JP6122397B2 - 光導波路素子およびその作製方法 - Google Patents
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Description
図1は、本実施形態の光導波路素子1の平面構成例を示す概略図である。図1では、1本の導波路のみが示してあるが、後述するように、この実施形態の光導波路素子1では、複数本の導波路が設けられている。図2は、図1の光導波路素子1の平面構成例であって、(a)はd1−d2断面、(b)はe1−e2断面、を示す。以下、図1〜図2を参照して光導波路素子1に設けられた導波路の構成を説明する。
以下、この光導波路素子1の作製方法について図1〜図2を参照して説明する。
10 基板
11 下部クラッド層
12 コア層
13 上部クラッド層
14 BCB(保護膜)
14a 第1保護膜
14b 第2保護膜
Claims (2)
- 光導波路素子であって、
半導体基板上に、基板側から、下部クラッド層、コア層、および上部クラッド層の順に積層され、かつ前記コア層に入射した光を閉じ込めて伝搬するように構成された光導波路と、
前記光導波路を覆うように形成された第1保護膜と、
前記第1保護膜の上面に形成された第2保護膜と
を備え、
前記第2保護膜は、前記光導波路素子の入射端面または/および出射端面から前記光導波路上の所定の位置まで、除去されていることを特徴とする光導波路素子。 - 光導波路素子の作製方法であって、
半導体基板上に、基板側から、下部クラッド層、コア層、および上部クラッド層の順に積層して光導波路を形成する工程と、
前記光導波路を覆うように第1保護膜を形成する工程と、
前記第1保護膜の上面に第2保護膜を形成する工程と、
前記光導波路素子の入射端面または/および出射端面から前記光導波路上の所定の位置まで、前記第2保護膜を除去する工程と
を含むことを特徴とする光導波路素子の作製方法。
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