JPH1194525A - 膜厚測定方法及び膜厚測定装置 - Google Patents
膜厚測定方法及び膜厚測定装置Info
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- JPH1194525A JPH1194525A JP25735297A JP25735297A JPH1194525A JP H1194525 A JPH1194525 A JP H1194525A JP 25735297 A JP25735297 A JP 25735297A JP 25735297 A JP25735297 A JP 25735297A JP H1194525 A JPH1194525 A JP H1194525A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 干渉分光法で多層膜構造の被測定物の反射ス
ペクトルを求め、その極大値と極小値との差あるいはそ
の大きさと波長から最上層膜の有無や膜厚を算出するこ
とができる膜厚測定方法及び装置を提供すること。 【解決手段】 干渉分光法を用いて多層膜構造の薄膜の
厚さを測定する膜厚測定方法において、反射スペクトル
の極大値と極小値との差Ｃを算出する差算出工程と（Ｓ
１）、多層膜構造の最上層の膜が無い場合の上記反射ス
ペクトルの極大値と極小値との差Ｃ0 を算出する工程
と、上記多層膜構造の最上層の薄膜の屈折率とその下層
膜の屈折率との大小関係及び上記ＣとＣ0 との大小関係
より最上層の薄膜の有無を判定する判定工程（Ｓ４〜Ｓ
１０）とを具備したことを特徴とする。
ペクトルを求め、その極大値と極小値との差あるいはそ
の大きさと波長から最上層膜の有無や膜厚を算出するこ
とができる膜厚測定方法及び装置を提供すること。 【解決手段】 干渉分光法を用いて多層膜構造の薄膜の
厚さを測定する膜厚測定方法において、反射スペクトル
の極大値と極小値との差Ｃを算出する差算出工程と（Ｓ
１）、多層膜構造の最上層の膜が無い場合の上記反射ス
ペクトルの極大値と極小値との差Ｃ0 を算出する工程
と、上記多層膜構造の最上層の薄膜の屈折率とその下層
膜の屈折率との大小関係及び上記ＣとＣ0 との大小関係
より最上層の薄膜の有無を判定する判定工程（Ｓ４〜Ｓ
１０）とを具備したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、干渉分光法により
基板上に形成された多層膜上の極めて薄い膜の有無ある
いは膜厚を測定する膜厚測定方法及び装置に関する。
基板上に形成された多層膜上の極めて薄い膜の有無ある
いは膜厚を測定する膜厚測定方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】干渉分光法を用いた膜厚測定方法として
以下に示す３つの方法が知られている。
以下に示す３つの方法が知られている。
【０００３】第１の方法として、特公平７−３１０４９
号公報、特公平２−２５１７１１号公報に開示されるよ
うに、被測定物の反射スペクトルと理論スペクトルを膜
厚をパラメ−タとして大域最適化法を用いてフィッティ
ングして膜厚を算出している。
号公報、特公平２−２５１７１１号公報に開示されるよ
うに、被測定物の反射スペクトルと理論スペクトルを膜
厚をパラメ−タとして大域最適化法を用いてフィッティ
ングして膜厚を算出している。
【０００４】また、第２の方法として、特開平７−５５
４３５号公報に示されるように、反射スペクトルをフ−
リエ変換し、膜厚の概算値を求める方法である。
４３５号公報に示されるように、反射スペクトルをフ−
リエ変換し、膜厚の概算値を求める方法である。
【０００５】また、第３の方法として、特開平７−６３
５２４号公報、特公平８−２０２２３号に示されるよう
に反射スペクトルの包括線の特徴から膜厚を求める方法
がある。
５２４号公報、特公平８−２０２２３号に示されるよう
に反射スペクトルの包括線の特徴から膜厚を求める方法
がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】第１の方法としては、
膜圧を算出するための演算量が多く、演算に時間がかか
るという問題がある。
膜圧を算出するための演算量が多く、演算に時間がかか
るという問題がある。
【０００７】また、厚さが５００数１以下の膜厚では、
薄膜，理論スペクトルの波形の変化が小さく、精度良く
膜厚を測定することができない他、薄膜の有無を判定す
ることは難しい。
薄膜，理論スペクトルの波形の変化が小さく、精度良く
膜厚を測定することができない他、薄膜の有無を判定す
ることは難しい。
【０００８】
【数１】
【０００９】また、第２の方法としては、膜厚を算出す
ることができない。
ることができない。
【００１０】さらに、第３の方法としては、測定対象物
の膜厚が薄く、反射スペクトルに山谷が１個ないし２個
程度しか表れない場合には包括線を求めることはできな
いため膜厚を算出することができない。
の膜厚が薄く、反射スペクトルに山谷が１個ないし２個
程度しか表れない場合には包括線を求めることはできな
いため膜厚を算出することができない。
【００１１】本発明は上記の点に鑑みてなされたもの
で、その目的は、干渉分光法で多層膜構造の被測定物の
反射スペクトルを求め、その極大値と極小値との差ある
いはその大きさと波長から最上層膜の有無や膜厚を算出
することができる膜厚測定方法及び装置を提供すること
にある。
で、その目的は、干渉分光法で多層膜構造の被測定物の
反射スペクトルを求め、その極大値と極小値との差ある
いはその大きさと波長から最上層膜の有無や膜厚を算出
することができる膜厚測定方法及び装置を提供すること
にある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】請求項１に係わる膜厚測
定方法は、干渉分光法を用いて多層膜構造の薄膜の厚さ
を測定する膜厚測定方法において、反射スペクトルの極
大値と極小値との差Ｃを算出する差算出工程と、多層膜
構造の最上層の膜が無い場合の上記反射スペクトルの極
大値と極小値との差Ｃ0 を算出する工程と、上記多層膜
構造の最上層の薄膜の屈折率とその下層膜の屈折率との
大小関係及び上記ＣとＣ0 との大小関係より最上層の薄
膜の有無を判定する判定工程とを具備したことを特徴と
する。
定方法は、干渉分光法を用いて多層膜構造の薄膜の厚さ
を測定する膜厚測定方法において、反射スペクトルの極
大値と極小値との差Ｃを算出する差算出工程と、多層膜
構造の最上層の膜が無い場合の上記反射スペクトルの極
大値と極小値との差Ｃ0 を算出する工程と、上記多層膜
構造の最上層の薄膜の屈折率とその下層膜の屈折率との
大小関係及び上記ＣとＣ0 との大小関係より最上層の薄
膜の有無を判定する判定工程とを具備したことを特徴と
する。
【００１３】請求項２に係わる膜厚測定方法は、干渉分
光法を用いて多層膜構造の薄膜の厚さを測定する膜厚測
定方法において、多層膜構造の最上層の膜が無い場合の
反射スペクトルの極大値Ｒ0 max あるいは極小値Ｒ0 mi
n と、最上層の膜がある場合の反射スペクトルの極大値
Ｒmax あるいは極小値Ｒmin とを比較する比較工程と、
この比較工程の比較結果により最上層の薄膜の有無を判
定する判定工程とを具備したことを特徴とする。
光法を用いて多層膜構造の薄膜の厚さを測定する膜厚測
定方法において、多層膜構造の最上層の膜が無い場合の
反射スペクトルの極大値Ｒ0 max あるいは極小値Ｒ0 mi
n と、最上層の膜がある場合の反射スペクトルの極大値
Ｒmax あるいは極小値Ｒmin とを比較する比較工程と、
この比較工程の比較結果により最上層の薄膜の有無を判
定する判定工程とを具備したことを特徴とする。
【００１４】請求項３に係わる膜厚測定装置は、多層膜
構造の試料に放つ光を放射する光源と、試料から反射さ
れた光のスペクトルを検出するスペクトル検出部と、上
記スペクトル検出部で検出された測定スペクトルと最上
層の下層の膜厚をパラメ−タとした理論スペクトルとの
一致を判定する判定手段と、この判定手段で一致を検出
した理論スペクトルを基に最上層の膜厚を算出する膜厚
算出手段とを具備したことを特徴とする。
構造の試料に放つ光を放射する光源と、試料から反射さ
れた光のスペクトルを検出するスペクトル検出部と、上
記スペクトル検出部で検出された測定スペクトルと最上
層の下層の膜厚をパラメ−タとした理論スペクトルとの
一致を判定する判定手段と、この判定手段で一致を検出
した理論スペクトルを基に最上層の膜厚を算出する膜厚
算出手段とを具備したことを特徴とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の一実
施の形態について説明する。図１は膜厚測定装置を示す
ブロック図である。図１において、１１は光源である。
この光源１１から放たれた光は投・受光部１２を介して
試料１３に入射光Ｉinとして入射される。この試料１３
は図２に示すように多層膜構造を有している。
施の形態について説明する。図１は膜厚測定装置を示す
ブロック図である。図１において、１１は光源である。
この光源１１から放たれた光は投・受光部１２を介して
試料１３に入射光Ｉinとして入射される。この試料１３
は図２に示すように多層膜構造を有している。
【００１６】そして、この試料１３で反射された反射光
Ｉout は投・受光部１２で受光される。
Ｉout は投・受光部１２で受光される。
【００１７】この投・受光部１２で受光された反射光Ｉ
out は膜厚測定部１４の分光スペクトル検出部１４ａに
入力される。この分光スペクトル検出部１４ａは、試料
１３に入射される光の波長に対する反射率の関係を検出
している。この関係は、図５あるいは図６に示すとおり
である。
out は膜厚測定部１４の分光スペクトル検出部１４ａに
入力される。この分光スペクトル検出部１４ａは、試料
１３に入射される光の波長に対する反射率の関係を検出
している。この関係は、図５あるいは図６に示すとおり
である。
【００１８】この分光スペクトル検出部１４ａで検出さ
れた波長に対する反射率の関係より極値算出部１４ｂで
反射スペクトルの極大値と極小値が算出される。
れた波長に対する反射率の関係より極値算出部１４ｂで
反射スペクトルの極大値と極小値が算出される。
【００１９】さらに、極値算出部１４ｂで算出された反
射スペクトルの極大値と極小値に基づいて膜厚算出部１
４ｃにおいて膜厚が算出される。
射スペクトルの極大値と極小値に基づいて膜厚算出部１
４ｃにおいて膜厚が算出される。
【００２０】次に、図２を参照して試料１３の構造につ
いて説明する。試料１３は上層から膜１ないし膜Ｎと積
層されている。
いて説明する。試料１３は上層から膜１ないし膜Ｎと積
層されている。
【００２１】図２に示す膜構成を持つ被測定物の反射率
Ｒは以下のようにして算出される。ただし、入射光は被
測定物に対し、垂直に入射するものとする。
Ｒは以下のようにして算出される。ただし、入射光は被
測定物に対し、垂直に入射するものとする。
【００２２】膜ｎの特性行列Ｍｎは、数２に示される。
【００２３】
【数２】
【００２４】ここで、ｇn ＝２πｎn ｄn ／λであり、
λは波長である。
λは波長である。
【００２５】また、多層膜の特性行列Ｍは、各層の特性
行列Ｍn の積であるため、数３に示すようになる。
行列Ｍn の積であるため、数３に示すようになる。
【００２６】
【数３】
【００２７】よって、図１に示す多層膜の振幅反射率を
ｒとすると、ｒは数４で与えられる。
ｒとすると、ｒは数４で与えられる。
【００２８】
【数４】
【００２９】そして、反射率Ｒは数５で与えられる。
【００３０】
【数５】
【００３１】また、図３に示すように、屈折率ｎs の基
板に、屈折率ｎ2 （＜ｎs ）、厚さd2の膜２、屈折率n
1、厚さd1の膜１が２層形成された多層膜について考え
る。
板に、屈折率ｎ2 （＜ｎs ）、厚さd2の膜２、屈折率n
1、厚さd1の膜１が２層形成された多層膜について考え
る。
【００３２】膜が無い場合（d1＝0 ）、この時の反射ス
ペクトルの極大値Ｒ0 max と極小値Ｒ0 min は数６，数
７で示すように与えられる。
ペクトルの極大値Ｒ0 max と極小値Ｒ0 min は数６，数
７で示すように与えられる。
【００３３】
【数６】
【００３４】
【数７】
【００３５】ここで、極大値Ｒ0 max 、極小値Ｒ0 min
は膜２の厚さd2によらず一定となる。
は膜２の厚さd2によらず一定となる。
【００３６】一方、膜１が存在する場合（d1≠０）、極
大値Ｒmax と極小値Ｒmin はＲmax ≠Ｒ0 max 、Ｒmin
≠Ｒ0 min となる。
大値Ｒmax と極小値Ｒmin はＲmax ≠Ｒ0 max 、Ｒmin
≠Ｒ0 min となる。
【００３７】次に、第１の実施の形態について説明す
る。この第１の実施の形態は、図３に示した多層膜構造
の最上層の膜の有無を検出している。
る。この第１の実施の形態は、図３に示した多層膜構造
の最上層の膜の有無を検出している。
【００３８】ここで、基板としてＳｉ（ｎｓ＝３．８５
−０．０２ｉ）、膜２としてＳｉＮ（ｎｓ＝２．０）を
仮定した場合、（６）式、（７）式から Ｒo max −Ｒ0 min ＝０．３４５＝Ｃ0 となる。
−０．０２ｉ）、膜２としてＳｉＮ（ｎｓ＝２．０）を
仮定した場合、（６）式、（７）式から Ｒo max −Ｒ0 min ＝０．３４５＝Ｃ0 となる。
【００３９】一方、膜１が存在し（d1≠０）、ｎ１（＝
１．５）＞ｎ２の時の反射スペクトルを図４に、ｎ１
（＝２．５）＜ｎ２の時の反射スペクトルを図５に示
す。
１．５）＞ｎ２の時の反射スペクトルを図４に、ｎ１
（＝２．５）＜ｎ２の時の反射スペクトルを図５に示
す。
【００４０】この図４及び図５より明らかなように、ｎ
１＞ｎ２の場合には、膜厚ｄ１が大きくなるにしたがっ
て極大値Ｒmax と極小値Ｒmin の差Ｃは小さくなる。
１＞ｎ２の場合には、膜厚ｄ１が大きくなるにしたがっ
て極大値Ｒmax と極小値Ｒmin の差Ｃは小さくなる。
【００４１】一方、ｎ１＜ｎ２の場合には、膜厚ｄ１が
大きくなるにしたがって極大値Ｒmax と極小値Ｒmin の
差Ｃは大きくなる。
大きくなるにしたがって極大値Ｒmax と極小値Ｒmin の
差Ｃは大きくなる。
【００４２】よって、測定した反射スペクトルの極大値
と極小値との差ＣをＣ0 と比較することにより、膜２の
厚さによらず膜１の有無を判定することが可能である。
と極小値との差ＣをＣ0 と比較することにより、膜２の
厚さによらず膜１の有無を判定することが可能である。
【００４３】以下、図４のフロ−チャ−トを参照して第
１の実施の形態の動作について説明する。まず、光源１
１から放たれた光は、投・受光部１２を介して試料１３
に入射光Ｉinとして入射される。
１の実施の形態の動作について説明する。まず、光源１
１から放たれた光は、投・受光部１２を介して試料１３
に入射光Ｉinとして入射される。
【００４４】そして、試料１３で反射された反射光Ｉou
t は投・受光部１２を介して膜厚測定部１４に入力され
る。
t は投・受光部１２を介して膜厚測定部１４に入力され
る。
【００４５】そして、この膜厚測定部１４の分光スペク
トル検出部１４ａで反射光Ｉout のスペクトルの測定が
なされる（ステップＳ１）。
トル検出部１４ａで反射光Ｉout のスペクトルの測定が
なされる（ステップＳ１）。
【００４６】分光スペクトル検出部１４ａにおいては図
５及び図６に示すように、反射スペクトルを検出する。
５及び図６に示すように、反射スペクトルを検出する。
【００４７】そして、（６）式及び（７）式を用いて反
射スペクトルの極大値Ｒ0 max 、極小値Ｒ0 min とを算
出する（ステップＳ２）。
射スペクトルの極大値Ｒ0 max 、極小値Ｒ0 min とを算
出する（ステップＳ２）。
【００４８】次に、今回の試料１３に対する反射スペク
トルの極大値Ｒmax とＲmin との差Ｃを極値算出部１４
ｂで算出する（ステップＳ３）。
トルの極大値Ｒmax とＲmin との差Ｃを極値算出部１４
ｂで算出する（ステップＳ３）。
【００４９】次に、屈折率ｎ１とｎ２との大小関係を判
定する（ステップＳ４）。
定する（ステップＳ４）。
【００５０】このステップＳ４の判定で「ｎ1 ＞ｎ2 」
と判定された場合には、ステップＳ５において、ステッ
プＳ３で算出したＣ（Ｒmax −Ｒmin ）とステップＳ２
で算出したＣ0 （Ｒ0 max −Ｒ0 min ）との大小関係が
判定される。
と判定された場合には、ステップＳ５において、ステッ
プＳ３で算出したＣ（Ｒmax −Ｒmin ）とステップＳ２
で算出したＣ0 （Ｒ0 max −Ｒ0 min ）との大小関係が
判定される。
【００５１】このステップＳ５の判定で「Ｃ＞Ｃ0 」と
判定されると膜１が有る（ｄ１≠０）と判定される（ス
テップＳ６）。
判定されると膜１が有る（ｄ１≠０）と判定される（ス
テップＳ６）。
【００５２】一方、ステップＳ５の判定で「Ｃ≦Ｃ0 」
と判定された場合には、膜１が無い（ｄ１＝０）と判定
される（ステップＳ７）。
と判定された場合には、膜１が無い（ｄ１＝０）と判定
される（ステップＳ７）。
【００５３】ところで、ステップＳ４の判定で「ｎ１＜
ｎ２」と判定された場合には、ステップＳ３で算出した
Ｃ（Ｒmax −Ｒmin ）とステップＳ２で算出したＣ
0 （Ｒ0max −Ｒ0 min ）との大小関係が判定される
（ステップＳ８）。
ｎ２」と判定された場合には、ステップＳ３で算出した
Ｃ（Ｒmax −Ｒmin ）とステップＳ２で算出したＣ
0 （Ｒ0max −Ｒ0 min ）との大小関係が判定される
（ステップＳ８）。
【００５４】このステップＳ８の判定で「ＹＥＳ」と判
定された場合には、膜１が無い（ｄ１＝０）と判定され
る（ステップＳ９）。
定された場合には、膜１が無い（ｄ１＝０）と判定され
る（ステップＳ９）。
【００５５】一方、ステップＳ８の判定で「ＮＯ」と判
定された場合には、膜１有り（ｄ１≠０）と判定される
（ステップＳ１０）。
定された場合には、膜１有り（ｄ１≠０）と判定される
（ステップＳ１０）。
【００５６】このようにして、多層膜構造の最上層の膜
の屈折率ｎ１とその下層の屈折率ｎ２との大小関係が分
かり、反射スペクトルの極大値と極小値との差が分かる
と、最上層の膜の有無を検出することができる。
の屈折率ｎ１とその下層の屈折率ｎ２との大小関係が分
かり、反射スペクトルの極大値と極小値との差が分かる
と、最上層の膜の有無を検出することができる。
【００５７】次に、本発明の第２の実施の形態について
説明する。この第２の実施の形態では、多層膜全体が薄
い場合や、スペクトルの測定波長領域が小さく、図７に
示すように反射スペクトルに極大値と極小値のいずれか
一方しか検出しない場合には、極大値Ｒmax とＲ0 max
、あるいは極小値Ｒmin とＲ0 min とを比較すること
で、膜１の有無を判定している。
説明する。この第２の実施の形態では、多層膜全体が薄
い場合や、スペクトルの測定波長領域が小さく、図７に
示すように反射スペクトルに極大値と極小値のいずれか
一方しか検出しない場合には、極大値Ｒmax とＲ0 max
、あるいは極小値Ｒmin とＲ0 min とを比較すること
で、膜１の有無を判定している。
【００５８】つまり、図７の反射スペクトルは極大値し
か検出できない場合を示している。図７の反射スペクト
ルの場合は、極大値Ｒ0 max より極大値Ｒmax が大きく
なっているので、膜１が有ると判定される。
か検出できない場合を示している。図７の反射スペクト
ルの場合は、極大値Ｒ0 max より極大値Ｒmax が大きく
なっているので、膜１が有ると判定される。
【００５９】次に、本発明の第３の実施の形態について
図８を参照して説明する。図５において説明した反射ス
ペクトルの極大値と極小値との差Ｃと膜１と厚さd1との
関係を図８に示しておく。膜２の厚さd2の値が例えば±
３００数８の精度で大まかに分かっている場合、Ｃを算
出し、図８に当てはめることで膜１の厚さd1の存在範囲
を固定することができる。
図８を参照して説明する。図５において説明した反射ス
ペクトルの極大値と極小値との差Ｃと膜１と厚さd1との
関係を図８に示しておく。膜２の厚さd2の値が例えば±
３００数８の精度で大まかに分かっている場合、Ｃを算
出し、図８に当てはめることで膜１の厚さd1の存在範囲
を固定することができる。
【００６０】
【数８】
【００６１】そのため、膜厚d1、d2をパラメ−タとして
理論スペクトルと測定スペクトルをフィッティングし膜
厚を算出する際、膜厚d1を振る範囲を限定できるため、
フィッティングに要する計算量を減少させて、高速に演
算することができる。
理論スペクトルと測定スペクトルをフィッティングし膜
厚を算出する際、膜厚d1を振る範囲を限定できるため、
フィッティングに要する計算量を減少させて、高速に演
算することができる。
【００６２】
【発明の効果】請求項１に係わる膜厚測定方法によれ
ば、反射スペクトルの極大値と極小値との差を検出する
ことにより、最上層の下層の薄膜の厚さによらずに、最
上層の膜の有無を検出することができる。
ば、反射スペクトルの極大値と極小値との差を検出する
ことにより、最上層の下層の薄膜の厚さによらずに、最
上層の膜の有無を検出することができる。
【００６３】請求項２に係わる膜厚測定方法によれば、
反射スペクトルに極大値あるいは極小値のうちのいずれ
か一方が検出できれば、最上層の薄膜の有無を検出する
ことができる。
反射スペクトルに極大値あるいは極小値のうちのいずれ
か一方が検出できれば、最上層の薄膜の有無を検出する
ことができる。
【００６４】請求項３に係わる膜厚測定装置によれば、
フィッティングに要する計算量を減少させて、高速に最
上層の膜厚を演算することができる。
フィッティングに要する計算量を減少させて、高速に最
上層の膜厚を演算することができる。
【図１】本発明に係わる膜厚測定装置を示すブロック
図。
図。
【図２】多層膜の膜構成を示す断面図。
【図３】基板上に２層形成された多層膜の構成を示す
図。
図。
【図４】本発明に係わる膜厚測定方法を説明するための
フロ−チャ−ト。
フロ−チャ−ト。
【図５】反射波の波長と反射率との関係を説明するため
の図。
の図。
【図６】反射波の波長と反射率との関係を説明するため
の図。
の図。
【図７】多層膜全体が薄い場合の反射スベクトルを示す
図。
図。
【図８】極大値と極小値との差と膜１の厚さd1との関係
を示す図。
を示す図。
１１…光源、 １２…投・受光部、 １３…試料、 １４…膜厚測定部。
Claims (3)
- 【請求項１】 干渉分光法を用いて多層膜構造の薄膜の
厚さを測定する膜厚測定方法において、 反射スペクトルの極大値と極小値との差Ｃを算出する差
算出工程と、 多層膜構造の最上層の膜が無い場合の上記反射スペクト
ルの極大値と極小値との差Ｃ0 を算出する工程と、 上記多層膜構造の最上層の薄膜の屈折率とその下層膜の
屈折率との大小関係及び上記ＣとＣ0 との大小関係より
最上層の薄膜の有無を判定する判定工程とを具備したこ
とを特徴とする膜厚測定方法。 - 【請求項２】 干渉分光法を用いて多層膜構造の薄膜の
厚さを測定する膜厚測定方法において、 多層膜構造の最上層の膜が無い場合の反射スペクトルの
極大値Ｒ0 max あるいは極小値Ｒ0 min と、最上層の膜
がある場合の反射スペクトルの極大値Ｒmax あるいは極
小値Ｒmin とを比較する比較工程と、 この比較工程の比較結果により最上層の薄膜の有無を判
定する判定工程とを具備したことを特徴とする膜厚測定
方法。 - 【請求項３】 多層膜構造の試料に放つ光を放射する光
源と、 試料から反射された光のスペクトルを検出するスペクト
ル検出部と、 上記スペクトル検出部で検出された測定スペクトルと最
上層の下層の膜厚をパラメ−タとした理論スペクトルと
の一致を判定する判定手段と、 この判定手段で一致を検出した理論スペクトルを基に最
上層の膜厚を算出する膜厚算出手段とを具備したことを
特徴とする膜厚測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25735297A JPH1194525A (ja) | 1997-09-22 | 1997-09-22 | 膜厚測定方法及び膜厚測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25735297A JPH1194525A (ja) | 1997-09-22 | 1997-09-22 | 膜厚測定方法及び膜厚測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1194525A true JPH1194525A (ja) | 1999-04-09 |
Family
ID=17305197
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25735297A Pending JPH1194525A (ja) | 1997-09-22 | 1997-09-22 | 膜厚測定方法及び膜厚測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1194525A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008020318A (ja) * | 2006-07-12 | 2008-01-31 | Tokyo Univ Of Agriculture & Technology | 膜厚測定装置および膜厚測定方法 |
| CN103575703A (zh) * | 2012-08-09 | 2014-02-12 | 中国科学院微电子研究所 | 利用反射光谱测量单晶硅基太阳能表面增透膜的方法 |
| CN104169677A (zh) * | 2012-02-08 | 2014-11-26 | 霍尼韦尔阿斯卡公司 | 利用THz传感器对连续非均匀织物的卡尺度涂层测量 |
-
1997
- 1997-09-22 JP JP25735297A patent/JPH1194525A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008020318A (ja) * | 2006-07-12 | 2008-01-31 | Tokyo Univ Of Agriculture & Technology | 膜厚測定装置および膜厚測定方法 |
| CN104169677A (zh) * | 2012-02-08 | 2014-11-26 | 霍尼韦尔阿斯卡公司 | 利用THz传感器对连续非均匀织物的卡尺度涂层测量 |
| CN103575703A (zh) * | 2012-08-09 | 2014-02-12 | 中国科学院微电子研究所 | 利用反射光谱测量单晶硅基太阳能表面增透膜的方法 |
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