JP6151721B2 - Thzセンサを用いた連続不均一性のウェブ上のキャリパー・コーティング測定 - Google Patents
Thzセンサを用いた連続不均一性のウェブ上のキャリパー・コーティング測定 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6151721B2 JP6151721B2 JP2014555901A JP2014555901A JP6151721B2 JP 6151721 B2 JP6151721 B2 JP 6151721B2 JP 2014555901 A JP2014555901 A JP 2014555901A JP 2014555901 A JP2014555901 A JP 2014555901A JP 6151721 B2 JP6151721 B2 JP 6151721B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- measurement
- pulse
- coating
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title claims description 62
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 43
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 38
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 35
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 15
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 11
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 10
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 6
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 claims description 5
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 50
- 239000000463 material Substances 0.000 description 15
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 8
- 238000001328 terahertz time-domain spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 7
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 3
- SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N (4-hydroxyphenyl) methanesulfonate Chemical compound CS(=O)(=O)OC1=CC=C(O)C=C1 SKJCKYVIQGBWTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- PCTMTFRHKVHKIS-BMFZQQSSSA-N (1s,3r,4e,6e,8e,10e,12e,14e,16e,18s,19r,20r,21s,25r,27r,30r,31r,33s,35r,37s,38r)-3-[(2r,3s,4s,5s,6r)-4-amino-3,5-dihydroxy-6-methyloxan-2-yl]oxy-19,25,27,30,31,33,35,37-octahydroxy-18,20,21-trimethyl-23-oxo-22,39-dioxabicyclo[33.3.1]nonatriaconta-4,6,8,10 Chemical compound C1C=C2C[C@@H](OS(O)(=O)=O)CC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@H]([C@H](C)CCCC(C)C)[C@@]1(C)CC2.O[C@H]1[C@@H](N)[C@H](O)[C@@H](C)O[C@H]1O[C@H]1/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/C=C/[C@H](C)[C@@H](O)[C@@H](C)[C@H](C)OC(=O)C[C@H](O)C[C@H](O)CC[C@@H](O)[C@H](O)C[C@H](O)C[C@](O)(C[C@H](O)[C@H]2C(O)=O)O[C@H]2C1 PCTMTFRHKVHKIS-BMFZQQSSSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000009532 heart rate measurement Methods 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 238000012804 iterative process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0625—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0691—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of objects while moving
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3581—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using far infrared light; using Terahertz radiation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3581—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using far infrared light; using Terahertz radiation
- G01N21/3586—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using far infrared light; using Terahertz radiation by Terahertz time domain spectroscopy [THz-TDS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/86—Investigating moving sheets
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/8851—Scan or image signal processing specially adapted therefor, e.g. for scan signal adjustment, for detecting different kinds of defects, for compensating for structures, markings, edges
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/93—Detection standards; Calibrating baseline adjustment, drift correction
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
Description
[0001] この出願は2012年2月8日に出願の同時係属出願番号第61/596,595号に米国特許法第119条(e)の下で優先権を主張し、それは本願明細書に引用したものとする。
[0008] (a)一つ以上の被膜層(6)および基板層(7)を有しているコーティングされた連続ウェブ(40)の分析モデルを展開するステップであって、
(i)各被膜層(6)の厚さと、
(ii)基板層の厚さ(7)と、
(iii)値がまず最初に割り当てられる基板(7)および各被膜層(6)の屈折率と、
(iv)コーティングされた連続ウェブ(40)の上のテラヘルツ放射線の入射の角度と、の関数として、モデルが、コーティングされた連続ウェブ(40)による電磁界の伝送を表すことを特徴とする、展開するステップと、
[0009] (b)放射線(18)のパルスを生成するエミッタ(12)および放射線のパルスを受信する検出器(14)を包含するタイムドメインテラヘルツ分光装置(10)を使用することによって、コーティングされた連続ウェブ・サンプル(40)に関しサンプル測定を行うステップであって、
[0010] (i) サンプル(40)と相互作用しないリファレンス放射線パルス(20)とサンプル(40)に向けられるサンプル放射線パルス(22)と、リファレンス放射線パルス(20)を形成するためにエミッタ(12)と検出器(14)の間の光路に沿ってビーム・スプリッタ(16)を配置するステップと、
[0011] (ii) 検出器(14)にサンプル放射線パルス(23)を反射する第1の鏡(32)を配置するステップと、
[0012] (iii)検出器(14)にリファレンス放射線パルス(21)を反射するように第2の鏡(30)を位置決めし、同位相で変動をモニタする反射された放射線パルス(21)およびリファレンス放射線パルス(20)の振幅を使用するステップと、
を包含することを特徴とするサンプル測定を行うステップと、
[0013] (c)測定に関しサンプル(40)の配置なしで、ステップ(b)(i)、(b)(ii)および(b)(iii)を実行することによって、タイムドメイン分光を有するコーティングされた連続ウェブ・サンプル(40)に関しリファレンス測定を行うステップと、
[0014] (d)コーティング(6)の厚みを決定するようにサンプル測定とリファレンス測定の間のベストフィットな関係を成し遂げるように、サンプル測定をリファレンス測定と比較し、ステップ(a)において、定められるモデルに基づいて基板層(7)の厚さとコーティングの厚み(6)に関する値を反復的に割り当てるステップと、
を有することを特徴とする。
[0016] タイムドメインテラヘルツ分光装置を包含するコーティングされた連続ウェブ・サンプル(40)に関するサンプル測定データ(10)をもたらすための手段と、
[0017] タイムドメインテラヘルツ分光装置を包含するコーティングされた連続ウェブ・サンプル(40)に関しリファレンス測定データ(10)をもたらすための手段と、
[0018] サンプル測定データおよびリファレンス測定データを処理するためにプログラムされ、有効に接続された電子データ処理手段(125)と、
を有し、
コーティングの厚み(6)を決定するために、サンプル測定データとリファレンス測定データの間のベストフィットの関係を達成するように、データ処理手段(125)は、サンプル測定データをリファレンス測定データと比較するようにプログラムされ、コーティングされた連続ウェブ(40)の分析モデルに基づいてコーティングの厚み(6)および基板の層(7)の厚さの値に関し反復的に割り当てられることを特徴とする。
Miは2×2のマトリックスであるウェーブ番号k、層の厚さdおよび境界線(θi+1)の観点としての層のフィールドの角度によって、定める:
ここで、jは、式3に定められる虚数(インデックスiの混同を回避するため)であり、Yi+1(θi+1)は以下の関数である
電界が入射面にないとき、ni+1は層i+1の屈折率である。そこで、多層システムの場合、システムの特性マトリックスMは、各境界Miですべての特性マトリックスの間の積によって、与えられる:
ここで、mijはマトリクスエレメントである。タイムドメインテラヘルツ測定において、いかなるサンプルもまたはコーティングされたボードEoのないTHz電界は、最初に好ましくは測定される。今後、Eoは、システムのインシデント電界Eiと称する。モデルの使用が送信された電界Etの代表に関しあるので、EiとEtの関係は以下の通りに伝達関数ブロックtによって、与えられる:
THzビームが広がる所で、Y関数(式3)に関しインデックスoおよびtはそれぞれ初めのおよび最終層に対応する。この場合、両方の層は、空気である。センサ感度を最適化するために好適な特定のアプリケーションにおいて、最終的な伝達関数ブロックが正方形にされる式5であるように、THzパルスは二倍にコーティングされたボードを通過する。ボード厚が知られていない場合、好ましくは、コーティングとベース材料との充分な対比は良好な結果を産生するために技術のために確立される。軽微なコントラストは、センサ感度による。モデルおよび装置の1つの実装において、論文(Applied Optics、第48巻、no.33、6541―6546ページ参照)のようにボード屈折率nbがみなされると共に、コーティング屈折率ncは周波数によって、一定に好ましくは保たれる。これらの屈折率が、式2および3で使われる。リファレンス・パルスに経路長差を検出する際のTHzタイムドメインテクニックの緻密さのため、式2で位相kdがそれに応じて調整されるべきである。ウェーブ番号を定めるためにncまたはnbを単独使用する代わりに、(nc―1)または(nb―1)が使用され、それは真空または空気に対する正確な経路長差である。現在の本発明で、nc、nb、EoおよびEtを非線形最小二乗法にフィットしているアルゴリズムに取り入れることによって、コーティング・キャリパーは、正確に抽出されることがありえる。角度が斜角でありえる分析モデルが、それに応じて調整されたものと、入射放射線がコーティングに正常な図1に示されるにもかかわらず、そして、理解される点に注意する。実際、角度はまず最初に測定されることがありえ、プロセッサにすでにプログラムされる適切なモデルはコーティング厚を算出するように選択される。一旦厚みが決定されると、基礎重量および関連した特性は密度データを有する標準的な技術を用いて算出されることもありえる。コーティングまたは基板層の各層が紙、ボード、プラスチック、ポリマー、天然ゴム、金属、天然ファイバーおよび/または合成繊維から作られる連続ウェブを測定することに関し、キャリパー・コーティング測定テクニックは、特に適している。
Claims (5)
- コーティングされた連続ウェブ(40)上のコーティングの厚みを計量する方法であって、
(a)一つ以上の被膜層(6)および基板層(7)を有しているコーティングされた連続ウェブ(40)の分析モデルを展開するステップであって、
(i)各被膜層(6)の厚さと、
(ii)基板層の厚さ(7)と、
(iii)最初に値が割り当てられる基板(7)および各被膜層(6)の屈折率と、
(iv)コーティングされた連続ウェブ(40)の上のテラヘルツ放射線の入射の角度と、の関数として、モデルが、コーティングされた連続ウェブ(40)による電磁界の伝送を表すことを特徴とする、展開するステップと、
(b)放射線(18)のパルスを生成するエミッタ(12)および放射線のパルスを受信する検出器(14)を包含するタイムドメインテラヘルツ分光装置(10)を使用することによって、コーティングされた連続ウェブ・サンプル(40)に関しサンプル測定を行うステップであって、
(i) サンプル(40)と相互作用しないリファレンス放射線パルス(20)とサンプル(40)に向けられるサンプル放射線パルス(22)と、リファレンス放射線パルス(20)を形成するためにエミッタ(12)と検出器(14)の間の光路に沿ってビーム・スプリッタ(16)を配置するステップと、
(ii) 検出器(14)にサンプル放射線パルス(23)を反射する第1の鏡(32)を配置するステップと、
(iii)検出器(14)にリファレンス放射線パルス(21)を反射するように第2の鏡(30)を位置決めし、同位相で変動をモニタする反射された放射線パルス(21)およびリファレンス放射線パルス(20)の振幅を使用するステップと、
を包含することを特徴とするサンプル測定を行うステップと、
(c)測定に関しサンプル(40)の配置なしで、ステップ(b)(i)、(b)(ii)および(b)(iii)を実行することによって、タイムドメイン分光装置でコーティングされた連続ウェブ・サンプル(40)に関しリファレンス測定を行うステップと、
(d)コーティング(6)の厚みを決定するようにサンプル測定とリファレンス測定の間のベストフィットな関係を成し遂げるように、サンプル測定をリファレンス測定と比較し、ステップ(a)において、定められるモデルに基づいて基板層(7)の厚さとコーティングの厚み(6)に関する値を反復的に割り当てるステップと、
を有することを特徴とする方法。 - ステップ(b)が測定遅延および振幅特性を呈する測定信号を生成し、
ステップ(c)がリファレンス遅延および振幅特性を呈するリファレンス信号を生成し、
ステップ(d)は、測定信号をリファレンス信号と比較する、
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - ステップ(b)において、リファレンス・パルス(20)がサンプル・パルス(22)と関連して異なる時間に検出器(14)に到達するように、ビーム・スプリッタ(16)からのリファレンスおよびサンプル・パルス(20,22)は適時に分離される、ことを特徴とする請求項1に記載の方法。
- ステップ(b)において、
リファレンス放射線パルス(20)の検出に基づいて時間ジターを修正するステップを更に有することを特徴とする請求項1に記載の方法。 - リファレンス放射線パルス(20)の検出に基づいて振幅バリエーションを修正するステップを更に有することを特徴とする請求項1に記載の方法。
Applications Claiming Priority (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261596595P | 2012-02-08 | 2012-02-08 | |
US61/596,595 | 2012-02-08 | ||
US13/444,767 US9140542B2 (en) | 2012-02-08 | 2012-04-11 | Caliper coating measurement on continuous non-uniform web using THz sensor |
US13/444,767 | 2012-04-11 | ||
PCT/CA2013/000066 WO2013116924A1 (en) | 2012-02-08 | 2013-01-24 | Caliper coating measurement on continuous non-uniform web using thz sensor |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015508160A JP2015508160A (ja) | 2015-03-16 |
JP2015508160A5 JP2015508160A5 (ja) | 2016-12-08 |
JP6151721B2 true JP6151721B2 (ja) | 2017-06-21 |
Family
ID=48903665
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014555901A Active JP6151721B2 (ja) | 2012-02-08 | 2013-01-24 | Thzセンサを用いた連続不均一性のウェブ上のキャリパー・コーティング測定 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9140542B2 (ja) |
EP (1) | EP2815206B1 (ja) |
JP (1) | JP6151721B2 (ja) |
CN (1) | CN104169677B (ja) |
CA (1) | CA2863711C (ja) |
WO (1) | WO2013116924A1 (ja) |
Families Citing this family (42)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2781911B1 (en) * | 2013-03-18 | 2019-10-16 | ABB Schweiz AG | Sensor system and method for determining paper sheet quality parameters |
US9606054B2 (en) | 2013-09-30 | 2017-03-28 | Advantest Corporation | Methods, sampling device and apparatus for terahertz imaging and spectroscopy of coated beads, particles and/or microparticles |
US10215696B2 (en) | 2013-11-15 | 2019-02-26 | Picometrix, Llc | System for determining at least one property of a sheet dielectric sample using terahertz radiation |
US9581433B2 (en) * | 2013-12-11 | 2017-02-28 | Honeywell Asca Inc. | Caliper sensor and method using mid-infrared interferometry |
US9417181B2 (en) * | 2014-05-08 | 2016-08-16 | Advantest Corporation | Dynamic measurement of density using terahertz radiation with real-time thickness measurement for process control |
US20150323452A1 (en) * | 2014-05-08 | 2015-11-12 | Advantest Corporation | Dynamic measurement of material properties using terahertz radiation with real-time thickness measurement for process control |
CN104019910B (zh) * | 2014-06-23 | 2017-05-10 | 山东科技大学 | 基于闪耀光栅的法布里‑珀罗THz波长测量仪及其测量方法 |
CN104517295A (zh) * | 2014-12-25 | 2015-04-15 | 深圳市一体太赫兹科技有限公司 | 一种三维太赫兹图像的图像分割方法及系统 |
JP6502698B2 (ja) | 2015-02-19 | 2019-04-17 | 株式会社Screenホールディングス | 測定装置および測定方法 |
CN107429988B (zh) * | 2015-03-03 | 2020-12-08 | Abb瑞士股份有限公司 | 用于表征湿漆层的堆叠体的传感器系统和方法 |
DE102015107616A1 (de) * | 2015-05-13 | 2016-11-17 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Bestimmen der Schichtdicken einer mehrschichtigen Probe |
CN104880256B (zh) * | 2015-06-02 | 2017-11-03 | 上海理工大学 | 一种测试太赫兹横波和纵波相位动态变化的方法和装置 |
US20180120094A1 (en) * | 2015-07-31 | 2018-05-03 | Hp Indigo B.V. | Calculation of layer thickness |
US10071482B2 (en) | 2015-08-19 | 2018-09-11 | Ford Global Technologies, Llc | Robotic vehicle painting instrument including a terahertz radiation device |
CN105157629A (zh) * | 2015-09-18 | 2015-12-16 | 深圳市和胜金属技术有限公司 | 一种基于x-射线光谱仪测量碳化钒薄膜厚度的方法 |
JP6589239B2 (ja) * | 2015-09-25 | 2019-10-16 | 株式会社Screenホールディングス | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 |
DE102015122205B4 (de) * | 2015-12-18 | 2022-11-03 | Inoex Gmbh | Terahertz-Messverfahren und Terahertz-Messvorrichtung zum Ermitteln einer Schichtdicke oder eines Abstandes eines Messobjektes |
CA3017393C (en) * | 2016-04-04 | 2020-07-21 | Tetechs Inc. | Methods and systems for thickness measurement of multilayer structures |
DE102016105599A1 (de) * | 2016-04-14 | 2017-10-19 | Inoex Gmbh | Terahertz-Messvorrichtung zur Vermessung von Prüfobjekten sowie ein Terahertz-Messverfahren |
US20180066935A1 (en) * | 2016-09-08 | 2018-03-08 | Traycer Diagnostic Systems, Inc. | THz Continuous Wave Thickness Profile Measurements Software Algorithms |
DE102016118905A1 (de) * | 2016-10-05 | 2018-04-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung und Verfahren zum zeitaufgelösten Erfassen gepulster elektromagnetischer Hochfrequenzstrahlung |
WO2018066360A1 (ja) * | 2016-10-07 | 2018-04-12 | パイオニア株式会社 | 検査装置、検査方法、コンピュータプログラム及び記録媒体 |
US10648937B2 (en) * | 2016-10-27 | 2020-05-12 | General Electric Company | Nondestructive inspection method for coatings and ceramic matrix composites |
CN106767462A (zh) * | 2017-02-28 | 2017-05-31 | 华讯方舟科技有限公司 | 管壁厚度在线监测仪、系统及方法 |
CN106875541A (zh) * | 2017-03-17 | 2017-06-20 | 深圳怡化电脑股份有限公司 | 一种纸币厚度检测的方法、装置及系统 |
JP6575824B2 (ja) * | 2017-03-22 | 2019-09-18 | トヨタ自動車株式会社 | 膜厚測定方法および膜厚測定装置 |
KR102350650B1 (ko) * | 2017-03-30 | 2022-01-12 | 한양대학교 산학협력단 | 두께 측정 장치, 두께 측정 방법 및 두께 측정 프로그램 |
WO2018182360A1 (ko) * | 2017-03-30 | 2018-10-04 | 한양대학교 산학협력단 | 두께 측정 장치, 두께 측정 방법 및 두께 측정 프로그램 |
US10254219B1 (en) * | 2017-10-27 | 2019-04-09 | Ford Motor Company | System and method for visually aligning terahertz light beam |
CN108020165B (zh) * | 2017-11-30 | 2020-03-24 | 中国特种设备检测研究院 | 利用太赫兹波对非金属材料的厚度进行测量的方法和系统 |
US10323932B1 (en) | 2017-12-28 | 2019-06-18 | Ford Motor Company | System for inspecting vehicle bodies |
CN108106551A (zh) * | 2017-12-30 | 2018-06-01 | 深圳市太赫兹科技创新研究院有限公司 | 一种基于电磁波的刀具的监测方法及监测系统 |
CN108444417B (zh) * | 2018-03-20 | 2019-09-13 | 中国电子科技集团公司第三十八研究所 | 一种多层平纹织物厚度减小量的获取方法 |
US11143590B2 (en) | 2018-03-22 | 2021-10-12 | 3M Innovative Properties Company | Time-domain terahertz measurement system having a single reference surface |
CN108398096A (zh) * | 2018-04-11 | 2018-08-14 | 青岛万龙智控科技有限公司 | 钢丝帘布厚度的太赫兹波反射式在线测量方法 |
CN108844915B (zh) * | 2018-06-12 | 2020-11-03 | 江苏大学 | 一种在线蒙皮面漆激光清洗检测装置及其方法 |
CN109358001B (zh) * | 2018-10-25 | 2023-09-08 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 可弯曲样品的固定装置、测量系统和测量方法 |
WO2021067635A1 (en) * | 2019-10-01 | 2021-04-08 | The Regents Of The University Of California | Method for identifying chemical and structural variations through terahertz time-domain spectroscopy |
DE102020120547A1 (de) * | 2020-08-04 | 2022-02-10 | CiTEX Holding GmbH | THz-Messverfahren sowie THz-Messvorrichtung zum Vermessen eines Messobjektes |
DE102020121478A1 (de) * | 2020-08-14 | 2022-02-17 | Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik | Verfahren und Vorrichtung zum Verarbeiten von mit einem Modell assoziierten Daten |
CN114427838A (zh) * | 2022-01-10 | 2022-05-03 | 首都师范大学 | 基于反射太赫兹光谱的介质厚度预测、评价方法及系统 |
CN114460596B (zh) * | 2022-04-14 | 2022-06-14 | 宜科(天津)电子有限公司 | 一种基于能量和距离的自适应数据处理方法 |
Family Cites Families (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2580200A (en) * | 1946-01-05 | 1951-12-25 | British Artificial Resin Compa | Production of continuous web or length of sheet material |
US4732776A (en) * | 1987-02-24 | 1988-03-22 | Measurex Corporation | Apparatus and method for controlling the thickness of coatings on paper or other materials |
JP2637820B2 (ja) | 1989-03-27 | 1997-08-06 | オリンパス光学工業株式会社 | 光学式膜厚測定装置 |
US5604581A (en) | 1994-10-07 | 1997-02-18 | On-Line Technologies, Inc. | Film thickness and free carrier concentration analysis method and apparatus |
KR960018523A (ko) * | 1994-11-16 | 1996-06-17 | 배순훈 | 드럼의 다이아몬드상 카본 코팅두께 측정방법 |
US5748318A (en) | 1996-01-23 | 1998-05-05 | Brown University Research Foundation | Optical stress generator and detector |
JPH1194525A (ja) * | 1997-09-22 | 1999-04-09 | Toshiba Corp | 膜厚測定方法及び膜厚測定装置 |
US6242739B1 (en) | 1998-04-21 | 2001-06-05 | Alexander P. Cherkassky | Method and apparatus for non-destructive determination of film thickness and dopant concentration using fourier transform infrared spectrometry |
US6188478B1 (en) * | 1998-10-21 | 2001-02-13 | Philips Electronics North America Corporation | Method and apparatus for film-thickness measurements |
GB2360842B (en) * | 2000-03-31 | 2002-06-26 | Toshiba Res Europ Ltd | An apparatus and method for investigating a sample |
US8062098B2 (en) * | 2000-11-17 | 2011-11-22 | Duescher Wayne O | High speed flat lapping platen |
JP2002243416A (ja) * | 2001-02-13 | 2002-08-28 | Tochigi Nikon Corp | 厚み測定方法及び装置並びにウエハ |
KR100438787B1 (ko) * | 2002-05-13 | 2004-07-05 | 삼성전자주식회사 | 박막 두께 측정 방법 |
US7368280B2 (en) | 2002-05-23 | 2008-05-06 | Rensselaer Polytechnic Institute | Detection of biospecific interactions using amplified differential time domain spectroscopy signal |
JP2004198250A (ja) * | 2002-12-18 | 2004-07-15 | Tochigi Nikon Corp | 時間分解反射測定方法およびテラヘルツ時間分解反射測定装置 |
JP4115313B2 (ja) | 2003-03-27 | 2008-07-09 | ダイセル化学工業株式会社 | マイクロカプセルの壁膜の厚み算出装置 |
US20040202799A1 (en) * | 2003-04-10 | 2004-10-14 | Eastman Kodak Company | Optical compensator with crosslinked surfactant addenda and process |
GB2416204B (en) * | 2004-07-16 | 2007-03-21 | Teraview Ltd | Apparatus and method for investigating a sample |
JP2006170822A (ja) * | 2004-12-16 | 2006-06-29 | Tochigi Nikon Corp | テラヘルツ光検出器、テラヘルツ光検出方法およびテラヘルツイメージング装置 |
US7199884B2 (en) | 2004-12-21 | 2007-04-03 | Honeywell International Inc. | Thin thickness measurement method and apparatus |
CN100395516C (zh) * | 2004-12-25 | 2008-06-18 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 光纤干涉式厚度测量装置 |
EP1876438A1 (en) * | 2006-07-05 | 2008-01-09 | Dtu | Determining concentration of a substance in aqueous solution by selfreferenced reflection THz spectroscopy |
JP4963640B2 (ja) * | 2006-10-10 | 2012-06-27 | キヤノン株式会社 | 物体情報取得装置及び方法 |
JP5653212B2 (ja) | 2007-07-12 | 2015-01-14 | ピコメトリクス、エルエルシー | 時間領域データ内のパルスの通過時間位置を測定するシステムおよび方法 |
US7609366B2 (en) * | 2007-11-16 | 2009-10-27 | Honeywell International Inc. | Material measurement system for obtaining coincident properties and related method |
US8314391B2 (en) * | 2007-12-31 | 2012-11-20 | Honeywell Asca Inc. | Controlling the bends in a fiber optic cable to eliminate measurement error in a scanning terahertz sensor |
JP5360741B2 (ja) * | 2008-06-13 | 2013-12-04 | グローリー株式会社 | テラヘルツ光を用いた紙葉類の検査方法および検査装置 |
US8187424B2 (en) * | 2008-08-01 | 2012-05-29 | Honeywell Asca Inc. | Time domain spectroscopy (TDS)-based method and system for obtaining coincident sheet material parameters |
JP5173850B2 (ja) * | 2009-01-05 | 2013-04-03 | キヤノン株式会社 | 検査装置 |
CA2777381C (en) * | 2009-10-13 | 2017-10-03 | Picometrix, Llc | System and method for detection and measurement of interfacial properties in single and multilayer objects |
US8378304B2 (en) | 2010-08-24 | 2013-02-19 | Honeywell Asca Inc. | Continuous referencing for increasing measurement precision in time-domain spectroscopy |
CN102331403B (zh) * | 2011-09-02 | 2013-01-09 | 东南大学 | 近场太赫兹THz时域光谱表征方法及其测试装置 |
-
2012
- 2012-04-11 US US13/444,767 patent/US9140542B2/en active Active
-
2013
- 2013-01-24 CA CA2863711A patent/CA2863711C/en active Active
- 2013-01-24 WO PCT/CA2013/000066 patent/WO2013116924A1/en active Application Filing
- 2013-01-24 JP JP2014555901A patent/JP6151721B2/ja active Active
- 2013-01-24 CN CN201380008574.7A patent/CN104169677B/zh active Active
- 2013-01-24 EP EP13746971.4A patent/EP2815206B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2815206B1 (en) | 2016-10-12 |
WO2013116924A1 (en) | 2013-08-15 |
CA2863711A1 (en) | 2013-08-15 |
EP2815206A1 (en) | 2014-12-24 |
JP2015508160A (ja) | 2015-03-16 |
CA2863711C (en) | 2019-09-10 |
CN104169677A (zh) | 2014-11-26 |
CN104169677B (zh) | 2017-11-28 |
EP2815206A4 (en) | 2015-09-09 |
US9140542B2 (en) | 2015-09-22 |
US20130204577A1 (en) | 2013-08-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6151721B2 (ja) | Thzセンサを用いた連続不均一性のウェブ上のキャリパー・コーティング測定 | |
JP2015508160A5 (ja) | ||
CN103189722B (zh) | 时域光谱学中用于增加测量精度的连续参考 | |
CA2732300C (en) | Time domain spectroscopy (tds)-based method and system for obtaining coincident sheet material parameters | |
JP5357531B2 (ja) | 情報取得装置及び情報取得方法 | |
CN104864817B (zh) | 基于太赫兹时域光谱技术的塑料薄膜厚度检测装置及方法 | |
US11009340B2 (en) | Film thickness measuring method and film thickness measuring apparatus | |
CA2940243C (en) | Thickness determination of web product by mid-infrared wavelength scanning interferometry | |
JP2015083964A (ja) | テラヘルツ波を用いて検体の情報を取得する情報取得装置および情報取得方法 | |
CA2836121A1 (en) | Error compensation in a spectrometer | |
US20130077084A1 (en) | Object characteristic measuring system | |
US9182281B1 (en) | Robust terahertz spectrometer configuration against scanner heads misalignment | |
US10935368B2 (en) | Scanning caliper and basis weight sensor for sheet products using terahertz | |
CN111536885B (zh) | 一种双入射角度式太赫兹时域光谱涂层测量方法 | |
Pałka et al. | Monitoring of air voids at plastic-metal interfaces by terahertz radiation | |
RU2660765C1 (ru) | Способ бесконтактного измерения температуры in situ | |
JPH01124703A (ja) | 膜特性の非接触測定方法及び装置 | |
KR20230027798A (ko) | 휨 보정 기능을 갖는 필름 두께 측정시스템 | |
EA046482B1 (ru) | Способ обнаружения нефтяных пленок на водной поверхности | |
Müller et al. | Precise THz power measurements with novel detectors |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160120 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160120 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161019 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161130 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161202 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170302 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170426 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170525 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6151721 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |