20 seconds

−直線性評価−
50μmのラインアンドスペースで作製した現像後の基板について、ラインエッジ部の直線性を光学顕微鏡で確認した。評価基準を以下に示す。
1:ラインエッジ部の面内にがたつきが多くある
2:ラインエッジ部の面内にがたつきがわずかにある
3:ラインエッジ部にがたつきがほとんど見受けられない
-Linearity evaluation-
The linearity of the line edge part was confirmed with an optical microscope for the developed substrate produced with a 50 μm line and space. The evaluation criteria are shown below.
1: There is a lot of rattling in the plane of the line edge part 2: There is a little rattling in the plane of the line edge part 3: Almost no rattling is seen in the line edge part

<耐薬品性評価>
100mm×100mmのガラス基板(商品名:XG、コーニング社製)上に、硬化性組成物を膜厚1.0μmとなるように塗布し、80℃のオーブンで100秒乾燥(プリベーク)した。その後、全面に超高圧水銀灯を用いて100mJ/cm2の露光(照度は24mW/cm2)をし、その後オーブンにて220℃で30分加熱した。
次いで、N−メチルピロリドン25℃に2分間浸漬させ、浸漬前後の膜厚を測定し、膜の残存率を測定した。評価基準を以下に示す。
1:残存率が80%未満
2:残存率が80%以上90%未満
3:残存率が90%以上95%未満
4:残存率が95%以上98%未満
5:残存率が98%以上100%以下
<Chemical resistance evaluation>
The curable composition was applied on a 100 mm × 100 mm glass substrate (trade name: XG, manufactured by Corning) so as to have a film thickness of 1.0 μm, and dried (prebaked) in an oven at 80 ° C. for 100 seconds. Thereafter, the entire surface was exposed to 100 mJ / cm 2 using an ultrahigh pressure mercury lamp (illuminance was 24 mW / cm 2 ), and then heated in an oven at 220 ° C. for 30 minutes.
Next, the film was immersed in N-methylpyrrolidone at 25 ° C. for 2 minutes, the film thickness before and after the immersion was measured, and the remaining ratio of the film was measured. The evaluation criteria are shown below.
1: Residual rate is less than 80% 2: Residual rate is 80% or more and less than 90% 3: Residual rate is 90% or more and less than 95% 4: Residual rate is 95% or more and less than 98% 5: Residual rate is 98% or more and 100% %Less than


比較例1〜21では、硬化膜の解像性が悪く、マージン及び直線性を評価することができなかった。
なお、特に実施例21における硬化膜の波長550nmにおける屈折率は、1.94であった。
In Comparative Examples 1-21, the resolution of the cured film was poor, and the margin and linearity could not be evaluated.
In particular, the refractive index of the cured film in Example 21 at a wavelength of 550 nm was 1.94.

(実施例101)
図3〜図5に記載のタッチパネルにおいて、上記図4のY(102a)電極を基板111とともに取り囲む絶縁層W(以下、「台座層W」ともいう。)を以下のように形成した以外は、特開2013−97692号公報に記載の方法と同様にして形成し、本発明のタッチパネルを得た。更にそのタッチパネルを用いて、特開2013−97692号公報にしたがってタッチパネル付き表示装置を得た。
台座層の形成:実施例11の硬化性組成物を基板上に塗布し、プリベークした後、超高圧水銀灯を用いて露光し、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、200℃30分間の加熱処理を行い、台座層Wを形成した。なお、上記台座層はタッチ検出電極間の層間絶縁膜としての機能を有する。
得られた表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性及びタッチ検出性能を示し、信頼性の高い装置であることが分かった。
(Example 101)
3 to 5 except that an insulating layer W (hereinafter also referred to as “pedestal layer W”) surrounding the Y (102a) electrode of FIG. 4 together with the substrate 111 is formed as follows. The touch panel of the present invention was obtained by forming in the same manner as described in JP2013-97692A. Furthermore, using the touch panel, a display device with a touch panel was obtained in accordance with JP2013-97692A.
Formation of pedestal layer: The curable composition of Example 11 was applied on a substrate, pre-baked, then exposed using an ultra-high pressure mercury lamp, and developed with an alkaline aqueous solution to form a pattern at 200 ° C. for 30 minutes. Heat treatment was performed to form a pedestal layer W. The pedestal layer functions as an interlayer insulating film between the touch detection electrodes.
When a driving voltage was applied to the obtained display device, it was found that the display device had good display characteristics and touch detection performance and was highly reliable.

(実施例102及び103)
実施例101において、実施例11の組成物をそれぞれ、実施例45、実施例48の組成物に代えた以外は実施例101と同様の方法でタッチパネル付き表示装置を作製した。
得られた表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性及びタッチ検出性能を示し、信頼性の高い装置であることが分かった。
(Examples 102 and 103)
A display device with a touch panel was produced in the same manner as in Example 101 except that the composition of Example 11 was replaced with the composition of Example 45 and Example 48 in Example 101, respectively.
When a driving voltage was applied to the obtained display device, it was found that the display device had good display characteristics and touch detection performance and was highly reliable.

(実施例201)
図3〜図5に記載のタッチパネルにおいて、上記図4のY(102a)電極を基板111とともに取り囲む絶縁層W(台座層W)、絶縁層112及び保護層113を以下のように形成した以外は、特開2013−97692号公報に記載の方法と同様にして形成し、本発明のタッチパネルを得た。更にそのタッチパネルを用いて、特開2013−97692号公報にしたがってタッチパネル付き表示装置を得た。
台座層W、絶縁層112及び保護層113の形成:実施例11の硬化性組成物を基板上にスリット塗布し、プリベークした後、超高圧水銀灯を用いて露光し、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、200℃30分間の加熱処理を行い、各層を形成した。
得られた表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性及びタッチ検出性能を示し、信頼性の高い装置であることが分かった。
(Example 201)
3 to 5 except that the insulating layer W (pedestal layer W), the insulating layer 112, and the protective layer 113 surrounding the Y (102a) electrode of FIG. 4 together with the substrate 111 are formed as follows. The touch panel of the present invention was obtained in the same manner as described in JP2013-97692A. Furthermore, using the touch panel, a display device with a touch panel was obtained in accordance with JP2013-97692A.
Formation of pedestal layer W, insulating layer 112 and protective layer 113: The curable composition of Example 11 was slit-coated on a substrate, pre-baked, exposed using an ultrahigh pressure mercury lamp, and developed with an alkaline aqueous solution. A pattern was formed, and heat treatment was performed at 200 ° C. for 30 minutes to form each layer.
When a driving voltage was applied to the obtained display device, it was found that the display device had good display characteristics and touch detection performance and was highly reliable.

(実施例202及び203)
実施例201において、実施例11の組成物をそれぞれ、実施例45、実施例48の組成物に代えた以外は実施例201と同様の方法でタッチパネル付き表示装置を作製した。
得られた表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性及びタッチ検出性能を示し、信頼性の高い装置であることが分かった。
(Examples 202 and 203)
A display device with a touch panel was produced in the same manner as in Example 201 except that the composition of Example 11 was replaced with the composition of Example 45 and Example 48 in Example 201, respectively.
When a driving voltage was applied to the obtained display device, it was found that the display device had good display characteristics and touch detection performance and was highly reliable.

1:TFT(薄膜トランジスタ)、2:配線、3:絶縁膜、4:平坦化膜、5:第一電極、6:ガラス基板、7:コンタクトホール、8:絶縁膜、10:液晶表示装置、12:バックライトユニット、14,15:ガラス基板、16:TFT、17:硬化膜、18:コンタクトホール、19:ITO透明電極、20:液晶、22:カラーフィルター、101a,102a:交差部、101b,102b:電極部、101X:X方向の電極、102:Y方向の電極、111:基板、112:絶縁膜、112a:コンタクトホール、113:保護膜、W:台座層、X,Y:電極   1: TFT (thin film transistor), 2: wiring, 3: insulating film, 4: flattening film, 5: first electrode, 6: glass substrate, 7: contact hole, 8: insulating film, 10: liquid crystal display device, 12 : Backlight unit, 14, 15: Glass substrate, 16: TFT, 17: Cured film, 18: Contact hole, 19: ITO transparent electrode, 20: Liquid crystal, 22: Color filter, 101a, 102a: Intersection, 101b, 102b: electrode part, 101X: electrode in X direction, 102: electrode in Y direction, 111: substrate, 112: insulating film, 112a: contact hole, 113: protective film, W: pedestal layer, X, Y: electrode

Claims (13)

成分Aとして下記a1及びa2よりなる群から選ばれた少なくとも1種と、
成分Bとして下記b1及びb2よりなる群から選ばれた少なくとも1種と、
成分Cとして光重合開始剤と、
成分Dとして溶剤と、を含有し、
成分Aが前記a2を含み、
成分Aの含有量が、硬化性組成物の全固形分に対し、40〜90質量%であり、
成分Bの含有量が、硬化性組成物の全固形分に対し、5〜59質量%であり、
下記チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物と、下記チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物との総含有量が、成分Aの含有量100質量部に対し、15〜140質量部であることを特徴とする
硬化性組成物。
a1:アルコキシ基を有する、チタン化合物及び/又はジルコニウム化合物、
a2:チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物、
b1:チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、
b2:チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物並びに2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物。
At least one selected from the group consisting of the following a1 and a2 as component A;
At least one selected from the group consisting of b1 and b2 below as component B;
A photopolymerization initiator as component C;
A solvent as component D,
Component A contains the a2,
The content of component A is 40 to 90% by mass with respect to the total solid content of the curable composition,
The content of Component B is 5 to 59% by mass with respect to the total solid content of the curable composition,
The total content of the compound having the following titanium and / or zirconium coordinating group and two or more ethylenically unsaturated groups and the compound having the following titanium and / or zirconium coordinating group is the content of component A It is 15-140 mass parts with respect to 100 mass parts, The curable composition characterized by the above-mentioned.
a1: a titanium compound and / or a zirconium compound having an alkoxy group,
a2: titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or a zirconium atom,
b1: a compound having a titanium and / or zirconium coordinating group and two or more ethylenically unsaturated groups,
b2: A compound having a titanium and / or zirconium coordination group and a compound having two or more ethylenically unsaturated groups.
前記チタン及び/又はジルコニウム配位性基が、チタン原子及び/又はジルコニウム原子に酸素原子によって配位可能な基である、請求項1に記載の硬化性組成物。   The curable composition according to claim 1, wherein the titanium and / or zirconium coordinating group is a group capable of coordinating with a titanium atom and / or a zirconium atom by an oxygen atom. 前記チタン及び/又はジルコニウム配位性基が、1,2−ジケトン構造、1,3−ジケトン構造、1,4−ジケトン構造、α−ヒドロキシケトン構造、α−ヒドロキシエステル構造、α−ケトエステル構造、β−ケトエステル構造、マロン酸ジエステル構造、フマル酸ジエステル構造、及び、フタル酸ジエステル構造よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構造を有する基である、請求項1又は2に記載の硬化性組成物。   The titanium and / or zirconium coordinating group has a 1,2-diketone structure, 1,3-diketone structure, 1,4-diketone structure, α-hydroxyketone structure, α-hydroxyester structure, α-ketoester structure, The curable composition according to claim 1 or 2, which is a group having at least one structure selected from the group consisting of a β-ketoester structure, a malonic acid diester structure, a fumaric acid diester structure, and a phthalic acid diester structure. . 前記a2が、アルコキシ基を有するチタン化合物、アルコキシ基を有するジルコニウム化合物、ハロゲノ基を有するチタン化合物、及び、ハロゲノ基を有するジルコニウム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種を、チタン原子及びジルコニウム原子の総モル量1.0モルに対して、0.5〜1.9倍モル当量の水により加水分解縮合させて得られるチタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の硬化性組成物。   The a2 is at least one selected from the group consisting of a titanium compound having an alkoxy group, a zirconium compound having an alkoxy group, a titanium compound having a halogeno group, and a zirconium compound having a halogeno group. It is a titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate obtained by hydrolytic condensation with 0.5 to 1.9 times molar equivalent of water with respect to a total molar amount of 1.0 mol. 4. The curable composition according to any one of 3. 成分Bが前記b2を含有する場合、硬化性組成物の全固形分に対するチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物の含有量をBW1質量%、2つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物の含有量をBW2質量%としたとき、BW1:BW2が、2:8〜8:2である、請求項1〜のいずれか1項に記載の硬化性組成物。 When component B contains b2, the content of the compound having titanium and / or zirconium coordinating groups with respect to the total solid content of the curable composition is BW 1% by mass, and has two or more ethylenically unsaturated groups The curable composition according to any one of claims 1 to 4 , wherein BW1: BW2 is from 2: 8 to 8: 2 when the content of the compound is BW2% by mass. 少なくとも工程1〜工程5をこの順に含む硬化膜の製造方法。
工程1:請求項1〜のいずれか1項に記載の硬化性組成物を基板上に塗布する塗布工程
工程2:塗布された硬化性組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
工程3:溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程
工程4:露光された硬化性組成物を水性現像液により現像する現像工程
工程5:現像された硬化性組成物を熱処理する熱処理工程
A method for producing a cured film comprising at least Step 1 to Step 5 in this order.
Process 1: Application | coating process which apply | coats the curable composition of any one of Claims 1-5 on a board | substrate Process 2: The solvent removal process of removing a solvent from the apply | coated curable composition Process 3: Solvent An exposure step of exposing at least a part of the curable composition from which the polymer has been removed with actinic rays Step 4: a development step of developing the exposed curable composition with an aqueous developer Step 5: developing the developed curable composition Heat treatment process for heat treatment
請求項1〜のいずれか1項に記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜。 The cured film formed by hardening | curing the curable composition of any one of Claims 1-5 . 層間絶縁膜又はオーバーコート膜である、請求項に記載の硬化膜。 The cured film according to claim 7 , which is an interlayer insulating film or an overcoat film. 波長550nmにおける屈折率が1.78〜2.40である、請求項又はに記載の硬化膜。 The cured film of Claim 7 or 8 whose refractive index in wavelength 550nm is 1.78-2.40. 請求項のいずれか1項に記載の硬化膜を有する液晶表示装置。 The liquid crystal display device having the cured film according to any one of claims 7-9. 請求項のいずれか1項に記載の硬化膜を有する有機EL表示装置。 The organic EL display device having the cured film according to any one of claims 7-9. 請求項のいずれか1項に記載の硬化膜を有するタッチパネル。 A touch panel having a cured film according to any one of claims 7-9. 請求項のいずれか1項に記載の硬化膜を有するタッチパネル表示装置。 A touch panel display device having the cured film according to any one of claims 7 to 9 .
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