JP6153631B2 - アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物、その製造方法、それを含む組成物と硬化物及びその用途 - Google Patents
アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物、その製造方法、それを含む組成物と硬化物及びその用途 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6153631B2 JP6153631B2 JP2015559194A JP2015559194A JP6153631B2 JP 6153631 B2 JP6153631 B2 JP 6153631B2 JP 2015559194 A JP2015559194 A JP 2015559194A JP 2015559194 A JP2015559194 A JP 2015559194A JP 6153631 B2 JP6153631 B2 JP 6153631B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- epoxy
- chemical formula
- epoxy compound
- chemical formulas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 title claims description 327
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 194
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 132
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 title claims description 126
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 43
- 230000008569 process Effects 0.000 title description 26
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 241
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 claims description 80
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 69
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 66
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 claims description 57
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 50
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 47
- 239000000047 product Substances 0.000 claims description 45
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 43
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 claims description 41
- -1 alkenyl compound Chemical class 0.000 claims description 40
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 36
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 34
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims description 32
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 31
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 30
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 24
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 22
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 20
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 20
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 20
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 16
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 16
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 15
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 13
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 claims description 13
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 12
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 claims description 9
- 239000007809 chemical reaction catalyst Substances 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 claims description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 3
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 98
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 59
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 59
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 57
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 35
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 34
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 24
- 239000002585 base Substances 0.000 description 23
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 23
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 20
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229920003986 novolac Chemical group 0.000 description 16
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 15
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 14
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 14
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 11
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 10
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 10
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical class [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 9
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 8
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 8
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 8
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical group NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- BLDLRWQLBOJPEB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenyl)sulfanylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1SC1=CC=CC=C1O BLDLRWQLBOJPEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical group C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 6
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 6
- PEQHIRFAKIASBK-UHFFFAOYSA-N tetraphenylmethane Chemical group C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PEQHIRFAKIASBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KGSFMPRFQVLGTJ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-triphenylethylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 KGSFMPRFQVLGTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 5
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- RUGHUJBHQWALKM-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-triphenylethylbenzene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RUGHUJBHQWALKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 4
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical group C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical class C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 3-(cycloundecen-1-yl)-1,2-diazacycloundec-2-ene Chemical compound C1CCCCCCCCC=C1C1=NNCCCCCCCC1 WADSJYLPJPTMLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 3
- QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N Tetrabromophthalic anhydride Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Br QHWKHLYUUZGSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 3
- XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N dimethylbenzylamine Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC=C1 XXBDWLFCJWSEKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 3
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 3
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 3
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 YTWBFUCJVWKCCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BXVSAYBZSGIURM-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxy-4h-1,3,2$l^{5}-benzodioxaphosphinine 2-oxide Chemical compound O1CC2=CC=CC=C2OP1(=O)OC1=CC=CC=C1 BXVSAYBZSGIURM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 3-[(e)-dodec-1-enyl]oxolane-2,5-dione Chemical compound CCCCCCCCCC\C=C\C1CC(=O)OC1=O WVRNUXJQQFPNMN-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-3a,4,5,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CC(C)=CC2C(=O)OC(=O)C12 MWSKJDNQKGCKPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 2
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N aminoethylpiperazine Chemical compound NCCN1CCNCC1 IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(N)(N)C1=CC=CC=C1 ZZTCPWRAHWXWCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000012784 inorganic fiber Substances 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- RTWNYYOXLSILQN-UHFFFAOYSA-N methanediamine Chemical compound NCN RTWNYYOXLSILQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical group 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920002577 polybenzoxazole Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 2
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003333 secondary alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N tetraethylenepentamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCN FAGUFWYHJQFNRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 2
- LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N (3ar,4s,7r,7as)-3a-methyl-3a,4,7,7a-tetrahydro-4,7-methano-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C([C@H]1C=C2)[C@H]2[C@H]2[C@]1(C)C(=O)OC2=O LTVUCOSIZFEASK-MPXCPUAZSA-N 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,5,6,7,7a-hexahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1CCC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 MUTGBJKUEZFXGO-OLQVQODUSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-Diethoxyethane Chemical compound CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTPLEVOKSWEYAC-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-9h-fluorene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C1=C2CC3=CC=CC=C3C2=CC=C1C1=CC=CC=C1 QTPLEVOKSWEYAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXQJPXLJOJIFOK-UHFFFAOYSA-N 1-ethylbenzo[a]anthracene Chemical group C1=CC=CC2=CC3=C4C(CC)=CC=CC4=CC=C3C=C21 UXQJPXLJOJIFOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQURWGJAWSLGQG-UHFFFAOYSA-N 1-isocyanatopropane Chemical compound CCCN=C=O OQURWGJAWSLGQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylnaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tris[(dimethylamino)methyl]phenol Chemical compound CN(C)CC1=CC(CN(C)C)=C(O)C(CN(C)C)=C1 AHDSRXYHVZECER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGZBSJAMZHNHKE-UHFFFAOYSA-N 2-[[4-[bis[4-(oxiran-2-ylmethoxy)phenyl]methyl]phenoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1C(C=1C=CC(OCC2OC2)=CC=1)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 IGZBSJAMZHNHKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001731 2-cyanoethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C([H])([H])C#N 0.000 description 1
- BOZRCGLDOHDZBP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexanoic acid;tin Chemical compound [Sn].CCCCC(CC)C(O)=O BOZRCGLDOHDZBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XYXBMCIMPXOBLB-UHFFFAOYSA-N 3,4,5-tris(dimethylamino)-2-methylphenol Chemical compound CN(C)C1=CC(O)=C(C)C(N(C)C)=C1N(C)C XYXBMCIMPXOBLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTJOEASAHXBBW-UHFFFAOYSA-N 3-methylamphetamine Chemical compound CC(N)CC1=CC=CC(C)=C1 KCTJOEASAHXBBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-methylcyclohexyl)methyl]-2-methylcyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)C(C)CC1CC1CC(C)C(N)CC1 IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical group CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 229920002732 Polyanhydride Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N allyl bromide Chemical compound BrCC=C BHELZAPQIKSEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000003242 anti bacterial agent Substances 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006664 bond formation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 239000011258 core-shell material Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 229910002026 crystalline silica Inorganic materials 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N dibutyltin Chemical compound CCCC[Sn]CCCC AYOHIQLKSOJJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- MUTGBJKUEZFXGO-UHFFFAOYSA-N hexahydrophthalic anhydride Chemical compound C1CCCC2C(=O)OC(=O)C21 MUTGBJKUEZFXGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004836 hexamethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N hypochlorous acid Chemical compound ClO QWPPOHNGKGFGJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000004843 novolac epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000012038 nucleophile Substances 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 150000003071 polychlorinated biphenyls Chemical class 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 1
- 125000003198 secondary alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical group 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 230000001502 supplementing effect Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O thiamine pyrophosphate Chemical compound CC1=C(CCOP(O)(=O)OP(O)(O)=O)SC=[N+]1CC1=CN=C(C)N=C1N AYEKOFBPNLCAJY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N triethylenediamine Chemical class C1CN2CCN1CC2 IMNIMPAHZVJRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/02—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/12—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by singly or doubly bound oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/36—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
- C07D405/06—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings linked by a carbon chain containing only aliphatic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
- C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D163/00—Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J163/00—Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/02—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
- C08G59/04—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof
- C08G59/06—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
- C08G59/22—Di-epoxy compounds
- C08G59/30—Di-epoxy compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen and nitrogen
- C08G59/306—Di-epoxy compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, oxygen and nitrogen containing silicon
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/23—Sheet including cover or casing
- Y10T428/239—Complete cover or casing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Description
Thin Film Transistor)、可撓性ディスプレイ基板(flexible display substrate)などの技術開発が制限される。具体的には、現在、半導体及びPCB分野では、金属/セラミック材料に比べて非常に高いCTEを有するエポキシ材料のために、高集積化、高微細化、フレキシブル化、高性能化などが求められる次世代部品の設計、加工性及び信頼性の確保が困難である。言い換えると、部品工程温度での高分子材料の高い熱膨張特性により、部品を製造する際に不良が発生するだけでなく、工程が制限され、部品の設計、加工性及び信頼性の確保が困難である。従って、電子部品の加工性及び信頼性を確保するために、エポキシ材料の改善された熱膨張特性、即ち、寸法安定性が求められる。
も、CTEは大幅に減少するが、シリコンチップなどに比べて依然として高いCTEを示す。
1つは炭素原子数1〜5のアルコキシ基であり、残りは炭素原子数1〜10のアルキル基である。但し、R4またはR5は、炭素原子数1〜20個のアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはアラルキル(aralkyl)基であってもよく、N、O、PまたはSを含むヘテロ原子を含んでもよい。)
からなる群より選択されるアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物が提供される。
であり、
化学式E’において、−q−は−CH2−または直接結合(direct linkage)であり、
化学式H’において、Rは水素、ヒドロキシ基、アルキル基(C1〜C10)または芳香族基であり、
化学式K’において、Sは
であり、
化学式N’において、tは
であり、
化学式K’〜N’において、nは1以上の整数である)
であり、
化学式E’において、−q−は−CH2−または直接結合(direct linkage)であり、
化学式H’において、Rは水素、ヒドロキシ基、アルキル基(C1〜C10)または芳香族基であり、
化学式K’において、Sは
であり、
化学式N’において、tは
であり、
化学式K’〜N’において、nは1以上の整数である)
3置換基を有し、上記化学式A’〜I’のコアは下記化学式LG1〜LG7からなる群より選択される1つの化学式5(1)連結基により連結され、化学式J’のコアは化学式LG2の連結基によりさらに連結される、アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物の製造方法が提供される。
であり、
化学式E’において、−q−は−CH2−または直接結合(direct linkage)であり、
化学式H’において、Rは水素、ヒドロキシ基、アルキル基(C1〜C10)または芳香族基であり、
化学式K’において、Sは
であり、
化学式N’において、tは
であり、
化学式K’〜N’において、nは1以上の整数である)
であり、
化学式E’において、−q−は−CH2−または直接結合(direct linkage)であり、
化学式H’において、Rは水素、ヒドロキシ基、アルキル基(C1〜C10)または芳香族基であり、
化学式K’において、Sは
であり、
化学式N’において、tは
であり、
化学式K’〜N’において、nは1以上の整数である)
方法が提供される。
タニア、アルミナ、窒化ケイ素及び窒化アルミニウムからなる群より選択される少なくとも1つの金属酸化物、及びシルセスキオキサンからなる群より選択される少なくとも1つであるエポキシ組成物が提供される。
本発明の一実施形態によると、コアにエポキシ基及び下記化学式S11〜S15からなる群より独立して選択される化学式S1置換基または下記化学式S21〜S25からなる群より独立して選択される化学式S2置換基である少なくとも1つのアルコキシシリル基を有する、アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物が提供される。
1つは炭素原子数1〜5のアルコキシ基であり、残りは炭素原子数1〜10のアルキル基である。但し、R4またはR5は、炭素原子数1〜20個のアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアラルキル(aralkyl)基であってもよく、N、O、PまたはSを含むヘテロ原子を含んでもよい。)
であり、
化学式E’において、−q−は−CH2−または直接結合(direct linkage)であり、
化学式H’において、Rは水素、ヒドロキシ基、アルキル基(C1〜C10)または芳香族基であり、
化学式K’において、Sは
であり、
化学式N’において、tは
であり、
化学式K’〜N’において、nは1以上の整数である)
本発明の一実施形態による上記アルコキシシリル系エポキシ化合物は、エポキシ官能基とアルコール(R4OH)、水、アミン(R4R5NH)及びチオール(R4SH)のような求核体のうち何れか1つの反応によるエポキシ開環反応及びアルコキシシリル化により製造されることができる。従って、本発明の一実施形態によると、出発物質であるエポキシ基を3つ以上有するエポキシ化合物とアルコール(R4OH)、水、アミン(R4R5NH)及びチオール(R4SH)のうち何れか1つとの反応によるエポキシ開環反応(第1段階)及びアルコキシシリル化(第2−1段階〜第2−3段階)を含む本発明の一実施形態によるアルコキシシリル系エポキシ化合物の製造方法が提供される。
とで、出発物質であるエポキシ化合物のエポキシ基が開環された中間生成物(1)が得られる。このとき、アンモニウムハライドをエポキシ反応基に対して触媒量〜5当量入れると、反応に役立つ。上記アンモニウムハライドは、特に限定しないが、例えば、Et4NI、Et4NBr、Et4NCl、Bu4NI、Bu4NBrまたはBu4NClであってもよい。
ドロキシ基)がシリル化して上記化学式S11〜S15からなる群より独立して選択されるアルコキシシリル基を形成することができる。
、メチレンクロリド(MC)などを使用することができる。これらの溶媒は、単独で、あるいは2つ以上をともに使用することができる。溶媒の使用量は特に限定されず、反応物が十分に溶解され、反応に好ましくない影響を及ぼさない範囲内で適量使用することができ、この技術分野の技術者は、これを考慮して適宜選択できる。
反応物をうまく溶解することができ、反応に如何なる悪影響も与えず、反応後に容易に除去できる非プロトン性溶媒(aprotic solvent)であればよい。これに限定されないが、例えば、トルエン、アセトニトリル、THF(tetra hydro furan)、MEK(methyl ethyl ketone)、DMF(dimethyl formamide)、DMSO(dimethyl sulfoxide)、メチレンクロリド(MC)などを使用することができる。これらの溶媒は、単独で、あるいは2つ以上をともに使用することができる。溶媒の使用量は特に限定されず、反応物が十分に溶解され、反応に好ましくない影響を及ぼさない範囲内で適量使用することができ、この技術分野の技術者は、これを考慮して適宜選択できる。
本発明のさらに他の実施形態によると、本発明の一実施形態によるエポキシ基及び上記化学式S11〜S15からなる群より独立して選択される化学式S1置換基または上記化学式S21〜S25からなる群より独立して選択される化学式S2置換基である少なくとも1つのアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物を含むエポキシ組成物が提供される。具体的には、上記したエポキシ化合物の項目に記載されている本発明の実施形態により提供されるアルコキシシリル系エポキシ化合物(以下、「アルコキシシリル系エポキシ化合物」という。)を含むエポキシ組成物が提供される。
60)からなる群より選択される1つ以上の脂環族アミン、ジシアンジアミド(DICY)などのその他のアミン、ポリアミド系、エポキシド系などの変性アミンが挙げられる。
デシルイミダゾール(heptadecylimidazole、2HDI)などのイミダゾール系と、ベンジルジメチルアミン(benzyl dimethyl amine、BDMA)、トリスジメチルアミノメチルフェノール(DMP−30)、トリエチレンジアミン等の第三級アミン系化合物と、テトラブチルアンモニウムブロミド等の第四級アンモニウム塩と、ジアザビシクロウンデセン(DBU)やDBUの有機酸塩と、トリフェニルホスフィン、リン酸エステルなどのリン系化合物、BF3−モノエチルアミン(BF3−MEA)などのルイス酸などが挙げられるが、これに限定されない。これらの硬化促進剤は、マイクロカプセルコーティング及び錯塩形成などにより潜在化されたものを用いてもよい。これらは硬化条件に応じて、単独で用いてもよく、2つ以上を併用してもよい。
剤などその他添加剤が必要に応じて配合されてもよい。
機粒子、例えば、シリカ粒子を60〜80wt%、または70〜80wt%含む複合体は、20ppm/℃以下、例えば、15ppm/℃以下、10ppm/℃以下、8ppm/℃以下、6ppm/℃以下、4ppm/℃以下のCTEを示す。
合成例1:ナフタレン系エポキシ化合物(A’)の合成:CH3CH2−OHと反応
常温で2口フラスコに、2,2’−((1,5−bis(oxiran−2−ylmethoxy)naphthalene−2,6−diyl)bis(methylene))bis(oxirane)20g、NaOH 2.92g、テトラエチルアンモニウムブロミド(NEt4Br)3.54g、THF(tetrahydrofuran)70ml、CH3CN 70ml及びエタノール(EtOH)82mlを入れて26℃で5時間30分間攪拌した。その後、塩化アンモニウム(NH4Cl)飽和溶液5mlを入れて3分間攪拌した。それから、回転蒸発器(rotary evaporator)で溶媒を除去した後、EA(ethyl acetate)400mlと水300mlでワークアップして有機層を分離した。分離した有機層にMgSO4を入れて残存するH2Oを除去した後、ろ過し、溶媒を蒸発させて開環されたエポキシ中間生成物を得た。
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.17(t,8Hz,6H),2.52−2.57(m,1H),2.61−2.66(m,2H)2.73−2.81(m,3H),2.90−2.93(m,2H),3.16−3.18(m,1H),3.35−3.37(m,1H),3.80−4.13(m,13H),4.22−4.25(m,1H),7.28(d,J=8.5Hz,2H),7.75(d,J=8.5Hz,2H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.60(t,J=8Hz,4H),1.18−1.25(m,24H),1.65(t,J=8Hz,4H),2.52−2.57(m,1H),2.61−2.66(m,2H)2.73−2.81(m,3H),2.90−2.93(m,2H),3.16−3.20(m,5H),3.35−3.37(m,1H),3.76−4.13(m,25H),4.22−4.25(m,1H),5.12−5.25(m,2H),7.28(d,J=8.5Hz,2H),7.75(d,J=8.5Hz,2H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.16(t,8Hz,6H),2.53−2.57(m,1H),2.61−2.65(m,2H),2.73−2.81(m,3H),2.88−2.92(m,2H),3.16−3.18(m,1H),3.35−3.37(m,1H),3.80−4.04(m,13H),4.22−4.25(m,1H),6.73−6.75(m,2H),7.03−7.05(m,4H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.62(t,J=8Hz,4H),1.16−1.24(m,24H),1.62(t,J=8Hz,4H),2.53−2.57(m,1H),2.61−2.65(m,2H),2.73−2.81(m,3H),2.88−2.92(m,2H),3.15−3.18(m,5H),3.35−3.37(m,1H),3.78−4.04(m,25H),4.22−4.25(m,1H),5.12−5.20(m,2H),6.73−6.75(m,2H),7.03−7.05(m,4H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.18(t,3H),2.58−2.60(m,1.3H),2.73−2.90(m,2H),3.16−3.20(m,0.7H),3.31−3.35(m,1.3H),3.40−3.49(m,2H),3.76−4.14(m,9H),4.16−4.20(m,0.7H),6.62−6.69(m,2H),6.80−6.83(m,2H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.61(t,J=8Hz,2H),1.22(m,12H),1.60(t,J=8Hz,2H),2.58−2.60(m,1.3H),2.73−2.90(m,2H),3.15−3.21(m,2.7H),3.31−3.35(m,1.3H),3.40−4.20(m,17.7H),5.13−5.28(m,1H),5.86−5.98(m,1H),6.62−6.69(m,2H),6.80−6.83(m,2H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):1.21(t,3.66H),2.16(s,1.2H),2.57−2.55(m,2.78H),2.79−2.75(m,2.78H),3.16−3.13(m,3H),3.46−3.36(m,4H),3.55−3.50(m,2H),3.72−3.66(m,4H),3.80−3.78(m,3H),6.74−6.71(m,3H),6.84(t,1H,J=8.8Hz),7.09−7.02(m,4H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):0.63(t,2.70H,J=4.4Hz),1.22(t,16H),1.62(m,2.70H,J=3.6Hz),2.57−2.55(m,2.73H),2.79−2.75(m,2.72H),3.16−3.13(m,5.7H),3.47−3.38(m,4H),3.63−3.51(m,2H),3.85−3.79(m,13.6H),5.07(br,1H),6.74
−6.72(d,3H,J=8.4Hz),6.84(t,1H,J=8.8Hz),7.10−7.05(m,4H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):1.12−1.18(m,1.81H),1.57(s,6H),2.68−2.70(dd,8Hz,3Hz,1.22H),2.81−2.84(t,8Hz,1.21H),3.29−3.31(m,1.19H),3.42−3.44(m,0.60H),3.79(dd,11Hz,6.5Hz,1.87H),3.85−3.95(m,1.21H),3.95−4.10(m,1.81H),4.10−4.18(m,0.60H),4.27(dd,11Hz,3Hz,1.21H),6.86(d,9Hz,4H),7.12(d,9Hz,4H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):1.05−1.19(m,7.24H),1.43(m,1.21H),1.57(s,6H),2.68−2.71(dd,8Hz,3Hz,1.22H),2.82−2.84(t,8Hz,1.22H),2.97(m,1.21H),3.29−3.32(m,1.19H),3.42−3.44(m,0.60H),3.79(m,5.49H),3.85−3.95(m,1.21H),3.95−4.10(m,1.81H),4.10−4.19(m,0.60H),4.27(dd,11Hz,3Hz,1.21H),5.05(m,0.60H),6.86(d,9Hz,4H),7.12(d,9Hz,4H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.19(t,8Hz,4H),2.70−2.88(m,4H),3.26−3.37(m,2H),3.51−3.62(m,4H),3.68−4.03(m,3.67H),4.11−4.17(m,3.33),4.22(m,1.33H),4.38−4.41(m,1H),4.90−4.92(s,2H),6.88−7.18(m,4H),7.42−7.62(m,4H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.52(t,2.67H),1.07−1.27(m,16H),1.40−1.72(m,2.67H),2.70−2.89(m,4H),3.00−3.33(m,5.33H),3.37−3.51(m,4H),3.61−3.89(m,12H),3.90−4.23(m,3.33H),4.25−4.61(m,2.33H),4.90−4.92(s,2H),5.13−5.34(m,1.33H),6.89−7.19(m,4H),7.35−7.62(m,4H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.16(t,8Hz,6H),2.53−2.56(m,1H),2.59−2.66(m,2H),2.72−2.81(m,3H),2.89−2.93(m,2H),3.16−3.18(m,1H),3.35−3.37(m,1H),3.79−4.15(m,13H),4.22−4.25(m,1H),6.73−6.75(m,2H),7.03−7.05(m,4H),7.22−7.36(m,6H),7.74(d,J=7.2Hz,2H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.63(t,J=8Hz,4H),1.18−1.23(m,18H),1.61(t,J=8Hz,4H),2.52−2.56(m,1H),2.60−2.66(m,2H),2.72−2.81(m,3H),2.89−2.93(m,2H),3.15−3.20(m,5H),3.35−3.37(m,1H),3.78−4.15(m,25H),4.22−4.25(m,1H),5.13−5.18(m,2H),6.73−6.75(m,2H),7.03−7.05(m,4H),7.22−7.36(m,6H),7.74(d,J=7.2Hz,2H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.16(t,8Hz,6H),2.53−2.57(m,1H),2.68−2.71(m,1H),2.80−2.84(m,2H),2.90−2.93(m,1H),3.17−3.30(m,2H),3.35−3.38(m,1H),3.80−4.16(m,16H),6.70(d,2H),6.96(d,2H),7.07−7.27(m,12H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.61(t,J=8Hz,4H),1.16−1.24(m,24H),1.59(t,J=8Hz,4H),2.52−2.57(m,1H),2.66−2.71(m,1H),2.79−2.84(m,2H),2.88−2.92(m,1H),3.13−3.30(m,6H),3.35−3.38(m,1H),3.76−4.19(m,28H),5.13−5.20(m,2H),6.72(d,2H),6.96(d,2H),7.07−7.27(m,12H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.15(t,3H),2.72−2.75(m,2H),2.88−2.90(m,2H),3.31−3.36(m,2H),3.94(dd,2H,J=11.9Hz,5.6Hz),3.80−4.14(m,7H),4.17(dd,2H,J=12.0Hz,3.6Hz),6.73(d,2H,J=8.8Hz),6.82(d,4H,J=8.8Hz),6.95(d,2H,J=8.8Hz),6.99(d,4H,J=8.8Hz)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.61(t,J=8Hz,2H),1.22(m,12H),1.60(t,J=8Hz,2H),2.72−2.75(m,2H),2.88−2.90(m,2H),3.15(t,J=8Hz,2H),3.31−3.36(m,2H),3.78−4.14(m,15H),4.17(dd,2H,J=12.0Hz,3.6Hz),5.13−5.28(m,1H),6.73(d,2H,J=8.8Hz),6.82(d,4H,J=8.8Hz),6.95(d,2H,J=8.8Hz),6.99(d,4H,J=8.8Hz)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.19(t,4H),2.68(dd,J=4.8Hz,2.8Hz,2.67H),2.84(t,J=4.8Hz,2.67H),3.22−3.27(m,2.67H),3.51−3.62(m,1.33H),3.80−3.84(m,1.33H),3.87−4.01(m,8H),4.05−4.10(m,4H),4.55(s,2H),6.67(d,J=8.4Hz,8H),7.00(d,J=8.0Hz,8H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.57(t,J=8Hz,2.67H),1.19(t,J=8Hz,16H),1.60(t,J=8Hz,2.67H),2.70(dd,J=4.8Hz,2.8Hz,2.67H),2.86(t,J=4.8Hz,2.67H),3.08(t,J=8Hz,2.67H),3.22−3.28(m,2.67H),3.50−3.62(m,1.33H),3.78−3.84(m,1.33H),3.84−4.01(m,16H),4.05−4.13(m,4H),4.45(s,2H),5.03−5.28(m,1.33H),6.67(d,J=8.4Hz,8H),7.00(d,J=8.0Hz,8H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.16(t,3H),2.61−2.64(m,2H),2.71−2.75(m,2H),3.13−3.20(m,2H),3.75−4.14(m,11H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.16(t,3H),0.63(t,J=8Hz,2H),1.26(t,J=8Hz,9H),1.63(t,J=8Hz,2H),2.60−2.64(m,2H),2.71−2.75(m,2H),3.13−3.20(m,4H),3.75−4.14(m,17H),5.13−5.29(m,1H)
常温で2口フラスコにS.M. 25g、NaOH 2.43g、テトラエチルアンモニウムブロミド(NEt4Br)2.95g、THF(tetrahydrofuran
)93ml、CH3CN 93ml及びエタノール(EtOH)68mlを入れて、26℃で16時間30分間攪拌した。その後、塩化アンモニウム(NH4Cl)飽和溶液5mlを入れて3分間攪拌した。そして、回転蒸発器(rotary evaporator)で溶媒を除去してからEA(ethyl acetate)400mlと水300mlでワークアップして有機層を分離した。分離した有機層にMgSO4を入れて残存するH2Oを除去した後、ろ過し、溶媒を蒸発させて開環されたエポキシ中間生成物を得た。
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.18(m,10.57H),2.60−2.73(m,6.89H),3.29−3.32(m,3.51H),3.78−4.17(m,35.59H),4.47−4.49(m,7.61H),6.70−7.14(m,21.68H)
2口フラスコに、上記第1段階で得られた中間生成物20g、3−(triethoxysilyl)propyl isocyanate 19.0ml、N,N−diisopropylethylamine(DIPEA)13.4ml及びCH3CN 130mlを入れて65℃で20時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル300mlを添加してから、塩化アンモニウム(NH4Cl)飽和水溶液でワークアップした。有機層を分離し、有機層にMgSO4を入れて残存するH2Oを除去した。蒸発器で有機溶媒を除去したcrude productにhexaneを入れた後、−15℃で保管して沈殿物を製造した。上澄み液を除去してから上記沈殿物に再度hexaneを入れて沈殿物を製造する過程をさらに2回繰り返して、所望する生成物を得た。アルコキシシリルエポキシの反応性官能基の濃度比は、[エポキシ基]:[シリル基]=1:1であった。
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.61(t,J=8Hz,7.33),1.19−1.22(m,43.51H),1.60(t,J=8Hz,7.71H),2.60−2.73(m,6.89H),3.15−3.32(m,10.87H),3.78−4.18(m,57.74H),4.47−4.49(m,7.61H),5.13−5.25(m,3.67H),6.70−7.14(m,21.68H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.16(m,3.42H),2.12−2.32(m,3.43H),2.55−2.91(m,1.51H),2.92−3.05(m,0.68H),3.42−3.60(m,1.16H),3.60−4.12(m,4.97H),4.13−4.32(m,0.37),6.71−7.04(m,3.00H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.51(m,0.66H),1.15(m,4.02H),1.57−1.61(m,0.69H),2.12−2.32(m,3.43H),2.55−2.91(m,1.51H),2.92−3.05(m,0.68H),3.10−3.36(m,0.95H),3.42−3.60(m,1.16H),3.60−4.12(m,5.58H),4.13−4.32(m,0.37),5.11−5.32(m,0.57H),6.71−7.04(m,3.00H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.19(m,15.80H),1.62(m,31.92H),2.58−2.77(m,10.99H),3.28−3.34(m,4.67H),3.68−4.18(m,49.42H),4.46−4.51(m,11.90H),6.65−6.72(m,20.21H),7.26−7.31(m,12.68H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.60(t,J=8Hz,10.62H),1.18−1.22(m,62.88H),1.60−1.63(m,43.54H),2.58−2.77(m,10.99H),3.15(t,J=8Hz,10.82H),3.28−3.33(m,4.67H),3.67−4.18(m,80.13H),4.47−4.51(m,11.90H),5.13−5.20(m,5.32H),6.65−6.72(m,20.21H),7.26−7.31(m,12.68H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.21(m,9.83H),2.59−2.74(m,7.41H),3.28−3.32(m,3.57H),3.66−4.42(m,30.84H),4.46−4.50(m,7.44H),6.55−6.59(m,4.52H),7.03−7.39(m,11.43H),7.52−7.88(m,9.81H),8.02−8.03(m,2.07H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.62(t,J=8Hz,6.99H),1.21−1.27(m,28.62H),1.63(t,J=8Hz,6.97H),2.59−2.75(m,7.41H),3.17(t,J=8Hz,7.02H),3.28−3.32(m,3.57H),3.65−4.42(m,51.72H),4.46−4.50(m,7.44H),5.14−5.40(m,3.6H),6.54−6.59(m,4.52H),7.02−7.39(m,11.43H),7.51−7.88(m,9.81H),8.02−8.04(m,2.07H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.12(t,6H),2.37(t,7Hz,10H),2.68(m,4H),2.85(t,J=4.8Hz,2H),3.20−3.27(m,2H),3.87−4.02(m,8H),4.05−4.13(m,2H),4.55(s,2H),6.67(d,J=8.4Hz,8H),7.00(d,J=8.0Hz,8H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.57(m,4H),1.12−1.19(m,18H),1.55(m,4H),2.37(m,10H),2.69(m,4H),2.85(t,J=4.8Hz,2H),3.02−3.06(m,4H),3.20−3.28(m,2H),3.87−4.02(m,20H),4.05−4.13(m,2H),4.55(s,2H),6.67(d,J=8.4Hz,8H),7.00(d,J=8.0Hz,8H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=2.69(dd,J=4.8Hz,2.8Hz,2H),2.85(t,J=4.8Hz,2H),3.22−3.27(m,2H),3.80−3.84(m,2H),3.88−4.01(m,8H),4.06−4.10(m,2H),4.54(s,2H),6.67(d,J=8.4Hz,8H),7.00(d,J=8.0Hz,8H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.57(t,J=8Hz,4H),1.19(m,36H),1.56(t,J=8Hz,8H),2.67(dd,J=4.8Hz,2.8Hz,2H),2.85(t,J=4.8Hz,2H),3.07(t,J=8Hz,8H),3.22−3.27(m,2H),3.50−3.62(m,2H),3.78−3.84(m,2H),3.84−4.01(m,32H),4.04−4.12(m,2H),4.45(s,2H),5.05−5.29(m,4H),6.67(d,J=8.4Hz,8H),7.00(d,J=8.0Hz,8H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.19(t,6H),2.41−2.44(m,6H),2.66−2.69(m,4H),2.84(t,J=4.8Hz,2H),3.20−3.27(m,2H),3.87−4.01(m,8H),4.05−4.13(m,2H),4.55(s,2H),6.67(d,J=8.4Hz,8H),7.00(d,J=8.0Hz,8H)
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.57(m,4H),1.12−1.19(m,24H),1.55(m,4H),2.41−2.43(m,6H),2.67−2.70(m,4H),2.84(t,J=4.8Hz,2H),3.04−3.06(m,4H),3.20−3.28(m,2H),3.87−4.03(m,20H),4.05−4.13(m,2H),4.55(s,2H),5.01−5.15(m,2H),6.67(d,J=8.4Hz,8H),7.00(d,J=8.0Hz,8H)
上記した合成例2(A’)と同じ方法で第1段階の反応を進行して、化学式A−1の化合物を合成した。
2口フラスコに、上記第1段階で得られた中間生成物20g、allyl bromide 6.2ml、NaOH 2.87g、臭化テトラエチルアンモニウム(NEt4B
r)2.3g及びCH3CN 72mlを入れて、65℃で20時間攪拌した。反応終了後、酢酸エチル300mlを加えた後、水でワークアップした。有機層を分離し、有機層にMgSO4を入れて残存するH2Oを除去した。蒸発器で有機溶媒を除去してA−2−2を得た。
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.17(t,8Hz,6H),2.52−2.57(m,1H),2.61−2.66(m,2H),2.73−2.81(m,3H),2.90−2.93(m,2H),3.16−3.18(m,1H),3.35−3.37(m,1H),3.80−4.13(m,17H),4.22−4.25(m,1H),5.20−5.27(m,4H),5.87−6.00(m,2H),7.28(d,J=8.5Hz,2H),7.75(d,J=8.5Hz,2H)
2口フラスコに、上記第1段階の反応で得られた中間生成物(A−2)10g、PtO2 135mg、トリエトキシシラン5.37g及びトルエン150mlを入れて、常温で5分間攪拌した。温度を80℃にして24時間加熱及び攪拌して反応を終了した後、常温に冷ましてからセライトフィルター(celite filter)で無機物を除去した。蒸発させてトルエンを除去し、真空ポンプを用いて完全に乾燥させてエポキシ基:アルコキシシリル基の比率が1:1の最終目的物であるアルコキシシリル基を有するエポキシ(A−2−3)を得た。この過程により得られたアルコキシシリルエポキシの反応性官能基の濃度比は、[エポキシ基]:[シリル基]=1:1であった。
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.60(t,J=4Hz,4H),1.21(m,24H),1.57−1.61(m,4H),2.52−2.57(m,1H),2.61−2.66(m,2H),2.73−2.81(m,3H),2.90−2.93(m,2H),3.16−3.18(m,1H),3.24−3.28(m,4H),3.35−3.37(m,1H),3.78−4.13(m,25H),4.22−4.25(m,1H),7.28(d,J=8.5Hz,2H),7.75(d,J=8.5Hz,2H)
合成予想例1:ナフタレン系エポキシ化合物(B−2)の合成:CH3CH2−OH、HSi(OEt)3反応
常温で2口フラスコにSM 20g、NaOH 2.93g、テトラエチルアンモニウムブロミド(NEt4Br)3.56g、THF(tetrahydrofuran)7
1ml、CH3CN 71ml及びエタノール(EtOH)82mlを入れて、26℃で2時間30分間攪拌する。その後、塩化アンモニウム(NH4Cl)飽和溶液5mlを入れて3分間攪拌する。そして、回転蒸発器(rotary evaporator)で溶媒を除去してからEA(ethyl acetate)400mlと水300mlでワークアップして有機層を分離する。分離した有機層にMgSO4を入れて残存するH2Oを除去した後、ろ過し、溶媒を蒸発させて開環されたエポキシ中間生成物を得る。
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=1.15(t,8Hz,3H),2.43−2.45(m,1H),2.61−2.66(m,1H),3.13−3.17(m,1H),3.38−3.45(m,1H),3.63−3.70(m,1H),3.88(q,2H),4.22−4.25(m,2H),4.39−4.50(m,3H),7.75(d,J=8.5Hz,4H),7.95(d,J=8.5Hz,4H)
2口フラスコに、上記第1段階で得られた中間生成物20g、3−(triethoxysilyl)propyl isocyanate 12.4ml、N,N−diisopropylethylamine(DIPEA)8.7ml及びCH3CN 801mlを入れて、65℃で20時間撹拌する。反応終了後、酢酸エチル300mlを加えてから塩化アンモニウム(NH4Cl)飽和水溶液でワークアップする。有機層を分離し、有機層にMgSO4を入れて残存するH2Oを除去する。蒸発器で有機溶媒を除去したcrude productにhexaneを入れてから−15℃で保管して沈殿物を製造した。上澄み液を除去してから上記沈殿物に再度hexaneを入れて沈殿物を製造する過程をさらに2回繰り返して、所望する生成物を得る。アルコキシシリルエポキシの反応性官能基の濃度比は、[エポキシ基]:[シリル基]=1:1と予想される。
1H NMR(400MHz,CDCl3):δ=0.60(t,8Hz,2H),1.08−1.25(m,12H),1.43−1.70(m,2H),2.43−2.45(m,1H),2.61−2.66(m,1H)3.05−3.17(m,3H),3.38−3.45(m,1H),3.62−3.70(m,7H),3.88(q,2H),4.22−4.25(m,2H),4.39−4.50(m,3H),4.93−5.10(m,1H),7.75(d,J=8.5Hz,4H),7.95(d,J=8.5Hz,4H).
1.エポキシ複合体の製造
(1)エポキシガラス繊維複合体(硬化物)の製造
下記表5〜表7の組成で、エポキシ化合物、硬化剤及び硬化触媒をメチルエチルケトンに固形分含量が40wt%になるように溶解した後、均一な溶液になるように混合して得た混合物にガラス繊維(Nittobo社のガラス繊維織物、T−glass)を浸漬してエポキシ化合物を含むガラス繊維複合体を製造した。その後、上記複合体を100℃に加熱された真空オーブンに入れて溶媒を除去してから、120℃に予熱されたホットプレスで、120℃で2時間、180℃で2時間、そして>200℃で2時間硬化させてガラス繊維複合体フィルム(4mm×16mm×0.1mm)を得た。複合体フィルムを製造する際、プレスの圧力とレジンの粘度に応じて複合体フィルムのレジン含量を調節した。複合体フィルムにおけるレジンの含量は、下記表5〜表7に示した通りである。
、シリカの平均サイズ1μm)をメチルエチルケトンに固形分含量が40wt%になるように溶解する。この混合液を1500rpmの速度で1時間混合した後、硬化剤を入れてさらに50分間混合した。その後、ここに、硬化触媒を入れてさらに10分間混合してエポキシ混合物を得た。上記エポキシ混合物にガラス繊維(Nittobo社のガラス繊維、T−glass)を浸漬してガラス繊維複合体を製造し、上記と同じ条件で硬化して複合体フィルムを得た。
下記表8〜表10の組成で、エポキシ化合物及びシリカスラリー(固形分含量70wt%、2−メトキシエタノール溶媒、シリカの平均サイズ1μm)をメチルエチルケトンに固形分含量が40wt%になるように溶解する。この混合液を1500rpmの速度で1時間混合した後、硬化剤を入れてさらに50分間混合した。その後、ここに、硬化触媒を入れてさらに10分間混合してエポキシ混合物を得た。上記混合物を100℃に加熱された真空オーブンに入れて溶媒を除去した後、120℃に予熱されたホットプレスで、120℃で2時間、180℃で2時間、そして>200℃で2時間硬化させてエポキシフィラー(無機粒子)複合体(5mm×5mm×3mm)を得た。
下記表5〜表10の実施例及び比較例により得られた硬化物の温度による寸法変化を熱−機械分析機(Thermo−mechanical Analysizer)を用いて評価し、下記表に示した。エポキシガラス繊維複合フィルムの試片は4×16×0.1(mm3)のサイズ、フィラー複合体の試片は5×5×3(mm3)のサイズに製造した。
(1)TMTE:トリフェニル系エポキシ(Tris(4−hydroxyphenyl)methane triglycidyl ether、Aldrich社)
(2)DGEBA:ビスフェノールAのジグリシジルエーテル(Diglycidyl ether of bisphenol A、Aldrich社)
(3)EOCN:オルソ−クレゾールノボラックのエポキシ樹脂(epoxy of ortho−cresol novolac、Nippon Kayaku社)
(4)polydis:ゴム改質されたエポキシ(Strruktol社)
(5)HF−1M:フェノールノボラック系硬化剤(Meiwa Plastic Industries)
(6)TPP:トリフェニルホスフィン(Aldrich社)
(7)2E4MZ:2−エチル−4−メチルイミダゾール(Aldrich社)
Claims (20)
- 下記化学式A’〜N’からなる群より選択される一種のコアに下記化学式S41〜S45からなる群より選択されるエポキシ基及び下記化学式S11〜S15からなる群より独立して選択される化学式S1置換基または下記化学式S21〜S25からなる群より独立して選択される化学式S2置換基である少なくとも1つのアルコキシシリル基、及び下記化学式S31〜S35からなる群より選択される任意の化学式S3置換基を有する、アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物。
化学式E’において、−q−は−CH 2 −または直接結合(direct linkage)であり、
化学式H’において、Rは水素、ヒドロキシ基、アルキル基(C1〜C10)または芳香族であり、
化学式K’において、Sは
化学式N’において、tは
化学式K’〜N’において、nは1以上の整数である。)
- 前記化学式A’〜I’からなる群より選択されるコアは、下記化学式LG1〜LG21からなる群より選択される1つの[化学式5(2)]連結基により連結され、前記化学式J’のコアは下記化学式LG2、LG9またはLG16により連結される、請求項1に記載のアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物。
- 出発物質であるエポキシ基を3つ以上有するエポキシ化合物とアルコール(R4OH)、アミン(R4R5NH)及びチオール(R4SH)の何れか1つを塩基及び任意の溶媒の存在下で反応させるか、前記エポキシ化合物と水を酸または塩基及び任意の溶媒の存在下で反応させて中間生成物(1)を形成する第1段階と、
前記中間生成物(1)と下記化学式(B1)を塩基触媒及び任意の溶媒の存在下で反応させる第2−1段階と、を含む、請求項1の前記化学式A’〜N’からなる群より選択される一種のコアに前記化学式S41〜S45からなる群より選択されるエポキシ基及び前
記化学式S11〜S15からなる群より独立して選択される化学式S1置換基である少なくとも1つのアルコキシシリル基、及び前記化学式S31〜S35からなる群より選択される任意の化学式S3置換基を有する、アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物の製造方法。
- 出発物質であるエポキシ基を3つ以上有するエポキシ化合物とアルコール(R4OH)、アミン(R4R5NH)及びチオール(R4SH)の何れか1つを塩基及び任意の溶媒の存在下で反応させるか、前記エポキシ化合物と水を酸または塩基及び任意の溶媒の存在下で反応させて中間生成物(1)を形成する第1段階と、
前記中間生成物(1)を下記化学式(B3)のアルケニル化合物と塩基及び任意の溶媒の存在下で反応させて中間生成物(2)を形成する第2−2段階と、
前記中間生成物(2)を下記化学式(B2)と金属触媒及び任意の溶媒の存在下で反応させる第2−3段階と、を含む、請求項1の前記化学式A’〜N’からなる群より選択される一種のコアに前記化学式S41〜S45からなる群より選択されるエポキシ基及び前記化学式S21〜S25からなる群より独立して選択される化学式S2置換基である少なくとも1つのアルコキシシリル基、及び前記化学式S31〜S35からなる群より選択される任意の化学式S3置換基を有する、アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物の製造方法。
- 前記出発物質であるエポキシ基を3つ以上有するエポキシ化合物は、前記化学式A’〜N’からなる群より選択される1つのコア及び前記化学式S41〜S44からなる群より選択される少なくとも3つの化学式S4(1)エポキシ基を有し、前記化学式A’〜I’のコアは下記化学式LG1〜LG7からなる群より選択される1つの化学式5(1)連結基により連結され、化学式J’のコアは化学式LG2の連結基によりさらに連結される、請求項3または請求項4に記載のアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物の製造方法。
- 請求項1または請求項2に記載のアルコキシシリル基を有するエポキシ化合物、及び繊維及び/または無機粒子からなる群より選択される少なくとも1つの充填剤をさらに含む、エポキシ組成物。
- 前記無機粒子は、エポキシ組成物の固形分の総重量に基づき、5wt%〜95wt%である、請求項6に記載のエポキシ組成物。
- 前記繊維は、前記エポキシ組成物の固形分の総重量に対して10wt%〜90wt%含まれる、請求項6に記載のエポキシ組成物。
- 硝酸、硫酸、塩酸、アセト酸及びリン酸からなる群より選択される少なくとも1つの無機酸、アンモニア、KOH、NH4OH、アミン、及び遷移金属アルコキシド、スズ(tin)化合物からなる群より選択される少なくとも1つであるアルコキシシリル基の反応触媒をさらに含む、請求項6に記載のエポキシ組成物。
- 請求項6から請求項9の何れか1項に記載のエポキシ組成物を含む電子材料。
- 請求項6から請求項9の何れか1項に記載のエポキシ組成物を含む基板。
- 請求項6から請求項9の何れか1項に記載のエポキシ組成物を含むフィルム。
- 請求項6から請求項9の何れか1項に記載のエポキシ組成物を含む半導体パッケージング材料。
- 請求項13に記載の半導体パッケージング材料を含む半導体装置。
- 請求項6から請求項9の何れか1項に記載のエポキシ組成物を含む接着剤。
- 請求項6から請求項9の何れか1項に記載のエポキシ組成物を含む塗料。
- 請求項6から請求項9の何れか1項に記載のエポキシ組成物を含む複合材料。
- 請求項6から請求項9の何れか1項に記載のエポキシ組成物の硬化物。
- 熱膨張係数が60ppm/℃以下である、請求項18に記載のエポキシ組成物の硬化物。
- ガラス転移温度が100℃より高いか、ガラス転移温度を示さない、請求項18に記載のエポキシ組成物の硬化物。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR20130020134 | 2013-02-25 | ||
KR10-2013-0020134 | 2013-02-25 | ||
KR1020140021884A KR101655857B1 (ko) | 2013-02-25 | 2014-02-25 | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물과 경화물 및 이의 용도 |
PCT/KR2014/001528 WO2014129877A1 (ko) | 2013-02-25 | 2014-02-25 | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물과 경화물 및 이의 용도 |
KR10-2014-0021884 | 2014-02-25 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016511250A JP2016511250A (ja) | 2016-04-14 |
JP6153631B2 true JP6153631B2 (ja) | 2017-06-28 |
Family
ID=51754872
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015559194A Active JP6153631B2 (ja) | 2013-02-25 | 2014-02-25 | アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物、その製造方法、それを含む組成物と硬化物及びその用途 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9732182B2 (ja) |
EP (1) | EP2960245B1 (ja) |
JP (1) | JP6153631B2 (ja) |
KR (1) | KR101655857B1 (ja) |
CN (1) | CN105073760B (ja) |
WO (1) | WO2014129877A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015133840A2 (ko) * | 2014-03-05 | 2015-09-11 | 한국생산기술연구원 | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물, 경화물 및 이의 용도 |
US10040896B2 (en) * | 2014-09-25 | 2018-08-07 | Hexion, Inc. | Silane functionalized compounds and compositions thereof |
KR102483625B1 (ko) * | 2015-10-01 | 2023-01-02 | 삼성전기주식회사 | 저유전손실 절연 수지 조성물, 그 조성물로 제조된 절연필름 및 그 절연필름을 포함하는 인쇄회로기판 |
KR101883642B1 (ko) * | 2016-02-16 | 2018-08-01 | 한국생산기술연구원 | 표면개질된 충전제, 이의 제조방법, 이를 포함하는 조성물 및 이의 용도 |
US20170287838A1 (en) * | 2016-04-02 | 2017-10-05 | Intel Corporation | Electrical interconnect bridge |
CN105949438B (zh) * | 2016-05-11 | 2018-01-02 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 三种基于呋喃环结构的生物基环氧树脂及其制备方法和应用 |
KR101893260B1 (ko) * | 2016-10-24 | 2018-10-04 | 한국타이어 주식회사 | 공명음 저감 타이어 및 이의 제조방법 |
WO2018225880A1 (ko) | 2017-06-05 | 2018-12-13 | 한국생산기술연구원 | 알콕시실릴기 및 활성 에스테르기를 갖는 화합물, 이의 제조방법, 이를 포함하는 조성물 및 용도 |
KR101967155B1 (ko) * | 2017-11-07 | 2019-04-09 | 한국생산기술연구원 | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 수지의 제조방법, 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 수지, 이를 포함하는 조성물 및 이의 용도 |
CN107986976B (zh) * | 2017-12-07 | 2020-06-02 | 黄山学院 | 一种3-氨基-1,2-丙二醇的制备方法 |
KR102064379B1 (ko) | 2018-05-08 | 2020-01-10 | 한국생산기술연구원 | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
US11049805B2 (en) * | 2018-06-29 | 2021-06-29 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor package and method |
CN108948359B (zh) * | 2018-08-30 | 2020-06-02 | 北京理工大学 | 一种同时含有苯基和乙烯基的梯形聚硅倍半氧烷及其制备方法 |
KR102232340B1 (ko) | 2019-11-15 | 2021-03-26 | 한국생산기술연구원 | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 수지의 조성물 및 이의 복합체 |
KR102503157B1 (ko) * | 2020-11-25 | 2023-02-24 | 한국생산기술연구원 | 알콕시실릴기를 갖는 다관능성 에폭시 화합물과 이의 제조방법, 조성물 및 용도 |
CN112939898A (zh) * | 2021-02-07 | 2021-06-11 | 深圳飞扬兴业科技有限公司 | 一种环氧化合物及其制备方法 |
KR102636434B1 (ko) * | 2021-09-29 | 2024-02-14 | 주식회사 테라온 | 전력 반도체 패키지용 칩 본딩 조성물 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5716446A (en) * | 1980-07-04 | 1982-01-27 | Fujitsu Ltd | Formation of micropattern and photoresist used in said formation |
JPS57141447A (en) | 1981-02-27 | 1982-09-01 | Toshiba Silicone Co Ltd | Polyorganosiloxane composition curable at room temperature |
JPS63280778A (ja) | 1987-05-13 | 1988-11-17 | Sunstar Giken Kk | 耐熱性プライマ−組成物 |
US5019607A (en) * | 1989-11-01 | 1991-05-28 | Eastman Kodak Company | Modified epoxy resins and composites |
GB9409543D0 (en) * | 1994-05-12 | 1994-06-29 | Zeneca Ltd | Compositions |
JP3659533B2 (ja) * | 1996-07-30 | 2005-06-15 | 日本化薬株式会社 | エポキシ樹脂、エポキシ樹脂組成物及びその硬化物 |
US6525160B1 (en) * | 1999-06-17 | 2003-02-25 | Arakawa Chemical Industries Ltd. | Epoxy resin composition and process for producing silane-modified epoxy resin |
DE10320432A1 (de) * | 2003-05-08 | 2004-12-02 | Basf Coatings Ag | Von externen Katalysatoren freie, autokatalysierte, thermisch härtbare Massen auf der Basis von Kondensaten epoxyfunktioneller Silane und ihre Verwendung zur Herstellung thermisch gehärteter Massen |
JP2005281528A (ja) * | 2004-03-30 | 2005-10-13 | Yokohama Rubber Co Ltd:The | 光学材料用接着剤組成物 |
JP3990693B2 (ja) * | 2004-09-02 | 2007-10-17 | 横浜ゴム株式会社 | 接着剤組成物および光ファイバーとフェルールとの接着方法 |
KR100845692B1 (ko) * | 2004-12-29 | 2008-07-11 | 제일모직주식회사 | 열경화성 일액형 컬러필터용 보호막 조성물 및 이를이용한 컬러필터 |
JP5009535B2 (ja) * | 2006-01-23 | 2012-08-22 | 横浜ゴム株式会社 | 接着剤組成物 |
US7700711B2 (en) * | 2007-03-02 | 2010-04-20 | Chung Shan Institute Of Science And Technology, Armaments Bureau, M.N.D. | Manufacturing method of ladder-like phosphorous-containing polysilsesquioxanes nanocomposite material |
US7989651B2 (en) * | 2007-03-09 | 2011-08-02 | Momentive Performance Materials Inc. | Epoxysilanes, processes for their manufacture and curable compositions containing same |
JP2009185270A (ja) * | 2007-05-30 | 2009-08-20 | Nagase Chemtex Corp | 縮環構造含有樹脂 |
JP5170414B2 (ja) * | 2008-05-16 | 2013-03-27 | 信越化学工業株式会社 | 多官能エポキシ基含有有機ケイ素化合物、その製造方法、コーティング剤組成物、並びに該組成物が被覆処理されてなる物品 |
JP5555614B2 (ja) * | 2010-12-14 | 2014-07-23 | 積水化学工業株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス表示素子用封止剤 |
WO2013151308A1 (ko) * | 2012-04-02 | 2013-10-10 | 한국생산기술연구원 | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이를 포함하는 조성물, 경화물, 이의 용도 및 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 |
US9725590B2 (en) | 2012-09-17 | 2017-08-08 | Korea Institute Of Industrial Technology | Epoxy compound having alkoxysilyl group, method for preparing the same, composition including the same, cured product made from the composition, and use of the composition |
-
2014
- 2014-02-25 JP JP2015559194A patent/JP6153631B2/ja active Active
- 2014-02-25 EP EP14754737.6A patent/EP2960245B1/en active Active
- 2014-02-25 KR KR1020140021884A patent/KR101655857B1/ko active IP Right Grant
- 2014-02-25 WO PCT/KR2014/001528 patent/WO2014129877A1/ko active Application Filing
- 2014-02-25 CN CN201480009952.8A patent/CN105073760B/zh active Active
-
2015
- 2015-08-24 US US14/834,387 patent/US9732182B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014129877A1 (ko) | 2014-08-28 |
CN105073760A (zh) | 2015-11-18 |
EP2960245A1 (en) | 2015-12-30 |
KR101655857B1 (ko) | 2016-09-09 |
KR20140106441A (ko) | 2014-09-03 |
US20150361211A1 (en) | 2015-12-17 |
CN105073760B (zh) | 2018-06-12 |
EP2960245A4 (en) | 2016-10-05 |
JP2016511250A (ja) | 2016-04-14 |
US9732182B2 (en) | 2017-08-15 |
EP2960245B1 (en) | 2019-07-31 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6153631B2 (ja) | アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物、その製造方法、それを含む組成物と硬化物及びその用途 | |
JP6173464B2 (ja) | アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物、その製造方法、それを含む組成物、硬化物及びその用途 | |
JP5852243B2 (ja) | アルコキシシリル基を有するエポキシ化合物、その製造方法、それを含む組成物と硬化物及びその用途 | |
JP6423443B2 (ja) | 新規のエポキシ化合物、それを含む混合物、組成物、硬化物、その製造方法、及びその用途 | |
JP6282352B2 (ja) | アルコキシシリル基を有する新規ノボラック硬化剤、その製造方法、それを含む組成物、及び硬化物、並びにその用途 | |
KR101898526B1 (ko) | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이를 포함하는 조성물, 경화물, 이의 용도 및 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 | |
KR101863111B1 (ko) | 노볼락계 에폭시 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물, 경화물 및 이의 용도 | |
KR101992845B1 (ko) | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이를 포함하는 조성물, 경화물, 이의 용도 및 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물의 제조방법 | |
JP2018500309A (ja) | 2つ以上のアルコキシシリル基を有する熱硬化性アルコキシシリル化合物、それを含む組成物、硬化物、及びその用途、並びにアルコキシシリル化合物の製造方法 | |
JP2015502919A (ja) | アルコキシシリル基を有するイソシアヌレートエポキシ化合物、その製造方法、それを含む組成物、該組成物の硬化物及び該組成物の用途 | |
KR101749551B1 (ko) | 알콕시실릴기를 갖는 에폭시 화합물, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물, 경화물 및 이의 용도 | |
WO2015126143A1 (ko) | 신규한 에폭시 화합물, 이를 포함하는 혼합물, 조성물, 경화물, 이의 제조 방법, 및 이의 용도 | |
WO2015105379A1 (ko) | 알콕시실릴기를 갖는 새로운 노볼락 경화제, 이의 제조 방법, 이를 포함하는 조성물, 경화물 및 이의 용도 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161005 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20161228 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170302 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20170302 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170510 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170530 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6153631 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |