JP6121508B2 - 液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Claims (6)
- TFT基板と、
前記TFT基板と対向する対向基板と、
前記TFT基板と前記対向基板とを固定するシール材と、
前記TFT基板と前記対向基板との間に挟持された液晶とを有し、
前記TFT基板は、前記対向基板と重畳する第1領域と、前記対向基板と重畳しない端子部である第2領域とを有し、
前記対向基板にはスペーサが形成されている、液晶表示装置であって、
前記TFT基板の前記第1領域には、前記スペーサに対向する箇所に、第1の導電層、絶縁層、透明導電層である第2の導電層の積層構造を少なくとも有する第1の層構造が設けられており、
前記TFT基板の前記第2領域には、前記第1の層における前記積層構造を少なくとも有する第2の層構造が設けられており、
前記第2の層構造が有する前記第1の導電層または前記第2の導電膜はフローティングである、ことを特徴とする液晶表示装置。 - 前記第1の導電層は金属層であり、前記第1の導電層は、前記絶縁層と前記TFT基板との間に存在していることを特徴とする請求項1に記載の液晶表示装置。
- 前記TFT基板は、TFTと、前記TFTと接続された画素電極と、前記画素電極と対向する共通電極とを有し、
前記透明導電層は、前記共通電極であることを特徴とする請求項2に記載の液晶表示装置。 - 前記第1領域は、表示領域と、前記表示領域の周辺の外部領域とを有し、
前記スペーサは、前記表示領域に設けられたものであることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の液晶表示装置。 - 第1の基板に、複数の画素電極を有する表示部と、端子部と、を形成する工程と、
第2の基板に、スペーサを形成する工程と、
シール材を介して、前記第1の基板と前記第2の基板とを固定する工程と、
前記第1の基板と前記第2の基板とを切断してTFT基板を作成する工程と、
前記端子部に対向する前記第2の基板を分離して対向基板を作成する、液晶表示装置の製造方法であって、
前記スペーサのうちの、第1のスペーサは前記表示部に対応して形成し、第2のスペーサは前記端子部に対応して形成し、
前記第1の基板の前記第1のスペーサに対向する箇所には、第1の導電層、絶縁層、透明導電層で形成された第2の導電層の積層構造を少なくとも有する第1の層構造を設け、
前記第1の基板の前記第2のスペーサに対向する箇所には、前記第1の層における前記積層構造を少なくとも有する第2の層構造を設け、
前記端子部に対向する前記第2の基板を分離する際、前記第2のスペーサも分離することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - 前記第1の導電層は金属層であり、前記積層構造は、前記第1の金属層、前記絶縁層、前記第2の導電層の順に形成されることを特徴とする請求項5に記載の液晶表示装置の製造方法。
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