JP2016056341A - Curable composition, manufacturing method of cured film, cured film, touch panel and display device - Google Patents

Curable composition, manufacturing method of cured film, cured film, touch panel and display device Download PDF

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大助 柏木
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a curable composition high in transparency, providing a cured film high in in-plane uniformity and excellent in printability, the cured film by curing the curable composition and a manufacturing method therefor, various display devices having the cured film and a touch panel.SOLUTION: There is provided a curable composition containing Component A:a specific titanium-containing compound and/or a zirconium-containing compound, Component B:a curable compound and Component C:a solvent, the Component C contains Component C-1:at least one kind of organic solvent having viscosity at 20°C of 50 mPa s to 200 mPa s and surface tension of 30 mN/m to 41 mN/m and Component C-2: at least one kind of organic solvent having viscosity at 20°C of less than 50 mPa s, the content of the Component C-1 is 20 to 95 mass% based on total mass of the Component C and viscosity at 20°C of the curable composition is 1 mPa s to 30 mPa s.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、硬化性組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、並びに、上記硬化膜を用いたタッチパネル、液晶表示装置、有機EL表示装置及びタッチパネル表示装置等の各種表示装置に関する。   The present invention relates to a curable composition, a method for producing a cured film, a cured film, and various display devices such as a touch panel, a liquid crystal display device, an organic EL display device, and a touch panel display device using the cured film.

近年、層間絶縁膜、保護膜、光取り出し層、スペーサー部材、マイクロレンズ部材などを形成するため、透明な硬化性組成物が使用されている。透明な硬化性組成物を使用して得られる硬化物は液晶表示装置や有機EL表示装置などの各種表示装置、タッチパネル、撮像装置、太陽電池等の多くの電子デバイスの部材として使用されている。
また、有機EL表示装置の光取り出し効率の更なる向上やタッチパネルのタッチ検出電極の骨見え防止などを目的として、透明な硬化性組成物の屈折率を調整することが知られている。
屈折率を調整した透明な硬化性組成物としては、酸化金属や、金属アルコキシドを用いた組成物が知られている(例えば、特許文献1参照)。
また、パターニング性能のある屈折率を調整した透明な硬化性組成物としては、特許文献2に記載された組成物が知られている。
In recent years, transparent curable compositions have been used to form interlayer insulating films, protective films, light extraction layers, spacer members, microlens members, and the like. A cured product obtained by using a transparent curable composition is used as a member of many electronic devices such as various display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices, touch panels, imaging devices, and solar cells.
It is also known to adjust the refractive index of the transparent curable composition for the purpose of further improving the light extraction efficiency of the organic EL display device and preventing the touch detection electrode of the touch panel from being seen.
As a transparent curable composition having an adjusted refractive index, a composition using a metal oxide or a metal alkoxide is known (for example, see Patent Document 1).
Moreover, the composition described in patent document 2 is known as a transparent curable composition which adjusted the refractive index with patterning performance.

国開公開第2010/050580号National Opening No. 2010/050580 特開2012−203061号公報JP 2012-203061 A

近年では、省液性や様々な基板に対する塗布適正の観点で、表示装置やタッチパネルなどの電子デバイスを製造する際に用いられる組成物が印刷法により塗布可能であることが求められている。特許文献1及び2に記載された組成物は、印刷適正がまだ充分ではなかった。
本発明が解決しようとする課題は、透明性が高く、面内均一性の高い硬化膜が得られ、印刷適性に優れた硬化性組成物、上記硬化性組成物を硬化させた硬化膜及びその製造方法、並びに、上記硬化膜を有する有機EL表示装置、液晶表示装置、タッチパネル及びタッチパネル表示装置を提供することである。
In recent years, from the viewpoint of liquid-saving properties and proper application to various substrates, it has been demanded that a composition used in manufacturing an electronic device such as a display device or a touch panel can be applied by a printing method. The compositions described in Patent Documents 1 and 2 have not yet been sufficiently printed.
The problem to be solved by the present invention is that a cured film having high transparency and high in-plane uniformity is obtained, a curable composition excellent in printability, a cured film obtained by curing the curable composition, and the same A manufacturing method and an organic EL display device, a liquid crystal display device, a touch panel, and a touch panel display device having the cured film.

本発明の上記課題は、以下の<1>、<9>〜<11>又は<14>〜<17>に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である<2>〜<8>、<12>及び<13>と共に以下に記載する。
<1> 成分Aとして、下記a1〜a3よりなる群から選ばれた少なくとも1種と、成分Bとして、硬化性化合物と、成分Cとして、溶剤とを含有し、上記成分Cが、成分C−1として、20℃における粘度が50mPa・s以上200mPa・s以下であり、かつ、表面張力が30mN/m以上41mN/m以下である少なくとも1種の有機溶剤と、成分C−2として、20℃における粘度が50mPa・s未満である少なくとも1種の有機溶剤と、を含有し、上記成分C−1の含有量が、成分Cの総質量に対して20〜95質量%であり、硬化性組成物の20℃における粘度が1mPa・s以上30mPa・s以下であることを特徴とする硬化性組成物、
a1:アルコキシ基を有する、チタン化合物及び/又はジルコニウム化合物、
a2:チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物、
a3:チタン原子及び/又はジルコニウム原子を含有する金属酸化物。
The above-described problems of the present invention have been solved by means described in the following <1>, <9> to <11>, or <14> to <17>. It is described below together with <2> to <8>, <12> and <13> which are preferred embodiments.
<1> The component A contains at least one selected from the group consisting of the following a1 to a3, the component B as a curable compound, the component C as a solvent, and the component C as the component C- 1, at least one organic solvent having a viscosity at 20 ° C. of 50 mPa · s to 200 mPa · s and a surface tension of 30 mN / m to 41 mN / m, and as Component C-2, 20 ° C. And at least one organic solvent having a viscosity of less than 50 mPa · s, the content of the component C-1 is 20 to 95% by mass with respect to the total mass of the component C, and the curable composition A curable composition characterized in that the viscosity at 20 ° C. of the product is 1 mPa · s or more and 30 mPa · s or less,
a1: a titanium compound and / or a zirconium compound having an alkoxy group,
a2: titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or a zirconium atom,
a3: Metal oxide containing a titanium atom and / or a zirconium atom.

<2> 成分Bが重合性化合物である、<1>に記載の硬化性組成物、
<3> 成分C−1がターピネオール、ジヒドロターピネオール、4−(アセチルオキシ)−α,α,4−トリメチルシクロヘキサンメタノールアセタート、及び、2−[1−メチル−1−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)エトキシ]エタノールよりなる群から選択される少なくとも1つを含有する、<1>又は<2>に記載の硬化性組成物、
<4> 上記硬化性組成物中の固形分の総量が、硬化性組成物の全質量に対して、2〜15質量%である、<1>〜<3>のいずれか1つに記載の硬化性組成物、
<5> 成分Bが6官能以上の重合性化合物を含有する、<1>〜<4>のいずれか1つに記載の硬化性組成物、
<6> 上記a2が、アルコキシ基を有するチタン化合物、アルコキシ基を有するジルコニウム化合物及びハロゲノ基を有するチタン化合物及びハロゲノ基を有するジルコニウム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種を、チタン原子及びジルコニウム原子の総モル量1.0モルに対して、0.5〜1.9倍モル当量の水により加水分解縮合させて得られるチタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物である、<1>〜<5>のいずれか1つに記載の硬化性組成物、
<7> 成分Aが、上記a2を含む、<1>〜<6>のいずれか1つに記載の硬化性組成物、
<8> 成分Dとして、光重合開始剤を含有する、<1>〜<7>のいずれか1つに記載の硬化性組成物、
<2> The curable composition according to <1>, wherein component B is a polymerizable compound,
<3> Component C-1 is terpineol, dihydroterpineol, 4- (acetyloxy) -α, α, 4-trimethylcyclohexanemethanol acetate, and 2- [1-methyl-1- (4-methyl-3- The curable composition according to <1> or <2>, which contains at least one selected from the group consisting of cyclohexen-1-yl) ethoxy] ethanol,
<4> The total amount of solids in the curable composition is 2 to 15% by mass with respect to the total mass of the curable composition, according to any one of <1> to <3>. Curable composition,
<5> The curable composition according to any one of <1> to <4>, wherein Component B contains a polymerizable compound having 6 or more functional groups,
<6> At least one selected from the group consisting of a titanium compound having an alkoxy group, a zirconium compound having an alkoxy group, a titanium compound having a halogeno group, and a zirconium compound having a halogeno group is used as the titanium atom and zirconium. <1> It is a titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate obtained by hydrolysis and condensation with 0.5 to 1.9 times molar equivalent of water with respect to 1.0 mol of the total molar amount of atoms. ~ <5> curable composition according to any one of the above,
<7> The curable composition according to any one of <1> to <6>, wherein the component A includes the a2.
<8> The curable composition according to any one of <1> to <7>, which contains a photopolymerization initiator as component D.

<9> 少なくとも工程a〜工程dをこの順で含む硬化膜の製造方法、
工程a:<1>〜<8>のいずれか1項に記載の硬化性組成物を基板上に塗布する塗布工程
工程b:塗布された硬化性組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
工程c:溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程
工程d:硬化性組成物を熱処理する熱処理工程
<9> A method for producing a cured film including at least steps a to d in this order,
Step a: Application step of applying the curable composition according to any one of <1> to <8> onto the substrate Step b: Solvent removal step of removing the solvent from the applied curable composition Step c : Exposure step of exposing at least a part of the curable composition from which the solvent has been removed with actinic rays step d: heat treatment step of heat-treating the curable composition

<10> 少なくとも工程1〜工程5をこの順で含む硬化膜の製造方法、
工程1:<1>〜<8>のいずれか1つに記載の硬化性組成物を基板上に塗布する塗布工程
工程2:塗布された硬化性組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
工程3:溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程
工程4:露光された硬化性組成物を水性現像液により現像する現像工程
工程5:現像された硬化性組成物を熱処理する熱処理工程
<11> <1>〜<8>のいずれか1つに記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜、
<12> 層間絶縁膜又はオーバーコート膜である、<11>に記載の硬化膜、
<13> 波長550nmにおける屈折率が1.6〜1.9である、<11>又は<12>に記載の硬化膜、
<14> <11>〜<13>のいずれか1つに記載の硬化膜を有する液晶表示装置、
<15> <11>〜<13>のいずれか1つに記載の硬化膜を有する有機EL表示装置、
<16> <11>〜<13>のいずれか1つに記載の硬化膜を有するタッチパネル、
<17> <11>〜<13>のいずれか1つに記載の硬化膜を有するタッチパネル表示装置。
<10> A method for producing a cured film including at least Step 1 to Step 5 in this order,
Process 1: Application | coating process which apply | coats curable composition as described in any one of <1>-<8> on a board | substrate Process 2: Solvent removal process which removes a solvent from the apply | coated curable composition Process 3 : Exposure step of exposing at least a part of the curable composition from which the solvent has been removed with actinic rays Step 4: development step of developing the exposed curable composition with an aqueous developer Step 5: developed curable composition Heat-treatment process which heat-treats a thing <11> Cured film formed by hardening | curing the curable composition as described in any one of <1>-<8>,
<12> The cured film according to <11>, which is an interlayer insulating film or an overcoat film,
<13> The cured film according to <11> or <12>, wherein the refractive index at a wavelength of 550 nm is 1.6 to 1.9,
<14> A liquid crystal display device having the cured film according to any one of <11> to <13>,
<15> An organic EL display device having the cured film according to any one of <11> to <13>,
<16> A touch panel having the cured film according to any one of <11> to <13>,
<17> A touch panel display device having the cured film according to any one of <11> to <13>.

本発明によれば、透明性が高く、面内均一性の高い硬化膜が得られ、印刷適性に優れた硬化性組成物、上記硬化性組成物を硬化させた硬化膜及びその製造方法、並びに、上記硬化膜を有する有機EL表示装置、液晶表示装置、タッチパネル及びタッチパネル表示装置を提供することができた。   According to the present invention, a cured film having high transparency and high in-plane uniformity is obtained, and a curable composition excellent in printability, a cured film obtained by curing the curable composition, a method for producing the same, and And an organic EL display device, a liquid crystal display device, a touch panel and a touch panel display device having the cured film.

液晶表示装置の一例の構成概念図を示す。液晶表示装置におけるアクティブマトリックス基板の模式的断面図を示し、層間絶縁膜である硬化膜17を有している。1 is a conceptual diagram of a configuration of an example of a liquid crystal display device. The schematic sectional drawing of the active matrix substrate in a liquid crystal display device is shown, and it has the cured film 17 which is an interlayer insulation film. 有機EL表示装置の一例の構成概念図を示す。ボトムエミッション型の有機EL表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜4を有している。1 shows a conceptual diagram of a configuration of an example of an organic EL display device. A schematic cross-sectional view of a substrate in a bottom emission type organic EL display device is shown, and a planarizing film 4 is provided. タッチパネル付き表示装置の一例におけるタッチパネルの電極パターンを示す平面図である。It is a top view which shows the electrode pattern of the touchscreen in an example of the display apparatus with a touchscreen. 図3に示すA1−A2線に沿った断面構造を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure along the line A1-A2 shown in FIG. 3. 図3に示すB1−B2線に沿った断面構造を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure along the line B1-B2 shown in FIG.

以下において、本発明の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。また、本発明における有機EL素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。
本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば、「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
なお、本明細書中において、“(メタ)アクリレート”はアクリレート及びメタクリレートを表し、“(メタ)アクリル”はアクリル及びメタクリルを表し、“(メタ)アクリロイル”はアクリロイル及びメタクリロイルを表す。
本発明において、「a1〜a3よりなる群から選ばれた少なくとも1種」等を、単に「成分A」等ともいう。
また、本発明において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明において、好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
Hereinafter, the contents of the present invention will be described in detail. The description of the constituent elements described below may be made based on typical embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the specification of the present application, “to” is used to mean that the numerical values described before and after it are included as a lower limit value and an upper limit value. The organic EL element in the present invention refers to an organic electroluminescence element.
In the description of the group (atomic group) in this specification, the description which does not describe substitution and non-substitution includes what does not have a substituent and what has a substituent. For example, the “alkyl group” includes not only an alkyl group having no substituent (unsubstituted alkyl group) but also an alkyl group having a substituent (substituted alkyl group).
In addition, the chemical structural formula in this specification may be expressed as a simplified structural formula in which a hydrogen atom is omitted.
In the present specification, “(meth) acrylate” represents acrylate and methacrylate, “(meth) acryl” represents acryl and methacryl, and “(meth) acryloyl” represents acryloyl and methacryloyl.
In the present invention, “at least one selected from the group consisting of a1 to a3” and the like are also simply referred to as “component A” and the like.
In the present invention, “mass%” and “wt%” are synonymous, and “part by mass” and “part by weight” are synonymous.
Moreover, in this invention, the combination of a preferable aspect is a more preferable aspect.

本発明のチタノキサン、ジルコノキサン及びチタノキサン−ジルコノキサン縮合物における重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ法(GPC)法にて測定される。   The weight average molecular weight and the number average molecular weight in the titanoxane, zircoxane and titanoxane-zircoxane condensate of the present invention are measured by gel permeation chromatography (GPC).

(硬化性組成物)
本発明の硬化性組成物(以下、単に「組成物」ともいう。)は、成分Aとして、下記a1〜a3よりなる群から選ばれた少なくとも1種と、成分Bとして、硬化性化合物と、成分Cとして、溶剤とを含有し、上記成分Cが、成分C−1として、20℃における粘度が50mPa・s以上200mPa・s以下であり、かつ、表面張力が30mN/m以上41mN/m以下である少なくとも1種の有機溶剤と、成分C−2として、20℃における粘度が50mPa・s未満である少なくとも1種の有機溶剤と、を含有し、上記成分C−1の含有量が、成分Cの総質量に対して20〜95質量%であり、硬化性組成物の20℃における粘度が1mPa・s以上30mPa・s以下であることを特徴とする。
a1:アルコキシ基を有する、チタン化合物及び/又はジルコニウム化合物、
a2:チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物、
a3:チタン原子及び/又はジルコニウム原子を含有する金属酸化物。
本発明の硬化性組成物は、視認性改良のための屈折率調整層(インデックスマッチング)や、骨見え防止のための屈折率調整絶縁膜やオーバーコート層等の用途に好適である。
(Curable composition)
The curable composition of the present invention (hereinafter also simply referred to as “composition”) includes, as component A, at least one selected from the group consisting of the following a1 to a3, as component B, a curable compound, Component C contains a solvent, Component C-1 as Component C-1, has a viscosity at 20 ° C. of 50 mPa · s to 200 mPa · s and a surface tension of 30 mN / m to 41 mN / m. And at least one organic solvent having a viscosity at 20 ° C. of less than 50 mPa · s as the component C-2, and the content of the component C-1 is It is 20-95 mass% with respect to the total mass of C, and the viscosity in 20 degreeC of a curable composition is 1 mPa * s or more and 30 mPa * s or less, It is characterized by the above-mentioned.
a1: a titanium compound and / or a zirconium compound having an alkoxy group,
a2: titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or a zirconium atom,
a3: Metal oxide containing a titanium atom and / or a zirconium atom.
The curable composition of the present invention is suitable for applications such as a refractive index adjusting layer (index matching) for improving visibility, a refractive index adjusting insulating film or an overcoat layer for preventing the appearance of bone.

タッチパネル分野において、ポリマーインシュレーターの見えや、ITO等の配線の見え(所謂、骨見え)が問題となっている。これを解消するために、屈折率調整層(インデックスマッチング層)が用いられている。
従来は、インデックスマッチング層として、スパッタ系のインデックスマッチング層、例えば、酸化ニオブのスパッタ蒸着層などが用いられてきたが、材料や作製に費用が掛かることから、高屈折率の酸化チタンや酸化ジルコニウムなどの金属酸化物や、チタンアルコキシドやジルコニアアルコキシドなどの金属アルコキシドや、これらの縮合物であるチタノキサンやジルコノキサン等を塗布液として付与して、層を形成する塗布型の検討がされている。
発明者らは鋭意検討した結果、通常の溶剤を用いた塗布液では、乾燥時に白濁面状となり、透明性が悪化したり、ハジキ故障が生じたり、フレキソ印刷やインクジェット印刷で付与した場合に面内分布が生じる等の問題が生じていることが分かった。
本発明者らは、特定の溶剤を組み合わせて使用することにより、透明性が高く、面内均一性の高い硬化膜が得られ、印刷適性に優れた硬化性組成物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
なお、詳細な効果の発現機構は不明であるが、フレキソ印刷やインクジェット印刷に適した粘度を得るために、アルコール系の高粘度溶剤を使用すると、一般に高粘度溶剤は表面張力が高く、ハジキを生じるという問題があった。また、表面張力が高い溶剤を用いると、乾燥時や乾燥後に基板との相性によってはピンホールが生じるという問題もあった。更に、成分A及び成分Bとの相溶性が低く、乾燥時に相分離を生じて白濁し、透明性が悪化するという問題もあった。本発明では、溶剤として特定の溶剤を組み合わせて使用することで、組成物としての粘度が高く、また、表面張力が低く、更に、乾燥時における相分離及びそれにも伴う白濁の発生が抑制されたものと推定されるが、詳細な効果の発現機構については不明である。
In the touch panel field, the appearance of polymer insulators and the appearance of wiring such as ITO (so-called bone appearance) are problematic. In order to solve this problem, a refractive index adjustment layer (index matching layer) is used.
Conventionally, sputter-type index matching layers, such as sputter-deposited layers of niobium oxide, have been used as the index matching layer. However, because of the high cost of materials and production, high refractive index titanium oxide and zirconium oxide A coating type in which a layer is formed by applying a metal oxide such as titanium alkoxide or metal alkoxide such as zirconia alkoxide, titanoxane or zirconia which is a condensate thereof, or the like as a coating solution has been studied.
As a result of intensive studies, the inventors have found that a coating solution using a normal solvent has a cloudy surface state when dried, resulting in deterioration of transparency, occurrence of cissing failure, or surface application when applied by flexographic printing or inkjet printing. It was found that problems such as internal distribution occurred.
The present inventors have found that by using a specific solvent in combination, a cured film with high transparency and high in-plane uniformity can be obtained, and a curable composition excellent in printability can be obtained. The present invention has been completed.
Although the detailed mechanism of the effect is unknown, in order to obtain a viscosity suitable for flexographic printing and inkjet printing, when using an alcohol-based high-viscosity solvent, the high-viscosity solvent generally has a high surface tension, and repelling. There was a problem that occurred. Further, when a solvent having a high surface tension is used, there is a problem that pinholes are generated depending on the compatibility with the substrate at the time of drying or after drying. Furthermore, the compatibility with the component A and the component B is low, and there is a problem that the phase separation occurs at the time of drying to cause cloudiness and the transparency is deteriorated. In the present invention, by using a combination of specific solvents as the solvent, the viscosity of the composition is high, the surface tension is low, and the occurrence of phase separation during drying and the associated cloudiness is suppressed. Although it is presumed, the detailed mechanism of the effect is unclear.

本発明の硬化性組成物は、感光性組成物であることが好ましく、ポジ型感光性組成物であってもよく、ネガ型感光性組成物であってもよいが、ネガ型感光性組成物であることが好ましい。
本発明の硬化性組成物がネガ型感光性組成物である場合、成分Bが重合性化合物であることが好ましい。
本発明の硬化性組成物がポジ型感光性組成物である場合、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体及び光酸発生剤を含有することが好ましい。また、本発明の硬化性組成物がポジ型感光性組成物である場合、化学増幅型のポジ型感光性組成物(化学増幅ポジ型感光性組成物)であることが好ましく、また、活性光線に感応する光酸発生剤として1,2−キノンジアジド化合物を使用する、非化学増幅型のポジ型感光性組成物であってもよい。高感度で透明性に優れる点で、化学増幅ポジ型感光性組成物であることが好ましい。
The curable composition of the present invention is preferably a photosensitive composition, and may be a positive photosensitive composition or a negative photosensitive composition, but a negative photosensitive composition. It is preferable that
When the curable composition of the present invention is a negative photosensitive composition, component B is preferably a polymerizable compound.
When the curable composition of the present invention is a positive photosensitive composition, it preferably contains a polymer having a structural unit having a group in which an acid group is protected by an acid-decomposable group, and a photoacid generator. Further, when the curable composition of the present invention is a positive photosensitive composition, it is preferably a chemically amplified positive photosensitive composition (chemically amplified positive photosensitive composition), and actinic rays. It may be a non-chemically amplified positive photosensitive composition using a 1,2-quinonediazide compound as a photoacid generator that is sensitive to water. In view of high sensitivity and excellent transparency, a chemically amplified positive photosensitive composition is preferred.

また、本発明の硬化性組成物がネガ型感光性組成物である場合、活性光線による重合後、得られた硬化膜等の硬化物を熱処理することにより、硬化物の強度がより高くなる組成物であることが好ましい。
更に、本発明の硬化性組成物がポジ型感光性組成物である場合、露光部を除去後、未露光部を加熱することによって、架橋反応が生じ、硬化することが好ましい。
In addition, when the curable composition of the present invention is a negative photosensitive composition, a composition in which the strength of the cured product becomes higher by heat-treating the cured product such as a cured film obtained after polymerization with actinic rays. It is preferable that it is a thing.
Furthermore, when the curable composition of the present invention is a positive photosensitive composition, it is preferable that the unexposed portion is heated after the exposed portion is removed to cause a crosslinking reaction and cure.

本発明の硬化性組成物は、透明硬化物製造用硬化性組成物であることが好ましく、透明硬化膜製造用硬化性組成物であることがより好ましい。
更に、本発明の硬化性組成物は、得られる硬化物の波長550nmにおける屈折率が1.60以上である硬化性組成物であることが好ましく、得られる硬化物の波長550nmにおける屈折率が1.62以上である硬化性組成物であることがより好ましい。また、得られる硬化物の波長550nmにおける屈折率は、1.90以下であることが好ましく、1.85以下であることがより好ましい。
また、本発明の硬化性組成物は、層間絶縁膜用又はオーバーコート膜用硬化性組成物として好適に用いることができる。
更に、本発明の硬化性組成物は、屈折率調整層用硬化性組成物として好適に用いることができる。
The curable composition of the present invention is preferably a curable composition for producing a transparent cured product, and more preferably a curable composition for producing a transparent cured film.
Furthermore, the curable composition of the present invention is preferably a curable composition having a refractive index of 1.60 or more at a wavelength of 550 nm of the obtained cured product, and the refractive index of the obtained cured product at a wavelength of 550 nm is 1. More preferably, the curable composition is 0.62 or more. Moreover, it is preferable that the refractive index in wavelength 550nm of the hardened | cured material obtained is 1.90 or less, and it is more preferable that it is 1.85 or less.
Moreover, the curable composition of this invention can be used suitably as a curable composition for interlayer insulation films or overcoat films.
Furthermore, the curable composition of this invention can be used suitably as a curable composition for refractive index adjustment layers.

成分A:a1〜a3よりなる群から選ばれた少なくとも1種
本発明の硬化性組成物は、成分Aとして、下記a1〜a3よりなる群から選ばれた少なくとも1種を含有し、成分Aの含有量が、硬化性組成物の全固形分に対し、40〜80質量%である。
a1:アルコキシ基を有する、チタン化合物及び/又はジルコニウム化合物、
a2:チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物、
a3:チタン原子及び/又はジルコニウム原子を含有する金属酸化物。
また、当業者であればいうまでもないが、上記a1は、「アルコキシ基を有するチタン化合物及び/又はアルコキシ基を有するジルコニウム化合物」と同義であり、上記a2は、「ハロゲノ基を有するチタン化合物及び/又はハロゲノ基を有するジルコニウム化合物」と同義であり、上記a2は、「チタン原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有する、チタノキサン、ジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有するジルコノキサン、又は、チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有するチタノキサン−ジルコノキサン縮合物」と同義であり、上記a3は、「チタン原子を含有する金属酸化物及び/又はジルコニウム原子を含有する金属酸化物」と同義である。
Component A: At least one selected from the group consisting of a1 to a3 The curable composition of the present invention contains, as Component A, at least one selected from the group consisting of the following a1 to a3. Content is 40-80 mass% with respect to the total solid of a curable composition.
a1: a titanium compound and / or a zirconium compound having an alkoxy group,
a2: titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or a zirconium atom,
a3: Metal oxide containing a titanium atom and / or a zirconium atom.
Further, it goes without saying to those skilled in the art that the above a1 is synonymous with “a titanium compound having an alkoxy group and / or a zirconium compound having an alkoxy group”, and the above a2 is “a titanium compound having a halogeno group”. And / or a zirconium compound having a halogeno group, wherein a2 is “a titanoxane having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom, a zirconoxane having at least one alkoxy group directly bonded to a zirconium atom, or , A titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or a zirconium atom, and the above a3 is “a metal oxide containing a titanium atom and / or a metal oxide containing a zirconium atom” It is synonymous with "thing".

成分Aの含有量は、硬化性組成物の全固形分に対し、15〜90質量%であることが好ましい。硬化物(硬化膜)の屈折率を1.60〜1.90とする場合には、屈折率調整の観点から15〜60質量%であることがより好ましく、17.5〜45質量%であることが更に好ましく、20〜35質量%であることが特に好ましい。また、高屈折率材料として使用する場合には、屈折率調整の観点から、40〜90質量%であることが好ましく、50〜85質量%であることがより好ましく、60〜80質量%であることが更に好ましい。なお、硬化性組成物における「固形分」とは、溶剤等の揮発性成分を除いた成分を表す。また、上記固形分は、固体でなく、液状のものであってもよいことはいうまでもない。   It is preferable that content of the component A is 15-90 mass% with respect to the total solid of a curable composition. When the refractive index of the cured product (cured film) is 1.60 to 1.90, it is more preferably 15 to 60% by mass from the viewpoint of adjusting the refractive index, and 17.5 to 45% by mass. It is still more preferable and it is especially preferable that it is 20-35 mass%. Moreover, when using as a high refractive index material, it is preferable that it is 40-90 mass% from a viewpoint of refractive index adjustment, It is more preferable that it is 50-85 mass%, It is 60-80 mass%. More preferably. In addition, "solid content" in a curable composition represents the component except volatile components, such as a solvent. Needless to say, the solid content may be liquid instead of solid.

成分Aとしては、a1単独、a2単独、a3単独、a1とa2との混合物、a1とa3との混合物、a2とa3との混合物、a1とa2とa3との混合物のいずれでもよいが、組成物の保存安定性の観点から、a2単独、a3単独、又は、a1とa2との混合物であることが好ましく、a2単独であることがより好ましい。
また、a1として、チタン化合物とジルコニウム化合物とを併用してもよい。
また、成分Aとしては、屈折率及び保存安定性の観点から、a2を少なくとも含むことが好ましい。
成分Aとしては、屈折率及び現像性の観点からは、チタン化合物、チタノキサン、及び、酸化チタンよりなる群から選択されることが好ましく、また、低温硬化性、硬化速度及び安定性の観点からは、ジルコニウム化合物、ジルコノキサン、及び、酸化ジルコニウムよりなる群から選択されることが好ましい。
Component A may be any of a1 alone, a2 alone, a3 alone, a mixture of a1 and a2, a mixture of a1 and a3, a mixture of a2 and a3, or a mixture of a1, a2 and a3. From the viewpoint of the storage stability of the product, a2 alone, a3 alone, or a mixture of a1 and a2 is preferable, and a2 alone is more preferable.
Further, as a1, a titanium compound and a zirconium compound may be used in combination.
Component A preferably contains at least a2 from the viewpoints of refractive index and storage stability.
Component A is preferably selected from the group consisting of a titanium compound, titanoxane, and titanium oxide from the viewpoint of refractive index and developability, and from the viewpoint of low-temperature curability, curing speed, and stability. And selected from the group consisting of zirconium compounds, zirconia and zirconium oxide.

a1:アルコキシ基を有する、チタン化合物及び/又はジルコニウム化合物
a1:アルコキシ基を有するチタン化合物及びアルコキシ基を有するジルコニウム化合物としては、チタンモノアルコキシド、チタンジアルコキシド、チタントリアルコキシド、チタンテトラアルコキシド、ジルコニウムモノアルコキシド、ジルコニウムジアルコキシド、ジルコニウムトリアルコキシド、及び、ジルコニウムテトラアルコキシドが挙げられるが、膜物性の観点から、チタンテトラアルコキシド、及び、ジルコニウムテトラアルコキシドが好ましく、チタンテトラアルコキシドがより好ましい。
なお、a1は、アルコキシ基を少なくとも1つ有していればよく、ハロゲノ基やアルキル基等の他の基を有していてもよい。
チタンテトラアルコキシドとしては、下記式a1−1で表されるチタンテトラアルコキシドであることが、膜物性の観点から好ましい。
また、ジルコニウムテトラアルコキシドとしては、下記式a1−2で表されるジルコニウムテトラアルコキシドであることが、膜物性の観点から好ましい。
a1: Titanium compound and / or zirconium compound having an alkoxy group a1: As a titanium compound having an alkoxy group and a zirconium compound having an alkoxy group, titanium monoalkoxide, titanium dialkoxide, titanium trialkoxide, titanium tetraalkoxide, zirconium mono Alkoxides, zirconium dialkoxides, zirconium trialkoxides, and zirconium tetraalkoxides can be mentioned. From the viewpoint of film properties, titanium tetraalkoxides and zirconium tetraalkoxides are preferable, and titanium tetraalkoxides are more preferable.
In addition, a1 should just have at least 1 alkoxy group, and may have other groups, such as a halogeno group and an alkyl group.
The titanium tetraalkoxide is preferably a titanium tetraalkoxide represented by the following formula a1-1 from the viewpoint of film properties.
The zirconium tetraalkoxide is preferably a zirconium tetraalkoxide represented by the following formula a1-2 from the viewpoint of film properties.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

式a1−1及び式a1−2中、R1〜R4はそれぞれ独立に、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数6〜18のアリール基、又は、炭素数7〜18のアラルキル基を表す。 In formula a1-1 and formula a1-2, R 1 to R 4 each independently represents an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. Represent.

式a1−1及び式a1−2におけるR1〜R4はそれぞれ独立に、膜物性の観点から、炭素数1〜18のアルキル基であることが好ましく、炭素数1〜8のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1〜5のアルキル基であることが特に好ましい。 R 1 to R 4 in Formula a1-1 and Formula a1-2 are each independently preferably an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms from the viewpoint of film properties. It is more preferable that it is a C1-C5 alkyl group.

式a1−1で表されるチタンテトラアルコキシドとしては、以下の具体例に限定はされないが、例えば、チタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトラn−プロポキシド、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラn−ブトキシド、チタンテトライソブトキシド、チタンジイソプロポキシジn−ブトキシド、チタンジt−ブトキシジイソプロポキシド、チタンテトラt−ブトキシド、チタンテトライソオクチロキシド、チタンテトラステアリルアルコキシド等が挙げられる。
式a1−2で表されるジルコニウムテトラアルコキシドとしては、以下の具体例に限定はされないが、例えば、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラn−プロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラn−ブトキシド、ジルコニウムテトライソブトキシド、ジルコニウムジイソプロポキシジn−ブトキシド、ジルコニウムジt−ブトキシジイソプロポキシド、ジルコニウムテトラt−ブトキシド、ジルコニウムテトライソオクチロキシド、ジルコニウムテトラステアリルアルコキシド等が挙げられる。
これらは、1種単独又は2種類以上混合して用いることができる。
The titanium tetraalkoxide represented by the formula a1-1 is not limited to the following specific examples. For example, titanium tetramethoxide, titanium tetraethoxide, titanium tetra n-propoxide, titanium tetraisopropoxide, titanium Examples include tetra n-butoxide, titanium tetraisobutoxide, titanium diisopropoxydi n-butoxide, titanium di-t-butoxydiisopropoxide, titanium tetra-t-butoxide, titanium tetraisooctyloxide, titanium tetrastearyl alkoxide, and the like.
The zirconium tetraalkoxide represented by the formula a1-2 is not limited to the following specific examples. For example, zirconium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetra n-propoxide, zirconium tetraisopropoxide, zirconium Examples include tetra n-butoxide, zirconium tetraisobutoxide, zirconium diisopropoxy di-n-butoxide, zirconium di-t-butoxy diisopropoxide, zirconium tetra-t-butoxide, zirconium tetraisooctyloxide, zirconium tetrastearyl alkoxide, and the like. .
These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

チタノキサンは、ポリチタノキサンとも称され、Ti−O−Ti結合を2以上有する化合物である。その製造方法としては、例えば、上記式a1−1で表されるチタンテトラアルコキシドを、水を用いて加水分解縮合させて得る方法が挙げられる。この他にも、チタンテトラクロライドなどのハロゲン化チタンを加水分解・縮合させてもよい。中でも合成の容易性から、チタンアルコキシド、チタンクロライドが好ましく、チタンアルコキシドがより好ましい。
ジルコノキサンは、ポリジルコノキサンとも称され、Zr−O−Zr結合を2以上有する化合物である。また、その製造方法としては、原料をジルコニウムアルコキシドやハロゲン化ジルコニウム等のジルコニウム化合物に変更する以外は、上記チタノキサンの製造方法と同様な方法が挙げられる。
チタノキサン−ジルコノキサン縮合物は、上記チタン化合物及び上記ジルコニウム化合物の両方を使用し、加水分解縮合した縮合物である。また、その製造方法としては、原料としてチタン化合物とジルコニウム化合物とを併用する以外は、上記製造方法と同様な方法が挙げられる。
Titanoxane is also referred to as polytitanoxane and is a compound having two or more Ti—O—Ti bonds. Examples of the production method include a method obtained by hydrolyzing and condensing the titanium tetraalkoxide represented by the formula a1-1 with water. In addition, titanium halide such as titanium tetrachloride may be hydrolyzed and condensed. Of these, titanium alkoxides and titanium chlorides are preferable, and titanium alkoxides are more preferable because of ease of synthesis.
Zirconoxane is also referred to as polyzircoxane and is a compound having two or more Zr—O—Zr bonds. Moreover, as the manufacturing method, the same method as the manufacturing method of the said titanoxane is mentioned except changing a raw material into zirconium compounds, such as a zirconium alkoxide and a halogenated zirconium.
The titanoxane-zircoxoxane condensate is a condensate obtained by hydrolysis and condensation using both the titanium compound and the zirconium compound. Moreover, as the manufacturing method, the same method as the said manufacturing method is mentioned except using a titanium compound and a zirconium compound together as a raw material.

a2:チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物
上記a2は、アルコキシ基を有するチタン化合物、アルコキシ基を有するジルコニウム化合物、ハロゲノ基を有するチタン化合物及びハロゲノ基を有するジルコニウム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種を、チタン原子及びジルコニウム原子の総モル量1.0モルに対して、0.5〜1.9倍モル当量の水により加水分解縮合させて得られるチタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物であることが好ましく、アルコキシ基を有するチタン化合物及びアルコキシ基を有するジルコニウム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種をチタン原子及びジルコニウム原子の総モル量1.0モルに対して、0.5〜1.9倍モル当量の水により加水分解縮合させて得られるチタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物であることがより好ましい。
ハロゲノ基を有するチタン化合物及び/又はハロゲノ基を有するジルコニウム化合物を用いる場合、アルコキシ基を有するチタン化合物及び/又はアルコキシ基を有するジルコニウム化合物と併用するか、ハロゲノ基を有するチタン化合物及びハロゲノ基を有するジルコニウム化合物であり、かつ少なくともアルコキシ基を1つ以上有する化合物を用いるか、又は、水に加えアルコール化合物を添加して加水分解縮合することが好ましい。
ハロゲノ基を有するチタン化合物及びハロゲノ基を有するジルコニウム化合物としては、チタンモノハライド、チタンジハライド、チタントリハライド、チタンテトラハライド、ジルコニウムモノハライド、ジルコニウムジハライド、ジルコニウムトリハライド、及び、ジルコニウムテトラハライドが挙げられるが、膜物性の観点から、チタンテトラハライド、及び、ジルコニウムテトラハライドが好ましく挙げられ、チタンテトラハライドがより好ましい。これらは、1種単独又は2種類以上混合して用いることができる。
a2: Titanoxane, zirconoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or a zirconium atom The a2 is a titanium compound having an alkoxy group, a zirconium compound having an alkoxy group, and a halogeno group. At least one selected from the group consisting of a titanium compound having a halogen compound and a zirconium compound having a halogeno group is 0.5 to 1.9 times the molar equivalent of 1.0 mol of the total molar amount of titanium atom and zirconium atom. It is preferably a titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate obtained by hydrolysis and condensation with water, and is selected from the group consisting of titanium compounds having an alkoxy group and zirconium compounds having an alkoxy group. At least one kind obtained by hydrolytic condensation with 0.5 to 1.9 times molar equivalent of water with respect to 1.0 mol of the total molar amount of titanium atom and zirconium atom-titanoxane, zircoxane and / or titanoxane- It is more preferable that it is a zircoxane condensation product.
When using a titanium compound having a halogeno group and / or a zirconium compound having a halogeno group, it is used in combination with a titanium compound having an alkoxy group and / or a zirconium compound having an alkoxy group, or has a titanium compound having a halogeno group and a halogeno group. It is preferable to use a compound which is a zirconium compound and has at least one alkoxy group or hydrolytically condenses by adding an alcohol compound in addition to water.
Examples of the titanium compound having a halogeno group and the zirconium compound having a halogeno group include titanium monohalide, titanium dihalide, titanium trihalide, titanium tetrahalide, zirconium monohalide, zirconium dihalide, zirconium trihalide, and zirconium tetrahalide. Among them, titanium tetrahalide and zirconium tetrahalide are preferable from the viewpoint of film physical properties, and titanium tetrahalide is more preferable. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

また、上記加水分解縮合には、水だけでなく、溶剤等を使用してもよく、添加剤として、アルコール化合物を使用してもよい。また、溶剤としては、アルコール化合物が好適に挙げられる。
得られる膜の機械強度の観点から、上記加水分解縮合に用いられる水の量は、原料におけるチタン原子及びジルコニウム原子の総モル量1.0モルに対して、0.5〜1.9モル当量であることが好ましく、下限としては、膜強度の観点から、0.9モル当量以上が好ましく、1.2モル当量以上がより好ましく、また、上限としては、膜柔軟性の観点から、1.8モル当量以下が好ましく、1.7モル当量以下がより好ましい。
成分Aは、組成物の保存安定性及び膜物性の観点から、チタン原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有するチタノキサン(以下、単に「チタノキサン」ともいう。)、ジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有するジルコノキサン(以下、単に「ジルコノキサン」ともいう。)、又は、チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有するチタノキサン−ジルコノキサン縮合物(以下、単に「チタノキサン−ジルコノキサン縮合物」ともいう。)を含むことが好ましく、チタノキサン又はジルコノキサンを含むことがより好ましく、チタノキサンを含むことが更に好ましい。
Moreover, not only water but a solvent etc. may be used for the said hydrolysis condensation, and an alcohol compound may be used as an additive. Moreover, as a solvent, an alcohol compound is mentioned suitably.
From the viewpoint of the mechanical strength of the resulting film, the amount of water used for the hydrolysis condensation is 0.5 to 1.9 molar equivalents relative to 1.0 mole of the total molar amount of titanium atoms and zirconium atoms in the raw material. The lower limit is preferably 0.9 molar equivalent or more, more preferably 1.2 molar equivalent or more from the viewpoint of film strength, and the upper limit is preferably 1. from the viewpoint of film flexibility. It is preferably 8 molar equivalents or less, and more preferably 1.7 molar equivalents or less.
Component A includes a titanoxane having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom (hereinafter also simply referred to as “titanoxan”) and an alkoxy group directly bonded to a zirconium atom from the viewpoint of storage stability and film properties of the composition. Zirconoxane having at least one (hereinafter, also simply referred to as “zircoxane”), or titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or zirconium atom (hereinafter, simply “titanoxan-zircoxane condensate”). It is also preferable to include titanoxane or zirconoxane, and it is more preferable to include titanoxane.

チタノキサン、ジルコノキサン及びチタノキサン−ジルコノキサン縮合物は、直鎖状、分枝状、三次元網目状、ペンダント状、ラダー状、籠状等のいずれの重合体形態であってもよく、特にその形態は限定されるものではないが、成分Bと相溶性を有するチタノキサン又はジルコノキサンであることが好ましい。また、チタノキサン及びジルコノキサンは、常温(25℃)で固体であっても液体であってもよい。   The titanoxane, zirconoxane and titanoxane-zircoxane condensate may be in any polymer form such as linear, branched, three-dimensional network, pendant, ladder, cage, etc. Although it is not, it is preferable that it is titanoxane or zircoxane having compatibility with component B. Moreover, titanoxane and zircoxane may be solid or liquid at normal temperature (25 ° C.).

チタノキサン、ジルコノキサン及びチタノキサン−ジルコノキサン縮合物の重量平均分子量としては、特に制限されないが、500〜50,000が好ましく、1,000〜20,000がより好ましい。   Although it does not restrict | limit especially as a weight average molecular weight of a titanoxane, a zircoxane, and a titanoxane zircoxane condensate, 500-50,000 are preferable and 1,000-20,000 are more preferable.

上記チタノキサンは、下記式a2−1で表されるチタノキサンであることが膜物性の観点から好ましい。
また、上記ジルコノキサンは、下記式a2−2で表されるジルコノキサンであることが膜物性の観点から好ましい。
Tiαβ(OR)γ (a2−1)
Zrαβ(OR)γ (a2−2)
式a2−1及び式a2−2中、Rはそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜18のアルキル基、炭素数6〜18のアリール基、又は、炭素数7〜18のアラルキル基を表し、α、β及びγは、下記の条件a’〜c’を満たし、αは正の整数を表し、β及びγは正の数を表す。
a’:200≧α≧2、
b’:1.9α≧β≧1.0α、
c’:γ=4α−2β
The titanoxane is preferably a titanoxane represented by the following formula a2-1 from the viewpoint of film properties.
Moreover, it is preferable from a viewpoint of film | membrane physical property that the said zirconia is a zirconia represented by the following formula a2-2.
Ti α O β (OR) γ (a2-1)
Zr α O β (OR) γ (a2-2)
In formula a2-1 and formula a2-2, R each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an aryl group having 6 to 18 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 18 carbon atoms. , Α, β, and γ satisfy the following conditions a ′ to c ′, α represents a positive integer, and β and γ represent a positive number.
a ′: 200 ≧ α ≧ 2,
b ′: 1.9α ≧ β ≧ 1.0α,
c ′: γ = 4α-2β

上記a2におけるチタノキサン、ジルコノキサン及びチタノキサン−ジルコノキサン縮合物は、単一の組成のものであっても、2種類以上の混合物であってもよい。   The titanoxane, zircoxane and titanoxane-zircoxane condensate in a2 may be of a single composition or a mixture of two or more.

a3:チタン原子及び/又はジルコニウム原子を含有する金属酸化物
a3としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、及び、チタン原子及び/又はジルコニウム原子を含む複合酸化物が例示される。
チタン原子及び/又はジルコニウム原子を含む複合酸化物としては、酸化チタン、チタン複合酸化物、酸化ジルコニウム、ジルコニウム複合酸化物が好ましく、酸化チタン、チタン複合酸化物、又は酸化ジルコニウムがより好ましく、酸化チタン、酸化ジルコニウムが更に好ましく、酸化チタンが特に好ましい。酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
複合酸化物としては、酸化スズ−酸化チタン複合粒子、酸化ケイ素−酸化チタン複合粒子、酸化スズ−酸化ジルコニウム複合粒子等が例示される。
酸化チタンとしては、特に屈折率の高いルチル型が好ましい。これら金属酸化物粒子は、分散安定性付与のために表面を有機材料で処理することもできる。
a3: Metal oxide containing titanium atom and / or zirconium atom Examples of a3 include titanium oxide, zirconium oxide, and composite oxide containing titanium atom and / or zirconium atom.
As the composite oxide containing a titanium atom and / or a zirconium atom, titanium oxide, titanium composite oxide, zirconium oxide, zirconium composite oxide is preferable, titanium oxide, titanium composite oxide, or zirconium oxide is more preferable, and titanium oxide. Zirconium oxide is more preferable, and titanium oxide is particularly preferable. Titanium oxide is particularly preferably a rutile type having a high refractive index. The surface of these metal oxide particles can be treated with an organic material in order to impart dispersion stability.
Examples of the composite oxide include tin oxide-titanium oxide composite particles, silicon oxide-titanium oxide composite particles, and tin oxide-zirconium oxide composite particles.
Titanium oxide is particularly preferably a rutile type having a high refractive index. The surface of these metal oxide particles can be treated with an organic material in order to impart dispersion stability.

a3としては、市販されているものを使用してもよく、例えば、酸化チタン粒子として石原産業(株)製TTOシリーズ(TTO−51(A)、TTO−51(C)など)、TTO−S、Vシリーズ(TTO−S−1、TTO−S−2、TTO−V−3など)、テイカ(株)製MTシリーズ(MT−01、MT−05など)、酸化スズ−酸化チタン複合粒子としてオプトレイクTR−502、オプトレイクTR−504、酸化ケイ素−酸化チタン複合粒子としてオプトレイクTR−503、オプトレイクTR−513、オプトレイクTR−520、オプトレイクTR−521、オプトレイクTR−527、酸化ジルコニウム粒子((株)高純度化学研究所製)、酸化スズ−酸化ジルコニウム複合粒子(日揮触媒化成工業(株)製)、などが挙げられる。   As a3, you may use what is marketed, for example, Ishihara Sangyo Co., Ltd. TTO series (TTO-51 (A), TTO-51 (C), etc.), TTO-S as titanium oxide particles. , V series (TTO-S-1, TTO-S-2, TTO-V-3, etc.), MT series (MT-01, MT-05, etc.) manufactured by Teika Co., Ltd., and tin oxide-titanium oxide composite particles Optlake TR-502, Optlake TR-504, Optolake TR-503, Optlake TR-513, Optlake TR-520, Optlake TR-521, Optlake TR-527, Zirconium oxide particles (manufactured by Kojundo Chemical Laboratory Co., Ltd.), tin oxide-zirconium oxide composite particles (manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.), etc. It is.

硬化性組成物の透明性の観点から、a3の平均一次粒子径は、1〜200nmが好ましく、3〜80nmがより好ましく、5〜50nmが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子200個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。
また、a3は、適当な分散剤及び溶剤中でボールミル、ロッドミル等の混合装置を用いて混合・分散することにより調製された分散液として使用に供することもできる
From the viewpoint of transparency of the curable composition, the average primary particle diameter of a3 is preferably 1 to 200 nm, more preferably 3 to 80 nm, and particularly preferably 5 to 50 nm. Here, the average primary particle diameter of the particles refers to an arithmetic average obtained by measuring the particle diameter of 200 arbitrary particles with an electron microscope. When the particle shape is not spherical, the longest side is the diameter.
Further, a3 can be used as a dispersion prepared by mixing and dispersing in a suitable dispersant and solvent using a mixing device such as a ball mill or a rod mill.

また、本発明における硬化性組成物の全固形分に対するチタン原子及びジルコニウム原子の総含有量は、高屈折率及び膜物性の観点から、5〜60質量%が好ましく、10〜50質量%がより好ましく、15〜40質量%が更に好ましい。   In addition, the total content of titanium atoms and zirconium atoms with respect to the total solid content of the curable composition in the present invention is preferably 5 to 60% by mass and more preferably 10 to 50% by mass from the viewpoint of high refractive index and film properties. Preferably, 15 to 40% by mass is more preferable.

成分B:硬化性化合物
本発明の硬化性組成物は成分Bとして硬化性化合物を含有する。
硬化性化合物は、加熱、ラジカル活性種、カチオン活性種、アニオン活性種の少なくともいずれかにより硬化する化合物である。
中でも、エポキシ基を有する化合物、オキセタニル基を有する化合物、下記に説明する重合性化合物、であることが好ましい。
Component B: Curable Compound The curable composition of the present invention contains a curable compound as Component B.
The curable compound is a compound that is cured by at least one of heating, radical active species, cationic active species, and anionic active species.
Among these, a compound having an epoxy group, a compound having an oxetanyl group, and a polymerizable compound described below are preferable.

<エポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物>
本発明の硬化性組成物がポジ型感光性組成物である場合、硬化性化合物として、エポキシ基を有する化合物、及び/又は、オキセタニル基を有する化合物を含有することが好ましく、分子内に2つ以上のエポキシ基を有する化合物及び/又は分子内に2つ以上のオキセタニル基を有する化合物を含有することがより好ましい。
また、本発明の硬化性組成物がネガ型感光性組成物であり、カチオン活性種により硬化する場合には、重合性化合物としてエポキシ基を有する化合物、及び/又は、オキセタニル基を有する化合物を含有することが好ましく、分子内に2つ以上のエポキシ基を有する化合物及び/又は分子内に2つ以上のオキセタニル基を有する化合物を含有することがより好ましい。
分子内にエポキシ基又はオキセタニル基を有する化合物は加熱により、エポキシ基又はオキセタニル基同士で反応したり、組成物中の酸(カルボン酸など)と反応する。また、カチオン活性種と共存させることで、カチオン重合を起こす。
分子内にエポキシ基を有する化合物の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂、側鎖にエポキシ基を有するアクリル系樹脂等を挙げることができる。
アクリル系樹脂とは、構成単位の70モル%以上が下記構成単位からなるポリマーである。アクリル系樹脂の重量平均分子量は3,000〜300,000であることが好ましく、7,000〜50,000であることがより好ましい。
<Compound having epoxy group or oxetanyl group>
When the curable composition of the present invention is a positive photosensitive composition, the curable compound preferably contains a compound having an epoxy group and / or a compound having an oxetanyl group. It is more preferable to contain the compound which has the above epoxy groups, and / or the compound which has 2 or more oxetanyl groups in a molecule | numerator.
Further, when the curable composition of the present invention is a negative photosensitive composition and is cured by a cationic active species, it contains a compound having an epoxy group and / or a compound having an oxetanyl group as a polymerizable compound. It is preferable to contain a compound having two or more epoxy groups in the molecule and / or a compound having two or more oxetanyl groups in the molecule.
A compound having an epoxy group or oxetanyl group in the molecule reacts with an epoxy group or oxetanyl group by heating or reacts with an acid (such as a carboxylic acid) in the composition. In addition, coexistence with cationic active species causes cationic polymerization.
Specific examples of the compound having an epoxy group in the molecule include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, aliphatic epoxy resin, and epoxy group in the side chain. An acrylic resin etc. can be mentioned.
Acrylic resin is a polymer in which 70 mol% or more of the structural units are composed of the following structural units. The weight average molecular weight of the acrylic resin is preferably 3,000 to 300,000, and more preferably 7,000 to 50,000.

Figure 2016056341
式中、R1は、水素原子又はメチル基を表し、R2は、水素原子又は1価の有機基を表す。
Figure 2016056341
In the formula, R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group.

式中、R2は水素原子又は1価の有機基を表し、1価の有機基は水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子のいずれかから成ることが好ましい。
上記有機基の炭素数は1〜25であることが好ましく、1〜15であることがより好ましい。
In the formula, R 2 represents a hydrogen atom or a monovalent organic group, and the monovalent organic group preferably comprises any of a hydrogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, and a nitrogen atom.
The organic group preferably has 1 to 25 carbon atoms, and more preferably 1 to 15 carbon atoms.

これらは市販品として入手できる。例えば、JER152、JER157S70、JER157S65、JER806、JER828、JER1007((株)三菱ケミカルホールディングス製)など、特開2011−221494号公報の段落番号0189に記載の市販品などが挙げられ、その他にも、デナコールEX−611、EX−612、EX−614、EX−614B、EX−622、EX−512、EX−521、EX−411、EX−421、EX−313、EX−314、EX−321、EX−211、EX−212、EX−810、EX−811、EX−850、EX−851、EX−821、EX−830、EX−832、EX−841、EX−911、EX−941、EX−920、EX−931、EX−212L、EX−214L、EX−216L、EX−321L、EX−850L、DLC−201、DLC−203、DLC−204、DLC−205、DLC−206、DLC−301、DLC−402(以上、ナガセケムテックス(株)製)、YH−300、YH−301、YH−302、YH−315、YH−324、YH−325(以上、新日鐵住金化学(株)製)などが挙げられる。これらは1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
これらの中でも、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、側鎖にエポキシ基を有するアクリル系樹脂及び脂肪族エポキシ樹脂がより好ましく挙げられ、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂及び側鎖にエポキシ基を有するアクリル系樹脂が特に好ましく挙げられる。
These are available as commercial products. For example, JER152, JER157S70, JER157S65, JER806, JER828, JER1007 (manufactured by Mitsubishi Chemical Holdings Co., Ltd.) and the like are commercially available products described in paragraph No. 0189 of JP2011-221494A. EX-611, EX-612, EX-614, EX-614B, EX-622, EX-512, EX-521, EX-411, EX-421, EX-313, EX-314, EX-321, EX- 211, EX-212, EX-810, EX-811, EX-850, EX-851, EX-821, EX-830, EX-832, EX-841, EX-911, EX-941, EX-920, EX-931, EX-212L, EX-214L, EX-216L, X-321L, EX-850L, DLC-201, DLC-203, DLC-204, DLC-205, DLC-206, DLC-301, DLC-402 (above, manufactured by Nagase ChemteX Corporation), YH-300 YH-301, YH-302, YH-315, YH-324, YH-325 (manufactured by Nippon Steel & Sumikin Chemical Co., Ltd.). These can be used alone or in combination of two or more.
Among these, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, acrylic resin and aliphatic epoxy resin having an epoxy group in the side chain are more preferable, and bisphenol A type epoxy resin, fat Particularly preferred are cyclic epoxy resins and acrylic resins having an epoxy group in the side chain.

オキセタニル基を有する化合物の具体例としては、アロンオキセタンOXT−121、OXT−221、OX−SQ、PNOX(以上、東亞合成(株)製)、側鎖にオキセタニル基を有するアクリル系樹脂を用いることができる。
また、オキセタニル基を含む化合物は、単独で又はエポキシ基を含む化合物と混合して使用することが好ましい。
As specific examples of the compound having an oxetanyl group, use of Aron Oxetane OXT-121, OXT-221, OX-SQ, PNOX (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), an acrylic resin having an oxetanyl group in the side chain is used. Can do.
Moreover, it is preferable to use the compound containing an oxetanyl group individually or in mixture with the compound containing an epoxy group.

側鎖にエポキシ基又はオキセタニル基を有するアクリル系樹脂の好ましい具体例としては、下記の構成単位を有するアクリル系樹脂が例示できる。なお、下記の構成単位中、Rは、水素原子又はメチル基を表す。   Preferable specific examples of the acrylic resin having an epoxy group or oxetanyl group in the side chain include acrylic resins having the following structural units. In the structural units below, R represents a hydrogen atom or a methyl group.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

<重合性化合物>
本発明の硬化性組成物は、成分Bとして下記の重合性化合物を含有することが好ましい。
重合性化合物として特に限定されず、ラジカル重合性化合物、カチオン重合性化合物のいずれを使用してもよいが、硬化性の観点からラジカル重合性化合物であることが好ましい。透明性の観点からカチオン重合性化合物であることが好ましい。
ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和基、好ましくは末端エチレン性不飽和基を少なくも1つ有する化合物であれば特に限定されず、公知のエチレン性不飽和化合物から適宜選択して使用される。
これらの中でも、成分Bは、6官能以上の重合性化合物を含むことが好ましく、成分B−1:6官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましく、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートを含むことが更に好ましい。
<Polymerizable compound>
The curable composition of the present invention preferably contains the following polymerizable compound as Component B.
The polymerizable compound is not particularly limited, and either a radical polymerizable compound or a cationic polymerizable compound may be used, but a radical polymerizable compound is preferable from the viewpoint of curability. From the viewpoint of transparency, a cationically polymerizable compound is preferable.
The radically polymerizable compound is not particularly limited as long as it is a compound having at least one ethylenically unsaturated group, preferably a terminal ethylenically unsaturated group, and is appropriately selected from known ethylenically unsaturated compounds. The
Among these, component B preferably contains a polymerizable compound having 6 or more functional groups, component B-1: more preferably contains an ethylenically unsaturated compound having 6 or more functional groups, and urethane (meta) having 6 or more functional groups. More preferably, it includes an acrylate.

B−1:6官能以上のエチレン性不飽和化合物
本発明の硬化性組成物は、成分Bとして、成分B−1:6官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有することが好ましい。6官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、成分B−1−1:6官能以上のウレタン(メタ)アクリレート、成分B−1−2:その他の6官能以上のエチレン性不飽和化合物が例示される。これらの中でも、成分Bとして、成分B−1−1を含有することが好ましい。
以下、成分B−1−1及び成分B−1−2について説明する。
B-1: Ethylenically unsaturated compound having 6 or more functional groups The curable composition of the present invention preferably contains, as Component B, an ethylenically unsaturated compound having 6 or more functional components B-1. Examples of the ethylenically unsaturated compound having 6 or more functional groups include Component B-1-1: urethane (meth) acrylate having 6 or more functions, Component B-1-2: other ethylenically unsaturated compounds having 6 or more functions. The Among these, it is preferable to contain component B-1-1 as component B.
Hereinafter, Component B-1-1 and Component B-1-2 will be described.

成分B−1−1:6官能以上のウレタン(メタ)アクリレート
本発明の硬化性組成物は、成分Bとして、成分B−1−1:6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートを含有することが好ましい。
6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートにおける(メタ)アクリロキシ基の数は、8以上が好ましく、10以上がより好ましく、12以上が最も好ましい。このような構成とすることにより、本発明の効果がより効果的に発揮される。
また、上記(メタ)アクリロキシ基の数の上限は特に制限はないが、高分子構造でない場合には、50以下であることが好ましく、30以下であることがより好ましく、20以下であることが更に好ましい。
本発明の硬化性組成物は、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートを1種類のみ含んでいてもよいし、2種類以上含んでいてもよい。2種類以上含む場合は、合計量が上記範囲となることが好ましい。
Component B-1-1: Six or more functional urethane (meth) acrylate The curable composition of the present invention may contain, as Component B, component B-1-1: Six or more functional urethane (meth) acrylate. preferable.
The number of (meth) acryloxy groups in the hexafunctional or higher urethane (meth) acrylate is preferably 8 or more, more preferably 10 or more, and most preferably 12 or more. By adopting such a configuration, the effect of the present invention is more effectively exhibited.
Further, the upper limit of the number of the (meth) acryloxy groups is not particularly limited, but when it is not a polymer structure, it is preferably 50 or less, more preferably 30 or less, and 20 or less. Further preferred.
The curable composition of the present invention may contain only one type of hexafunctional or higher urethane (meth) acrylate, or may contain two or more types. When two or more types are included, the total amount is preferably within the above range.

本発明で用いることができる、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートとしては、イソシアネートと水酸基の付加反応を用いて製造されるウレタン付加重合性化合物が例示され、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類が例示され、これらの記載は本願明細書に組み込まれる。   Examples of the urethane (meth) acrylate having 6 or more functional groups that can be used in the present invention include urethane addition polymerizable compounds produced by using an addition reaction between an isocyanate and a hydroxyl group, Japanese Patent Application Laid-Open No. 51-37193, The urethane acrylates described in JP-B-2-32293 and JP-B-2-16765 are exemplified, and these descriptions are incorporated in the present specification.

6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートの分子量は、硬化膜硬度の観点から、500〜20,000が好ましく、650〜6,000がより好ましく、800〜3,000が更に好ましい。
このような構成とすることにより、本発明の効果がより効果的に発揮される。
The molecular weight of the hexafunctional or higher urethane (meth) acrylate is preferably 500 to 20,000, more preferably 650 to 6,000, and still more preferably 800 to 3,000, from the viewpoint of cured film hardness.
By adopting such a configuration, the effect of the present invention is more effectively exhibited.

6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートにおける(メタ)アクリロキシ基は、アクリロキシ基、メタクリロキシ基のいずれであっても、両方であってもよいが、硬化性の観点からアクリロキシ基であることが好ましい。
6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートにおけるウレタン結合の数は、特に制限はないが、1〜30であることが好ましく、1〜20であることがより好ましく、2〜10であることが更に好ましく、2〜5であることが特に好ましく、2又は3であることが最も好ましい。
6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートは、6官能以上の脂肪族ウレタン(メタ)アクリレートであることが好ましい。
また、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートは、イソシアヌル環構造を有することが好ましい。
また、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートは、1以上のウレタン結合を有するコア部分と、コア部分に結合し、かつ1以上の(メタ)アクリロキシ基を有する末端部分からなる化合物であることが好ましく、上記コア部分に、2個以上の上記末端部分が結合した化合物であることがより好ましく、上記コア部分に、2〜5個の上記末端部分が結合した化合物であることが更に好ましく、上記コア部分に、2又は3個の上記末端部分が結合した化合物であることが特に好ましい。
The (meth) acryloxy group in the urethane (meth) acrylate having 6 or more functional groups may be either an acryloxy group or a methacryloxy group or both, but is preferably an acryloxy group from the viewpoint of curability.
The number of urethane bonds in the urethane (meth) acrylate having 6 or more functional groups is not particularly limited, but is preferably 1 to 30, more preferably 1 to 20, and still more preferably 2 to 10. 2 to 5 is particularly preferable, and 2 or 3 is most preferable.
The hexafunctional or higher urethane (meth) acrylate is preferably a hexafunctional or higher aliphatic urethane (meth) acrylate.
Moreover, it is preferable that hexafunctional or more urethane (meth) acrylate has an isocyanuric ring structure.
The hexafunctional or higher urethane (meth) acrylate is a compound comprising a core portion having one or more urethane bonds and a terminal portion bonded to the core portion and having one or more (meth) acryloxy groups. Preferably, the core part is more preferably a compound in which two or more of the terminal parts are bonded, more preferably a compound in which 2 to 5 terminal parts are bonded to the core part. A compound in which 2 or 3 of the above terminal moieties are bound to the core part is particularly preferred.

6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートは、下記式Be−1又は式Be−2で表される基を少なくとも有する化合物であることが好ましく、下記式Be−1で表される基を少なくとも有する化合物であることがより好ましい。また、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートは、下記式Be−1で表される基及び式Be−2で表される基よりなる群から選ばれた基を2以上有する化合物であることがより好ましい。
また、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートにおける上記末端部分は、下記式Be−1又は式Be−2で表される基であることが好ましい。
The hexa- or more functional urethane (meth) acrylate is preferably a compound having at least a group represented by the following formula Be-1 or formula Be-2, and a compound having at least a group represented by the following formula Be-1. It is more preferable that Further, the hexafunctional or higher urethane (meth) acrylate is a compound having two or more groups selected from the group consisting of a group represented by the following formula Be-1 and a group represented by the formula Be-2. More preferred.
Moreover, it is preferable that the said terminal part in 6 or more functional urethane (meth) acrylate is group represented by the following formula Be-1 or Formula Be-2.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

式Be−1及び式Be−2中、Rはそれぞれ独立に、アクリル基又はメタクリル基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。   In Formula Be-1 and Formula Be-2, R represents an acryl group or a methacryl group each independently, and a wavy line portion represents a bonding position with another structure.

また、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートは、下記式Bc−1又は式Bc−2で表される基を少なくとも有する化合物であることが好ましく、下記式Bc−1で表される基を少なくとも有する化合物であることがより好ましい。
また、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートにおける上記コア部分は、下記式Bc−1又は式Bc−2で表される基であることが好ましい。
Further, the urethane (meth) acrylate having 6 or more functional groups is preferably a compound having at least a group represented by the following formula Bc-1 or Bc-2, and at least a group represented by the following formula Bc-1 More preferably, it is a compound having
Moreover, it is preferable that the said core part in urethane (meth) acrylate more than hexafunctional is group represented by the following formula Bc-1 or formula Bc-2.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

式Bc−1及び式Bc−2中、L1〜L4はそれぞれ独立に、炭素数2〜20の2価の炭化水素基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
1〜L4はそれぞれ独立に、炭素数2〜20のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2〜10のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数4〜8のアルキレン基であることが更に好ましい。また、上記アルキレン基は、分岐や環構造を有していてもよいが、直鎖アルキレン基であることが好ましい。
また、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートは、式Bc−1又は式Bc−2で表される基と、式Be−1及び式Be−2で表される基より成る群から選ばれた2又は3個の基とが結合した化合物であることが特に好ましい。
In Formula Bc-1 and Formula Bc-2, L 1 to L 4 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, and a wavy line represents a bonding position with another structure.
L 1 to L 4 are each independently preferably an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and an alkylene group having 4 to 8 carbon atoms. Is more preferable. The alkylene group may have a branched or ring structure, but is preferably a linear alkylene group.
Further, the urethane (meth) acrylate having 6 or more functional groups was selected from the group consisting of a group represented by Formula Bc-1 or Formula Bc-2 and a group represented by Formula Be-1 and Formula Be-2. Particularly preferred is a compound in which 2 or 3 groups are bonded.

以下に、本発明で好ましく用いられる、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートを例示するが、本発明はこれらに限定されるものではないことはいうまでもない。   Examples of urethane (meth) acrylates having 6 or more functionalities that are preferably used in the present invention are shown below, but it goes without saying that the present invention is not limited to these.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

Figure 2016056341
Figure 2016056341

Figure 2016056341
Figure 2016056341

6官能以上のウレタン(メタ)アクリレートの市販品としては、新中村化学工業(株)から入手可能なU−6HA、UA−1100H、U−6LPA、U−15HA、U−6H、U−10HA、U−10PA、UA−53H、UA−33H(いずれも登録商標)や、共栄社化学(株)から入手可能なUA−306H、UA−306T、UA−306I、UA−510H、BASF社から入手可能なLaromer UA−9048、UA−9050、PR9052、ダイセルオルネクス(株)から入手可能なEBECRYL 220、5129、8301、KRM8200、8200AE、8452などが例示される。   Commercially available products of 6 or more functional urethane (meth) acrylates are U-6HA, UA-1100H, U-6LPA, U-15HA, U-6H, U-10HA, available from Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. U-10PA, UA-53H, UA-33H (all are registered trademarks) and UA-306H, UA-306T, UA-306I, UA-510H, available from BASF available from Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Examples include Laromer UA-9048, UA-9050, PR9052, EBECRYL 220, 5129, 8301, KRM8200, 8200AE, and 8452 available from Daicel Ornex Co., Ltd.

成分B−1−2:その他の6官能以上のエチレン性不飽和化合物
本発明において、成分Bとして、成分B−1−2:その他の6官能以上のエチレン性不飽和化合物を含有してもよい。成分B−1−2は、高分子(例えば、分子量2,000以上)であっても、単量体(例えば、分子量2,000未満、好ましくは、分子量100以上2,000未満)であってもよく、単量体が好ましい。
成分B−1−2は(メタ)アクリレート化合物であることが好ましく、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートが例示される。
Component B-1-2: Other hexafunctional or higher ethylenically unsaturated compound In the present invention, as Component B, Component B-1-2: Other hexafunctional or higher ethylenically unsaturated compound may be contained. . Component B-1-2 may be a polymer (for example, a molecular weight of 2,000 or more) or a monomer (for example, a molecular weight of less than 2,000, preferably a molecular weight of 100 or more and less than 2,000). The monomer is preferable.
Component B-1-2 is preferably a (meth) acrylate compound, and examples thereof include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.

B−2:6官能未満のエチレン性不飽和化合物
本発明の硬化性組成物は、上述の6官能以上のエチレン性不飽和化合物のみならず、6官能未満のエチレン性不飽和化合物を含んでいてもよい。
上記B−2としては、エチレン性不飽和基を6つ未満有する化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。例えば、エステル化合物、アミド化合物、ウレタン化合物及びその他の化合物が挙げられる。
エチレン性不飽和基を有する化合物としては、単官能エチレン性不飽和化合物、2〜5官能の多官能エチレン性不飽和化合物のいずれであってもよいが、2〜5官能の多官能エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、2〜5官能の多官能エチレン性不飽和化合物であることがより好ましい。
B-2: Ethylenically unsaturated compound having less than 6 functions The curable composition of the present invention contains not only the above-described 6 or more functional ethylenically unsaturated compounds, but also an ethylenically unsaturated compound having less than 6 functions. Also good.
The B-2 is not particularly limited as long as it is a compound having less than 6 ethylenically unsaturated groups, and can be appropriately selected depending on the purpose. Examples include ester compounds, amide compounds, urethane compounds, and other compounds.
The compound having an ethylenically unsaturated group may be either a monofunctional ethylenically unsaturated compound or a 2-5 functional polyfunctional ethylenically unsaturated compound, but a 2-5 functional polyfunctional ethylenically unsaturated compound. It is preferable to contain a saturated compound, and it is more preferable that it is a 2-5 functional polyfunctional ethylenically unsaturated compound.

上記エステル化合物としては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル、イタコン酸エステル、クロトン酸エステル、イソクロトン酸エステル、マレイン酸エステル、その他のエステル化合物などが挙げられる。これらの中でも、多官能(メタ)アクリル酸エステル(多官能(メタ)アクリレート化合物)等が好ましい。   Examples of the ester compound include (meth) acrylic acid ester, itaconic acid ester, crotonic acid ester, isocrotonic acid ester, maleic acid ester, and other ester compounds. Among these, polyfunctional (meth) acrylic acid ester (polyfunctional (meth) acrylate compound) and the like are preferable.

上記多官能(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ソルビトールトリ(メタ)アクリレート、ソルビトールテトラ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。中でも、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、及び、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレートが特に好ましい。   Examples of the polyfunctional (meth) acrylate compound include polyethylene glycol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, Tetramethylene glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol di (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate , Dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, sorbitol tri (meth) acrylate, sorbitol tetra Meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, hexanediol di (meth) acrylate. Among these, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and dipentaerythritol penta (meth) acrylate are particularly preferable.

上記多官能(メタ)アクリル酸エステルの他の例としては、グリセリンやトリメチロールエタン、ビスフェノールA等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後(メタ)アクリレート化したもの、特公昭48−41708号公報、特公昭50−6034号公報、特開昭51−37193号公報に記載のウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号公報、特公昭49−43191号公報、及び特公昭52−30490号公報に記載のポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類、特開昭60−258539号公報に記載の(メタ)アクリル酸エステルやウレタン(メタ)アクリレートやビニルエステルなどが挙げられる。   Other examples of the polyfunctional (meth) acrylic acid ester include those obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to a polyfunctional alcohol such as glycerin, trimethylolethane, bisphenol A, and the like, and 48-41708, JP-B-50-6034, JP-A-51-37193, urethane acrylates, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, and JP-B-52 -30490, polyester acrylates, epoxy acrylates which are reaction products of epoxy resin and (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid esters and urethanes described in JP-A-60-258539 Examples thereof include (meth) acrylate and vinyl ester.

他の多官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリ(アクリロイロキシエチル)イソシアヌレート、日本接着協会誌Vol.20,No.7,第300〜308頁に記載の光硬化性モノマー及びオリゴマーなどが挙げられる。   Other polyfunctional ethylenically unsaturated compounds include, for example, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, Japan Adhesion Association Vol. 20, no. 7, photocurable monomers and oligomers described on pages 300 to 308, and the like.

また、上記のアミド化合物としては、例えば、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド(モノマー)などが挙げられ、具体的には、メチレンビス(メタ)アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス(メタ)アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス(メタ)アクリルアミド、キシリレンビス(メタ)アクリルアミド、などが挙げられ、また、特開昭60−258539号公報に記載の(メタ)アクリル酸アミドなどが挙げられる。
また、上記のウレタン化合物としては、イソシアネートと水酸基との付加反応を用いて製造されるウレタン連鎖重合性化合物が例示され、例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとのウレタン化物、ペンタエリスリトールトリアクリレートとトルエンジイソシアネートとのウレタン化物、ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソホロンジイソシアネートとのウレタン化物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとのウレタン化物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとトルエンジイソシアネートとのウレタン化物、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとイソホロンジイソシアネートとのウレタン化物等が挙げられる。
具体的には、特開2011−126921号公報、特開昭51−37193号公報、特公平2−32293号公報、特公平2−16765号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類が例示され、これらの記載は本願明細書に組み込まれる。
Examples of the amide compound include an amide (monomer) of an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyvalent amine compound. Specific examples include methylene bis (meth) acrylamide, 1,6-hexamethylene. Examples thereof include bis (meth) acrylamide, diethylenetriamine tris (meth) acrylamide, and xylylene bis (meth) acrylamide, and (meth) acrylic acid amide described in JP-A-60-258539.
Examples of the urethane compound include urethane chain polymerizable compounds produced by an addition reaction between isocyanate and a hydroxyl group. For example, urethanized products of pentaerythritol triacrylate and hexamethylene diisocyanate, pentaerythritol triacrylate. Urethanes of toluene and diisocyanates, Urethanes of pentaerythritol triacrylate and isophorone diisocyanate, Urethanes of dipentaerythritol pentaacrylate and hexamethylene diisocyanate, Urethanes of dipentaerythritol pentaacrylate and toluene diisocyanate, Dipentaerythritol Examples include urethanized products of pentaacrylate and isophorone diisocyanate.
Specific examples include urethane acrylates as described in JP 2011-126921 A, JP 51-37193 A, JP 2-32293 A, and JP 2-16765 A. These descriptions are incorporated herein.

また、他の多官能エチレン性不飽和化合物としては、特開昭60−258539号公報、国際公開第2010/050580号に記載のアリル化合物やアルケニル基含有化合物、などが挙げられる。
具体的には、1,2−ジビニルベンゼン、1,4−ジビニルベンゼン、1,2−ジアリルベンゼン、1,3−ジアリルベンゼン、1,4−ジアリルベンゼン、1,3,5−トリビニルベンゼン、1,3,5−トリアリルベンゼン、1,2,4,5−テトラアリルベンゼン、へキサアリルベンゼン、ジビニルトルエン、ビスフェノールAジアリルエーテル、1,2−ジアリルオキシベンゼン、1,4−ジアリルオキシベンゼン、テレフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、1,4−ビス(ジメチルビニルシリル)ベンゼン、ジビニルメチルフェニルシラン、ジビニルジフェニルシラン、ジアリルジフェニルシランなどを挙げることができる。
Examples of other polyfunctional ethylenically unsaturated compounds include allyl compounds and alkenyl group-containing compounds described in JP-A-60-258539 and International Publication No. 2010/050580.
Specifically, 1,2-divinylbenzene, 1,4-divinylbenzene, 1,2-diallylbenzene, 1,3-diallylbenzene, 1,4-diallylbenzene, 1,3,5-trivinylbenzene, 1,3,5-triallylbenzene, 1,2,4,5-tetraallylbenzene, hexallylbenzene, divinyltoluene, bisphenol A diallyl ether, 1,2-diallyloxybenzene, 1,4-diallyloxybenzene , Diallyl terephthalate, diallyl isophthalate, 1,4-bis (dimethylvinylsilyl) benzene, divinylmethylphenylsilane, divinyldiphenylsilane, diallyldiphenylsilane, and the like.

単官能エチレン性不飽和化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸類及びそれらの塩、(メタ)アクリレート類、(メタ)アクリルアミド類、(メタ)アクリロニトリル類、スチレン類等の単官能エチレン性不飽和化合物が挙げられる。
また、ヒドロキシル基やアミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類とイソシアネート類又はエポキシ類との付加反応物、及び、単官能又は多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。
Monofunctional ethylenically unsaturated compounds include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid and their salts, (meth) acrylates, (meth) acrylamides, And monofunctional ethylenically unsaturated compounds such as (meth) acrylonitriles and styrenes.
In addition, an addition reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having an nucleophilic substituent such as a hydroxyl group, an amino group or a mercapto group and an isocyanate or an epoxy, and a monofunctional or polyfunctional carboxylic acid A dehydration condensation reaction product of

更に、イソシアナト基(イソシアネート基)や、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類とアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲノ基や、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル又はアミド類とアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。
また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
単官能エチレン性不飽和化合物としては、特に制限はなく、上記例示した化合物の他、公知の種々の化合物を用いることができ、例えば、特開2009−204962号公報に記載の化合物などを使用してもよい。
Furthermore, isocyanato groups (isocyanate groups), addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having an electrophilic substituent such as an epoxy group and alcohols, amines, thiols, halogeno groups, and tosyloxy A substitution reaction product of an unsaturated carboxylic acid ester or amide having a leaving substituent such as a group and an alcohol, amine or thiol is also suitable.
As another example, it is also possible to use a group of compounds substituted with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether or the like instead of the unsaturated carboxylic acid.
There is no restriction | limiting in particular as a monofunctional ethylenically unsaturated compound, In addition to the compound illustrated above, well-known various compounds can be used, For example, the compound etc. which are described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-204962 are used. May be.

更に単官能エチレン性不飽和化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、カルビトール(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリル酸誘導体、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタム等のN−ビニル化合物類、アリルグリシジルエーテル等のアリル化合物の誘導体が好ましく用いられる。   Furthermore, as monofunctional ethylenically unsaturated compounds, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, carbitol (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) Preferred are (meth) acrylic acid derivatives such as acrylate, benzyl (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate, N-vinyl compounds such as N-vinylpyrrolidone and N-vinylcaprolactam, and derivatives of allyl compounds such as allyl glycidyl ether. Used.

成分Bの総質量100質量部に対する成分B−1の含有量は、70〜100質量部であることが好ましく、75〜100質量部であることがより好ましく、90〜100質量部であることが更に好ましく、95〜100質量部であることが特に好ましい。上記態様であると、本発明の効果がより効果的に発揮される。
本発明の硬化性組成物において、成分Bの含有量は、硬化膜の屈折率と現像性との両立の観点から、硬化性組成物の全固形分に対し、5〜85質量%であることが好ましく、10〜82.5質量%であることがより好ましく、15〜80質量%であることが更に好ましい。
The content of Component B-1 with respect to 100 parts by mass of Component B is preferably 70 to 100 parts by mass, more preferably 75 to 100 parts by mass, and 90 to 100 parts by mass. More preferred is 95 to 100 parts by mass. The effect of this invention is more effectively exhibited as it is the said aspect.
In the curable composition of the present invention, the content of Component B is 5 to 85% by mass with respect to the total solid content of the curable composition from the viewpoint of achieving both the refractive index of the cured film and the developability. Is preferable, it is more preferable that it is 10-82.5 mass%, and it is still more preferable that it is 15-80 mass%.

成分C:溶剤
本発明の硬化性組成物は、成分Cとして溶剤を含有し、成分Cが、成分C−1として、20℃における粘度が50mPa・s以上200mPa・s以下であり、かつ、表面張力が30mN/m以上41mN/m以下である少なくとも1種の有機溶剤と、成分C−2として、20℃における粘度が50mPa・s未満である少なくとも1種の有機溶剤と、を含有し、上記成分C−1の含有量が、成分Cの総質量に対して20〜95質量%である。
本発明の硬化性組成物は、必須成分と、後述の任意成分とを、溶剤に溶解又は分散した溶液又は分散液として調製されることが好ましい。
以下、成分C−1及び成分C−2について説明する。
Component C: Solvent The curable composition of the present invention contains a solvent as Component C, Component C has Component C-1, a viscosity at 20 ° C. of 50 mPa · s to 200 mPa · s, and the surface. Containing at least one organic solvent having a tension of 30 mN / m or more and 41 mN / m or less and, as Component C-2, at least one organic solvent having a viscosity at 20 ° C. of less than 50 mPa · s, and The content of Component C-1 is 20 to 95% by mass with respect to the total mass of Component C.
The curable composition of the present invention is preferably prepared as a solution or dispersion in which essential components and optional components described below are dissolved or dispersed in a solvent.
Hereinafter, component C-1 and component C-2 will be described.

成分C−1:20℃における粘度が50mPa・s以上200mPa・s以下であり、かつ、表面張力が30mN/m以上41mN/m以下である少なくとも1種の有機溶剤
本発明の硬化性組成物は、成分C−1を含有する。成分C−1は、比較的に粘度が高く、また、表面張力が低い有機溶剤である。成分C−1を含有することにより、組成物全体としての粘度を上げながら、低表面張力の組成物が得られる。
Component C-1: At least one organic solvent having a viscosity at 20 ° C. of 50 mPa · s or more and 200 mPa · s or less and a surface tension of 30 mN / m or more and 41 mN / m or less The curable composition of the present invention is And component C-1. Component C-1 is an organic solvent having a relatively high viscosity and a low surface tension. By containing Component C-1, a composition having a low surface tension can be obtained while increasing the viscosity of the entire composition.

成分C−1の20℃における粘度は、50mPa・s以上200mPa・s以下である。20℃における粘度が50mPa・s以下であると、組成物全体としての粘度が低く、印刷適性を有しない。また、200mP・sを超えると、組成物全体としての粘度が高くなりすぎ、同様に印刷適性を有しない。
成分C−1の20℃における粘度は、80〜200mPa・sであることが好ましい。
成分C−1の粘度は、20℃においてJIS K 2241に従って、デュヌイ表面張力計によって、液面と白金環の張力を鋼線の張りを指度として、測定される。
The viscosity of Component C-1 at 20 ° C. is 50 mPa · s or more and 200 mPa · s or less. When the viscosity at 20 ° C. is 50 mPa · s or less, the viscosity of the composition as a whole is low, and it does not have printability. On the other hand, if it exceeds 200 mP · s, the viscosity of the composition as a whole becomes too high, and similarly, it does not have printability.
The viscosity of Component C-1 at 20 ° C. is preferably 80 to 200 mPa · s.
The viscosity of Component C-1 is measured at 20 ° C. according to JIS K 2241 using a Dunui surface tension meter and the tension of the liquid surface and the platinum ring with the steel wire tension as the index.

成分C−1の表面張力は、30mN/m以上41mN/m以下である。成分C−1の表面張力が40mN/mを超えると、組成物全体としての表面張力が高くなり、ハジキの原因となる。また、30mN/m未満であると、表面張力が低すぎるためにぬれ広がりすぎ、基板の液の裏回りが生じてしまう。
成分Cの表面張力は、30〜41mN/mであることが好ましく、32〜36mN/mであることがより好ましい。
成分Cの表面張力は、20℃において測定した値であり、具体的には、東機産業(株)製のRE85L型粘度計で、コーン:1°34’×R24を使用し、液温20℃で測定した。
成分C−1の沸点は、塗布性の観点から、100℃〜300℃が好ましく、120℃〜250℃がより好ましく、200℃〜250℃が更に好ましい。
The surface tension of Component C-1 is 30 mN / m or more and 41 mN / m or less. When the surface tension of Component C-1 exceeds 40 mN / m, the surface tension of the composition as a whole increases, causing repelling. On the other hand, if it is less than 30 mN / m, the surface tension is too low, so that wetting spreads too much and the back of the liquid on the substrate occurs.
The surface tension of component C is preferably 30 to 41 mN / m, and more preferably 32 to 36 mN / m.
The surface tension of the component C is a value measured at 20 ° C., specifically, a RE85L viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., using a cone of 1 ° 34 ′ × R24 and a liquid temperature of 20 Measured at ° C.
Component C-1 has a boiling point of preferably 100 ° C. to 300 ° C., more preferably 120 ° C. to 250 ° C., and still more preferably 200 ° C. to 250 ° C. from the viewpoint of applicability.

本発明の硬化性組成物において、成分C−1の含有量が、成分Cの総質量に対して20〜95質量%である、成分C−1の含有量が、成分Cの総質量に対して20質量%未満であると、硬化性組成物としての所望の粘度が得られず、印刷適性に劣る。また、成分Cの含有量が95質量%を超えると、粘度が高くなりすぎる場合がある。
成分C−1の含有量は、成分Cの総質量に対して、20〜95質量%であることが好ましく、50〜95質量%であることがより好ましい。
なお、成分C−1は1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。成分C−1として2種以上を併用する場合には、合計して上記の含有量となればよい。
In the curable composition of this invention, content of component C-1 is 20-95 mass% with respect to the total mass of component C, content of component C-1 is with respect to the total mass of component C If it is less than 20% by mass, the desired viscosity as the curable composition cannot be obtained, and the printability is poor. Moreover, when content of the component C exceeds 95 mass%, a viscosity may become high too much.
The content of Component C-1 is preferably 20 to 95% by mass and more preferably 50 to 95% by mass with respect to the total mass of Component C.
In addition, component C-1 may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. When using 2 or more types together as component C-1, it will suffice if the total content is reached.

成分C−1としては、上記の粘度及び表面張力を有する溶剤であれば特に限定されないが、ヒドロキシ基及び/又はアセトキシ基を有するテルペン化合物であることが好ましく、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、4−(アセチルオキシ)−α,α,4−トリメチルシクロヘキサンメタノールアセタート、及び、2−[1−メチル−1−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)エトキシ]エタノールよりなる群から選択される少なくとも1つを含有することがより好ましい。
ターピネオールは、以下のα−、β−、γ−の異性体が存在し、日本香料薬品(株)や、日本テルペン化学(株)から上市されている(粘度54mPa・s、表面張力38mN/m)。
Component C-1 is not particularly limited as long as it is a solvent having the above viscosity and surface tension, but is preferably a terpene compound having a hydroxy group and / or an acetoxy group, such as terpineol, dihydroterpineol, 4- (acetyl). Oxy) -α, α, 4-trimethylcyclohexanemethanol acetate and at least selected from the group consisting of 2- [1-methyl-1- (4-methyl-3-cyclohexen-1-yl) ethoxy] ethanol It is more preferable to contain one.
Terpineol has the following α-, β-, and γ- isomers, and is marketed by Nippon Fragrance Chemicals Co., Ltd. and Nippon Terpene Chemical Co., Ltd. (viscosity 54 mPa · s, surface tension 38 mN / m). ).

Figure 2016056341
Figure 2016056341

また、ジヒドロターピネオールは、以下の2つの化合物(1−ヒドロキシ−p−メンタン、及び、8−ヒドロキシ−p−メンタン)が存在し、日本テルペン化学(株)からジヒドロターピネオール(粘度83mPa・s、表面張力36mN/m)、テルソルブDTO−210(粘度72mPa・s、表面張力36mN/m)として上市されている。   In addition, dihydroterpineol has the following two compounds (1-hydroxy-p-menthane and 8-hydroxy-p-menthane), and dihydroterpineol (viscosity 83 mPa · s, surface) from Nippon Terpene Chemical Co., Ltd. (Tension 36 mN / m) and Tersolve DTO-210 (viscosity 72 mPa · s, surface tension 36 mN / m).

Figure 2016056341
Figure 2016056341

4−(アセチルオキシ)−α,α,4−トリメチルシクロヘキサンメタノールアセタートは、下記式C−3で表される化合物であるが、式C−1で表される化合物、及び、式C−2で表される化合物との混合物として、例えば、日本テルペン化学(株)からテルソルブ THA−90(粘度144mPa・s、表面張力32.8mN/m)、テルソルブ THA−70(粘度144mPa・s、表面張力32.9mN/m)として上市されている。   4- (acetyloxy) -α, α, 4-trimethylcyclohexanemethanol acetate is a compound represented by the following formula C-3, but a compound represented by the formula C-1 and a formula C-2 As a mixture with a compound represented by, for example, Tersolve THA-90 (viscosity 144 mPa · s, surface tension 32.8 mN / m), Tersolve THA-70 (viscosity 144 mPa · s, surface tension) from Nippon Terpene Chemical Co., Ltd. 32.9 mN / m).

Figure 2016056341
Figure 2016056341

2−[1−メチル−1−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)エトキシ]エタノールは、下記式で表される化合物であり、例えば、日本テルペン化学(株)からテルソルブTOE−100(粘度62mPa・s、表面張力40.6mN/m)として上市されている。   2- [1-Methyl-1- (4-methyl-3-cyclohexen-1-yl) ethoxy] ethanol is a compound represented by the following formula. For example, Tersolve TOE-100 from Nippon Terpene Chemical Co., Ltd. (Viscosity 62 mPa · s, surface tension 40.6 mN / m).

Figure 2016056341
Figure 2016056341

これらの中でも、本発明において、ターピネオール、ジヒドロターピネオール、テルソルブ THA−90、テルソルブ THA−70、テルソルブTOE−100が好ましく、ジヒドロターピネオール、テルソルブ THA−90、テルソルブ THA−70がより好ましく、テルソルブ THA−90、テルソルブ THA−70が更に好ましい。   Among these, in the present invention, terpineol, dihydroterpineol, tersolve THA-90, tersolve THA-70 and tersolve TOE-100 are preferable, dihydroterpineol, tersolve THA-90 and tersolve THA-70 are more preferable, and tersolve THA-90. Tersolve THA-70 is more preferred.

成分C−2:20℃における粘度が50mPa・s未満である有機溶剤
本発明において、成分C−2として、20℃における粘度が50mPa・s未満である有機溶剤を含有する。成分C−2の粘度が50mPa・sを超えると、組成物全体としての粘度が高くなりすぎるため、印刷適性に劣る。
成分C−2の20℃における粘度は、10mPa・s以下であることが好ましく、5mPa・s以下であることがより好ましく、3mPa・s以下であることが更に好ましい。また、その下限は特に限定されないが、0.5mPa・s以上であることが好ましい。
Component C-2: Organic solvent having a viscosity at 20 ° C. of less than 50 mPa · s In the present invention, the component C-2 contains an organic solvent having a viscosity at 20 ° C. of less than 50 mPa · s. If the viscosity of Component C-2 exceeds 50 mPa · s, the viscosity of the composition as a whole will be too high, resulting in poor printability.
The viscosity of Component C-2 at 20 ° C. is preferably 10 mPa · s or less, more preferably 5 mPa · s or less, and still more preferably 3 mPa · s or less. Moreover, the lower limit is not particularly limited, but is preferably 0.5 mPa · s or more.

本発明の硬化性組成物に使用される成分C−2としては、公知の溶剤を用いることができ、アルコール類、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、エチレングリコールジアルキルエーテル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、ブチレングリコールジアセテート類、ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、エステル類、ケトン類、アミド類、ラクトン類等が例示できる。この他の具体例としては特開2009−098616号公報の段落0062を参照できる。
これらの溶剤の中でも、好ましい具体例としては、ブタノール、テトラヒドロフルフリルアルコール、フェノキシエタノール、1,3−ブチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、アセチルアセトン、乳酸エチルを挙げることができ、ブタノール、1,3−ブチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、アセチルアセトン、乳酸エチルが特に好ましく例示される。
成分C−2は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
As the component C-2 used in the curable composition of the present invention, a known solvent can be used, and alcohols, ethylene glycol monoalkyl ethers, ethylene glycol dialkyl ethers, ethylene glycol monoalkyl ether acetates. , Propylene glycol monoalkyl ethers, propylene glycol dialkyl ethers, propylene glycol monoalkyl ether acetates, diethylene glycol dialkyl ethers, diethylene glycol monoalkyl ether acetates, dipropylene glycol monoalkyl ethers, butylene glycol diacetates, dipropylene Glycol dialkyl ethers, dipropylene glycol monoalkyl ether acetates, esters, ketones Amides, lactones and the like. As other specific examples, reference can be made to paragraph 0062 of JP-A-2009-098616.
Among these solvents, preferred specific examples include butanol, tetrahydrofurfuryl alcohol, phenoxyethanol, 1,3-butylene glycol diacetate, diethylene glycol methyl ethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, acetylacetone, and ethyl lactate. , Butanol, 1,3-butylene glycol diacetate, diethylene glycol methyl ethyl ether, acetylacetone, and ethyl lactate are particularly preferred.
Component C-2 may be used alone or in combination of two or more.

成分C−2の沸点は、塗布性の観点から、100℃〜300℃が好ましく、120℃〜250℃がより好ましく、120℃〜200℃が更に好ましい。   Component C-2 has a boiling point of preferably 100 ° C to 300 ° C, more preferably 120 ° C to 250 ° C, and still more preferably 120 ° C to 200 ° C, from the viewpoint of applicability.

本発明の硬化性組成物における溶剤の含有量は、塗布に適した粘度に調整するという観点から、硬化性組成物の全固形分量が3〜30質量%となるように含有することが好ましい。5〜20質量%であることがより好ましく、8〜15質量%であることが更に好ましい。すなわち、全固形分:全溶剤(質量比)=8:92〜30:70であることが好ましく、5:95〜20:80であることがより好ましく、8:92〜15:85であることが更に好ましい。   The content of the solvent in the curable composition of the present invention is preferably contained so that the total solid content of the curable composition is 3 to 30% by mass from the viewpoint of adjusting the viscosity to be suitable for coating. More preferably, it is 5-20 mass%, and it is still more preferable that it is 8-15 mass%. That is, the total solid content: total solvent (mass ratio) is preferably 8:92 to 30:70, more preferably 5:95 to 20:80, and 8:92 to 15:85. Is more preferable.

本発明の硬化性組成物の20℃における粘度は、1〜30mPa・sである。硬化性組成物の粘度が1mPa・s未満であると、粘度が低く、印刷適性に劣る。また、30mPa・sを超えると、粘度が高すぎて、インクジェット吐出性や、面内均一性に劣る。
本発明の硬化性組成物の20℃における粘度は、5〜30mPa・sであることが好ましく、10〜25mPa・sであることがより好ましく、10〜20mPa・sであることが更に好ましい。
粘度は、例えば、東機産業(株)製のRE−80L型回転粘度計を用いて、20±0.2℃で測定することが好ましい。測定時の回転速度は、5mPa・s未満は1,000〜100rpm、5mPa・s以上10mPa・s未満は50rpm、10mPa・s以上30mPa・s未満は20rpm、30mPa・s以上は10rpmで、それぞれ行うことが好ましい。
The viscosity at 20 ° C. of the curable composition of the present invention is 1 to 30 mPa · s. When the viscosity of the curable composition is less than 1 mPa · s, the viscosity is low and printability is poor. On the other hand, when it exceeds 30 mPa · s, the viscosity is too high, and the inkjet dischargeability and in-plane uniformity are poor.
The viscosity at 20 ° C. of the curable composition of the present invention is preferably 5 to 30 mPa · s, more preferably 10 to 25 mPa · s, and still more preferably 10 to 20 mPa · s.
The viscosity is preferably measured at 20 ± 0.2 ° C. using a RE-80L rotational viscometer manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd., for example. The rotation speed during measurement is 1,000 to 100 rpm for less than 5 mPa · s, 50 rpm for 5 mPa · s to less than 10 mPa · s, 20 rpm for 10 mPa · s to less than 30 mPa · s, and 10 rpm for more than 30 mPa · s, respectively. It is preferable.

(配位性基を有する化合物)
本発明において、成分Aとして、a1及び/又はa2を使用する場合には、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物を含有することが好ましい。
本発明における「チタン及び/又はジルコニウム配位性基」とは、チタン原子及び/又はジルコニウム原子と配位結合を形成可能な基であり、チタン原子又はジルコニウム原子のいずれか1方のみと配位結合を形成可能であってもよいし、チタン原子及びジルコニウム原子の両方と配位結合を形成可能であってもよい。
また、チタン及び/又はジルコニウム配位性基により形成される配位は、単座配位(一座配位)、二座配位、三座配位、及び、四座以上の配位のいずれであってもよいが、上記配位性基は、単座配位又は二座配位の配位性基であることが好ましく、二座配位の配位性基であることがより好ましい。
更に、チタン及び/又はジルコニウム配位性基は、チタン原子及び/又はジルコニウム原子に配位して、チタン原子及び/又はジルコニウム原子上の中性配位子となる基であることが好ましい。
チタン及び/又はジルコニウム配位性基を少なくとも有する化合物が、a1及び/又はa2に配位した場合、配位されたチタン原子又はジルコニウム原子のd軌道のエネルギー準位が分裂する。よって、エネルギー準位の分裂を観測することで配位の有無が分かる。
チタン及び/又はジルコニウム配位性基であるか否かを確認する方法としては、配位の有無を観測する方法が挙げられる。具体的な配位の有無の観測方法としては、公知の観測方法を使用でき、例えば、分光学的手法や電子スピン共鳴法(ESR)などが挙げられる。
(Compound having a coordinating group)
In the present invention, when a1 and / or a2 is used as component A, it is preferable to contain a compound having a titanium and / or zirconium coordination group.
The “titanium and / or zirconium coordination group” in the present invention is a group capable of forming a coordination bond with a titanium atom and / or a zirconium atom, and is coordinated with only one of a titanium atom and a zirconium atom. A bond may be formed, or a coordinate bond may be formed with both a titanium atom and a zirconium atom.
The coordination formed by the titanium and / or zirconium coordination group is any of monodentate coordination (monodentate coordination), bidentate coordination, tridentate coordination, and tetradentate coordination or more. However, the coordination group is preferably a monodentate or bidentate coordination group, and more preferably a bidentate coordination group.
Furthermore, the titanium and / or zirconium coordinating group is preferably a group that coordinates to a titanium atom and / or a zirconium atom and becomes a neutral ligand on the titanium atom and / or the zirconium atom.
When a compound having at least a titanium and / or zirconium coordinating group is coordinated to a1 and / or a2, the energy level of the d orbital of the coordinated titanium atom or zirconium atom is split. Therefore, the presence or absence of coordination can be determined by observing the splitting of energy levels.
Examples of a method for confirming whether or not a titanium and / or zirconium coordination group include a method for observing the presence or absence of coordination. As a specific observation method for the presence or absence of coordination, a known observation method can be used, and examples thereof include spectroscopic techniques and electron spin resonance (ESR).

本発明におけるチタン及び/又はジルコニウム配位性基は、組成物の安定性や膜物性の観点から、酸素原子を有する基であることが好ましく、2以上の酸素原子を有する基であることがより好ましく、2つの酸素原子が2〜4原子の他の原子を間に介して結合している構造を少なくとも有する基であることが更に好ましく、2つの酸素原子が3又は4原子の他の原子を間に介して結合している構造を少なくとも有する基であることが特に好ましい。また、上記酸素原子の少なくとも1つは、カルボニル基又はエステル構造におけるカルボニル基の酸素原子であることが好ましい。
また、本発明におけるチタン及び/又はジルコニウム配位性基は、組成物の安定性や膜物性の観点から、チタン原子及び/又はジルコニウム原子に酸素原子によって配位可能な基であることが好ましい。
The titanium and / or zirconium coordinating group in the present invention is preferably a group having an oxygen atom, more preferably a group having two or more oxygen atoms, from the viewpoint of the stability of the composition and film physical properties. More preferably, the oxygen atom is more preferably a group having at least a structure in which two oxygen atoms are bonded to each other via 2 to 4 atoms, and the two oxygen atoms are the other atoms having 3 or 4 atoms. Particularly preferred is a group having at least a structure bonded therebetween. In addition, at least one of the oxygen atoms is preferably a carbonyl group or an oxygen atom of a carbonyl group in an ester structure.
In addition, the titanium and / or zirconium coordinating group in the present invention is preferably a group capable of coordinating with a titanium atom and / or a zirconium atom by an oxygen atom from the viewpoint of the stability of the composition and film properties.

本発明におけるチタン及び/又はジルコニウム配位性基としては、1,2−ジケトン構造、1,3−ジケトン構造、1,4−ジケトン構造、α−ヒドロキシケトン構造、α−ヒドロキシエステル構造、α−ケトエステル構造、β−ケトエステル構造、マロン酸ジエステル構造、フマル酸ジエステル構造、及び、フタル酸ジエステル構造よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構造を有する基であることが好ましく、1,2−ジケトン構造、1,3−ジケトン構造、α−ヒドロキシケトン構造、α−ヒドロキシエステル構造、α−ケトエステル構造、β−ケトエステル構造、及び、フタル酸ジエステル構造よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構造を有する基であることがより好ましく、1,3−ジケトン構造、α−ヒドロキシケトン構造、β−ケトエステル構造、及び、フタル酸ジエステル構造よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構造を有する基であることが更に好ましく、1,3−ジケトン構造、α−ヒドロキシケトン構造、及び、β−ケトエステル構造よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構造を有する基であることが特に好ましく、1,3−ジケトン構造、及び、β−ケトエステル構造よりなる群から選ばれた少なくとも1つの構造を有する基であることが最も好ましい。上記態様であると、得られる硬化膜の屈折率及び保存安定性により優れる。   Examples of the titanium and / or zirconium coordinating group in the present invention include 1,2-diketone structure, 1,3-diketone structure, 1,4-diketone structure, α-hydroxyketone structure, α-hydroxyester structure, α- It is preferably a group having at least one structure selected from the group consisting of a ketoester structure, a β-ketoester structure, a malonic acid diester structure, a fumaric acid diester structure, and a phthalic acid diester structure, and a 1,2-diketone structure A group having at least one structure selected from the group consisting of 1,3-diketone structure, α-hydroxyketone structure, α-hydroxyester structure, α-ketoester structure, β-ketoester structure, and phthalic acid diester structure It is more preferable that 1,3-diketone structure, α-hydroxyketone structure, β More preferably, it is a group having at least one structure selected from the group consisting of a ketoester structure and a phthalic acid diester structure, and is based on a 1,3-diketone structure, an α-hydroxyketone structure, and a β-ketoester structure. A group having at least one structure selected from the group consisting of 1,3-diketone structure and a group having at least one structure selected from the group consisting of β-ketoester structures is particularly preferred. Is most preferred. It is excellent in the refractive index and storage stability of the cured film obtained as it is the said aspect.

本発明におけるチタン又はジルコニウム配位性基としては、下記式b−1〜式b−5で表される構造のいずれかを有する基が好ましく、下記式b−1、式b−2、式b−3又は式b−5で表される構造を有する基がより好ましく、下記式b−1、式b−2又は式b−3で表される構造を有する基が更に好ましく、下記式b−1又は式b−2で表される構造を有する基が特に好ましい。   As the titanium or zirconium coordinating group in the present invention, a group having any of the structures represented by the following formulas b-1 to b-5 is preferable, and the following formula b-1, formula b-2, formula b -3 or a group having a structure represented by the formula b-5 is more preferable, a group having a structure represented by the following formula b-1, formula b-2 or formula b-3 is more preferable, and the following formula b- A group having a structure represented by 1 or formula b-2 is particularly preferred.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

式b−1〜式b−5中、L1及びL2はそれぞれ独立に、単結合又は炭素数1若しくは2のアルキレン基を表し、R’はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基又はアルコキシカルボニル基を表し、nbは0〜4の整数を表し、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。 In Formula b-1 to Formula b-5, L 1 and L 2 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 or 2 carbon atoms, and R ′ each independently represents an alkyl group, an alkoxy group, or a halogen atom. Represents an acyl group or an alkoxycarbonyl group, nb represents an integer of 0 to 4, and the wavy line represents a bonding position with another structure.

1及びL2は、メチレン基であることが好ましい。
R’の炭素数は、0〜20であることが好ましい。また、R’はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン原子であることが好ましい。
nbは0又は1であることが好ましく、0であることがより好ましい。
L 1 and L 2 are preferably methylene groups.
The carbon number of R ′ is preferably 0-20. R ′ is preferably independently an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom.
nb is preferably 0 or 1, and more preferably 0.

チタン又はジルコニウム配位性基として具体的には、下記に示す基が好ましく挙げられる。なお、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。   Specific examples of the titanium or zirconium coordinating group include the following groups. Note that the wavy line represents the coupling position with another structure.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

本発明において、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物は、成分Bとして添加してもよく、また、成分Cとして添加してもよく、特に限定されないが、成分Cとして添加することが好ましく、成分C−2として添加することが特に好ましい。
成分Bとして添加する場合、エチレン性不飽和基としては、特に制限はないが、(メタ)アクリロキシ基、(メタ)アクリルアミド基、アリル基、スチリル基、及び、ビニルオキシ基が好ましく挙げられ、(メタ)アクリロキシ基、及び、アリル基がより好ましく挙げられ、(メタ)アクリロキシ基が特に好ましく挙げられる。
チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を有する化合物としては、現像性の観点から、1,3−ジケトン構造又はβ−ケトエステル構造を有する(メタ)アクリレート化合物、又は、フタル酸ジエステル構造を有するエチレン性不飽和化合物であることが好ましく、1,3−ジケトン構造又はβ−ケトエステル構造を有する(メタ)アクリレート化合物であることがより好ましい。
また、チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を有する化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
上記チタン及び/又はジルコニウム配位性基並びにエチレン性不飽和基を有する化合物としては、硬化膜の耐薬品性の観点から、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する(メタ)アクリレート化合物であることが好ましく、チタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する単官能(メタ)アクリレート化合物であることがより好ましく、下記に示す化合物であることが更に好ましい。
また、上記フタル酸ジエステル構造を有するエチレン性不飽和化合物としては、フタル酸ジアリルを好ましく例示できる。
In the present invention, the compound having titanium and / or zirconium coordinating group may be added as Component B, or may be added as Component C. Although not particularly limited, it may be added as Component C. The addition as component C-2 is particularly preferred.
When added as Component B, the ethylenically unsaturated group is not particularly limited, but (meth) acryloxy group, (meth) acrylamide group, allyl group, styryl group, and vinyloxy group are preferably exemplified. ) An acryloxy group and an allyl group are more preferable, and a (meth) acryloxy group is particularly preferable.
As a compound having a titanium and / or zirconium coordination group and an ethylenically unsaturated group, from the viewpoint of developability, a (meth) acrylate compound having a 1,3-diketone structure or a β-ketoester structure, or phthalic acid An ethylenically unsaturated compound having a diester structure is preferable, and a (meth) acrylate compound having a 1,3-diketone structure or a β-ketoester structure is more preferable.
Moreover, the compound which has a titanium and / or a zirconium coordination group, and an ethylenically unsaturated group may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
From the viewpoint of chemical resistance of the cured film, the compound having the titanium and / or zirconium coordinating group and the ethylenically unsaturated group is a (meth) acrylate compound having titanium and / or zirconium coordinating group. The monofunctional (meth) acrylate compound having a titanium and / or zirconium coordinating group is more preferable, and the following compounds are more preferable.
Moreover, as an ethylenically unsaturated compound which has the said phthalic acid diester structure, a diallyl phthalate can be illustrated preferably.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

また、エチレン性不飽和基を有しないチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物としては、1,2−ジケトン化合物、1,3−ジケトン化合物、1,4−ジケトン化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−ヒドロキシエステル化合物、α−ケトエステル化合物、β−ケトエステル化合物、マロン酸ジエステル化合物、フマル酸ジエステル化合物、又は、フタル酸ジエステル化合物が好ましく、1,2−ジケトン化合物、1,3−ジケトン化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−ケトエステル化合物、β−ケトエステル化合物、又は、フタル酸ジエステル化合物がより好ましく、1,3−ジケトン化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、又は、β−ケトエステル化合物が更に好ましく、1,3−ジケトン化合物、又は、β−ケトエステル化合物が特に好ましい。
上記エチレン性不飽和基を有しないチタン及び/又はジルコニウム配位性基を有する化合物の具体例としては、下記に示す化合物が挙げられる。
In addition, as the compound having titanium and / or zirconium coordinating group having no ethylenically unsaturated group, 1,2-diketone compound, 1,3-diketone compound, 1,4-diketone compound, α-hydroxyketone Compound, α-hydroxy ester compound, α-keto ester compound, β-keto ester compound, malonic acid diester compound, fumaric acid diester compound or phthalic acid diester compound are preferable, 1,2-diketone compound, 1,3-diketone compound An α-hydroxyketone compound, an α-ketoester compound, a β-ketoester compound, or a phthalic acid diester compound, more preferably a 1,3-diketone compound, an α-hydroxyketone compound, or a β-ketoester compound, 1,3-diketone compound or β-ketoe Ether compounds are particularly preferred.
Specific examples of the compound having titanium and / or zirconium coordinating group having no ethylenically unsaturated group include the following compounds.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

これらの中でも、アセチルアセトン(2,4−ペンタジオン)、アセト酢酸エチル(3−オキソ酪酸エチル)、又は、乳酸エチルが好ましく、アセチルアセトン、又は、アセト酢酸エチルが特に好ましい。これらは成分C−2に該当する。   Among these, acetylacetone (2,4-pentadione), ethyl acetoacetate (ethyl 3-oxobutyrate), or ethyl lactate is preferable, and acetylacetone or ethyl acetoacetate is particularly preferable. These correspond to component C-2.

これらの配位性基を有する化合物の含有量は、a1及びa2の総含有量100質量部に対し、15〜140質量部であることが好ましい。   It is preferable that content of the compound which has these coordinated groups is 15-140 mass parts with respect to 100 mass parts of total content of a1 and a2.

成分D:光重合開始剤
本発明の硬化性組成物は、成分Dとして、光重合開始剤を含有することが好ましい。本発明の硬化性組成物が、ネガ型感光性組成物である場合に、光重合開始剤を含有することが特に好ましい。
光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。
本発明に用いることができる光重合開始剤は、活性光線により、エチレン性不飽和基を有する化合物等の重合性化合物の重合を開始、促進可能な化合物である。
「活性光線」とは、その照射により成分Dより開始種を発生させることができるエネルギーを付与することができる活性エネルギー線であれば、特に制限はなく、広くα線、γ線、X線、紫外線(UV)、可視光線、電子線などを包含するものである。これらの中でも、紫外線を少なくとも含む光が好ましい。
Component D: Photopolymerization Initiator The curable composition of the present invention preferably contains a photopolymerization initiator as Component D. When the curable composition of the present invention is a negative photosensitive composition, it is particularly preferable to contain a photopolymerization initiator.
The photopolymerization initiator preferably contains a photoradical polymerization initiator.
The photopolymerization initiator that can be used in the present invention is a compound that can initiate and accelerate the polymerization of a polymerizable compound such as a compound having an ethylenically unsaturated group by actinic rays.
“Actinic ray” is not particularly limited as long as it is an active energy ray that can give energy capable of generating a starting species from component D by irradiation, and is widely α-ray, γ-ray, X-ray, It includes ultraviolet rays (UV), visible rays, electron beams, and the like. Among these, light containing at least ultraviolet rays is preferable.

光重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル化合物、有機ハロゲン化化合物、オキシジアゾール化合物、カルボニル化合物、ケタール化合物、ベンゾイン化合物、アクリジン化合物、有機過酸化化合物、アゾ化合物、クマリン化合物、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オニウム塩化合物、アシルホスフィン(オキシド)化合物が挙げられる。これらの中でも、感度の点から、オキシムエステル化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物が好ましく、オキシムエステル化合物がより好ましい。   Examples of the photopolymerization initiator include oxime ester compounds, organic halogenated compounds, oxydiazole compounds, carbonyl compounds, ketal compounds, benzoin compounds, acridine compounds, organic peroxide compounds, azo compounds, coumarin compounds, azide compounds, metallocenes. Examples include compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, onium salt compounds, and acylphosphine (oxide) compounds. Among these, oxime ester compounds and hexaarylbiimidazole compounds are preferable from the viewpoint of sensitivity, and oxime ester compounds are more preferable.

オキシムエステル化合物としては、特開2000−80068号公報、特開2001−233842号公報、特表2004−534797号公報、特開2007−231000号公報、特開2009−134289号公報に記載の化合物を使用できる。
オキシムエステル化合物は、下記式D−1又は式D−2で表される化合物であることが好ましい。
Examples of the oxime ester compound include compounds described in JP-A No. 2000-80068, JP-A No. 2001-233842, JP-T No. 2004-534797, JP-A No. 2007-231000, and JP-A No. 2009-134289. Can be used.
The oxime ester compound is preferably a compound represented by the following formula D-1 or formula D-2.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

式D−1又は式D−2中、Arは芳香族基又はヘテロ芳香族基を表し、RD1はアルキル基、芳香族基又はアルコキシ基を表し、RD2は水素原子又はアルキル基を表し、更にRD2はAr基と結合し環を形成してもよい。 In Formula D-1 or Formula D-2, Ar represents an aromatic group or a heteroaromatic group, R D1 represents an alkyl group, an aromatic group, or an alkoxy group, R D2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, Further, R D2 may be bonded to an Ar group to form a ring.

Arは、芳香族基又はヘテロ芳香族基を表し、ベンゼン環、ナフタレン環又はカルバゾール環から水素原子を1つ除いた基であることが好ましく、RD2と共に環を形成したナフタレニル基、カルバゾイル基がより好ましい。ヘテロ芳香族基におけるヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子、及び、硫黄原子が好ましく挙げられる。中でも、窒素原子が好ましい。
D1は、アルキル基、芳香族基又はアルコキシ基を表し、メチル基、エチル基、ベンジル基、フェニル基、ナフチル基、メトキシ基又はエトキシ基が好ましく、メチル基、エチル基、フェニル基又はメトキシ基がより好ましい。
D2は、水素原子又はアルキル基を表し、水素原子又は置換アルキル基が好ましく、水素原子、Arと共に環を形成する置換アルキル基又はトルエンチオアルキル基がより好ましい。
また、Arは、炭素数4〜20の基であることが好ましく、RD1は、炭素数1〜30の基であることが好ましく、また、RD2は、炭素数1〜50の基であることが好ましい。
Ar represents an aromatic group or a heteroaromatic group, and is preferably a group obtained by removing one hydrogen atom from a benzene ring, naphthalene ring or carbazole ring, and a naphthalenyl group or carbazoyl group which forms a ring together with R D2 More preferred. Preferable examples of the hetero atom in the heteroaromatic group include a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. Of these, a nitrogen atom is preferable.
R D1 represents an alkyl group, an aromatic group or an alkoxy group, preferably a methyl group, an ethyl group, a benzyl group, a phenyl group, a naphthyl group, a methoxy group or an ethoxy group, and a methyl group, an ethyl group, a phenyl group or a methoxy group Is more preferable.
R D2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, preferably a hydrogen atom or a substituted alkyl group, and more preferably a substituted alkyl group or a toluenethioalkyl group that forms a ring with the hydrogen atom or Ar.
Ar is preferably a group having 4 to 20 carbon atoms, R D1 is preferably a group having 1 to 30 carbon atoms, and R D2 is a group having 1 to 50 carbon atoms. It is preferable.

オキシムエステル化合物は、下記式D−3、式D−4又は式D−5で表される化合物であることが更に好ましく、下記式D−5で表される化合物であることが特に好ましい。   The oxime ester compound is more preferably a compound represented by the following formula D-3, formula D-4 or formula D-5, and particularly preferably a compound represented by the following formula D-5.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

式D−3〜式D−5中、RD1はアルキル基、芳香族基又はアルコキシ基を表し、Xは−CH2−、−C24−、−O−又は−S−を表し、RD3はそれぞれ独立に、ハロゲン原子
を表し、RD4はそれぞれ独立に、アルキル基、フェニル基、アルキル置換アミノ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、RD5は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、RD6はアルキル基を表し、n1及びn2はそれぞれ独立に、0〜6の整数を表し、n3は0〜5の整数を表す。
In Formula D-3 to Formula D-5, R D1 represents an alkyl group, an aromatic group, or an alkoxy group, X represents —CH 2 —, —C 2 H 4 —, —O—, or —S—, R D3 each independently represents a halogen atom, R D4 each independently represents an alkyl group, a phenyl group, an alkyl-substituted amino group, an arylthio group, an alkylthio group, an alkoxy group, an aryloxy group or a halogen atom, R D5 Represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, R D6 represents an alkyl group, n1 and n2 each independently represents an integer of 0 to 6, and n3 represents an integer of 0 to 5.

D1はアルキル基、芳香族基又はアルコキシ基を表し、RD11−X’−アルキレン基−で表される基が好ましい。RD11はアルキル基又はアリール基を表し、X’は硫黄原子又は酸素原子を表す。RD11はアリール基が好ましく、フェニル基がより好ましい。RD11としての、アルキル基及びアリール基は、ハロゲン原子(好ましくは、フッ素原子、塩素原子若しくは臭素原子)又はアルキル基で置換されていてもよい。
Xは硫黄原子が好ましい。
D3及びRD4は、芳香環上の任意の位置で結合することができる。
D4はアルキル基、フェニル基、アルキル置換アミノ基、アリールチオ基、アルキルチオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子を表し、アルキル基、フェニル基、アリールチオ基又はハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アリールチオ基又はハロゲン原子がより好ましく、アルキル基又はハロゲン原子が更に好ましい。アルキル基としては、炭素数1〜5のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子又はフッ素原子が好ましい。
また、RD4の炭素数は、0〜50であることが好ましく、0〜20であることがより好ましい。
D5は水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、アルキル基が好ましい。アルキル基としては、炭素数1〜5のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。アリール基としては、炭素数6〜10のアリール基が好ましい。
D6はアルキル基を表し、炭素数1〜5のアルキル基が好ましく、メチル基又はエチル基がより好ましい。
n1及びn2はそれぞれ、式D−3又は式D−4における芳香環上のRD3の置換数を表し、n3は式D−5における芳香環上のRD4の置換数を表す。
n1〜n3はそれぞれ独立に、0〜2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましい。
R D1 represents an alkyl group, an aromatic group, or an alkoxy group, and a group represented by R D11 —X′-alkylene group— is preferable. R D11 represents an alkyl group or an aryl group, and X ′ represents a sulfur atom or an oxygen atom. R D11 is preferably an aryl group, more preferably a phenyl group. The alkyl group and aryl group as R D11 may be substituted with a halogen atom (preferably a fluorine atom, a chlorine atom or a bromine atom) or an alkyl group.
X is preferably a sulfur atom.
R D3 and R D4 can be bonded at any position on the aromatic ring.
R D4 represents an alkyl group, a phenyl group, an alkyl-substituted amino group, an arylthio group, an alkylthio group, an alkoxy group, an aryloxy group or a halogen atom, preferably an alkyl group, a phenyl group, an arylthio group or a halogen atom, an alkyl group, an arylthio group A group or a halogen atom is more preferable, and an alkyl group or a halogen atom is more preferable. As an alkyl group, a C1-C5 alkyl group is preferable and a methyl group or an ethyl group is more preferable. As a halogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, or a fluorine atom is preferable.
The number of carbon atoms of R D4 is preferably 0 to 50, and more preferably from 0 to 20.
R D5 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, preferably an alkyl group. As an alkyl group, a C1-C5 alkyl group is preferable and a methyl group or an ethyl group is more preferable. As the aryl group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is preferable.
R D6 represents an alkyl group, preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
n1 and n2 each represent the number of substitutions of R D3 on the aromatic ring in Formula D-3 or Formula D-4, and n3 represents the number of substitutions of R D4 on the aromatic ring in Formula D-5.
n1 to n3 are each independently preferably an integer of 0 to 2, and more preferably 0 or 1.

以下に、本発明で好ましく用いられるオキシムエステル化合物の例を示す。しかしながら、本発明で用いられるオキシムエステル化合物がこれらに限定されるものではないことはいうまでもない。なお、Meはメチル基を表し、Phはフェニル基を表す。また、これら化合物におけるオキシムの二重結合のシス−トランス異性は、EZのどちら一方であっても、EZの混合物であってもよい。   Below, the example of the oxime ester compound preferably used by this invention is shown. However, it goes without saying that the oxime ester compound used in the present invention is not limited to these compounds. Me represents a methyl group and Ph represents a phenyl group. Further, the cis-trans isomerism of the double bond of oxime in these compounds may be either one of EZ or a mixture of EZ.

Figure 2016056341
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有機ハロゲン化化合物の例としては、具体的には、若林等、「Bull Chem. Soc. Japan」42、2924(1969)、米国特許第3,905,815号明細書、特公昭46−4605号公報、特開昭48−36281号公報、特開昭55−32070号公報、特開昭60−239736号公報、特開昭61−169835号公報、特開昭61−169837号公報、特開昭62−58241号公報、特開昭62−212401号公報、特開昭63−70243号公報、特開昭63−298339号公報、M.P.Hutt“Journal of Heterocyclic Chemistry”1(No3),(1970)等に記載の化合物が挙げられ、特に、トリハロメチル基が置換したオキサゾール化合物、s−トリアジン化合物が挙げられる。   Specific examples of the organic halogenated compounds include Wakabayashi et al., “Bull Chem. Soc. Japan” 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, and Japanese Examined Patent Publication No. 46-4605. JP, 48-34881, JP 55-3070, JP 60-239736, JP 61-169835, JP 61-169837, JP 62-58241, JP-A 62-212401, JP-A 63-70243, JP-A 63-298339, M.S. P. Examples include compounds described in Hutt “Journal of Heterocyclic Chemistry” 1 (No. 3), (1970), and particularly, oxazole compounds substituted with a trihalomethyl group and s-triazine compounds.

ヘキサアリールビイミダゾール化合物の例としては、例えば、特公平6−29285号公報、米国特許第3,479,185号、同第4,311,783号、同第4,622,286号等の各明細書に記載の種々の化合物が挙げられる。   Examples of hexaarylbiimidazole compounds include, for example, JP-B-6-29285, US Pat. Nos. 3,479,185, 4,311,783, and 4,622,286. Examples include various compounds described in the specification.

アシルホスフィン(オキサイド)化合物としては、モノアシルホスフィンオキサイド化合物、及び、ビスアシルホスフィンオキサイド化合物が例示され、具体的には例えば、BASF社製のIRGACURE 819、ダロキュア4265、ダロキュアTPOなどが挙げられる。
アセトフェノン化合物としては、BASF社製のIRGACURE 127が例示できる。
Examples of the acylphosphine (oxide) compound include a monoacylphosphine oxide compound and a bisacylphosphine oxide compound, and specific examples include IRGACURE 819, Darocur 4265, Darocur TPO, and the like manufactured by BASF.
Examples of the acetophenone compound include IRGACURE 127 manufactured by BASF.

光重合開始剤は、1種又は2種以上を組み合わせて用いることができる。また、露光波長に吸収を持たない光重合開始剤を用いる場合には、増感剤を使用することもできる。
本発明の硬化性組成物における光重合開始剤の総量は、組成物中の全固形分100質量部に対して、0.5〜30質量部であることが好ましく、1〜20質量部であることがより好ましく、1〜10質量部であることが更に好ましく、2〜5質量部であることが特に好ましい。
A photoinitiator can be used 1 type or in combination of 2 or more types. Moreover, when using the photoinitiator which does not have absorption in an exposure wavelength, a sensitizer can also be used.
The total amount of the photopolymerization initiator in the curable composition of the present invention is preferably 0.5 to 30 parts by mass, and 1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content in the composition. More preferably, it is 1-10 mass parts, More preferably, it is 2-5 mass parts.

−増感剤−
本発明の硬化性組成物には、光重合開始剤や後述の光酸発生剤の他に、増感剤を加えることもできる。
増感剤は、活性光線又は放射線を吸収して励起状態となる。励起状態となった増感剤は、成分Dとの相互作用により、電子移動、エネルギー移動、発熱などの作用が生じ、重合を開始・促進できる。
好ましい増感剤の例としては、以下の化合物類に属しており、かつ350nmから450nm域に吸収波長を有する化合物を挙げることができる。多核芳香族類(例えば、ピレン、ペリレン、トリフェニレン、アントラセン、フェナントレン)、キサンテン類(例えば、フルオレッセイン、エオシン、エリスロシン、ローダミンB、ローズベンガル)、キサントン類(例えば、キサントン、チオキサントン、ジメチルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン)、シアニン類(例えば、チアカルボシアニン、オキサカルボシアニン)、メロシアニン類(例えば、メロシアニン、カルボメロシアニン)、ローダシアニン類、オキソノール類、チアジン類(例えば、チオニン、メチレンブルー、トルイジンブルー)、アクリジン類(例えば、アクリジンオレンジ、クロロフラビン、アクリフラビン、ベンゾフラビン)、アクリドン類(例えば、アクリドン、10−ブチル−2−クロロアクリドン)、アントラキノン類(例えば、アントラキノン、9,10−ジブトキシアントラセン)、スクアリウム類(例えば、スクアリウム)、スチリル類、ベーススチリル類、クマリン類(例えば、7−ジエチルアミノ−4−メチルクマリン、ケトクマリン)、カルバゾール類(例えば、N−ビニルカルバゾール)、カンファーキノン類、フェノチアジン類。
この他、本発明において用いることができる典型的な増感剤としては、クリベロ〔J. V. Crivello, Adv. in Polymer Sci., 62, 1 (1984)〕に開示されているものが挙げられる。
増感剤の好ましい具体例としては、ピレン、ペリレン、アクリジンオレンジ、チオキサントン、2−クロロチオキサントン、ベンゾフラビン、N−ビニルカルバゾール、9,10−ジブトキシアントラセン、アントラキノン、クマリン、ケトクマリン、フェナントレン、カンファーキノン、フェノチアジン類などを挙げることができる。増感剤は、重合開始剤100質量部に対し、30〜200質量部の割合で添加することが好ましい。
-Sensitizer-
A sensitizer may be added to the curable composition of the present invention in addition to the photopolymerization initiator and the photoacid generator described below.
The sensitizer absorbs actinic rays or radiation and enters an excited state. The sensitizer in the excited state is capable of initiating / promoting polymerization due to the interaction with the component D such as electron transfer, energy transfer, and heat generation.
Examples of preferred sensitizers include compounds belonging to the following compounds and having an absorption wavelength in the 350 nm to 450 nm region. Polynuclear aromatics (eg, pyrene, perylene, triphenylene, anthracene, phenanthrene), xanthenes (eg, fluorescein, eosin, erythrosine, rhodamine B, rose bengal), xanthones (eg, xanthone, thioxanthone, dimethylthioxanthone, Diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone), cyanines (eg thiacarbocyanine, oxacarbocyanine), merocyanines (eg merocyanine, carbomerocyanine), rhodocyanines, oxonols, thiazines (eg thionine) , Methylene blue, toluidine blue), acridines (eg, acridine orange, chloroflavin, acriflavine, benzoflavin), acridones For example, acridone, 10-butyl-2-chloroacridone), anthraquinones (eg, anthraquinone, 9,10-dibutoxyanthracene), squariums (eg, squalium), styryls, base styryls, coumarins (eg, , 7-diethylamino-4-methylcoumarin, ketocoumarin), carbazoles (for example, N-vinylcarbazole), camphorquinones, phenothiazines.
In addition, typical sensitizers that can be used in the present invention include those disclosed in Crivello [JV Crivello, Adv. In Polymer Sci., 62, 1 (1984)].
Preferred specific examples of the sensitizer include pyrene, perylene, acridine orange, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, benzoflavin, N-vinylcarbazole, 9,10-dibutoxyanthracene, anthraquinone, coumarin, ketocoumarin, phenanthrene, camphorquinone. And phenothiazines. The sensitizer is preferably added at a ratio of 30 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polymerization initiator.

成分F:界面活性剤
本発明の硬化性組成物は、界面活性剤を含有してもよい。
界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、又は、両性のいずれでも使用することができるが、好ましい界面活性剤はノニオン系界面活性剤である。また、界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤が好ましく、フッ素系ノニオン界面活性剤がより好ましい。
本発明に用いることができる界面活性剤としては、例えば、市販品である、メガファックF142D、同F172、同F173、同F176、同F177、同F183、同F479、同F482、同F554、同F780、同F781、同F781−F、同R30、同R08、同F−472SF、同BL20、同R−61、同R−90(DIC(株)製)、フロラードFC−135、同FC−170C、同FC−430、同FC−431、Novec FC−4430(住友スリーエム(株)製)、アサヒガードAG7105、70
00、950、7600、サーフロンS−112、同S−113、同S−131、同S−141、同S−145、同S−382、同SC−101、同SC−102、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC−106(旭硝子(株)製)、エフトップEF351、同352、同801、同802(三菱マテリアル電子化成(株)製)、フタージェント250(ネオス(株)製)が挙げられる。また、上記以外にも、KP(信越化学工業(株)製)、ポリフロー(共栄社化学(株)製)、エフトップ(三菱マテリアル電子化成(株)製)、メガファック(DIC(株)製)、フロラード(住友スリーエム(株)製)、アサヒガード、サーフロン(旭硝子(株)製)、PolyFox(OMNOVA社製)等の各シリーズを挙げることができる。
Component F: Surfactant The curable composition of the present invention may contain a surfactant.
As the surfactant, any of anionic, cationic, nonionic, or amphoteric surfactants can be used, but a preferred surfactant is a nonionic surfactant. Moreover, as the surfactant, a fluorine-based surfactant is preferable, and a fluorine-based nonionic surfactant is more preferable.
Examples of the surfactant that can be used in the present invention include commercially available products, such as Megafac F142D, F172, F173, F176, F177, F183, F479, F482, F554, and F780. F781, F781-F, R30, R08, F-472SF, BL20, R-61, R-90 (manufactured by DIC Corporation), Florard FC-135, FC-170C, FC-430, FC-431, Novec FC-4430 (manufactured by Sumitomo 3M Limited), Asahi Guard AG7105, 70
00, 950, 7600, Surflon S-112, S-113, S-131, S-141, S-145, S-382, SC-101, SC-102, SC-103 SC-104, SC-105, SC-106 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), F-top EF351, 352, 801, 802 (manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.), Footage 250 ( Neos Co., Ltd.). In addition to the above, KP (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), Polyflow (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), F-Top (manufactured by Mitsubishi Materials Denka Kasei Co., Ltd.), MegaFuck (manufactured by DIC Corporation) , FLORARD (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.), Asahi Guard, Surflon (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), PolyFox (manufactured by OMNOVA), and the like.

また、界面活性剤としては、下記式F−1で表される構成単位A及び構成単位Bを含み、テトラヒドロフランを溶剤としてゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量(Mw)が1,000以上10,000以下である共重合体を好ましい例として挙げることができる。   Further, the surfactant includes a structural unit A and a structural unit B represented by the following formula F-1, and has a polystyrene-reduced weight average molecular weight (Mw) of 1 measured by gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as a solvent. As a preferable example, a copolymer having a molecular weight of 1,000 or more and 10,000 or less can be given.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

式F−1中、R401及びR403はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、R402は炭素数1以上4以下の直鎖アルキレン基を表し、R404は水素原子又は炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、Lは炭素数3以上6以下のアルキレン基を表し、p及びqは重合比を表す質量百分率であり、pは10質量%以上80質量%以下の数値を表し、qは20質量%以上90質量%以下の数値を表し、rは1以上18以下の整数を表し、sは1以上10以下の整数を表す。 In Formula F-1, R 401 and R 403 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, R 402 represents a linear alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R 404 represents a hydrogen atom or 1 carbon atom. Represents an alkyl group having 4 or less, L represents an alkylene group having 3 to 6 carbon atoms, p and q are mass percentages representing a polymerization ratio, and p represents a numerical value of 10% by mass to 80% by mass. Q represents a numerical value of 20% by mass or more and 90% by mass or less, r represents an integer of 1 or more and 18 or less, and s represents an integer of 1 or more and 10 or less.

上記Lは、下記式F−2で表される分岐アルキレン基であることが好ましい。式F−2におけるR405は、炭素数1以上4以下のアルキル基を表し、相溶性と被塗布面に対する濡れ性の点で、炭素数1以上3以下のアルキル基が好ましく、炭素数2又は3のアルキル基がより好ましい。
式F−1におけるpとqとの和(p+q)は、p+q=100、すなわち、100質量%であることが好ましい。
L is preferably a branched alkylene group represented by the following formula F-2. R 405 in Formula F-2 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and is preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms in terms of compatibility and wettability with respect to the coated surface. More preferred is an alkyl group of 3.
The sum (p + q) of p and q in Formula F-1 is preferably p + q = 100, that is, 100% by mass.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

上記共重合体の重量平均分子量(Mw)は、1,500以上5,000以下がより好ましい。
これら界面活性剤は、1種単独又は2種以上を混合して使用することができる。
本発明の硬化性組成物における界面活性剤の含有量は、配合する場合、硬化性組成物の全固形分中100質量部に対して、0.001〜5.0質量部が好ましく、0.01〜2.0質量部がより好ましい。
The weight average molecular weight (Mw) of the copolymer is more preferably from 1,500 to 5,000.
These surfactants can be used singly or in combination of two or more.
When blended, the content of the surfactant in the curable composition of the present invention is preferably 0.001 to 5.0 parts by mass with respect to 100 parts by mass in the total solid content of the curable composition. 01-2.0 mass parts is more preferable.

成分E:メルカプト化合物
本発明の硬化性組成物は、成分Eとして、メルカプト化合物を更に含有することが好ましい。メルカプト化合物を含有することにより、保存安定性により優れ、より高い屈折率の硬化物が得られ、また、硬化物の耐薬品性に優れる。
メルカプト化合物は、分子中に少なくとも1つのメルカプト基(−SH)を有する化合物である。
メルカプト化合物としては、単官能メルカプト化合物及び多官能メルカプト化合物が挙げられ、中でも、感度、保存安定性及び膜物性の観点から、多官能メルカプト化合物が好ましい。
メルカプト化合物におけるメルカプト基は、第一級メルカプト基であっても、第二級メルカプト基であっても、第三級メルカプト基であってもよいが、感度及び耐薬品性の観点から、第一級又は第二級メルカプト基であることが好ましく、第二級メルカプト基であることがより好ましい。また、保存安定性の観点からは、第二級又は第三級メルカプト基であることが好ましく、第二級メルカプト基であることがより好ましい。
本発明に用いることができるメルカプト化合物の分子量は、100〜2,000が好ましく、200〜1,000がより好ましい。
本発明に用いることができるメルカプト化合物におけるメルカプト基の数は、特に制限はないが、1〜20であることが好ましく、2〜10であることがより好ましく、2〜6であることが更に好ましい。
Component E: Mercapto Compound It is preferable that the curable composition of the present invention further contains a mercapto compound as Component E. By containing a mercapto compound, the storage stability is excellent, a cured product having a higher refractive index is obtained, and the cured product has excellent chemical resistance.
The mercapto compound is a compound having at least one mercapto group (—SH) in the molecule.
Examples of the mercapto compound include a monofunctional mercapto compound and a polyfunctional mercapto compound, and among them, a polyfunctional mercapto compound is preferable from the viewpoint of sensitivity, storage stability, and film physical properties.
The mercapto group in the mercapto compound may be a primary mercapto group, a secondary mercapto group, or a tertiary mercapto group. From the viewpoint of sensitivity and chemical resistance, It is preferably a secondary or secondary mercapto group, more preferably a secondary mercapto group. Moreover, from the viewpoint of storage stability, a secondary or tertiary mercapto group is preferable, and a secondary mercapto group is more preferable.
The molecular weight of the mercapto compound that can be used in the present invention is preferably from 100 to 2,000, more preferably from 200 to 1,000.
The number of mercapto groups in the mercapto compound that can be used in the present invention is not particularly limited, but is preferably 1 to 20, more preferably 2 to 10, and still more preferably 2 to 6. .

−単官能メルカプト化合物−
メルカプト化合物としては、経時安定性、溶剤への溶解性の観点からは、単官能メルカプト化合物であることが好ましい。単官能メルカプト化合物としては、分子量100以上の低分子化合物が好ましく、具体的には、分子量80〜1,000であることが好ましく、100〜800が更に好ましい。
また、単官能メルカプト化合物は、感度の観点から、ヘテロ環を有することが好ましく、チアゾール構造を有することがより好ましい。
-Monofunctional mercapto compound-
The mercapto compound is preferably a monofunctional mercapto compound from the viewpoint of stability over time and solubility in a solvent. As the monofunctional mercapto compound, a low molecular compound having a molecular weight of 100 or more is preferable, specifically, the molecular weight is preferably 80 to 1,000, and more preferably 100 to 800.
Moreover, it is preferable that a monofunctional mercapto compound has a heterocyclic ring from a viewpoint of a sensitivity, and it is more preferable to have a thiazole structure.

単官能メルカプト化合物としては、単官能脂肪族メルカプト化合物、単官能芳香族メルカプト化合物等を挙げることができ、具体例としては、メルカプトエタノール、メルカプトプロパノール、メルカプトブタノール、メルカプトプロパンジオール、メルカプトブタンジオール、ヒドロキシベンゼンチオール及びその誘導体、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、1−フェニル−1H−ベンゾイミダゾール−2−チオール、2−メルカプト−4(3H)−キナゾリン、β−メルカプトナフタレン等のメルカプト化合物が挙げられる。
その他、特開2011−65087号公報の段落0097〜0098に記載の化合物、特開2008−299211号公報の段落0086〜0088に記載の化合物を挙げることができる。
Examples of monofunctional mercapto compounds include monofunctional aliphatic mercapto compounds, monofunctional aromatic mercapto compounds, etc. Specific examples include mercaptoethanol, mercaptopropanol, mercaptobutanol, mercaptopropanediol, mercaptobutanediol, hydroxy Benzenethiol and its derivatives, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 1-phenyl-1H-benzimidazol-2-thiol, 2-mercapto-4 (3H) -quinazoline, β- Examples include mercapto compounds such as mercaptonaphthalene.
Other examples include compounds described in paragraphs 0097 to 0098 of JP2011-65087A and compounds described in paragraphs 0086 to 0088 of JP2008-299211.

−多官能メルカプト化合物−
また、メルカプト化合物としては、感度、保存安定性及び膜物性の観点からは、多官能メルカプト化合物であることが好ましい。多官能メルカプト化合物としては、多官能脂肪族メルカプト化合物、多官能芳香族メルカプト化合物等を挙げることができる。
本発明において「多官能メルカプト化合物」とは、メルカプト基を分子内に2個以上有する化合物を意味する。多官能チオール化合物としては、分子量100以上の低分子化合物が好ましく、具体的には、分子量100〜1,500であることが好ましく、150〜1,000がより好ましい。
多官能メルカプト化合物は、メルカプト基を分子内に2〜10個有することが好ましく、2〜6個有することがより好ましい。
脂肪族多官能チオール化合物としては、下記式e−1で表される基を2個以上有する化合物が好ましい。
-Multifunctional mercapto compound-
The mercapto compound is preferably a polyfunctional mercapto compound from the viewpoint of sensitivity, storage stability, and film properties. Examples of the polyfunctional mercapto compound include a polyfunctional aliphatic mercapto compound and a polyfunctional aromatic mercapto compound.
In the present invention, the “polyfunctional mercapto compound” means a compound having two or more mercapto groups in the molecule. The polyfunctional thiol compound is preferably a low molecular compound having a molecular weight of 100 or more, specifically, preferably having a molecular weight of 100 to 1,500, more preferably 150 to 1,000.
The polyfunctional mercapto compound preferably has 2 to 10 mercapto groups in the molecule, and more preferably 2 to 6 mercapto groups.
As the aliphatic polyfunctional thiol compound, a compound having two or more groups represented by the following formula e-1 is preferable.

Figure 2016056341
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式e−1中、Rは水素原子又はアルキル基を表し、Aは−CO−又は−CH2−を表す。
多官能メルカプト化合物としては、式e−1で表される基を2以上6以下有する化合物が好ましく、2以上4以下有する化合物が更に好ましい。
式e−1中のRにおけるアルキル基としては、直鎖、分岐又は環状のアルキル基であり、炭素数の範囲としては、1〜16が好ましく、1〜10であることがより好ましい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、i−プロピル基、ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、へキシル基、2−エチルへキシル基等であり、メチル基、エチル基、プロピル基又はi−プロピル基が好ましい。
Rとしては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、又は、i−プロピル基が好ましく、メチル基、又は、エチル基がより好ましい。
In formula e-1, R represents a hydrogen atom or an alkyl group, and A represents —CO— or —CH 2 —.
As the polyfunctional mercapto compound, a compound having 2 to 6 groups represented by the formula e-1 is preferable, and a compound having 2 to 4 groups is more preferable.
The alkyl group in R in formula e-1 is a linear, branched or cyclic alkyl group, and the carbon number range is preferably 1 to 16, and more preferably 1 to 10. Specific examples of the alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an i-propyl group, a butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a 2-ethylhexyl group. And a methyl group, an ethyl group, a propyl group or an i-propyl group is preferred.
R is preferably a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an i-propyl group, and more preferably a methyl group or an ethyl group.

本発明において、多官能メルカプト化合物としては、上記式e−1で表される基を複数個有する下記式e−2で表される化合物であることが特に好ましい。   In the present invention, the polyfunctional mercapto compound is particularly preferably a compound represented by the following formula e-2 having a plurality of groups represented by the formula e-1.

Figure 2016056341
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式e−2中、Rは、水素原子又はアルキル基を表し、Aは、−CO−又は−CH2−を表す。Lはn価の連結基を表し、nは2〜6の整数を表す。 In formula e-2, R represents a hydrogen atom or an alkyl group, and A represents —CO— or —CH 2 —. L represents an n-valent linking group, and n represents an integer of 2 to 6.

式e−2中のRにおけるアルキル基は、式e−1中のRと同義であり、好ましい範囲も同様である。nは2〜4が好ましい。
式e−2中のn価の連結基であるLとしては、例えば−(CH2m−(mは2〜6の整数を表す。)などの2価の連結基、トリメチロールプロパン残基、−(CH2p−(pは2〜6の整数を表す。)を3個有するイソシアヌール環などの3価の連結基、ペンタエリスリトール残基などの4価の連結基又は5価の連結基、及び、ジペンタエリスリトール残基などの6価の連結基が挙げられる。
The alkyl group in R in Formula e-2 has the same meaning as R in Formula e-1, and the preferred range is also the same. n is preferably from 2 to 4.
L as the n-valent linking group in formula e-2 is a divalent linking group such as — (CH 2 ) m — (m represents an integer of 2 to 6), a trimethylolpropane residue, and the like. , — (CH 2 ) p — (p represents an integer of 2 to 6), a trivalent linking group such as an isocyanur ring, a tetravalent linking group such as a pentaerythritol residue, or a pentavalent linking group. Examples thereof include a linking group and a hexavalent linking group such as a dipentaerythritol residue.

多官能メルカプト化合物の具体例としては、例えば、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、テトラエチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(チオグリコレート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトブチレート)、ブタンジオールビス(3−メルカプトブチレート)、1,4−ビス(3−メルカプトブチリルオキシ)ブタン、1,4−ビス(3−メルカプトブチルオキシ)ブタン、1,3,5−トリス(3−メルカプトブチルオキシエチル)−1,3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)−トリオン等が好適な多官能チオール化合物として挙げられる。
多官能メルカプト化合物の市販品としては、カレンズMT(登録商標)BD1、NR1又はPE1(昭和電工(株)製)、TEMPIC(SC有機化学(株)製)等が挙げられる。
Specific examples of the polyfunctional mercapto compound include, for example, trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate), tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (thioglycolate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptobutyrate), butanediol bis (3-mercaptobutyrate), 1,4-bis (3-mercaptobutyryloxy) butane, 1,4-bis (3-mercaptobutyloxy) butane, 1,3,5-tris (3-mercaptobutyloxyethyl) -1,3,5-triazine-2, 4, 6 (1H, 3H 5H) - trione, and the like Suitable polyfunctional thiol compound.
Examples of commercially available products of polyfunctional mercapto compounds include Karenz MT (registered trademark) BD1, NR1 or PE1 (manufactured by Showa Denko KK), TEMPIC (manufactured by SC Organic Chemical Co., Ltd.), and the like.

Figure 2016056341
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他の具体例としては、特開2012−14052号公報の段落0165〜0167に記載の化合物を挙げることができる。
芳香族メルカプト化合物としては、国際公開第2010/050580号の段落0021〜0022に記載の化合物を挙げることができる。このうち、4,4’−チオビスベンゼンチオールが好ましい。
Other specific examples include the compounds described in paragraphs 0165 to 0167 of JP2012-14052A.
Examples of the aromatic mercapto compound include compounds described in paragraphs 0021 to 0022 of International Publication No. 2010/050580. Of these, 4,4′-thiobisbenzenethiol is preferred.

また、芳香族メルカプト化合物としては、式e−3で表される化合物が好ましく挙げられる。   Moreover, as an aromatic mercapto compound, the compound represented by Formula e-3 is mentioned preferably.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

式e−3中、XeはN又はC原子を表し、YeはN又はC、S、O原子を表し、Leは単結合又は2価の有機基を表し、Aeは、Xe=C−Yeと共に芳香環を形成する原子団を表す。Aeが形成する芳香環は、水酸基、エーテル基、エステル基、アミノ基、アミド基、ニトロ基、シアノ基などの置換基を有していてもよく、更に、式中に描かれたものとは別のメルカプト基を有していてもよい。 In the formula e-3, X e represents N or C atoms, Y e represents N or C, S, O atoms, L e represents a single bond or a divalent organic group, A e is, X e = C—Ye represents an atomic group that forms an aromatic ring together with e . The aromatic ring formed by A e may have a substituent such as a hydroxyl group, an ether group, an ester group, an amino group, an amide group, a nitro group, a cyano group, and the one drawn in the formula May have another mercapto group.

芳香族メルカプト化合物としては、例えば、ベンゼンチオール、4−アセトアミドベンゼンチオール、4−tert−ブチルベンゼンチオール、2−ナフタレンチオール、2−アミノベンゼンチオール、4−アミノベンゼンチオール、4−(ジメチルアミノ)ベンゼンチオール、2−メルカプトチアゾール、2−メルカプトベンゾチアゾール、トリフェニルメタンチオール、5−メルカプト−1−フェニル−1H−テトラゾール、2−メルカプトピリジン、2−メルカプト−5−メチル−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−アミノ−5−メルカプト−1,3,4−チアジアゾール等の単官能芳香族メルカプト化合物や、   As an aromatic mercapto compound, for example, benzenethiol, 4-acetamidobenzenethiol, 4-tert-butylbenzenethiol, 2-naphthalenethiol, 2-aminobenzenethiol, 4-aminobenzenethiol, 4- (dimethylamino) benzene Thiol, 2-mercaptothiazole, 2-mercaptobenzothiazole, triphenylmethanethiol, 5-mercapto-1-phenyl-1H-tetrazole, 2-mercaptopyridine, 2-mercapto-5-methyl-1,3,4-thiadiazole Monofunctional aromatic mercapto compounds such as 2-mercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-amino-5-mercapto-1,3,4-thiadiazole,

1,2−ジメルカプトベンゼン、1,3−ジメルカプトベンゼン、1,4−ジメルカプトベンゼン、1,2−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2−ビス(メルカプトメトキシ)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメトキシ)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメトキシ)ベンゼン、1,2−ビス(メルカプトエトキシ)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトエトキシ)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトエトキシ)ベンゼン、1,2,3−トリメルカプトベンゼン、1,2,4−トリメルカプトベンゼン、1,3,5−トリメルカプトベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4−トリス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトメトキシ)ベンゼン、1,2,4−トリス(メルカプトメトキシ)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトメトキシ)ベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトエトキシ)ベンゼン、1,2,4−トリス(メルカプトエトキシ)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトエトキシ)ベンゼン、1,2,3,4−テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,5−テトラメルカプトベンゼン、1,2,4,5−テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(メルカプトメトキシ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトメトキシ)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(メルカプトエトキシ)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(メルカプトエトキシ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトエトキシ)ベンゼン、2,2’−ジメルカプトビフェニル、4,4’−ジメルカプトビフェニル、4,4’−ジメルカプトビベンジル、2,5−トルエンジチオール、3,4−トルエンジチオール、1,4−ナフタレンジチオール、1,5−ナフタレンジチオール、2,6−ナフタレンジチオール、2,7−ナフタレンジチオール、2,4−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、4,5−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、9,10−アントラセンジメタンチオール、1,3−ジ(p−メトキシフェニル)プロパン−2,2−ジチオール、1,3−ジフェニルプロパン−2,2−ジチオール、フェニルメタン−1,1−ジチオール、2,4−ジ(p−メルカプトフェニル)ペンタン、1,2−ビス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2−ビス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2,4−トリス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4−トリス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトメチルチオ)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトエチルチオ)ベンゼン、4,4’−チオビスベンゼンチオール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2,6−ジメルカプトプリン、1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリチオール等の多官能芳香族メルカプト化合物が挙げられる。   1,2-dimercaptobenzene, 1,3-dimercaptobenzene, 1,4-dimercaptobenzene, 1,2-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,3-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,4- Bis (mercaptomethyl) benzene, 1,3-bis (mercaptoethyl) benzene, 1,4-bis (mercaptoethyl) benzene, 1,2-bis (mercaptomethoxy) benzene, 1,3-bis (mercaptomethoxy) benzene 1,4-bis (mercaptomethoxy) benzene, 1,2-bis (mercaptoethoxy) benzene, 1,3-bis (mercaptoethoxy) benzene, 1,4-bis (mercaptoethoxy) benzene, 1,2,3 -Trimercaptobenzene, 1,2,4-trimercaptobenzene, 1,3,5-trimercaptoben 1,2,3-tris (mercaptomethyl) benzene, 1,2,4-tris (mercaptomethyl) benzene, 1,3,5-tris (mercaptomethyl) benzene, 1,2,3-tris (mercapto) Ethyl) benzene, 1,2,4-tris (mercaptoethyl) benzene, 1,3,5-tris (mercaptoethyl) benzene, 1,2,3-tris (mercaptomethoxy) benzene, 1,2,4-tris (Mercaptomethoxy) benzene, 1,3,5-tris (mercaptomethoxy) benzene, 1,2,3-tris (mercaptoethoxy) benzene, 1,2,4-tris (mercaptoethoxy) benzene, 1,3,5 -Tris (mercaptoethoxy) benzene, 1,2,3,4-tetramercaptobenzene, 1,2,3,5-tetramercap Benzene, 1,2,4,5-tetramercaptobenzene, 1,2,3,4-tetrakis (mercaptomethyl) benzene, 1,2,3,5-tetrakis (mercaptomethyl) benzene, 1,2,4 5-tetrakis (mercaptomethyl) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (mercaptoethyl) benzene, 1,2,3,5-tetrakis (mercaptoethyl) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (mercapto) Ethyl) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (mercaptoethyl) benzene, 1,2,3,5-tetrakis (mercaptomethoxy) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (mercaptomethoxy) benzene, 1 , 2,3,4-Tetrakis (mercaptoethoxy) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (mercaptoethoxy) Benzene, 1,2,4,5-tetrakis (mercaptoethoxy) benzene, 2,2'-dimercaptobiphenyl, 4,4'-dimercaptobiphenyl, 4,4'-dimercaptobibenzyl, 2,5-toluene Dithiol, 3,4-toluenedithiol, 1,4-naphthalenedithiol, 1,5-naphthalenedithiol, 2,6-naphthalenedithiol, 2,7-naphthalenedithiol, 2,4-dimethylbenzene-1,3-dithiol, 4,5-dimethylbenzene-1,3-dithiol, 9,10-anthracene dimethanethiol, 1,3-di (p-methoxyphenyl) propane-2,2-dithiol, 1,3-diphenylpropane-2, 2-dithiol, phenylmethane-1,1-dithiol, 2,4-di (p-mercaptophenyl) pen 1,2-bis (mercaptomethylthio) benzene, 1,3-bis (mercaptomethylthio) benzene, 1,4-bis (mercaptomethylthio) benzene, 1,2-bis (mercaptoethylthio) benzene, 1,3 -Bis (mercaptoethylthio) benzene, 1,4-bis (mercaptoethylthio) benzene, 1,2,3-tris (mercaptomethylthio) benzene, 1,2,4-tris (mercaptomethylthio) benzene, 1,3 , 5-Tris (mercaptomethylthio) benzene, 1,2,3-tris (mercaptoethylthio) benzene, 1,2,4-tris (mercaptoethylthio) benzene, 1,3,5-tris (mercaptoethylthio) Benzene, 1,2,3,4-tetrakis (mercaptomethylthio) benzene, 1,2,3, Tetrakis (mercaptomethylthio) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (mercaptomethylthio) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (mercaptoethylthio) benzene, 1,2,3,5-tetrakis (mercapto) Ethylthio) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (mercaptoethylthio) benzene, 4,4'-thiobisbenzenethiol, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2,6-di- Examples thereof include polyfunctional aromatic mercapto compounds such as mercaptopurine and 1,3,5-triazine-2,4,6-trithiol.

メルカプト化合物は、1種のみ使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、メルカプト化合物は、屈折率の観点から、芳香環を有するメルカプト化合物であることが好ましい。
更に、メルカプト化合物は、現像性の観点から、分子内にエステル基、チオエステル基、水酸基、アミド基、エーテル基、チオエーテル基等の極性官能基を有することが好ましい。
メルカプト化合物の含有量は、膜物性の観点から、硬化性組成物の全固形分に対し、0.1〜20質量部が好ましく、0.5〜15質量部がより好ましく、1〜10質量部が更に好ましい。
Only one type of mercapto compound may be used, or two or more types may be used in combination.
The mercapto compound is preferably a mercapto compound having an aromatic ring from the viewpoint of refractive index.
Furthermore, the mercapto compound preferably has a polar functional group such as an ester group, a thioester group, a hydroxyl group, an amide group, an ether group or a thioether group in the molecule from the viewpoint of developability.
The content of the mercapto compound is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.5 to 15 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to the total solid content of the curable composition from the viewpoint of film properties. Is more preferable.

成分G:アルコキシシラン化合物
本発明の組成物は、密着改良剤としてアルコキシシラン化合物を含有してもよい。アルコキシシラン化合物を用いると、本発明の硬化性組成物により形成された膜と基板との密着性を向上させたり、本発明の硬化性組成物により形成された膜と基板とのテーパー角を調整することができる。
本発明の組成物に用いることができるアルコキシシラン化合物は、基材となる無機物、例えば、シリコン、酸化シリコン、窒化シリコン等のシリコン化合物、金、銅、モリブデン、チタン、アルミニウム等の金属と絶縁膜との密着性を向上させる化合物であることが好ましい。具体的には、公知のシランカップリング剤等も有効である。
シランカップリング剤としては、エポキシ基又は(メタ)アクリロキシ基を有するアルコキシシラン化合物が好ましく挙げられる。
シランカップリング剤としては、例えば、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルジアルコキシシラン、γ−クロロプロピルトリアルコキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリアルコキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランが挙げられる。これらのうち、γ−グリシドキシプロピルトリアルコキシシランやγ−メタクリロキシプロピルトリアルコキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランがより好ましい。
本発明の硬化性組成物に用いることができるアルコキシシラン化合物は、特にこれらに限定することなく、公知のものを使用することができる。
Component G: Alkoxysilane Compound The composition of the present invention may contain an alkoxysilane compound as an adhesion improver. When an alkoxysilane compound is used, the adhesion between the film formed of the curable composition of the present invention and the substrate is improved, or the taper angle between the film formed of the curable composition of the present invention and the substrate is adjusted. can do.
The alkoxysilane compound that can be used in the composition of the present invention includes an inorganic material as a base material, for example, a silicon compound such as silicon, silicon oxide, or silicon nitride, a metal such as gold, copper, molybdenum, titanium, or aluminum, and an insulating film. It is preferable that it is a compound which improves adhesiveness. Specifically, a known silane coupling agent or the like is also effective.
Preferred examples of the silane coupling agent include alkoxysilane compounds having an epoxy group or a (meth) acryloxy group.
Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrialkoxysilane, and γ-glycidoxy. Propyl dialkoxysilane, γ-methacryloxypropyltrialkoxysilane, γ-methacryloxypropyl dialkoxysilane, γ-chloropropyltrialkoxysilane, γ-mercaptopropyltrialkoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl Examples include trialkoxysilane, vinyltrialkoxysilane, and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. Of these, γ-glycidoxypropyltrialkoxysilane, γ-methacryloxypropyltrialkoxysilane, and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane are more preferable.
The alkoxysilane compound that can be used in the curable composition of the present invention is not particularly limited, and known compounds can be used.

アルコキシシラン化合物は、1種単独又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
本発明の硬化性組成物がアルコキシシラン化合物を含有する場合、アルコキシシラン化合物の含有量は、硬化性組成物中の全固形分100質量部に対して、0.1〜30質量部が好ましく、0.5〜20質量部がより好ましい。また、成分B100質量部に対して、0.1〜20質量部が好ましく、0.5〜10質量部がより好ましい。
An alkoxysilane compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
When the curable composition of the present invention contains an alkoxysilane compound, the content of the alkoxysilane compound is preferably 0.1 to 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content in the curable composition, 0.5-20 mass parts is more preferable. Moreover, 0.1-20 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of component B, and 0.5-10 mass parts is more preferable.

成分H:架橋剤
本発明の硬化性組成物は、必要に応じ、架橋剤を含有してもよい。架橋剤を添加することにより、本発明の硬化性組成物により得られる硬化膜をより強固な膜とすることができる。
架橋剤としては、熱によって架橋反応が起こるものであれば制限はなく(ただし、上述した各成分は除く。)、公知の架橋剤を用いることができる。
本発明の硬化性組成物が架橋剤を有する場合、架橋剤の含有量は、硬化性組成物中の全固形分100質量部に対して、0.1〜50質量部であることが好ましく、0.1〜30質量部であることがより好ましく、0.5〜20質量部であることが更に好ましい。この範囲で添加することにより、機械的強度及び耐溶剤性に優れた硬化膜が得られる。異種の架橋剤を複数併用することもでき、その場合は架橋剤を全て合算して含有量を計算する。
Component H: Crosslinking agent The curable composition of this invention may contain a crosslinking agent as needed. By adding a crosslinking agent, the cured film obtained by the curable composition of the present invention can be made a stronger film.
The cross-linking agent is not limited as long as it causes a cross-linking reaction by heat (however, the above-described components are excluded), and a known cross-linking agent can be used.
When the curable composition of the present invention has a crosslinking agent, the content of the crosslinking agent is preferably 0.1 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content in the curable composition, It is more preferable that it is 0.1-30 mass parts, and it is still more preferable that it is 0.5-20 mass parts. By adding in this range, a cured film excellent in mechanical strength and solvent resistance can be obtained. A plurality of different kinds of crosslinking agents can be used in combination, and in that case, the content is calculated by adding all the crosslinking agents.

成分I:酸化防止剤
本発明の硬化性組成物は、酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤としては、公知の酸化防止剤を含有することができる。酸化防止剤を添加することにより、硬化膜の着色を防止できる、又は、分解による膜厚減少を低減でき、また、耐熱透明性に優れるという利点がある。
このような酸化防止剤としては、例えば、リン系酸化防止剤、アミド類、ヒドラジド類、ヒンダードアミン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、アスコルビン酸類、硫酸亜鉛、糖類、亜硝酸塩、亜硫酸塩、チオ硫酸塩、ヒドロキシルアミン誘導体などを挙げることができる。これらの中では、硬化膜の着色、膜厚減少の観点から特にフェノール系酸化防止剤(ヒンダードフェノール類)、ヒンダードアミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤(アルキルホスファイト類)、イオウ系酸化防止剤(チオエーテル類)が好ましく、フェノール系酸化防止剤が最も好ましい。これらは1種単独で用いてもよいし、2種以上を混合してもよい。
具体例としては、特開2005−29515号公報の段落0026〜0031に記載の化合物、特開2011−227106号公報の段落0106〜0116に記載の化合物を挙げることができ、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
好ましい市販品として、アデカスタブAO−60、アデカスタブAO−80(以上、(株)ADEKA製)、イルガノックス1035、イルガノックス1098、イルガノックス1726、IRGAFOS168(以上、BASF社製)を挙げることができる。
Component I: Antioxidant The curable composition of the present invention may contain an antioxidant. As an antioxidant, a well-known antioxidant can be contained. By adding an antioxidant, there is an advantage that coloring of the cured film can be prevented, or a decrease in film thickness due to decomposition can be reduced, and heat resistant transparency is excellent.
Examples of such antioxidants include phosphorus antioxidants, amides, hydrazides, hindered amine antioxidants, sulfur antioxidants, phenol antioxidants, ascorbic acids, zinc sulfate, sugars, Examples thereof include nitrates, sulfites, thiosulfates, and hydroxylamine derivatives. Among these, phenolic antioxidants (hindered phenols), hindered amine antioxidants, phosphorus antioxidants (alkyl phosphites), sulfur oxidation, etc., in particular from the viewpoint of coloring the cured film and reducing the film thickness Inhibitors (thioethers) are preferred, and phenolic antioxidants are most preferred. These may be used individually by 1 type and may mix 2 or more types.
Specific examples include the compounds described in paragraphs 0026 to 0031 of JP-A-2005-29515, and the compounds described in paragraphs 0106 to 0116 of JP-A-2011-227106. Embedded in the book.
Preferred commercial products include ADK STAB AO-60, ADK STAB AO-80 (manufactured by ADEKA Corporation), Irganox 1035, Irganox 1098, Irganox 1726, IRGAFOS 168 (manufactured by BASF).

本発明の硬化性組成物が酸化防止剤を含有する場合、酸化防止剤の含有量は、硬化性組成物中の全固形成分100質量部に対し、0.1〜10質量部であることが好ましく、0.2〜5質量部であることがより好ましく、0.5〜4質量部であることが更に好ましい。   When the curable composition of the present invention contains an antioxidant, the content of the antioxidant is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of all solid components in the curable composition. Preferably, it is 0.2-5 mass parts, More preferably, it is 0.5-4 mass parts.

成分J:その他の金属酸化物粒子
本発明の硬化性組成物は、屈折率や光透過性を調節することを目的として、チタン原子及びジルコニウム原子を含有しない、その他の金属酸化物粒子を含有することができる。金属酸化物粒子の金属には、B、Si、Ge、As、Sb、Te等の半金属も含まれるものとする。
好ましい金属酸化物粒子としては、Be、Mg、Ca、Sr、Ba、Sc、Y、La、Ce、Gd、Tb、Dy、Yb、Lu、Hf、Nb、Mo、W、Zn、B、Al、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、Bi、Te等の原子を含む酸化物粒子が好ましく、酸化亜鉛、インジウム/スズ酸化物、アンチモン/スズ酸化物がより好ましい。
Component J: Other metal oxide particles The curable composition of the present invention contains other metal oxide particles that do not contain titanium atoms and zirconium atoms for the purpose of adjusting the refractive index and light transmittance. be able to. The metal of the metal oxide particles includes semimetals such as B, Si, Ge, As, Sb, and Te.
Preferred metal oxide particles include Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Sc, Y, La, Ce, Gd, Tb, Dy, Yb, Lu, Hf, Nb, Mo, W, Zn, B, Al, Oxide particles containing atoms such as Si, Ge, Sn, Pb, Sb, Bi, and Te are preferable, and zinc oxide, indium / tin oxide, and antimony / tin oxide are more preferable.

硬化性組成物の透明性の観点から、その他の金属酸化物粒子の平均一次粒子径は、1〜200nmが好ましく、3〜80nmがより好ましく、5〜50nmが特に好ましい。ここで粒子の平均一次粒子径は、電子顕微鏡により任意の粒子200個の粒子径を測定し、その算術平均をいう。また、粒子の形状が球形でない場合には、最も長い辺を径とする。   From the viewpoint of transparency of the curable composition, the average primary particle size of the other metal oxide particles is preferably 1 to 200 nm, more preferably 3 to 80 nm, and particularly preferably 5 to 50 nm. Here, the average primary particle diameter of the particles refers to an arithmetic average obtained by measuring the particle diameter of 200 arbitrary particles with an electron microscope. When the particle shape is not spherical, the longest side is the diameter.

また、その他の金属酸化物粒子は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用することもできる。
本発明の硬化性組成物におけるその他の金属酸化物粒子の含有量は、硬化性組成物により得られる光学部材に要求される屈折率や、光透過性等を考慮して、適宜決定すればよいが、本発明の硬化性組成物の全固形分に対して、0〜50質量%とすることが好ましく、1〜40質量%とすることがより好ましく、2〜30質量%とすることが更に好ましい。
Other metal oxide particles may be used alone or in combination of two or more.
The content of other metal oxide particles in the curable composition of the present invention may be appropriately determined in consideration of the refractive index required for the optical member obtained from the curable composition, light transmittance, and the like. However, it is preferable to set it as 0-50 mass% with respect to the total solid of the curable composition of this invention, It is more preferable to set it as 1-40 mass%, It is still more preferable to set it as 2-30 mass%. preferable.

本発明において、その他の金属酸化物粒子は、適当な分散剤及び溶剤中でボールミル、ロッドミル等の混合装置を用いて混合・分散することにより調製された分散液として使用に供することもできる。   In the present invention, the other metal oxide particles can be used as a dispersion prepared by mixing and dispersing in a suitable dispersant and solvent using a mixing device such as a ball mill or a rod mill.

−その他の成分−
本発明の硬化性組成物には、必要に応じて、可塑剤、重合禁止剤、熱酸発生剤、酸増殖剤、バインダーポリマー、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体、光酸発生剤、フルオレン化合物、分散剤、2つ以上の窒素原子を有する複素環化合物等のその他の成分を添加することができる。これらの成分については、例えば、特開2009−98616号公報、特開2009−244801号公報に記載のもの、特開2014−132292号公報段落0203〜0298に記載のもの、国開公開第2014/199967号公報段落0025〜0050に記載のもの、その他公知のものを用いることができる。また、“高分子添加剤の新展開((株)日刊工業新聞社)”に記載の各種紫外線吸収剤や、金属不活性化剤等を本発明の硬化性組成物に添加してもよい。
-Other ingredients-
In the curable composition of the present invention, as necessary, a plasticizer, a polymerization inhibitor, a thermal acid generator, an acid proliferating agent, a binder polymer, and a structural unit having a group in which an acid group is protected by an acid-decomposable group Other components such as a polymer having a photoacid generator, a fluorene compound, a dispersant, and a heterocyclic compound having two or more nitrogen atoms can be added. As for these components, for example, those described in JP2009-98616A, JP2009-244801A, JP2014132292A, paragraphs 0203-0298, Kokukai Kogyo 2014 / The thing of paragraphs 0025-0050 of 1999967 gazette and other publicly known things can be used. Further, various ultraviolet absorbers described in “New Development of Polymer Additives (Nikkan Kogyo Shimbun Co., Ltd.)”, metal deactivators, and the like may be added to the curable composition of the present invention.

<重合禁止剤>
本発明の硬化性組成物は、重合禁止剤を含有してもよい。
重合禁止剤とは、重合開始剤から発生した重合開始ラジカル成分に対して水素供与(又は、水素授与)、エネルギー供与(又は、エネルギー授与)、電子供与(又は、電子授与)などを実施し、重合開始ラジカルを失活させ、重合開始を禁止する役割をはたす物質である。例えば、特開2007−334322号公報の段落0154〜0173に記載の化合物などを用いることができる。
好ましい化合物として、フェノチアジン、フェノキサジン、ヒドロキノン、3,5−ジブチル−4−ヒドロキシトルエンを挙げることができる。
重合禁止剤の含有量は、特に制限はないが、硬化性組成物の全固形分に対して、0.0001〜5質量%であることが好ましい。
<Polymerization inhibitor>
The curable composition of the present invention may contain a polymerization inhibitor.
With the polymerization inhibitor, hydrogen donation (or hydrogen donation), energy donation (or energy donation), electron donation (or electron donation), etc. are performed on the polymerization initiation radical component generated from the polymerization initiator, It is a substance that plays a role of deactivating polymerization initiation radicals and prohibiting polymerization initiation. For example, compounds described in paragraphs 0154 to 0173 of JP2007-334322A can be used.
Preferable compounds include phenothiazine, phenoxazine, hydroquinone, and 3,5-dibutyl-4-hydroxytoluene.
Although there is no restriction | limiting in particular in content of a polymerization inhibitor, It is preferable that it is 0.0001-5 mass% with respect to the total solid of a curable composition.

<酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体>
本発明の硬化性組成物は、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体を含有してもよい。
なお、本発明において、「酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位」を「(a1)酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位」ともいう。
<Polymer having a structural unit having a group in which an acid group is protected by an acid-decomposable group>
The curable composition of the present invention may contain a polymer having a structural unit having a group in which an acid group is protected with an acid-decomposable group.
In the present invention, the “structural unit having a group in which an acid group is protected by an acid-decomposable group” is also referred to as “(a1) a structural unit having a group in which an acid group is protected by an acid-decomposable group”.

本発明の硬化性組成物は、更に、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体以外の重合体を含んでいてもよい。
本発明の硬化性組成物は、下記(1)及び(2)の少なくとも一方を満たす重合体を含む重合体成分を含有することが好ましい。
(1)(a1)酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位及び(a2)架橋性基を有する構成単位を有する重合体
(2)(a1)酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体、及び、(a2)架橋性基を有する構成単位を有する重合体
本発明の硬化性組成物は、更に、これら以外の重合体を含んでいてもよい。
本発明の硬化性組成物は、硬化後における透明性(ヘイズ)及び未露光部の残膜率の観点からは、上記(1)を満たす成分を含むことが好ましい。なお、本発明においては上記(1)を満たす成分又は上記(2)における(a2)架橋性基を有する構成単位を有する重合体は上述の成分Bとして扱うものとする。
The curable composition of the present invention may further contain a polymer other than a polymer having a structural unit having a group in which an acid group is protected with an acid-decomposable group.
It is preferable that the curable composition of this invention contains the polymer component containing the polymer which satisfy | fills at least one of following (1) and (2).
(1) (a1) a polymer having a structural unit having an acid group protected with an acid-decomposable group and (a2) a structural unit having a crosslinkable group (2) (a1) an acid group having an acid-decomposable group And a polymer having a structural unit having a group protected with (a2) a structural unit having a crosslinkable group The curable composition of the present invention further contains a polymer other than these. Also good.
It is preferable that the curable composition of this invention contains the component which satisfy | fills said (1) from a viewpoint of the transparency (haze) after hardening, and the remaining film rate of an unexposed part. In the present invention, a component satisfying the above (1) or a polymer having a structural unit having a crosslinkable group (a2) in the above (2) is treated as the above component B.

本発明における「酸基が酸分解性基で保護された基」は、酸基及び酸分解性基として公知のものを使用でき、特に限定されない。具体的な酸基としては、カルボキシル基、及び、フェノール性水酸基が好ましく挙げられる。また、酸分解性基としては、酸により比較的分解しやすい基(例えば、後述する式a1−10等で表される基のエステル構造、テトラヒドロピラニルエステル基、又は、テトラヒドロフラニルエステル基等のアセタール系官能基)や酸により比較的分解しにくい基(例えば、tert−ブチルエステル基等の第三級アルキル基、tert−ブチルカーボネート基等の第三級アルキルカーボネート基)を用いることができる。   As the “group in which the acid group is protected with an acid-decomposable group” in the present invention, those known as an acid group and an acid-decomposable group can be used, and are not particularly limited. Specific examples of the acid group preferably include a carboxyl group and a phenolic hydroxyl group. The acid-decomposable group is a group that is relatively easily decomposed by an acid (for example, an acetal such as an ester structure of a group represented by the formula a1-10 described later, a tetrahydropyranyl ester group, or a tetrahydrofuranyl ester group). A functional group) or a group that is relatively difficult to decompose by an acid (for example, a tertiary alkyl group such as a tert-butyl ester group or a tertiary alkyl carbonate group such as a tert-butyl carbonate group).

酸基が酸分解性基で保護された基の中でもカルボキシル基がアセタールの形で保護された保護カルボキシル基であることが、硬化性組成物の基本物性、特に感度やパターン形状、コンタクトホールの形成性、硬化性組成物の保存安定性の観点から好ましい。更に酸基が酸分解性基で保護された基の中でもカルボキシル基が下記式a1−10で表されるアセタールの形で保護された保護カルボキシル基であることが、感度の観点からより好ましい。なお、カルボキシル基が下記式a1−10で表されるアセタールの形で保護された保護カルボキシル基である場合、保護カルボキシル基の全体としては、−(C=O)−O−CR101102(OR103)の構造となっている。 Among the groups in which the acid group is protected by an acid-decomposable group, the carboxyl group is a protected carboxyl group protected in the form of an acetal. From the viewpoint of storage stability of the curable composition. Furthermore, among the groups in which the acid group is protected with an acid-decomposable group, it is more preferable from the viewpoint of sensitivity that the carboxyl group is a protected carboxyl group protected in the form of an acetal represented by the following formula a1-10. In addition, when the carboxyl group is a protected carboxyl group protected in the form of an acetal represented by the following formula a1-10, the entire protected carboxyl group is-(C = O) -O-CR 101 R 102 ( OR 103 ).

Figure 2016056341
(式a1−10中、R101及びR102は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、ただし、R101とR102とが共に水素原子の場合を除く。R103は、アルキル基を表す。R101又はR102と、R103とが連結して環状エーテルを形成してもよい。)
Figure 2016056341
(In formula a1-10, R 101 and R 102 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, except that R 101 and R 102 are both hydrogen atoms. R 103 represents an alkyl group. R 101 or R 102 and R 103 may be linked to form a cyclic ether.)

上記式a1−10中、R101〜R103は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表し、上記アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。ここで、R101及びR102の双方が水素原子を表すことはなく、R101及びR102の少なくとも一方はアルキル基を表す。
上記直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基としては、炭素数1〜12であることが好ましく、炭素数1〜6であることがより好ましく、炭素数1〜4であることが更に好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、テキシル基(2,3−ジメチル−2−ブチル基)、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基等を挙げることができる。
In the formula a1-10, R 101 to R 103 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, and the alkyl group may be linear, branched, or cyclic. Here, both R 101 and R 102 do not represent a hydrogen atom, and at least one of R 101 and R 102 represents an alkyl group.
The linear or branched alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms. Specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, n Examples include -hexyl group, texyl group (2,3-dimethyl-2-butyl group), n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, and n-decyl group.

上記式a1−10中、R101〜R103は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。上記アルキル基は直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれでもよい。ここで、R101及びR102の双方が水素原子を表すことはなく、R101及びR102の少なくとも一方はアルキル基を表す。
上記直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基としては、炭素数1〜12であることが好ましく、炭素数1〜6であることがより好ましく、炭素数1〜4であることが更に好ましい。具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基、テキシル基(2,3−ジメチル−2−ブチル基)、n−ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基等を挙げることができる。
上記環状アルキル基としては、炭素数3〜12であることが好ましく、炭素数4〜8であることがより好ましく、炭素数4〜6であることが更に好ましい。上記環状アルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、ノルボルニル基、イソボルニル基等を挙げることができる。
Among the above formulas A1-10, R 101 to R 103 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group may be linear, branched or cyclic. Here, both R 101 and R 102 do not represent a hydrogen atom, and at least one of R 101 and R 102 represents an alkyl group.
The linear or branched alkyl group preferably has 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, and still more preferably 1 to 4 carbon atoms. Specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, neopentyl group, n Examples include -hexyl group, texyl group (2,3-dimethyl-2-butyl group), n-heptyl group, n-octyl group, 2-ethylhexyl group, n-nonyl group, and n-decyl group.
The cyclic alkyl group preferably has 3 to 12 carbon atoms, more preferably 4 to 8 carbon atoms, and still more preferably 4 to 6 carbon atoms. Examples of the cyclic alkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a cyclooctyl group, a norbornyl group, and an isobornyl group.

上記アルキル基は、置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、アリール基、アルコキシ基が例示できる。置換基としてハロゲン原子を有する場合、R101、R102、R103はハロアルキル基となり、置換基としてアリール基を有する場合、R101、R102、R103はアラルキル基となる。
上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示され、これらの中でもフッ素原子又は塩素原子が好ましい。
また、上記アリール基としては、炭素数6〜20のアリール基が好ましく、より好ましくは炭素数6〜12であり、具体的には、フェニル基、α−メチルフェニル基、ナフチル基等が例示でき、アリール基で置換されたアルキル基全体、すなわち、アラルキル基としては、ベンジル基、α−メチルベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基等が例示できる。
上記アルコキシ基としては、炭素数1〜6のアルコキシ基が好ましく、より好ましくは炭素数1〜4であり、メトキシ基又はエトキシ基が更に好ましい。
また、上記アルキル基がシクロアルキル基である場合、上記シクロアルキル基は、置換基として炭素数1〜10の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を有していてもよく、アルキル基が直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基である場合には、置換基として炭素数3〜12のシクロアルキル基を有していてもよい。
これらの置換基は、上記置換基で更に置換されていてもよい。
The alkyl group may have a substituent, and examples of the substituent include a halogen atom, an aryl group, and an alkoxy group. When it has a halogen atom as a substituent, R 101 , R 102 and R 103 become a haloalkyl group, and when it has an aryl group as a substituent, R 101 , R 102 and R 103 become an aralkyl group.
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom, and among these, a fluorine atom or a chlorine atom is preferable.
Moreover, as said aryl group, a C6-C20 aryl group is preferable, More preferably, it is C6-C12, Specifically, a phenyl group, (alpha) -methylphenyl group, a naphthyl group etc. can be illustrated. Examples of the entire alkyl group substituted with an aryl group, that is, an aralkyl group, include a benzyl group, an α-methylbenzyl group, a phenethyl group, and a naphthylmethyl group.
As said alkoxy group, a C1-C6 alkoxy group is preferable, More preferably, it is C1-C4, and a methoxy group or an ethoxy group is still more preferable.
In the case where the alkyl group is a cycloalkyl group, the cycloalkyl group may have a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as a substituent, and the alkyl group is directly In the case of a chain or branched alkyl group, it may have a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms as a substituent.
These substituents may be further substituted with the above substituents.

上記式a1−10において、R101、R102及びR103がアリール基を表す場合、上記アリール基は、炭素数6〜12であることが好ましく、炭素数6〜10であることがより好ましい。上記アリール基は、置換基を有していてもよく、上記置換基としては炭素数1〜6のアルキル基が好ましく例示できる。アリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、クメニル基、1−ナフチル基等が例示できる。
また、R101、R102及びR103は、互いに結合して、それらが結合している炭素原子と一緒になって環を形成することができる。R101とR102、R101とR103、又は、R102とR103が結合した場合の環構造としては、例えばシクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、テトラヒドロフラニル基、アダマンチル基及びテトラヒドロピラニル基等を挙げることができる。
In Formula a1-10, when R 101 , R 102, and R 103 represent an aryl group, the aryl group preferably has 6 to 12 carbon atoms, and more preferably has 6 to 10 carbon atoms. The aryl group may have a substituent, and the substituent is preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Examples of the aryl group include a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a cumenyl group, and a 1-naphthyl group.
R 101 , R 102 and R 103 can be bonded together to form a ring together with the carbon atom to which they are bonded. Examples of the ring structure when R 101 and R 102 , R 101 and R 103 , or R 102 and R 103 are bonded include a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, a tetrahydrofuranyl group, an adamantyl group, and the like. Examples thereof include a tetrahydropyranyl group.

なお、上記式a1−10において、R101及びR102のいずれか一方が、水素原子又はメチル基であることが好ましい。その他具体的な酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体については、特開2014−238438号公報段落0037〜0101に記載の酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体も好ましく用いることができる。 In the above formula a1-10, it is preferable that any one of R 101 and R 102 is a hydrogen atom or a methyl group. For other polymers having a structural unit in which a specific acid group is protected with an acid-decomposable group, the acid group described in JP-A-2014-238438, paragraphs 0037 to 0101 is protected with an acid-decomposable group. A polymer having a structural unit having a group formed can also be preferably used.

<光酸発生剤>
本発明の硬化性組成物は、光酸発生剤を含有してもよい。本発明の硬化性組成物が、ポジ型感光性組成物である場合、光酸発生剤を含有することが好ましい。
本発明で使用される光酸発生剤としては、波長300nm以上、好ましくは波長300〜450nmの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造に制限されるものではない。また、波長300nm以上の活性光線に直接感応しない光酸発生剤についても、増感剤と併用することによって波長300nm以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。本発明で使用される光酸発生剤としては、pKaが4以下の酸を発生する光酸発生剤が好ましく、pKaが3以下の酸を発生する光酸発生剤がより好ましく、2以下の酸を発生する光酸発生剤が最も好ましい。
<Photo acid generator>
The curable composition of the present invention may contain a photoacid generator. When the curable composition of the present invention is a positive photosensitive composition, it preferably contains a photoacid generator.
The photoacid generator used in the present invention is preferably a compound that reacts with actinic rays having a wavelength of 300 nm or more, preferably 300 to 450 nm, and generates an acid, but is not limited to its chemical structure. In addition, a photoacid generator that is not directly sensitive to an actinic ray having a wavelength of 300 nm or more can be used as a sensitizer as long as it is a compound that reacts with an actinic ray having a wavelength of 300 nm or more and generates an acid when used in combination with a sensitizer. It can be preferably used in combination. The photoacid generator used in the present invention is preferably a photoacid generator that generates an acid having a pKa of 4 or less, more preferably a photoacid generator that generates an acid having a pKa of 3 or less, and an acid of 2 or less. Most preferred are photoacid generators that generate.

光酸発生剤の例として、トリクロロメチル−s−トリアジン類、スルホニウム塩やヨードニウム塩、第四級アンモニウム塩類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、感度の観点から、イミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物を用いることが好ましい。これら光酸発生剤は、1種単独又は2種類以上を組み合わせて使用することができる。トリクロロメチル−s−トリアジン類、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスルホニウム塩類(例えば下記の化合物)、第四級アンモニウム塩類、及びジアゾメタン誘導体の具体例としては、特開2011−221494号公報の段落番号0083〜0088に記載の化合物や、特開2011-105645号公報の段落番号0013〜0049に記載の化合物が例示でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。イミドスルホネート化合物の具体例としてはWO2011/087011号公報の段落番号0065〜0075に記載の化合物が例示でき、これらの内容は本願明細書に組み込まれる。
オキシムスルホネート化合物の具体例としては特開2014-122972号公報の段落番号0074〜0102、特開2014−238438号公報の段落番号0103〜0133に記載の化合物に記載の化合物が例示でき、その内容は本明細書に取り込まれる。
Examples of the photoacid generator include trichloromethyl-s-triazines, sulfonium salts and iodonium salts, quaternary ammonium salts, diazomethane compounds, imide sulfonate compounds, and oxime sulfonate compounds. Among these, it is preferable to use an imide sulfonate compound or an oxime sulfonate compound from the viewpoint of sensitivity. These photoacid generators can be used singly or in combination of two or more. Specific examples of trichloromethyl-s-triazines, diaryliodonium salts, triarylsulfonium salts (for example, the following compounds), quaternary ammonium salts, and diazomethane derivatives include paragraph numbers 0083 to JP-A-2011-221494. The compounds described in 0088 and the compounds described in paragraph numbers 0013 to 0049 of JP 2011-105645 A can be exemplified, and the contents thereof are incorporated in the present specification. Specific examples of the imide sulfonate compound include compounds described in paragraph numbers 0065 to 0075 of WO2011 / 087011, and the contents thereof are incorporated in the present specification.
Specific examples of the oxime sulfonate compound include compounds described in paragraphs 0074 to 0102 of JP 2014-122972 A and paragraphs 0103 to 0133 of JP 2014-238438 A. Incorporated herein.

本発明の硬化性組成物において、光酸発生剤の含有量は、硬化性組成物中の全固形成分100質量部に対して、0.1〜20質量部が好ましく、0.5〜10質量部がより好ましく、0.5〜5質量部が更に好ましい。光酸発生剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用することもできる。   In the curable composition of the present invention, the content of the photoacid generator is preferably 0.1 to 20 parts by mass, and 0.5 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid components in the curable composition. Part is more preferable, and 0.5 to 5 parts by mass is still more preferable. Only 1 type may be used for a photo-acid generator, and it can also use 2 or more types together.

<硬化性組成物の調製方法>
本発明の硬化性組成物の調製方法としては、特に制限はなく、公知の方法により調製することができ、例えば、各成分を所定の割合でかつ任意の方法で混合し、撹拌溶解及び/又は分散して硬化性組成物を調製することができる。また、例えば、各成分を、それぞれ予め溶剤に溶解させた溶液とした後、これらを所定の割合で混合して硬化性組成物を調製することもできる。以上のように調製した硬化性組成物は、例えば、孔径0.2μmのフィルター等を用いて濾過した後に、使用することもできる。
<Method for preparing curable composition>
There is no restriction | limiting in particular as a preparation method of the curable composition of this invention, It can prepare by a well-known method, For example, each component is mixed by a predetermined ratio and arbitrary methods, and stir-dissolves and / or A curable composition can be prepared by dispersing. For example, after making each component into the solution which respectively melt | dissolved in the solvent previously, these can be mixed in a predetermined ratio and a curable composition can also be prepared. The curable composition prepared as described above can be used after being filtered using, for example, a filter having a pore diameter of 0.2 μm.

(硬化膜及びその製造方法)
本発明の硬化物は、本発明の硬化性組成物を硬化させた硬化物である。また、本発明の硬化物は、硬化膜であることが好ましい。本発明の硬化膜は、本発明の硬化膜の製造方法により得られた硬化膜であることが好ましい。
本発明の硬化膜の製造方法は、本発明の硬化性組成物を硬化させ硬化膜を製造する方法であれば、特に制限はないが、以下の工程a〜工程dをこの順で含むことが好ましい。
工程a:本発明の硬化性組成物を基板上に塗布する塗布工程
工程b:塗布された硬化性組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
工程c:溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程
工程d:硬化性組成物を熱処理する熱処理工程
また、本発明の硬化膜の製造方法は、以下の工程1〜工程5をこの順で含むことが好ましい。
工程1:本発明の硬化性組成物を基板上に塗布する塗布工程
工程2:塗布された硬化性組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
工程3:溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程
工程4:露光された硬化性組成物を水性現像液により現像する現像工程
工程5:現像された硬化性組成物を熱処理する熱処理工程
(Curing film and manufacturing method thereof)
The cured product of the present invention is a cured product obtained by curing the curable composition of the present invention. Moreover, it is preferable that the hardened | cured material of this invention is a cured film. The cured film of the present invention is preferably a cured film obtained by the method for producing a cured film of the present invention.
The method for producing a cured film of the present invention is not particularly limited as long as it is a method for producing a cured film by curing the curable composition of the present invention, but may include the following steps a to d in this order. preferable.
Step a: Application step of applying the curable composition of the present invention onto a substrate Step b: Solvent removal step of removing the solvent from the applied curable composition Step c: At least the curable composition from which the solvent has been removed The exposure process which exposes a part with actinic rays Process d: The heat processing process which heat-processes a curable composition Moreover, it is preferable that the manufacturing method of the cured film of this invention includes the following processes 1-process 5 in this order.
Process 1: Application | coating process which apply | coats the curable composition of this invention on a board | substrate Process 2: The solvent removal process of removing a solvent from the apply | coated curable composition Process 3: At least curable composition from which the solvent was removed An exposure process in which a part is exposed with actinic rays Step 4: A development process in which the exposed curable composition is developed with an aqueous developer Step 5: A heat treatment process in which the developed curable composition is heat-treated

工程a〜工程dを含む硬化膜の製造方法では、現像工程が任意の工程となっており、例えば、基材上に一面に屈折率調整層を設ける場合など、パターニングを必要としない場合が例示される。   In the method for producing a cured film including steps a to d, the development step is an optional step. For example, when a refractive index adjustment layer is provided on one surface of the substrate, patterning is not required. Is done.

上記塗布工程では、本発明の硬化性組成物を基板上に塗布して溶剤を含む湿潤膜とすることが好ましい。硬化性組成物を基板へ塗布する前にアルカリ洗浄やプラズマ洗浄といった基板の洗浄を行うことができる。更に基板洗浄後にヘキサメチルジシラザン等で基板表面を処理することができる。この処理を行うことにより、硬化性組成物の基板への密着性が向上する傾向にある。
上記の基板としては、無機基板、樹脂、樹脂複合材料などが挙げられる。
無機基板としては、例えば、ガラス、石英、シリコン、シリコンナイトライド、及び、それらのような基板上にモリブデン、チタン、アルミ、銅などを蒸着した複合基板が挙げられる。
樹脂としては、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、アリルジグリコールカーボネート樹脂、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリベンズアゾール、ポリフェニレンサルファイド、ポリシクロオレフィン、ノルボルネン樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン等のフッ素樹脂、液晶ポリマー、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、アイオノマー樹脂、シアネート樹脂、架橋フマル酸ジエステル、環状ポリオレフィン、芳香族エーテル樹脂、マレイミド−オレフィン共重合体、セルロース、エピスルフィド樹脂等の合成樹脂からなる基板が挙げられる。これらの基板は、上記の形態のまま用いられる場合は少なく、通常、最終製品の形態によって、例えば、TFT素子のような多層積層構造が形成されている。
In the coating step, it is preferable to apply the curable composition of the present invention on a substrate to form a wet film containing a solvent. Before applying the curable composition to the substrate, the substrate can be cleaned such as alkali cleaning or plasma cleaning. Furthermore, the substrate surface can be treated with hexamethyldisilazane or the like after cleaning the substrate. By performing this treatment, the adhesiveness of the curable composition to the substrate tends to be improved.
Examples of the substrate include inorganic substrates, resins, and resin composite materials.
Examples of the inorganic substrate include glass, quartz, silicon, silicon nitride, and a composite substrate in which molybdenum, titanium, aluminum, copper, or the like is vapor-deposited on such a substrate.
Examples of resins include polybutylene terephthalate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, polystyrene, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, polyarylate, allyl diglycol carbonate resin, polyamide, polyimide, polyamideimide, polyetherimide, Fluorine resin such as polybenzazole, polyphenylene sulfide, polycycloolefin, norbornene resin, polychlorotrifluoroethylene, liquid crystal polymer, acrylic resin, epoxy resin, silicone resin, ionomer resin, cyanate resin, crosslinked fumaric acid diester, cyclic polyolefin, Synthetic trees such as aromatic ether resin, maleimide-olefin copolymer, cellulose, episulfide resin A substrate made of, and the like. These substrates are rarely used in the above-described form, and usually, a multilayer laminated structure such as a TFT element is formed depending on the form of the final product.

本発明の硬化性組成物は、スパッタリングにより製膜された金属膜や金属酸化物に対する密着がよいため、基板としては、スパッタリングにより製膜された金属膜を含むことが好ましい。金属としては、チタン、銅、アルミニウム、インジウム、スズ、マンガン、ニッケル、コバルト、モリブデン、タングステン、クロム、銀、ネオジウム及びこれらの酸化物又は合金であることが好ましく、モリブデン、チタン、アルミニウム、銅及びこれらの合金であることが更に好ましい。なお、金属や金属酸化物は1種単独で用いても、複数種を併用してもよい。   Since the curable composition of the present invention has good adhesion to a metal film or metal oxide formed by sputtering, the substrate preferably includes a metal film formed by sputtering. The metal is preferably titanium, copper, aluminum, indium, tin, manganese, nickel, cobalt, molybdenum, tungsten, chromium, silver, neodymium and oxides or alloys thereof, molybdenum, titanium, aluminum, copper and More preferably, these alloys are used. In addition, a metal and a metal oxide may be used individually by 1 type, or may use multiple types together.

基板への塗布方法は特に限定されず、例えば、スリットコート法、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、流延塗布法、スリットアンドスピン法、インクジェット法、印刷法(フレキソ、グラビア、スクリーン等)等の方法を用いることができる。インクジェット法、印刷法は必要な箇所に絞って組成物を設置することができ、組成物を省液化できるため、好ましい。
これらの中でも、本発明の硬化性組成物は、印刷法及びインクジェット法に好適に使用され、特に、スクリーン印刷法及びインクジェット法に好適である。
塗布したときの湿潤膜厚は特に限定されるものではなく、用途に応じた膜厚で塗布することができるが、0.05〜10μmの範囲であることが好ましい。
更に、基板に本発明の硬化性組成物を塗布する前に、特開2009−145395号公報に記載されているような、いわゆる、プリウェット法を適用することも可能である。
The coating method on the substrate is not particularly limited. For example, a slit coating method, a spray method, a roll coating method, a spin coating method, a casting coating method, a slit and spin method, an ink jet method, a printing method (flexo, gravure, screen, etc.) ) Etc. can be used. The ink jet method and the printing method are preferable because the composition can be placed in a necessary position and the composition can be saved.
Among these, the curable composition of the present invention is suitably used for a printing method and an inkjet method, and particularly suitable for a screen printing method and an inkjet method.
The wet film thickness when applied is not particularly limited and can be applied with a film thickness according to the application, but is preferably in the range of 0.05 to 10 μm.
Furthermore, before applying the curable composition of the present invention to the substrate, a so-called prewetting method as described in JP-A-2009-145395 can be applied.

上記溶剤除去工程では、塗布された上記の膜から、減圧(バキューム)及び/又は加熱等により、溶剤を除去して基板上に乾燥塗膜を形成させる。溶剤除去工程の加熱条件は、好ましくは70〜130℃で30〜300秒間程度である。
なお、上記塗布工程と上記溶剤除去工程とは、この順に行っても、同時に行っても、交互に繰り返してもよい。例えば、上記塗布工程におけるインクジェット塗布が全て終了した後、上記溶剤除去工程を行ってもよいし、基板を加熱しておき、上記塗布工程におけるインクジェット塗布方式による硬化性組成物の吐出を行いながら溶剤除去を行ってもよい。
In the solvent removal step, the solvent is removed from the applied film by vacuum (vacuum) and / or heating to form a dry coating film on the substrate. The heating conditions for the solvent removal step are preferably 70 to 130 ° C. and about 30 to 300 seconds.
In addition, the said application | coating process and the said solvent removal process may be performed in this order, may be performed simultaneously, or may be repeated alternately. For example, the solvent removal step may be performed after the inkjet coating in the coating step is completed, or the substrate is heated and the solvent is discharged while the curable composition is discharged by the inkjet coating method in the coating step. Removal may be performed.

上記露光工程は、硬化性組成物がネガ型感光性組成物である場合には、活性光線を用いて光重合開始剤より重合開始種を発生させ、エチレン性不飽和基を有する化合物等の重合性化合物の重合を行い、溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部を硬化する工程であることが好ましい。
また、硬化性組成物がポジ型感光性組成物である場合には、活性光線により光酸発生剤から酸を発生させ、酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位を有する重合体の保護基を分解して、酸基を有する構成単位を有する重合体とすることで、水性現像液への溶解性を向上させる。
上記露光工程に用いることができる露光光源としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、LED光源、エキシマレーザー発生装置などを用いることができ、i線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)などの波長300nm以上450nm以下の波長を有する活性光線が好ましく使用できる。また、必要に応じて長波長カットフィルター、短波長カットフィルター、バンドパスフィルターのような分光フィルターを通して照射光を調整することもできる。
露光装置としては、ミラープロジェクションアライナー、ステッパー、スキャナー、プロキシミティ、コンタクト、マイクロレンズアレイ、レンズスキャナ、レーザー露光など各種方式の露光装置を用いることができる。
また、上記露光工程における露光量としても、特に制限はないが、1〜3,000mJ/cm2であることが好ましく、1〜500mJ/cm2であることがより好ましい。
上記露光工程における露光は、酸素遮断された状態で行うことが、硬化促進の観点から好ましい。酸素を遮断する手段としては、窒素雰囲気下で露光したり、酸素遮断膜を設けることが例示される。
また、上記露光工程における露光は、溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部に行われればよく、例えば、全面露光であっても、パターン露光であってもよい。
また、上記露光工程後に、露光後加熱処理:Post Exposure Bake(以下、「PEB」ともいう。)を行うことができる。PEBを行う場合の温度は、30℃以上130℃以下であることが好ましく、40℃以上120℃以下がより好ましく、50℃以上110℃以下が特に好ましい。
加熱の方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、ホットプレート、オーブン、赤外線ヒーターなどが挙げられる。
また、加熱時間としては、ホットプレートの場合は1分〜30分程度が好ましく、それ以外の場合は20分〜120分程度が好ましい。この範囲で基板、装置へのダメージなく加熱することができる。
In the exposure step, when the curable composition is a negative photosensitive composition, a polymerization initiating species is generated from the photopolymerization initiator using actinic rays, and polymerization of a compound having an ethylenically unsaturated group is performed. It is preferable to perform the polymerization of the curable compound to cure at least a part of the curable composition from which the solvent has been removed.
In addition, when the curable composition is a positive photosensitive composition, it has a structural unit that has an acid group generated from a photoacid generator by actinic rays and the acid group is protected by an acid-decomposable group. By dissolving the protective group of the polymer to obtain a polymer having a structural unit having an acid group, the solubility in an aqueous developer is improved.
As an exposure light source that can be used in the above exposure process, a low-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a chemical lamp, an LED light source, an excimer laser generator, and the like can be used, i-line (365 nm), h-line (405 nm). ) And actinic rays having a wavelength of 300 nm to 450 nm, such as g-line (436 nm), can be preferably used. Moreover, irradiation light can also be adjusted through spectral filters, such as a long wavelength cut filter, a short wavelength cut filter, and a band pass filter, as needed.
As the exposure apparatus, various types of exposure apparatuses such as a mirror projection aligner, a stepper, a scanner, a proximity, a contact, a microlens array, a lens scanner, and a laser exposure can be used.
Further, even if the exposure amount in the exposure step is not particularly limited, it is preferably from 1~3,000mJ / cm 2, more preferably 1 to 500 mJ / cm 2.
The exposure in the exposure step is preferably performed in a state where oxygen is blocked from the viewpoint of curing acceleration. Examples of means for blocking oxygen include exposure in a nitrogen atmosphere and provision of an oxygen blocking film.
Moreover, the exposure in the said exposure process should just be performed to at least one part of the curable composition from which the solvent was removed, for example, may be whole surface exposure or pattern exposure.
Further, after the exposure step, post-exposure heat treatment (Post Exposure Bake (hereinafter also referred to as “PEB”)) can be performed. The temperature for performing PEB is preferably 30 ° C. or higher and 130 ° C. or lower, more preferably 40 ° C. or higher and 120 ° C. or lower, and particularly preferably 50 ° C. or higher and 110 ° C. or lower.
The heating method is not particularly limited, and a known method can be used. For example, a hot plate, an oven, an infrared heater, etc. are mentioned.
The heating time is preferably about 1 to 30 minutes in the case of a hot plate, and is preferably about 20 to 120 minutes in other cases. Within this range, the substrate and the apparatus can be heated without damage.

本発明の硬化膜の製造方法は、露光された硬化性組成物を現像液により現像する現像工程を更に含むことが好ましい。
現像工程では、パターン状に露光された硬化性組成物を、溶剤やアルカリ性現像液で現像し、パターンを形成する。現像工程で使用する現像液には、塩基性化合物が含まれることが好ましい。塩基性化合物としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物類;炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類;重炭酸ナトリウム、重炭酸カリウムなどのアルカリ金属重炭酸塩類;テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、コリンヒドロキシド等のアンモニウムヒドロキシド類等のアンモニウムヒドロキシド類;ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウムなどの水溶液を使用することができる。また、上記アルカリ類の水溶液にメタノールやエタノールなどの水溶性有機溶剤や界面活性剤を適当量添加した水溶液を現像液として使用することもできる。
好ましい現像液として、テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの0.4〜2.5質量%水溶液を挙げることができる。
現像液のpHは、好ましくは10.0〜14.0である。現像時間は、好ましくは30〜500秒間であり、また、現像の手法は液盛り法(パドル法)、シャワー法、ディップ法等のいずれでもよい。
現像の後に、リンス工程を行うこともできる。リンス工程では、現像後の基板を純水などで洗うことで、付着している現像液除去、現像残渣除去を行う。リンス方法は公知の方法を用いることができる。例えばシャワーリンスやディップリンスなどを挙げることができる。
パターン露光及び現像については、公知の方法や公知の現像液を用いることができる。例えば、特開2011−186398号公報、特開2013−83937号公報に記載のパターン露光方法及び現像方法を好適に用いることができる。
It is preferable that the manufacturing method of the cured film of this invention further includes the image development process which develops the exposed curable composition with a developing solution.
In the development step, the pattern-exposed curable composition is developed with a solvent or an alkaline developer to form a pattern. The developer used in the development step preferably contains a basic compound. Examples of the basic compound include alkali metal hydroxides such as lithium hydroxide, sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; alkalis such as sodium bicarbonate and potassium bicarbonate Metal bicarbonates; ammonium hydroxides such as tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetrabutylammonium hydroxide, benzyltrimethylammonium hydroxide, and choline hydroxide; An aqueous solution of sodium silicate, sodium metasilicate, or the like can be used. An aqueous solution obtained by adding an appropriate amount of a water-soluble organic solvent such as methanol or ethanol or a surfactant to the alkaline aqueous solution can also be used as a developer.
As a preferred developing solution, a 0.4 to 2.5% by mass aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide can be mentioned.
The pH of the developer is preferably 10.0 to 14.0. The development time is preferably 30 to 500 seconds, and the development method may be any of a liquid piling method (paddle method), a shower method, a dip method, and the like.
A rinsing step can also be performed after development. In the rinsing step, the developed substrate and the development residue are removed by washing the developed substrate with pure water or the like. A known method can be used as the rinsing method. For example, a shower rinse, a dip rinse, etc. can be mentioned.
For pattern exposure and development, a known method or a known developer can be used. For example, the pattern exposure method and the development method described in JP 2011-186398 A and JP 2013-83937 A can be suitably used.

本発明の硬化膜の製造方法は、上記露光工程後、硬化性組成物を熱処理する工程を含むことが好ましい。本発明の硬化性組成物を露光した後に熱処理を行うことにより、より強度に優れた硬化膜を得ることができる。
上記熱処理の温度としては、80℃〜300℃であることが好ましく、100℃〜280℃であることがより好ましく、120℃〜250℃であることが特に好ましい。上記態様であると、成分Aとしてa1及び/又はa2を用いた場合には、成分Aの縮合が適度に生じると推定され、硬化膜の物性により優れる。
また、上記熱処理の時間としては、特に制限はないが、1分〜360分が好ましく、5分〜240分がより好ましく、10分〜120分が更に好ましい。
また、上記本発明の硬化膜の製造方法における光及び/又は熱による硬化は、連続して行ってもよいし、逐次行ってもよい。
また、熱処理を行う際は窒素雰囲気下で行うことにより、透明性をより向上させることもできる。
熱処理工程(ポストベーク)の前に、比較的低温でベークを行った後に熱処理工程を行うこともできる(ミドルベーク工程の追加)。ミドルベークを行う場合は、90〜150℃で1〜60分加熱した後に、200℃以上の高温でポストベークすることが好ましい。また、ミドルベーク、ポストベークを3段階以上の多段階に分けて加熱することもできる。このようなミドルベーク、ポストベークの工夫により、パターンのテーパー角を調整することができる。これらの加熱は、ホットプレート、オーブン、赤外線ヒーターなど、公知の加熱方法を使用することができる。
なお、ポストベークに先立ち、パターンを形成した基板に活性光線により全面再露光(ポスト露光)した後、ポストベークすることにより、成分A同士の縮合反応、及び/又は、露光部分に残存する光重合開始剤から熱分解により開始種を発生させ、架橋工程を促進する触媒として機能すると推定され、膜硬化を促進することができる。ポスト露光工程を含む場合の好ましい露光量としては、100〜3,000mJ/cm2が好ましく、100〜500mJ/cm2が特に好ましい。
It is preferable that the manufacturing method of the cured film of this invention includes the process of heat-processing a curable composition after the said exposure process. By performing a heat treatment after exposing the curable composition of the present invention, a cured film having higher strength can be obtained.
As temperature of the said heat processing, it is preferable that it is 80 to 300 degreeC, It is more preferable that it is 100 to 280 degreeC, It is especially preferable that it is 120 to 250 degreeC. In the above embodiment, when a1 and / or a2 is used as component A, it is presumed that condensation of component A occurs moderately, and the physical properties of the cured film are superior.
The time for the heat treatment is not particularly limited, but is preferably 1 minute to 360 minutes, more preferably 5 minutes to 240 minutes, and still more preferably 10 minutes to 120 minutes.
Moreover, the curing by light and / or heat in the method for producing a cured film of the present invention may be performed continuously or sequentially.
In addition, when the heat treatment is performed in a nitrogen atmosphere, the transparency can be further improved.
Prior to the heat treatment step (post-bake), the heat treatment step can be performed after baking at a relatively low temperature (addition of a middle bake step). When performing middle baking, it is preferable to post-bake at a high temperature of 200 ° C. or higher after heating at 90 to 150 ° C. for 1 to 60 minutes. Further, middle baking and post baking can be heated in three or more stages. The taper angle of the pattern can be adjusted by devising such middle baking and post baking. These heating methods can use well-known heating methods, such as a hotplate, oven, and an infrared heater.
Prior to post-baking, the entire surface is re-exposed (post-exposure) to the pattern-formed substrate with actinic rays, and then post-baked to cause condensation reaction between components A and / or photopolymerization remaining in the exposed portion. It is estimated that an initiator is generated from the initiator by thermal decomposition and functions as a catalyst for accelerating the cross-linking process, and film curing can be promoted. As a preferable exposure amount when the post-exposure step is included, 100 to 3,000 mJ / cm 2 is preferable, and 100 to 500 mJ / cm 2 is particularly preferable.

(硬化膜)
本発明の硬化膜や硬化物(以下、硬化膜等ということがある。)は、本発明の硬化性組成物を硬化して得られたものである。
本発明の硬化膜等は、上述したように現像した硬化膜等であっても、現像していない硬化膜等であってもよいが、本発明の効果をより発揮できる現像した硬化膜等であることが好ましい。
本発明の硬化膜等は、屈折率が高く、高い透明性を有するため、マイクロレンズ、光導波路、反射防止膜、太陽電池や有機EL発光素子の光取り込み/取り出し効率改善層、LED用封止材及びLED用チップコート材等の光学部材、有機EL表示装置や液晶表示装置などの表示装置に使用される保護膜や絶縁膜、タッチパネルに使用される配線電極の保護膜として好適に用いることができる。
また、本発明の硬化膜は、液晶表示装置又は有機EL表示装置等におけるカラーフィルターの保護膜、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサー、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)用デバイスの構造部材等にも好適に用いることができる。
(Cured film)
The cured film or cured product of the present invention (hereinafter sometimes referred to as a cured film) is obtained by curing the curable composition of the present invention.
The cured film or the like of the present invention may be a cured film or the like developed as described above, or a cured film or the like that has not been developed, but a developed cured film or the like that can further exert the effects of the present invention. Preferably there is.
Since the cured film of the present invention has a high refractive index and high transparency, the microlens, the optical waveguide, the antireflection film, the layer for improving the light intake / extraction efficiency of the solar cell or the organic EL light emitting element, the LED sealing It is suitably used as a protective film for a wiring electrode used in a touch panel, an optical member such as an LED chip coating material, a protective film or an insulating film used in a display device such as an organic EL display device or a liquid crystal display device. it can.
The cured film of the present invention is a protective film for a color filter in a liquid crystal display device or an organic EL display device, a spacer for keeping the thickness of a liquid crystal layer in the liquid crystal display device constant, and for MEMS (Micro Electro Mechanical Systems). It can be suitably used for a structural member of a device.

また、本発明の硬化膜等は、タッチパネルに使用される配線電極等の視認性低減層に使用することができる。なお、タッチパネルに使用される配線電極の視認性低減層とは、タッチパネルに使用される配線電極等の視認性を低減する、すなわち、配線電極等を見えにくくする層であり、例えば、タッチ検出電極(例えば、酸化インジウムスズ(ITO)製)間の層間絶縁膜、電極の保護膜(オーバーコート膜)などが挙げられる。また、インデックスマッチング層(IM層、又は、屈折率調整層ということがある。)にも好適である。インデックスマッチング層とは、表示装置の光の反射率や透過率を調整する層である。インデックスマッチング層については特開2012−146217号公報に詳述されており、この内容は本明細書取り込まれる。本発明の硬化膜を視認性低減層に使用することで優れた視認性のタッチパネルとすることができる。
中でも、本発明の硬化膜は、表示装置等における層間絶縁膜又はオーバーコート膜として好適である。
タッチ検出電極間の層間絶縁膜や保護膜に使用される場合は、視認性改良の観点から硬化膜の屈折率は電極の屈折率に近いことが好ましく、具体的には波長550nmにおける屈折率が1.60〜1.90であることが好ましく、1.62〜1.85であることがより好ましい。
Moreover, the cured film of this invention can be used for visibility reduction layers, such as a wiring electrode used for a touch panel. Note that the visibility reduction layer of the wiring electrode used for the touch panel is a layer that reduces the visibility of the wiring electrode used for the touch panel, that is, the layer that makes the wiring electrode etc. difficult to see. Examples thereof include interlayer insulating films (for example, made of indium tin oxide (ITO)), electrode protective films (overcoat films), and the like. It is also suitable for an index matching layer (sometimes referred to as an IM layer or a refractive index adjustment layer). The index matching layer is a layer for adjusting the light reflectance and transmittance of the display device. The index matching layer is described in detail in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-146217, the contents of which are incorporated herein. An excellent visibility touch panel can be obtained by using the cured film of the present invention for the visibility-reducing layer.
Among these, the cured film of the present invention is suitable as an interlayer insulating film or an overcoat film in a display device or the like.
When used as an interlayer insulating film or a protective film between touch detection electrodes, the refractive index of the cured film is preferably close to the refractive index of the electrode from the viewpoint of improving visibility, and specifically, the refractive index at a wavelength of 550 nm is It is preferably 1.60 to 1.90, more preferably 1.62 to 1.85.

(液晶表示装置)
本発明の液晶表示装置は、本発明の硬化膜を有することを特徴とする。
本発明の液晶表示装置としては、本発明の硬化性組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の液晶表示装置を挙げることができる。
例えば、本発明の液晶表示装置が具備するTFT(Thin-Film Transistor)の具体例としては、アモルファスシリコン−TFT、低温ポリシリコン−TFT、酸化物半導体TFT(例えば、インジウムガリウム亜鉛酸化物、いわゆる、IGZO)等が挙げられる。本発明の硬化膜は電気特性に優れるため、これらのTFTに組み合わせて好ましく用いることができる。
また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶駆動方式としてはTN(Twisted Nematic)方式、VA(Vertical Alignment)方式、IPS(In-Plane-Switching)方式、FFS(Fringe Field Switching)方式、OCB(Optically Compensated Bend)方式などが挙げられる。
パネル構成においては、COA(Color Filter on Array)方式の液晶表示装置でも本発明の硬化膜を用いることができ、例えば、特開2005−284291号公報の有機絶縁膜(115)や、特開2005−346054号公報の有機絶縁膜(212)として用いることができる。また、本発明の液晶表示装置が取りうる液晶配向膜の具体的な配向方式としてはラビング配向法、光配向法などが挙げられる。また、特開2003−149647号公報や特開2011−257734号公報に記載のPSA(Polymer Sustained Alignment)技術によってポリマー配向支持されていてもよい。
また、本発明の硬化性組成物及び本発明の硬化膜は、上記用途に限定されず種々の用途に使用することができる。例えば、平坦化膜や層間絶縁膜以外にも、カラーフィルターの保護膜や、液晶表示装置における液晶層の厚みを一定に保持するためのスペーサーや固体撮像素子においてカラーフィルター上に設けられるマイクロレンズ等に好適に用いることができる。
(Liquid crystal display device)
The liquid crystal display device of the present invention has the cured film of the present invention.
The liquid crystal display device of the present invention is not particularly limited except that it has a flattening film and an interlayer insulating film formed using the curable composition of the present invention, and known liquid crystal display devices having various structures are used. Can be mentioned.
For example, as specific examples of TFT (Thin-Film Transistor) included in the liquid crystal display device of the present invention, amorphous silicon TFT, low temperature polysilicon TFT, oxide semiconductor TFT (for example, indium gallium zinc oxide, so-called, IGZO) and the like. Since the cured film of the present invention is excellent in electrical characteristics, it can be preferably used in combination with these TFTs.
Further, liquid crystal driving methods that can be taken by the liquid crystal display device of the present invention include TN (Twisted Nematic) method, VA (Vertical Alignment) method, IPS (In-Plane-Switching) method, FFS (Fringe Field Switching) method, OCB (OCB) method. Optically Compensated Bend) method.
In the panel configuration, the cured film of the present invention can also be used in a COA (Color Filter on Array) type liquid crystal display device. For example, the organic insulating film (115) of Japanese Patent Laid-Open No. 2005-284291, -346054 can be used as the organic insulating film (212). Specific examples of the alignment method of the liquid crystal alignment film that can be taken by the liquid crystal display device of the present invention include a rubbing alignment method and a photo alignment method. Further, the polymer alignment may be supported by the PSA (Polymer Sustained Alignment) technique described in JP2003-149647A or JP2011-257734A.
Moreover, the curable composition of this invention and the cured film of this invention are not limited to the said use, but can be used for various uses. For example, in addition to the planarization film and interlayer insulating film, a protective film for the color filter, a spacer for keeping the thickness of the liquid crystal layer in the liquid crystal display device constant, a microlens provided on the color filter in the solid-state imaging device, etc. Can be suitably used.

図1は、アクティブマトリックス方式の液晶表示装置10の一例を示す概念的断面図である。このカラー液晶表示装置10は、背面にバックライトユニット12を有する液晶パネルであって、液晶パネルは、偏光フィルムが貼り付けられた2枚のガラス基板14,15の間に配置されたすべての画素に対応するTFT16の素子が配置されている。ガラス基板上に形成された各素子には、硬化膜17中に形成されたコンタクトホール18を通して、画素電極を形成するITO透明電極19が配線されている。ITO透明電極19の上には、液晶20の層とブラックマトリックスを配置したRGBカラーフィルター22が設けられている。
バックライトの光源としては、特に限定されず公知の光源を用いることができる。例えば白色LED、青色・赤色・緑色などの多色LED、蛍光灯(冷陰極管)、有機ELなどを挙げることができる。
また、液晶表示装置は、3D(立体視)型のものとしたり、タッチパネル型のものとしたりすることも可能である。更にフレキシブル型にすることも可能であり、特開2011−145686号公報に記載の第2層間絶縁膜(48)や、特開2009−258758号公報に記載の層間絶縁膜(520)として用いることができる。
FIG. 1 is a conceptual cross-sectional view showing an example of an active matrix liquid crystal display device 10. The color liquid crystal display device 10 is a liquid crystal panel having a backlight unit 12 on the back surface, and the liquid crystal panel includes all pixels disposed between two glass substrates 14 and 15 having a polarizing film attached thereto. The elements of the TFT 16 corresponding to are arranged. Each element formed on the glass substrate is wired with an ITO transparent electrode 19 that forms a pixel electrode through a contact hole 18 formed in the cured film 17. On the ITO transparent electrode 19, an RGB color filter 22 in which a liquid crystal 20 layer and a black matrix are arranged is provided.
The light source of the backlight is not particularly limited, and a known light source can be used. For example, a white LED, a multicolor LED such as blue, red, and green, a fluorescent lamp (cold cathode tube), and an organic EL can be used.
Further, the liquid crystal display device can be a 3D (stereoscopic) type or a touch panel type. Further, a flexible type can also be used, and it is used as the second interlayer insulating film (48) described in JP2011-145686A or the interlayer insulating film (520) described in JP2009-258758A. Can do.

(有機EL表示装置)
本発明の有機EL表示装置は、本発明の硬化膜を有することを特徴とする。
本発明の有機EL表示装置としては、本発明の硬化性組成物を用いて形成される平坦化膜や層間絶縁膜を有すること以外は特に制限されず、様々な構造をとる公知の各種有機EL表示装置や液晶表示装置を挙げることができる。
例えば、本発明の有機EL表示装置が具備するTFT(Thin-Film Transistor)の具体例としては、アモルファスシリコン−TFT、低温ポリシリコン−TFT、酸化物半導体TFT等が挙げられる。本発明の硬化膜は電気特性に優れるため、これらのTFTに組み合わせて好ましく用いることができる。
(Organic EL display device)
The organic EL display device of the present invention has the cured film of the present invention.
The organic EL display device of the present invention is not particularly limited except that it has a planarizing film and an interlayer insulating film formed using the curable composition of the present invention, and various known organic EL devices having various structures. A display device and a liquid crystal display device can be given.
For example, specific examples of TFT (Thin-Film Transistor) included in the organic EL display device of the present invention include amorphous silicon-TFT, low-temperature polysilicon-TFT, and oxide semiconductor TFT. Since the cured film of the present invention is excellent in electrical characteristics, it can be preferably used in combination with these TFTs.

図2は、有機EL表示装置の一例の構成概念図である。ボトムエミッション型の有機EL表示装置における基板の模式的断面図を示し、平坦化膜4を有している。
ガラス基板6上にボトムゲート型のTFT1を形成し、このTFT1を覆う状態でSi34からなる絶縁膜3が形成されている。絶縁膜3に、ここでは図示を省略したコンタクトホールを形成した後、このコンタクトホールを介してTFT1に接続される配線2(高さ1.0μm)が絶縁膜3上に形成されている。配線2は、TFT1間、又は、後の工程で形成される有機EL素子とTFT1とを接続するためのものである。
更に、配線2の形成による凹凸を平坦化するために、配線2による凹凸を埋め込む状態で絶縁膜3上に平坦化膜4が形成されている。
平坦化膜4上には、ボトムエミッション型の有機EL素子が形成されている。すなわち、平坦化膜4上に、ITOからなる第一電極5が、コンタクトホール7を介して配線2に接続させて形成されている。また、第一電極5は、有機EL素子の陽極に相当する。
第一電極5の周縁を覆う形状の絶縁膜8が形成されており、この絶縁膜8を設けることによって、第一電極5とこの後の工程で形成する第二電極との間のショートを防止することができる。
更に、図2には図示していないが、所望のパターンマスクを介して、正孔輸送層、有機発光層、電子輸送層を順次蒸着して設け、次いで、基板上方の全面にAlから成る第二電極を形成し、封止用ガラス板と紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて貼り合わせることで封止し、各有機EL素子にこれを駆動するためのTFT1が接続されてなるアクティブマトリックス型の有機EL表示装置が得られる。
FIG. 2 is a conceptual diagram of an example of an organic EL display device. A schematic cross-sectional view of a substrate in a bottom emission type organic EL display device is shown, and a planarizing film 4 is provided.
A bottom gate type TFT 1 is formed on a glass substrate 6, and an insulating film 3 made of Si 3 N 4 is formed so as to cover the TFT 1. A contact hole (not shown) is formed in the insulating film 3, and then a wiring 2 (height: 1.0 μm) connected to the TFT 1 through the contact hole is formed on the insulating film 3. The wiring 2 is used to connect the TFT 1 with an organic EL element formed between the TFTs 1 or in a later process.
Further, in order to flatten the unevenness due to the formation of the wiring 2, a planarizing film 4 is formed on the insulating film 3 in a state where the unevenness due to the wiring 2 is embedded.
On the planarizing film 4, a bottom emission type organic EL element is formed. That is, the first electrode 5 made of ITO is formed on the planarizing film 4 so as to be connected to the wiring 2 through the contact hole 7. The first electrode 5 corresponds to the anode of the organic EL element.
An insulating film 8 having a shape covering the periphery of the first electrode 5 is formed. By providing the insulating film 8, a short circuit between the first electrode 5 and the second electrode formed in the subsequent process is prevented. can do.
Further, although not shown in FIG. 2, a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron transport layer are sequentially deposited through a desired pattern mask, and then a second layer made of Al is formed on the entire surface above the substrate. An active matrix organic material in which two electrodes are formed and sealed by bonding using a sealing glass plate and an ultraviolet curable epoxy resin, and each organic EL element is connected to a TFT 1 for driving it. An EL display device is obtained.

(タッチパネル及びタッチパネル表示装置)
本発明のタッチパネルは、絶縁層及び/又は保護層の、全部又は一部が本発明の硬化性組成物の硬化物からなるタッチパネルである。また、本発明のタッチパネルは、透明基板、電極及び絶縁層及び/又は保護層を少なくとも有することが好ましい。
本発明のタッチパネル表示装置は、本発明のタッチパネルを有するタッチパネル表示装置であることが好ましい。本発明のタッチパネルとしては、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、電磁誘導方式など公知の方式いずれでもよい。中でも、静電容量方式が好ましい。
静電容量方式のタッチパネルとしては、特開2010−28115号公報に開示されるものや、国際公開第2012/057165号に開示されるものが挙げられる。この他のタッチパネルとしては、いわゆる、インセル型(例えば、特表2012−517051号公報の図5、図6、図7、図8)、いわゆる、オンセル型(例えば、特開2012−43394号公報の図14、国際公開第2012/141148号の図2(b))、OGS型、TOL型、その他の構成(例えば、特開2013−164871号公報の図6)を挙げることができる。
(Touch panel and touch panel display device)
The touch panel of the present invention is a touch panel in which all or part of the insulating layer and / or protective layer is made of a cured product of the curable composition of the present invention. Moreover, it is preferable that the touch panel of this invention has a transparent substrate, an electrode, an insulating layer, and / or a protective layer at least.
The touch panel display device of the present invention is preferably a touch panel display device having the touch panel of the present invention. As the touch panel of the present invention, any of known methods such as a resistive film method, a capacitance method, an ultrasonic method, and an electromagnetic induction method may be used. Among these, the electrostatic capacity method is preferable.
Examples of the capacitive touch panel include those disclosed in JP 2010-28115 A and those disclosed in International Publication No. 2012/057165. As another touch panel, a so-called in-cell type (for example, FIG. 5, FIG. 6, FIG. 7 and FIG. 8 of JP-T-2012-517051), a so-called on-cell type (for example, JP-A-2012-43394). FIG. 14, FIG. 2 (b) of International Publication No. 2012/141148, OGS type, TOL type, and other configurations (for example, FIG. 6 of JP 2013-164871 A).

以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、「%」は質量基準である。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.

(表面張力の測定)
表面張力は、JIS K2241に従い、デュヌイ表面張力計にて20℃で測定した。
(Measurement of surface tension)
The surface tension was measured at 20 ° C. with a Dunui surface tension meter according to JIS K2241.

(粘度の測定)
東機産業(株)製、RE85L形粘度計(ローター名称;コーン1°、34’×R24)にて測定した。液温は、20℃とした。
(Measurement of viscosity)
Measured with a RE85L viscometer (rotor name; cone 1 °, 34 ′ × R24) manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd. The liquid temperature was 20 ° C.

実施例及び比較例で使用した各種成分は以下の通りである。
(成分A)
・A−1:チタノキサン、B−4、日本曹達(株)製、固形分98質量%
・A−2:チタンテトラn−ブトキシド、和光純薬工業(株)製
・A−3:ジルコノキサン、ZA−65、マツモトファインケミカル(株)製、固形分87%(ブタノール13質量%)
(成分B)
・B−1:ウレタンアクリレート、15官能、U−15HA、新中村化学工業(株)製
・B−2:ウレタンアクリレート、15官能、UA−32P、Kowa(株)製
・B−3:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、DPHA、日本化薬(株)製
・B−4:ペンタエリスリトールテトラアクリレート、A−TMMT、新中村化学工業(株)製
Various components used in Examples and Comparative Examples are as follows.
(Component A)
A-1: titanoxane, B-4, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd., solid content 98% by mass
A-2: Titanium tetra n-butoxide, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd. A-3: Zirconoxane, ZA-65, manufactured by Matsumoto Fine Chemical Co., Ltd., solid content 87% (butanol 13% by mass)
(Component B)
B-1: Urethane acrylate, 15 functional, U-15HA, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. B-2: Urethane acrylate, 15 functional, UA-32P, manufactured by Kowa Corporation B-3: Dipenta Erythritol hexaacrylate, DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. B-4: Pentaerythritol tetraacrylate, A-TMMT, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.

(成分C)
・C−1−1:ターピネオールC(日本テルペン化学(株)製)
・C−1−2:ジヒドロターピネオール(日本テルペン化学(株)製)
・C−1−3:テルソブルブDTO−210(日本テルペン化学(株)製)
・C−1−4:テルソルブTHA−90(日本テルペン化学(株)製)
・C−1−5:テルソルブTHA−70(日本テルペン化学(株)製)
・C−1−6:テルソルブTOE−100(日本テルペン化学(株)製)
(Component C)
-C-1-1: Turpineol C (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.)
C-1-2: dihydroterpineol (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.)
C-1-3: Tersovrub DTO-210 (Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.)
C-1-4: Tersolve THA-90 (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.)
C-1-5: Tersolve THA-70 (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.)
C-1-6: Tersolve TOE-100 (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.)

Figure 2016056341
Figure 2016056341

(比較例)
・C’−1−1:PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)((株)ダイセル製)
・C’−1−2:ハイソルブEDE(ジエチレングリコールジエチルエーテル)(東邦化学工業(株)製)
・C’−1−3:MEDG(ジエチレングリコールエチルメチルエーテル)(東邦化学工業(株)製)
・C’−1−4:ハイソルブEPH(エチレングリコールモノフェニルエーテル)(東邦化学工業(株)製)
・C’−1−5:テトラヒドロフルフリルアルコール(和光純薬工業(株)製)
・C’−1−6:ジヒドロターピニルメチルエーテル(日本テルペン化学(株)製)
・C’−1−7:テルソルブMTPH(イソボルニルシクロヘキサノール)(日本テルペン化学(株)製)
・C’−1−8:ジヒドロターピニルアセテート(日本テルペン化学(株)製)
(その他)
・C−2−1:ハイソルブEDE(ジエチレングリコールジエチルエーテル、20℃における粘度:1.47mPa・s)(東邦化学工業(株)製)
・C−2−2:アセチルアセトン(20℃における粘度:0.6mPa・s)(和光純薬工業(株)製)
(Comparative example)
C'-1-1: PGMEA (propylene glycol monomethyl ether acetate) (manufactured by Daicel Corporation)
C′-1-2: High Solve EDE (diethylene glycol diethyl ether) (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.)
C′-1-3: MEDG (diethylene glycol ethyl methyl ether) (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.)
C′-1-4: High Solve EPH (ethylene glycol monophenyl ether) (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.)
C′-1-5: Tetrahydrofurfuryl alcohol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
C′-1-6: dihydroterpinyl methyl ether (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.)
C'-1-7: Tersolve MTPH (isobornyl cyclohexanol) (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.)
C′-1-8: dihydroterpinyl acetate (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.)
(Other)
C-2-1: High Solve EDE (diethylene glycol diethyl ether, viscosity at 20 ° C .: 1.47 mPa · s) (manufactured by Toho Chemical Industry Co., Ltd.)
C-2-2: Acetylacetone (viscosity at 20 ° C .: 0.6 mPa · s) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

Figure 2016056341
Figure 2016056341

(成分D)
・D−1:イルガキュアーCGI−242(1−[9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9H−カルバゾール−3−イル]エタン−1−オンオキシム−O−アセテート、チバスペシャルティケミカルズ社製)
(その他)
・KBM−5103:3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業(株)製
(Component D)
D-1: Irgacure CGI-242 (1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazol-3-yl] ethane-1-one oxime-O-acetate, manufactured by Ciba Specialty Chemicals )
(Other)
KBM-5103: 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

(実施例1)
<硬化性組成物の作製>
以下のようにして、調製した。
・A−1:B−4(チタノキサン、日本曹達(株)、固形分98%):2.60部
・B−1:ウレタンアクリレート(U−15HA、15官能、新中村化学工業(株)製):2.16部
・B−2:ウレタンアクリレート(UA−32P、15官能、Kowa(株)製):2.16部
・C−1−1:ターピネオールC(日本テルペン化学(株)製):80部
・C−2−1:ハイソルブEDE(東邦化学工業(株)製):10部
・C−2−2:アセチルアセトン(和光純薬工業(株)製):2.86部
・D−1:IRGACURE OXE−02(BASF社製):0.30部
・F−1:メガファックF−554(パーフルオロアルキル基含有ノニオン界面活性剤、DIC(株)製):0.004部
上記の成分をマグネチックスターラーで1時間撹拌し、孔径0.3μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで濾過し、実施例1の硬化性組成物を得た。
(Example 1)
<Preparation of curable composition>
Prepared as follows.
A-1: B-4 (Titanoxane, Nippon Soda Co., Ltd., solid content 98%): 2.60 parts B-1: Urethane acrylate (U-15HA, 15 functional, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) ): 2.16 parts · B-2: urethane acrylate (UA-32P, 15-functional, manufactured by Kowa Co., Ltd.): 2.16 parts · C-1-1: terpineol C (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.) : 80 parts · C-2-1: Hisolv EDE (manufactured by Toho Chemical Co., Ltd.): 10 parts · C-2-2: Acetylacetone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 2.86 parts · D- 1: IRGACURE OXE-02 (manufactured by BASF): 0.30 part F-1: Megafac F-554 (perfluoroalkyl group-containing nonionic surfactant, manufactured by DIC Corporation): 0.004 part Ingredients with magnetic stirrer for 1 hour And 拌, filtered through a polytetrafluoroethylene filter with a pore size of 0.3 [mu] m, to obtain a curable composition of Example 1.

(実施例2〜6、比較例1〜9)
実施例1のC−1−1を表1に記載の各溶剤に変更し、また、添加量を表1に従って変更した以外は実施例1と同様にして、硬化性組成物を得た。
(実施例7)
実施例2のB−1及びB−2を、それぞれB−3に変更した以外は実施例2と同様にして、硬化性組成物を得た。
(Examples 2-6, Comparative Examples 1-9)
C-1-1 of Example 1 was changed into each solvent of Table 1, and the curable composition was obtained like Example 1 except having changed the addition amount according to Table 1.
(Example 7)
A curable composition was obtained in the same manner as in Example 2 except that B-1 and B-2 in Example 2 were each changed to B-3.

(実施例8)
実施例4においてA−1の添加量を3.25部に変更した以外は実施例4と同様にして、硬化性組成物を得た。
(Example 8)
A curable composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that the amount of A-1 added was changed to 3.25 parts in Example 4.

(実施例9)
テルソルブTHA−90の添加量を60部に変更した以外は実施例4と同様にして硬化性組成物を得た。
Example 9
A curable composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that the amount of Telsolve THA-90 added was changed to 60 parts.

(実施例10)
A−1をA−2に変更した以外は実施例4と同様にして、硬化性組成物を得た。
(Example 10)
A curable composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that A-1 was changed to A-2.

(実施例11)
A−1をA−3に変更し、添加するC−1及びC−2−1の量を表1のように変更した以外は実施例4と同様にして、硬化性組成物を得た。
(Example 11)
A curable composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that A-1 was changed to A-3 and the amounts of C-1 and C-2-1 added were changed as shown in Table 1.

(実施例12)
C−2−2を使用せず、テルソルブTHA−90の添加量を90部に変更した以外は実施例4と同様にして硬化性組成物を得た。
Example 12
A curable composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that C-2-2 was not used and the addition amount of Tersolve THA-90 was changed to 90 parts.

(実施例13)
実施例4のB−1及びB−2を、それぞれB−4に変更した以外は実施例4と同様にして、硬化性組成物を得た。
(Example 13)
A curable composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that B-1 and B-2 in Example 4 were each changed to B-4.

(実施例14)
実施例1において、ターピネオールCの添加量を32部に変更し、更に、ハイソルブEDEの添加量を4部に変更した以外は実施例1と同様にして硬化性組成物を得た。
(Example 14)
In Example 1, the curable composition was obtained like Example 1 except having changed the addition amount of the terpineol C into 32 parts, and also having changed the addition amount of the high solve EDE into 4 parts.

(実施例15)
実施例4において、テルソルブTHA−90の添加量を100部に変更し、更に、ハイソルブEDEの添加量を12.5部に変更した以外は実施例4と同様にして硬化性組成物を得た。
(Example 15)
In Example 4, the curable composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that the addition amount of Telsolve THA-90 was changed to 100 parts and that the addition amount of Hisolv EDE was changed to 12.5 parts. .

(実施例16)
KBM−5103を組成物の全固形分量に対し1質量%添加した以外は実施例4と同様にして硬化性組成物を得た。
(Example 16)
A curable composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that 1% by mass of KBM-5103 was added to the total solid content of the composition.

(実施例17)
<酸化チタン分散液1の調製>
下記組成の分散液を調合し、これをジルコニアビーズ(0.3mmφ)17,000部と混合し、ペイントシェーカーを用いて12時間分散を行った。ジルコニアビ−ズ(0.3mmφ)を濾別し、分散液を得た。
・二酸化チタン(石原産業(株)製、商品名:TTO−51(A)、平均一次粒径:10〜30nm):1,875部
・分散剤(DISPERBYK−111、100%品):660部
・溶剤(PGMEA、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート):1,710部
なお、使用した成分は以下の通りである。
TTO−51(A):二酸化チタン、石原産業(株)製、平均一次粒径10〜30nm、表面処理種:Al(OH)3
DISPERBYK−111:リン酸エステル構造を1以上有する高分子分散剤、ビックケミー社製
(Example 17)
<Preparation of titanium oxide dispersion 1>
A dispersion having the following composition was prepared, mixed with 17,000 parts of zirconia beads (0.3 mmφ), and dispersed for 12 hours using a paint shaker. Zirconia beads (0.3 mmφ) were separated by filtration to obtain a dispersion.
-Titanium dioxide (Ishihara Sangyo Co., Ltd., trade name: TTO-51 (A), average primary particle size: 10-30 nm): 1,875 parts-Dispersant (DISPERBYK-111, 100% product): 660 parts Solvent (PGMEA, propylene glycol monomethyl ether acetate): 1,710 parts The components used are as follows.
TTO-51 (A): Titanium dioxide, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., average primary particle size of 10 to 30 nm, surface treatment species: Al (OH) 3
DISPERBYK-111: a polymeric dispersant having one or more phosphate ester structures, manufactured by Big Chemie

A−1を、二酸化チタン含有量がA−1の含有量と同じ割合となるよう上記酸化チタン分散液に変更し、添加するC−2−1の量を6.47部に変更した以外は実施例4と同様にして硬化性組成物を得た。   A-1 was changed to the above titanium oxide dispersion so that the content of titanium dioxide was the same as the content of A-1, and the amount of C-2-1 added was changed to 6.47 parts. A curable composition was obtained in the same manner as in Example 4.

(実施例18)
実施例1のターピネオールCの量を115部に変更し、更に、C−2−1(ハイソルブEDE)の量を115部に変更した以外は、実施例1と同様にして、硬化性組成物を得た。
(Example 18)
A curable composition was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount of terpineol C in Example 1 was changed to 115 parts and that the amount of C-2-1 (Hisolv EDE) was changed to 115 parts. Obtained.

(実施例19)
実施例2のジヒドロターピネオールの量を115部に変更し、更に、C−2−1(ハイソルブEDE)の量を115部に変更した以外は、実施例2と同様にして、硬化性組成物を得た。
(Example 19)
A curable composition was prepared in the same manner as in Example 2, except that the amount of dihydroterpineol in Example 2 was changed to 115 parts and that the amount of C-2-1 (Hisolv EDE) was changed to 115 parts. Obtained.

(実施例20)
実施例3のテルソルブDTO−210の量を115部に変更し、更に、C−2−1(ハイソルブEDE)の量を115部に変更した以外は、実施例3と同様にして、硬化性組成物を得た。
(Example 20)
A curable composition was obtained in the same manner as in Example 3 except that the amount of Telsolve DTO-210 in Example 3 was changed to 115 parts and that the amount of C-2-1 (Hisolv EDE) was changed to 115 parts. I got a thing.

(比較例10)
実施例4において、テルソルブTHA−90の添加量を15部に変更し、更に、ハイソウプEDEの添加量を65部に変更した以外は実施例4と同様にして硬化性組成物を得た。
(Comparative Example 10)
In Example 4, a curable composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that the addition amount of Telsolve THA-90 was changed to 15 parts, and further, the addition amount of High Soup EDE was changed to 65 parts.

(比較例11)
実施例4において、テルソルブTHA−90の添加量を90部に変更し、更に、ハイソルブEDEを添加しなかった以外は実施例4と同様にして硬化性組成物を得た。
(Comparative Example 11)
In Example 4, the curable composition was obtained in the same manner as in Example 4 except that the amount of Tersolve THA-90 added was changed to 90 parts, and Hisolv EDE was not added.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

(硬化性組成物の評価)
作製された硬化性組成物について、以下のようにして評価を行った。評価結果を表2にまとめて示す。
なお、フレキソ印刷による塗布の場合、印刷機としては、フレキソ印刷機(型式A45、ナカン(株)製)を用いた。300mm×400mmのガラス基板(商品名:XG、コーニング社製)上に、アニロックスロール#400を用いて硬化性組成物を印刷した。また、スピンコーターによる塗布の場合は、10cm×10cmのガラス基板(商品名:XG、コーニング社製)を用いた。
インクジェット印刷の場合は、インクジェットプリンタ−(Dimatix社製、DMP−281プリンター)を用いて、10cm×10cmのガラス基板(商品名:XG、コーニング社製)上に硬化性組成物を塗布した。
(Evaluation of curable composition)
The produced curable composition was evaluated as follows. The evaluation results are summarized in Table 2.
In the case of application by flexographic printing, a flexographic printing machine (model A45, manufactured by Nakan Co., Ltd.) was used as a printing machine. A curable composition was printed on a 300 mm × 400 mm glass substrate (trade name: XG, manufactured by Corning) using anilox roll # 400. In the case of application by a spin coater, a 10 cm × 10 cm glass substrate (trade name: XG, manufactured by Corning) was used.
In the case of inkjet printing, the curable composition was applied on a 10 cm × 10 cm glass substrate (trade name: XG, manufactured by Corning) using an inkjet printer (manufactured by Dimatix, DMP-281 printer).

<基板白濁>
10cm×10cmのガラス基板(商品名:XG、コーニング社製)上に、硬化性組成物を乾燥膜厚100nmとなるようにスピン塗布し、90℃のオーブンで100秒乾燥(プリベーク)した。得られた基板上の膜を目視により観察し、以下の基準で評価した。白濁がより少ないと、より透明性に優れた膜が得られることを意味する。評価が1又は2であれば実用上問題がなく、1であることがより好ましい。
5:基板全面の乾燥膜が白濁している
4:基板全面の乾燥膜がわずかに白濁している
3:基板の半分程度の乾燥膜がわずかに白濁している
2:基板の一部の乾燥膜がわずかに白濁している
1:乾燥膜の白濁なし
<Substrate cloudiness>
The curable composition was spin-coated on a 10 cm × 10 cm glass substrate (trade name: XG, manufactured by Corning) so as to have a dry film thickness of 100 nm, and dried (prebaked) in an oven at 90 ° C. for 100 seconds. The film on the obtained substrate was visually observed and evaluated according to the following criteria. Less white turbidity means that a film with better transparency can be obtained. If the evaluation is 1 or 2, there is no practical problem and 1 is more preferable.
5: The dry film on the entire surface of the substrate is clouded. 4: The dry film on the entire surface of the substrate is slightly clouded. 3: The dry film of about half of the substrate is slightly clouded. 2: A portion of the substrate is dried. The film is slightly clouded 1: No dry film is clouded

<ハジキ故障>
10cm×10cmのガラス基板(商品名:XG、コーニング社製)上に、硬化性組成物を乾燥膜厚100nmとなるようにスピン塗布し、90℃のオーブンで100秒乾燥(プリベーク)した。得られた基板全体において、基板上の膜を目視により観察し、以下の基準で評価した。評価が1又は2であれば実用上問題がなく、1であることがより好ましい。
1:ハジキの発生なし
2:ハジキの発生が1個以上3個未満
3:ハジキの発生が3個以上10個未満
4:ハジキの発生が10個以上
<Repel failure>
The curable composition was spin-coated on a 10 cm × 10 cm glass substrate (trade name: XG, manufactured by Corning) so as to have a dry film thickness of 100 nm, and dried (prebaked) in an oven at 90 ° C. for 100 seconds. In the whole obtained substrate, the film on the substrate was visually observed and evaluated according to the following criteria. If the evaluation is 1 or 2, there is no practical problem and 1 is more preferable.
1: No repellency occurred 2: One or more repellent occurrences less than three 3: Three or more repellency occurrences less than ten 4: Four or more repellency occurrences

<面内膜厚均一性>
ガラス基板(商品名:XG、コーニング社製)上に、硬化性組成物を乾燥膜厚が100nmとなるようにスピン塗布、フレキソ印刷、インクジェット印刷で塗布し、90℃のオーブンで100秒乾燥(プリベーク)した。その後、全面に超高圧水銀灯を用いて150mJ/cm2の露光(照度は24mW/cm2)をし、その後オーブンにて200℃で30分加熱した。
膜厚の面内分布を64点を測定し、以下のように評価した。
1:面内分布が100nm±5nm以下
2:面内分布が100nm±5nmを超え、100nm±10nm以下
3:面内分布が100nm±10nmを超え、100nm±20nm以下
4:面内分布が100nm±20nmを超える
<In-plane film thickness uniformity>
On a glass substrate (trade name: XG, manufactured by Corning), the curable composition is applied by spin coating, flexographic printing, and ink jet printing so that the dry film thickness is 100 nm, and dried in an oven at 90 ° C. for 100 seconds ( Pre-baked). Thereafter, the entire surface was exposed to 150 mJ / cm 2 using an ultrahigh pressure mercury lamp (illuminance was 24 mW / cm 2 ), and then heated in an oven at 200 ° C. for 30 minutes.
The in-plane distribution of film thickness was measured at 64 points and evaluated as follows.
1: In-plane distribution is 100 nm ± 5 nm or less 2: In-plane distribution is over 100 nm ± 5 nm, 100 nm ± 10 nm or less 3: In-plane distribution is over 100 nm ± 10 nm, 100 nm ± 20 nm or less 4: In-plane distribution is 100 nm ± Over 20nm

<耐薬品性評価>
10cm×10cmのガラス基板(商品名:XG、コーニング社製)上に、硬化性組成物を乾燥膜厚100nmとなるようにスピン塗布し、90℃のオーブンで100秒乾燥(プリベーク)した。その後、全面に超高圧水銀灯を用いて150mJ/cm2の露光(照度は24mW/cm2)をし、その後オーブンにて200℃で30分加熱した。
次いで、N−メチルピロリドン25℃に2分浸漬させ、浸漬前後の膜厚を測定し、膜の残存率を測定した。評価基準を以下に示す。
1:残存率が80%未満
2:残存率が80%以上90%未満
3:残存率が90%以上95%未満
4:残存率が95%以上98%未満
5:残存率が98%以上100%以下
<Chemical resistance evaluation>
The curable composition was spin-coated on a 10 cm × 10 cm glass substrate (trade name: XG, manufactured by Corning) so as to have a dry film thickness of 100 nm, and dried (prebaked) in an oven at 90 ° C. for 100 seconds. Thereafter, the entire surface was exposed to 150 mJ / cm 2 using an ultrahigh pressure mercury lamp (illuminance was 24 mW / cm 2 ), and then heated in an oven at 200 ° C. for 30 minutes.
Subsequently, it was immersed in N-methylpyrrolidone at 25 ° C. for 2 minutes, the film thickness before and after the immersion was measured, and the remaining ratio of the film was measured. The evaluation criteria are shown below.
1: Residual rate is less than 80% 2: Residual rate is 80% or more and less than 90% 3: Residual rate is 90% or more and less than 95% 4: Residual rate is 95% or more and less than 98% 5: Residual rate is 98% or more and 100% %Less than

<鉛筆硬度評価>
10cm×10cmのガラス基板(商品名:XG、コーニング社製)上に、硬化性組成物を乾燥膜厚100nmとなるようにスピン塗布し、90℃のオーブンで100秒乾燥(プリベーク)した。その後、全面に超高圧水銀灯を用いて150mJ/cm2の露光(照度は24mW/cm2)をし、その後オーブンにて200℃で30分加熱した。JIS K5600−5−4:1999に準拠して、得られた硬化膜の鉛筆硬度を測定した。
<Pencil hardness evaluation>
The curable composition was spin-coated on a 10 cm × 10 cm glass substrate (trade name: XG, manufactured by Corning) so as to have a dry film thickness of 100 nm, and dried (prebaked) in an oven at 90 ° C. for 100 seconds. Thereafter, the entire surface was exposed to 150 mJ / cm 2 using an ultrahigh pressure mercury lamp (illuminance was 24 mW / cm 2 ), and then heated in an oven at 200 ° C. for 30 minutes. Based on JIS K5600-5-4: 1999, the pencil hardness of the obtained cured film was measured.

<屈折率評価>
10cm×10cmのシリコンウェハ上に、硬化性組成物を乾燥膜厚500nmとなるようにスピン塗布し、90℃のオーブンで100秒乾燥(プリベーク)した。その後、全面に超高圧水銀灯を用いて150mJ/cm2の露光(照度は24mW/cm2)をし、その後オーブンにて200℃で30分加熱した。
エリプソメーターVUV−VASE(ジェー・エー・ウーラム・ジャパン(株)製)を用いて、550nmでの硬化膜の屈折率を測定した。
<Refractive index evaluation>
The curable composition was spin-coated on a 10 cm × 10 cm silicon wafer so as to have a dry film thickness of 500 nm, and dried (prebaked) in an oven at 90 ° C. for 100 seconds. Thereafter, the entire surface was exposed to 150 mJ / cm 2 using an ultrahigh pressure mercury lamp (illuminance was 24 mW / cm 2 ), and then heated in an oven at 200 ° C. for 30 minutes.
The refractive index of the cured film at 550 nm was measured using an ellipsometer VUV-VASE (manufactured by JA Woollam Japan Co., Ltd.).

Figure 2016056341
Figure 2016056341

(実施例21)
<酸化チタン分散液2の調製>
下記組成の分散液を調合し、これをジルコニアビーズ(0.3mmφ)100.0部と混合し、ペイントシェーカーを用いて12時間分散を行った。ジルコニアビ−ズ(0.3mmφ)を濾別し、分散液を得た。
・二酸化チタン(石原産業(株)製、商品名:TTO−51(C)、平均一次粒径:10〜30nm):25.0部
・分散剤:25.0部
・溶剤(PGMEA、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート):50.0部
なお、使用した成分は以下の通りである。
・TTO−51(C):二酸化チタン、石原産業(株)製、平均一次粒径10〜30nm、表面処理種:Al(OH)3、ステアリン酸処理あり
・分散剤:下記の化合物1を使用(分子量Mw=13,800、固形分30%PGMEA溶液)
(Example 21)
<Preparation of titanium oxide dispersion 2>
A dispersion having the following composition was prepared, mixed with 100.0 parts of zirconia beads (0.3 mmφ), and dispersed for 12 hours using a paint shaker. Zirconia beads (0.3 mmφ) were separated by filtration to obtain a dispersion.
Titanium dioxide (Ishihara Sangyo Co., Ltd., trade name: TTO-51 (C), average primary particle size: 10 to 30 nm): 25.0 parts Dispersant: 25.0 parts Solvent (PGMEA, propylene glycol) Monomethyl ether acetate): 50.0 parts In addition, the used component is as follows.
-TTO-51 (C): Titanium dioxide, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., average primary particle size 10-30 nm, surface treatment type: Al (OH) 3 , stearic acid treatment- Dispersant: Uses the following compound 1 (Molecular weight Mw = 13,800, solid content 30% PGMEA solution)

Figure 2016056341
Figure 2016056341

なお、化合物1において、ポリマー鎖と結合する硫黄原子は、P1のモノマー単位と結合していても、P2のモノマー単位と結合していてもよい。   In Compound 1, the sulfur atom bonded to the polymer chain may be bonded to the P1 monomer unit or may be bonded to the P2 monomer unit.

<酸基が酸分解性基で保護された基を有する重合体(ポリマ−1)の合成>
以下の合成例において、以下の略号はそれぞれ以下の化合物を表す。
V−601:ジチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)
GMA:グリシジルメタクリレート
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
<Synthesis of polymer (polymer-1) having a group in which an acid group is protected by an acid-decomposable group>
In the following synthesis examples, the following abbreviations represent the following compounds, respectively.
V-601: Dityl-2,2′-azobis (2-methylpropionate)
GMA: Glycidyl methacrylate PGMEA: Propylene glycol monomethyl ether acetate

<ポリマー−1(K−1)の合成>
メタクリル酸テトラヒドロフラン−2−イル(63.2部(0.405モル当量))、
メタクリル酸(8.2部(0.095モル当量))、
メタクリル酸(3−エチルオキセタン−3−イル)メチル(69部(0.375モル当量))、
メタクリル酸2−ヒドロキシエチル(16.3部、(0.125モル等量))、及び、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)(120部)
の混合溶液を窒素気流下、70℃に加熱した。この混合溶液を撹拌しながら、ラジカル重合開始剤(V−601:ジチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、和光純薬工業(株)製、12.0部)及びPGMEA(80部)の混合溶液を3.5時間かけて滴下した。滴下が終了してから、70℃で2時間反応させることによりポリマー−1のPGMEA溶液を得た。更にPGMEAを添加して固形分濃度40質量%に調整した。
得られたポリマー−1のゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)により測定した重量平均分子量(Mw)は、15,000であった。
<Synthesis of Polymer-1 (K-1)>
Tetrahydrofuran-2-yl methacrylate (63.2 parts (0.405 molar equivalents)),
Methacrylic acid (8.2 parts (0.095 molar equivalent)),
(3-ethyloxetane-3-yl) methyl methacrylate (69 parts (0.375 molar equivalent)),
2-hydroxyethyl methacrylate (16.3 parts, (0.125 molar equivalent)), and
Propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) (120 parts)
The mixed solution was heated to 70 ° C. under a nitrogen stream. While stirring this mixed solution, radical polymerization initiator (V-601: dityl-2,2′-azobis (2-methylpropionate), manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., 12.0 parts) and PGMEA (80 parts) of the mixed solution was added dropwise over 3.5 hours. After completion of the dropwise addition, a PGMEA solution of polymer-1 was obtained by reacting at 70 ° C. for 2 hours. Further, PGMEA was added to adjust the solid content concentration to 40% by mass.
The weight average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography (GPC) of the obtained polymer-1 was 15,000.

<光酸発生剤1の合成>
2−ナフトール(10g)、クロロベンゼン(30mL)の懸濁溶液に塩化アルミニウム(10.6g)、2−クロロプロピオニルクロリド(10.1g)を添加し、混合液を40℃に加熱して2時間反応させた。氷冷下、反応液に4N HCl水溶液(60mL)を滴下し、酢酸エチル(50mL)を添加して分液した。有機層に炭酸カリウム(19.2g)を加え、40℃で1時間反応させた後、2N HCl水溶液(60mL)を添加して分液し、有機層を濃縮後、結晶をジイソプロピルエーテル(10mL)でリスラリーし、濾過、乾燥してケトン化合物(6.5g)を得た。
得られたケトン化合物(3.0g)、メタノール(30mL)の懸濁溶液に酢酸(7.3g)、50質量%ヒドロキシルアミン水溶液(8.0g)を添加し、加熱還流した。放冷後、水(50mL)を加え、析出した結晶を濾過、冷メタノール洗浄後、乾燥してオキシム化合物(2.4g)を得た。
得られたオキシム化合物(1.8g)をアセトン(20mL)に溶解させ、氷冷下トリエチルアミン(1.5g)、p−トルエンスルホニルクロリド(2.4g)を添加し、室温に昇温して1時間反応させた。反応液に水(50mL)を添加し、析出した結晶を濾過後、メタノール(20mL)でリスラリーし、濾過、乾燥してB−1の化合物(下記の構造)(2.3g)を得た。
なお、B−1の1H−NMRスペクトル(300MHz、CDCl3)は、δ=8.3(d,1H),8.0(d,2H),7.9(d,1H),7.8(d,1H),7.6(dd,1H),7.4(dd,1H)7.3(d,2H),7.1(d,1H),5.6(q,1H),2.4(s,3H),1.7(d,3H)であった。
<Synthesis of Photoacid Generator 1>
Aluminum chloride (10.6 g) and 2-chloropropionyl chloride (10.1 g) were added to a suspension of 2-naphthol (10 g) and chlorobenzene (30 mL), and the mixture was heated to 40 ° C. for 2 hours. I let you. Under ice-cooling, 4N HCl aqueous solution (60 mL) was added dropwise to the reaction solution, and ethyl acetate (50 mL) was added for liquid separation. Potassium carbonate (19.2 g) was added to the organic layer, reacted at 40 ° C. for 1 hour, 2N HCl aqueous solution (60 mL) was added and separated, and the organic layer was concentrated, and the crystal was converted to diisopropyl ether (10 mL). Was reslurried, filtered and dried to obtain a ketone compound (6.5 g).
Acetic acid (7.3 g) and a 50 mass% aqueous hydroxylamine solution (8.0 g) were added to a suspension of the obtained ketone compound (3.0 g) and methanol (30 mL), and the mixture was heated to reflux. After allowing to cool, water (50 mL) was added, and the precipitated crystals were filtered, washed with cold methanol, and dried to obtain an oxime compound (2.4 g).
The obtained oxime compound (1.8 g) was dissolved in acetone (20 mL), triethylamine (1.5 g) and p-toluenesulfonyl chloride (2.4 g) were added under ice cooling, and the temperature was raised to room temperature. Reacted for hours. Water (50 mL) was added to the reaction solution, and the precipitated crystals were filtered, reslurried with methanol (20 mL), filtered and dried to obtain the compound of B-1 (the following structure) (2.3 g).
The 1 H-NMR spectrum (300 MHz, CDCl 3 ) of B-1 is δ = 8.3 (d, 1H), 8.0 (d, 2H), 7.9 (d, 1H), 7. 8 (d, 1H), 7.6 (dd, 1H), 7.4 (dd, 1H) 7.3 (d, 2H), 7.1 (d, 1H), 5.6 (q, 1H) , 2.4 (s, 3H), 1.7 (d, 3H).

Figure 2016056341
Figure 2016056341

<硬化性組成物の作製>
以下のようにして、調製した。
・A−3:上記の酸化チタン分散液2:3.0部
・K−1:上記ポリマー1溶液:2.5部
・C−1:ターピネオールC(日本テルペン化学(株)製):48.5部
・C−2:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(ダイセル(株)製):45.0部
・L−1:上記の光酸発生剤1:0.075部
・M−1:1−シクロヘキシル−3−(2−モノフォリノエチル)チオウレア(DSP五協フード&ケミカル(株)):0.0007部
・O−1:オグソールPG−100(エポキシ−フルオレン誘導体、大阪ガスケミカル(株)製):0.37部
・O−2:オグソールBPEF(9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン、フルオレン系モノマー、大阪ガスケミカル(株)製):0.29部
・G−1:シルクエストA−187SILANE(γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、モメンティブパフォ−マンスマテリアルズ(株)製):0.065部
・G−2:KBE−846(ビス(トリエトキシシリルプロピル)テトラスルフィド、信越化学工業(株)製):0.12部
・B−1:セロキサイド2021P(3’,4’−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ダイセル(株)製):0.022部
・P−1:1,3−ジメチルイミダゾリジン−2−オン(和光純薬工業(株)製:0.056部)
・F−1:メガファックF−554(パーフルオロアルキル基含有ノニオン界面活性剤、DIC(株)製):0.0032部
上記の成分をマグネチックスターラーで1時間撹拌し、孔径0.3μmのポリテトラフルオロエチレン製フィルターで濾過し、実施例21の硬化性組成物を得た。
<Preparation of curable composition>
Prepared as follows.
A-3: Titanium oxide dispersion 2: 3.0 parts K-1: Polymer 1 solution: 2.5 parts C-1: Turpineol C (manufactured by Nippon Terpene Chemical Co., Ltd.): 48. 5 parts C-2: propylene glycol monomethyl ether acetate (manufactured by Daicel Corporation): 45.0 parts L-1: the above-mentioned photoacid generator 1: 0.075 parts M-1: 1-cyclohexyl- 3- (2-monoforinoethyl) thiourea (DSP Gokyo Food & Chemical Co., Ltd.): 0.0007 parts O-1: Ogsol PG-100 (epoxy-fluorene derivative, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) : 0.37 part O-2: Ogsol BPEF (9,9-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] fluorene, fluorene monomer, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.): 0.29 part -1: Sylquest A-187SILANE (γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, manufactured by Momentive Performance Materials Co., Ltd.): 0.065 parts G-2: KBE-846 (bis (triethoxysilylpropyl) ) Tetrasulfide, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 0.12 parts B-1: Celoxide 2021P (3 ′, 4′-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, manufactured by Daicel Corporation) : 0.022 parts P-1: 1,3-dimethylimidazolidin-2-one (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: 0.056 parts)
F-1: Megafax F-554 (perfluoroalkyl group-containing nonionic surfactant, manufactured by DIC Corporation): 0.0032 parts The above ingredients were stirred with a magnetic stirrer for 1 hour, and the pore size was 0.3 μm. It filtered with the filter made from a polytetrafluoroethylene, and the curable composition of Example 21 was obtained.

(実施例22〜26、29、30、比較例12〜14)
実施例21のC−1、C−2を表3に記載の各溶剤に変更し、また、添加量を表3に従って変更した以外は実施例21と同様にして、硬化性組成物を得た。
(Examples 22-26, 29, 30, Comparative Examples 12-14)
C-1 and C-2 of Example 21 were changed to the solvents shown in Table 3, and the curable composition was obtained in the same manner as Example 21 except that the addition amount was changed according to Table 3. .

(実施例27、28)
実施例21のC−1、C−2を表3に記載の各溶剤に変更し、更に、表3の組成物固形分になるように溶剤の添加量を変更した以外は実施例21と同様にして、硬化性組成物を得た。
(Examples 27 and 28)
As in Example 21, except that C-1 and C-2 in Example 21 were changed to the solvents shown in Table 3 and the amount of addition of the solvent was changed so that the composition solid content in Table 3 was obtained. Thus, a curable composition was obtained.

(実施例31)
実施例21のC−1、C−2を表3に記載の各溶剤に変更し、更に、表3の組成物固形分になるようにC−1、C−2−1添加量を変更した以外は実施例21と同様にして、硬化性組成物を得た。
(Example 31)
C-1 and C-2 of Example 21 were changed to the respective solvents shown in Table 3, and further, the addition amounts of C-1 and C-2-1 were changed so as to become the composition solid content of Table 3. Except for this, a curable composition was obtained in the same manner as in Example 21.

<酸化ジルコニア分散液の調製>
実施例21に記載の酸化チタン分散液2の、酸化チタンを下記の酸化ジルコニア(UPE−100(第一稀元素(株))に変更した以外は、酸化チタン分散液2と同様に分散処理を行って酸化ジルコニア分散液を得た。
<Preparation of zirconia oxide dispersion>
The titanium oxide dispersion 2 described in Example 21 was treated in the same manner as the titanium oxide dispersion 2 except that the titanium oxide was changed to the following zirconia (UPE-100 (1st rare element)). To obtain a zirconia oxide dispersion.

得られた硬化性組成物に対して、実施例1と同様にして、ハジキ、基板白濁、面内膜厚均一性、耐薬品性、屈折率、及び、鉛筆硬度の評価を行った。
なお、面内膜厚均一性、耐薬品性、及び、鉛筆硬度の評価については、露光を行わない以外は実施例1と同様にして評価を行った。
The obtained curable composition was evaluated in the same manner as in Example 1 for repelling, substrate turbidity, in-plane film thickness uniformity, chemical resistance, refractive index, and pencil hardness.
In addition, about evaluation of in-plane film thickness uniformity, chemical resistance, and pencil hardness, it evaluated similarly to Example 1 except not performing exposure.

Figure 2016056341
Figure 2016056341

Figure 2016056341
Figure 2016056341

(実施例32)
図3〜図5に記載のタッチパネルにおいて、上記図4のY(102a)電極を基板111と共に取り囲む絶縁層W(以下、「台座層W」ともいう。)を以下のように形成した以外は、特開2013−97692号公報に記載の方法と同様にして形成し、本発明のタッチパネルを得た。更にそのタッチパネルを用いて、特開2013−97692号公報に従ってタッチパネル付き表示装置を得た。
台座層の形成:実施例4の硬化性組成物を基板上に塗布し、プリベークした後、超高圧水銀灯を用いて露光し、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、200℃30分間の加熱処理を行い、台座層Wを形成した。なお、上記台座層はタッチ検出電極間の層間絶縁膜としての機能を有する。
得られた表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性及びタッチ検出性能を示し、信頼性の高い装置であることが分かった。
(Example 32)
3 to 5 except that an insulating layer W (hereinafter also referred to as “pedestal layer W”) surrounding the Y (102a) electrode of FIG. 4 together with the substrate 111 is formed as follows. The touch panel of the present invention was obtained by forming in the same manner as described in JP2013-97692A. Furthermore, using the touch panel, a display device with a touch panel was obtained in accordance with JP2013-97692A.
Formation of pedestal layer: The curable composition of Example 4 was applied on a substrate, pre-baked, then exposed using an ultra-high pressure mercury lamp, developed with an alkaline aqueous solution to form a pattern, and heated at 200 ° C for 30 minutes. Heat treatment was performed to form a pedestal layer W. The pedestal layer functions as an interlayer insulating film between the touch detection electrodes.
When a driving voltage was applied to the obtained display device, it was found that the display device had good display characteristics and touch detection performance and was highly reliable.

(実施例33)
図3〜図5に記載のタッチパネルにおいて、上記図4のY(102a)電極を基板111と共に取り囲む絶縁層W(台座層W)、絶縁層112及び保護層113を以下のように形成した以外は、特開2013−97692号公報に記載の方法と同様にして形成し、本発明のタッチパネルを得た。更にそのタッチパネルを用いて、特開2013−97692号公報に従ってタッチパネル付き表示装置を得た。
台座層W、絶縁層112及び保護層113の形成:実施例4の硬化性組成物を基板上にスリット塗布し、プリベークした後、超高圧水銀灯を用いて露光し、アルカリ水溶液にて現像してパターンを形成し、200℃30分間の加熱処理を行い、各層を形成した。
得られた表示装置に対して、駆動電圧を印加したところ、良好な表示特性及びタッチ検出性能を示し、信頼性の高い装置であることが分かった。
(Example 33)
3 to 5 except that the insulating layer W (pedestal layer W), the insulating layer 112, and the protective layer 113 surrounding the Y (102a) electrode of FIG. 4 together with the substrate 111 are formed as follows. The touch panel of the present invention was obtained by the same method as described in JP2013-97692A. Furthermore, using the touch panel, a display device with a touch panel was obtained in accordance with JP2013-97692A.
Formation of pedestal layer W, insulating layer 112, and protective layer 113: The curable composition of Example 4 was slit-coated on a substrate, pre-baked, exposed using an ultra-high pressure mercury lamp, and developed with an alkaline aqueous solution. A pattern was formed, and heat treatment was performed at 200 ° C. for 30 minutes to form each layer.
When a driving voltage was applied to the obtained display device, it was found that the display device had good display characteristics and touch detection performance and was highly reliable.

1:TFT(薄膜トランジスタ)、2:配線、3:絶縁膜、4:平坦化膜、5:第一電極、6:ガラス基板、7:コンタクトホール、8:絶縁膜、10:液晶表示装置、12:バックライトユニット、14,15:ガラス基板、16:TFT、17:硬化膜、18:コンタクトホール、19:ITO透明電極、20:液晶、22:カラーフィルター、101a,102a:交差部、101b,102b:電極部、111:基板、112:絶縁膜、112a:コンタクトホール、113:保護膜、W:台座層、X,Y:電極   1: TFT (thin film transistor), 2: wiring, 3: insulating film, 4: flattening film, 5: first electrode, 6: glass substrate, 7: contact hole, 8: insulating film, 10: liquid crystal display device, 12 : Backlight unit, 14, 15: Glass substrate, 16: TFT, 17: Cured film, 18: Contact hole, 19: ITO transparent electrode, 20: Liquid crystal, 22: Color filter, 101a, 102a: Intersection, 101b, 102b: electrode part, 111: substrate, 112: insulating film, 112a: contact hole, 113: protective film, W: pedestal layer, X, Y: electrode

Claims (17)

成分Aとして、下記a1〜a3よりなる群から選ばれた少なくとも1種と、
成分Bとして、硬化性化合物と、
成分Cとして、溶剤とを含有し、
前記成分Cが、成分C−1として、20℃における粘度が50mPa・s以上200mPa・s以下であり、かつ、表面張力が30mN/m以上41mN/m以下である少なくとも1種の有機溶剤と、成分C−2として、20℃における粘度が50mPa・s未満である少なくとも1種の有機溶剤と、を含有し、
前記成分C−1の含有量が、成分Cの総質量に対して20〜95質量%であり、
硬化性組成物の20℃における粘度が1mPa・s以上30mPa・s以下であることを特徴とする
硬化性組成物。
a1:アルコキシ基を有する、チタン化合物及び/又はジルコニウム化合物、
a2:チタン原子若しくはジルコニウム原子に直結するアルコキシ基を少なくとも1つ有する、チタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物、
a3:チタン原子及び/又はジルコニウム原子を含有する金属酸化物。
As component A, at least one selected from the group consisting of the following a1 to a3,
As component B, a curable compound;
Component C contains a solvent,
Component C, as Component C-1, has a viscosity at 20 ° C. of 50 mPa · s to 200 mPa · s, and a surface tension of 30 mN / m to 41 mN / m, and at least one organic solvent; Component C-2 contains at least one organic solvent having a viscosity at 20 ° C. of less than 50 mPa · s,
Content of the said component C-1 is 20-95 mass% with respect to the total mass of the component C,
A curable composition, wherein the curable composition has a viscosity at 20 ° C. of 1 mPa · s to 30 mPa · s.
a1: a titanium compound and / or a zirconium compound having an alkoxy group,
a2: titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate having at least one alkoxy group directly bonded to a titanium atom or a zirconium atom,
a3: Metal oxide containing a titanium atom and / or a zirconium atom.
成分Bが重合性化合物である、請求項1に記載の硬化性組成物。   The curable composition of Claim 1 whose component B is a polymeric compound. 成分C−1がターピネオール、ジヒドロターピネオール、4−(アセチルオキシ)−α,α,4−トリメチルシクロヘキサンメタノールアセタート、及び、2−[1−メチル−1−(4−メチル−3−シクロヘキセン−1−イル)エトキシ]エタノールよりなる群から選択される少なくとも1つを含有する、請求項1又は2に記載の硬化性組成物。   Component C-1 is terpineol, dihydroterpineol, 4- (acetyloxy) -α, α, 4-trimethylcyclohexanemethanol acetate, and 2- [1-methyl-1- (4-methyl-3-cyclohexene-1) The curable composition according to claim 1 or 2, comprising at least one selected from the group consisting of -yl) ethoxy] ethanol. 前記硬化性組成物中の固形分の総量が、硬化性組成物の全質量に対して、2〜15質量%である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の硬化性組成物。   The curable composition of any one of Claims 1-3 whose total amount of the solid content in the said curable composition is 2-15 mass% with respect to the total mass of a curable composition. 成分Bが6官能以上の重合性化合物を含有する、請求項1〜4のいずれか1項に記載の硬化性組成物。   The curable composition of any one of Claims 1-4 in which the component B contains the polymeric compound more than hexafunctional. 前記a2が、アルコキシ基を有するチタン化合物、アルコキシ基を有するジルコニウム化合物及びハロゲノ基を有するチタン化合物及びハロゲノ基を有するジルコニウム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種を、チタン原子及びジルコニウム原子の総モル量1.0モルに対して、0.5〜1.9倍モル当量の水により加水分解縮合させて得られるチタノキサン、ジルコノキサン及び/又はチタノキサン−ジルコノキサン縮合物である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の硬化性組成物。   The a2 is at least one selected from the group consisting of a titanium compound having an alkoxy group, a zirconium compound having an alkoxy group, a titanium compound having a halogeno group, and a zirconium compound having a halogeno group. The titanoxane, zircoxane and / or titanoxane-zircoxane condensate obtained by hydrolytic condensation with 0.5 to 1.9 times molar equivalent of water with respect to a molar amount of 1.0 mol. The curable composition of any one of Claims. 成分Aが、前記a2を含む、請求項1〜6のいずれか1項に記載の硬化性組成物。   The curable composition of any one of Claims 1-6 in which component A contains said a2. 成分Dとして、光重合開始剤を含有する、請求項1〜7のいずれか1項に記載の硬化性組成物。   The curable composition according to any one of claims 1 to 7, which contains a photopolymerization initiator as component D. 少なくとも工程a〜工程dをこの順で含む硬化膜の製造方法。
工程a:請求項1〜8のいずれか1項に記載の硬化性組成物を基板上に塗布する塗布工程
工程b:塗布された硬化性組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
工程c:溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程
工程d:硬化性組成物を熱処理する熱処理工程
A method for producing a cured film comprising at least step a to step d in this order.
Step a: Application step of applying the curable composition according to any one of claims 1 to 8 on a substrate Step b: Solvent removal step of removing the solvent from the applied curable composition Step c: Solvent An exposure step of exposing at least a part of the curable composition from which the resin has been removed with actinic rays Step d: a heat treatment step of heat-treating the curable composition
少なくとも工程1〜工程5をこの順で含む硬化膜の製造方法。
工程1:請求項1〜8のいずれか1項に記載の硬化性組成物を基板上に塗布する塗布工程
工程2:塗布された硬化性組成物から溶剤を除去する溶剤除去工程
工程3:溶剤が除去された硬化性組成物の少なくとも一部を活性光線により露光する露光工程
工程4:露光された硬化性組成物を水性現像液により現像する現像工程
工程5:現像された硬化性組成物を熱処理する熱処理工程
The manufacturing method of the cured film which contains at least process 1-process 5 in this order.
Process 1: Application | coating process which apply | coats the curable composition of any one of Claims 1-8 on a board | substrate Process 2: The solvent removal process which removes a solvent from the apply | coated curable composition Process 3: Solvent An exposure step of exposing at least a part of the curable composition from which the polymer has been removed with actinic rays Step 4: a development step of developing the exposed curable composition with an aqueous developer Step 5: developing the developed curable composition Heat treatment process for heat treatment
請求項1〜8のいずれか1項に記載の硬化性組成物を硬化してなる硬化膜。   The cured film formed by hardening | curing the curable composition of any one of Claims 1-8. 層間絶縁膜又はオーバーコート膜である、請求項11に記載の硬化膜。   The cured film according to claim 11, which is an interlayer insulating film or an overcoat film. 波長550nmにおける屈折率が1.6〜1.9である、請求項11又は12に記載の硬化膜。   The cured film of Claim 11 or 12 whose refractive index in wavelength 550nm is 1.6-1.9. 請求項11〜13のいずれか1項に記載の硬化膜を有する液晶表示装置。   The liquid crystal display device which has a cured film of any one of Claims 11-13. 請求項11〜13のいずれか1項に記載の硬化膜を有する有機EL表示装置。   The organic electroluminescence display which has a cured film of any one of Claims 11-13. 請求項11〜13のいずれか1項に記載の硬化膜を有するタッチパネル。   The touch panel which has a cured film of any one of Claims 11-13. 請求項11〜13のいずれか1項に記載の硬化膜を有するタッチパネル表示装置。   A touch panel display device having the cured film according to claim 11.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018072523A (en) * 2016-10-27 2018-05-10 Jsr株式会社 Liquid crystal display element and method for manufacturing the same
JP2019112555A (en) * 2017-12-25 2019-07-11 東洋インキScホールディングス株式会社 Active energy ray-curable composition and index matching layer and laminate using the same
CN110320753A (en) * 2018-03-29 2019-10-11 株式会社田村制作所 Photosensitive polymer combination
CN115404030A (en) * 2021-05-27 2022-11-29 双叶电子工业株式会社 Curable resin composition and organic EL element

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019160723A1 (en) * 2018-02-14 2019-08-22 Corning Incorporated Foldable glass article including an optically transparent polymeric hard-coat and methods of making the same

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012102308A (en) * 2010-11-05 2012-05-31 Hyundai Motor Co Ltd Semiconductor-oxide-ink composition for ink-jet printing, method for manufacturing the same, and method for manufacturing photoelectric conversion element utilizing the same

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012102308A (en) * 2010-11-05 2012-05-31 Hyundai Motor Co Ltd Semiconductor-oxide-ink composition for ink-jet printing, method for manufacturing the same, and method for manufacturing photoelectric conversion element utilizing the same

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018072523A (en) * 2016-10-27 2018-05-10 Jsr株式会社 Liquid crystal display element and method for manufacturing the same
JP2022009139A (en) * 2016-10-27 2022-01-14 Jsr株式会社 Radiation-sensitive resin composition
JP7435573B2 (en) 2016-10-27 2024-02-21 Jsr株式会社 Radiation sensitive resin composition
JP2019112555A (en) * 2017-12-25 2019-07-11 東洋インキScホールディングス株式会社 Active energy ray-curable composition and index matching layer and laminate using the same
JP7102727B2 (en) 2017-12-25 2022-07-20 東洋インキScホールディングス株式会社 Active energy ray-curable composition and index matching layer and laminate using it
CN110320753A (en) * 2018-03-29 2019-10-11 株式会社田村制作所 Photosensitive polymer combination
CN115404030A (en) * 2021-05-27 2022-11-29 双叶电子工业株式会社 Curable resin composition and organic EL element
JP2022182017A (en) * 2021-05-27 2022-12-08 双葉電子工業株式会社 Curable resin composition and organic EL element

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