JP6121265B2 - Cleaning device and processing device - Google Patents
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Description
本発明は、フレームユニットの洗浄装置および洗浄装置を備える加工装置に関する。 The present invention relates to a frame unit cleaning apparatus and a processing apparatus including the cleaning apparatus.
半導体ウエーハやセラミック板、ガラス板や樹脂基板等の板状の被加工物を切削する加工装置として、切削ブレードを備えたダイサーと呼ばれる切削装置が広く使用されている。切削装置で切削される被加工物は、粘着テープであるダイシングテープに予め貼着され、ダイシングテープを介して環状フレームに装着される。環状フレームに装着された被加工物は、切削ブレードがダイシングテープの厚み方向の途中まで切り込みながら被加工物を切削することで、切削ブレードにより切削されて複数のチップに分割される。ここで、複数のチップに分割された被加工物は、散り散りになることなく、ダイシングテープに保持される。このため、環状フレームは、被加工物、ダイシングテープおよびチップのハンドリングを容易にする。 2. Description of the Related Art A cutting device called a dicer equipped with a cutting blade is widely used as a processing device for cutting a plate-like workpiece such as a semiconductor wafer, a ceramic plate, a glass plate, or a resin substrate. The workpiece to be cut by the cutting device is attached in advance to a dicing tape that is an adhesive tape, and is attached to the annular frame via the dicing tape. The workpiece mounted on the annular frame is cut by the cutting blade and divided into a plurality of chips by cutting the workpiece while the cutting blade cuts partway along the thickness direction of the dicing tape. Here, the workpiece divided into the plurality of chips is held on the dicing tape without being scattered. For this reason, the annular frame facilitates the handling of workpieces, dicing tapes and chips.
ダイシングテープに保持され、複数のチップに分割された被加工物は、通常、デバイスとなるチップ(デバイスチップ)の外周に、端材と呼ばれる不要領域を有している。この不要領域もデバイスチップと同様に切削されて分割されるが、分割された不要領域(端材チップ)は、デバイスチップよりも小さい場合が多く、切削ブレードによる加工中にダイシングテープから飛散することがある。そこで、例えば、特許文献1のように、端材チップの挟み込みによる蛇腹(ジャバラ布)の損傷を抑制するために、蛇腹を保護シートで覆う等の対策が施されてきた。 A work piece held on a dicing tape and divided into a plurality of chips usually has an unnecessary area called an end material on the outer periphery of a chip (device chip) to be a device. This unnecessary area is also cut and divided in the same way as the device chip, but the divided unnecessary area (end material chip) is often smaller than the device chip and scatters from the dicing tape during processing with the cutting blade. There is. Therefore, for example, as in Patent Document 1, in order to suppress damage to the bellows (bellows cloth) due to the pinching of the end material chip, measures such as covering the bellows with a protective sheet have been taken.
端材チップは、外周壁に囲繞されるチャックテーブルを備えた洗浄室での洗浄中にもダイシングテープから飛散することがあり、洗浄室の底部に貯まった場合、底部のドレイン開口を塞いで、被加工物の洗浄に使用された洗浄液(排水)を洗浄室からオーバーフローさせる虞がある。 End material chips may scatter from the dicing tape during cleaning in a cleaning chamber equipped with a chuck table surrounded by an outer peripheral wall, and when stored at the bottom of the cleaning chamber, block the drain opening at the bottom, There is a possibility that the cleaning liquid (drainage) used for cleaning the workpiece overflows from the cleaning chamber.
洗浄室から洗浄液がオーバーフローしないように、洗浄室の底部から端材チップを定期的に除去する必要があり、洗浄室の底部から端材チップを除去する清掃作業をするには、チャックテーブルとそれを囲繞する外周壁との狭い隙間に作業員等のオペレータが手を入れて、底部に貯まった端材チップを拾い上げる必要がある。しかしながら、清掃作業は、オペレータが狭い隙間に手を入れて端材チップを拾い上げるため困難であり、オペレータが端材チップを繰り返し拾い上げるため作業工数が多い。 In order to prevent the cleaning liquid from overflowing from the cleaning chamber, it is necessary to periodically remove the end material chips from the bottom of the cleaning chamber. To perform the cleaning operation to remove the end material chips from the bottom of the cleaning chamber, It is necessary for an operator such as an operator to put a hand in a narrow gap with the outer peripheral wall surrounding the chip and pick up the end material chips accumulated at the bottom. However, the cleaning operation is difficult because the operator puts his hands in a narrow gap and picks up the end material chips, and the operator repeatedly picks up the end material chips, and the number of work steps is large.
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、被加工物のチップが洗浄室の底部に貯まることを抑えることができる洗浄装置および加工装置を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of the above, Comprising: It aims at providing the washing | cleaning apparatus and processing apparatus which can suppress that the chip | tip of a workpiece is stored in the bottom part of a washing | cleaning chamber.
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の洗浄装置は、複数のチップに分割された板状の被加工物が環状フレームの開口に粘着テープを介して支持されるフレームユニットの被加工物を洗浄する洗浄装置であって、粘着テープを介して被加工物を吸引保持する保持面を備え、保持面と直交する回転軸周りに回転するチャックテーブルと、チャックテーブルで保持する被加工物に洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、チャックテーブルと洗浄ノズルとを囲繞し洗浄室を形成する外周壁と、チャックテーブルの保持面より下方で、チャックテーブルと外周壁の内周との間の領域に対応し、洗浄中に飛散する被加工物のチップを受けとめる有底状の環状ストレーナと、を含み、環状ストレーナは、複数の円弧状ストレーナが周方向に連なって環状に形成され、少なくとも1つの円弧状ストレーナは洗浄室から着脱できることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, the cleaning apparatus of the present invention is a frame unit in which a plate-like workpiece divided into a plurality of chips is supported by an opening of an annular frame via an adhesive tape. A cleaning device for cleaning a workpiece, comprising a holding surface for sucking and holding the workpiece via an adhesive tape, and a chuck table that rotates around a rotation axis orthogonal to the holding surface, and is held by the chuck table A cleaning nozzle that injects cleaning liquid onto the workpiece, an outer peripheral wall that surrounds the chuck table and the cleaning nozzle to form a cleaning chamber, and a space below the chuck table holding surface and between the chuck table and the inner periphery of the outer peripheral wall And a bottomed annular strainer that accepts chips of the workpiece scattered during cleaning, and the annular strainer includes a plurality of arc-shaped strainers connected in the circumferential direction. Te is formed in an annular shape, at least one arcuate strainer, characterized in that it can be detached from the cleaning chamber.
また、上記洗浄装置において、隣り合う円弧状ストレーナは、互いに周方向端部が突き当たった状態で配設され、複数の円弧状ストレーナが形成する環状ストレーナの径を維持することが好ましい。 Moreover, in the said washing | cleaning apparatus, it is preferable to arrange | position the circular arc strainer which adjoins the circumferential direction edge part, and to maintain the diameter of the annular strainer which a several circular arc strainer forms.
また、上記洗浄装置において、環状ストレーナの底部は、着脱可能な所定の円弧状ストレーナに向かって低くなるように形成され、受けとめたチップを所定の円弧状ストレーナに案内することが好ましい。 In the cleaning apparatus, it is preferable that the bottom of the annular strainer is formed so as to be lowered toward a predetermined detachable arc-shaped strainer, and the received chip is guided to the predetermined arc-shaped strainer.
また、上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明の加工装置は、フレームユニットの被加工物を保持する加工用チャックテーブルと、加工用チャックテーブルに保持された被加工物を加工する加工手段と、を備えた加工装置であって、加工手段で加工後のフレームユニットの被加工物を洗浄する上記洗浄装置を更に備えることを特徴とする。 In order to solve the above-described problems and achieve the object, a processing apparatus of the present invention includes a processing chuck table that holds a workpiece of a frame unit, and a workpiece that is held on the processing chuck table. A processing device for processing, further comprising the above-described cleaning device for cleaning the workpiece of the frame unit after processing by the processing means.
本発明の洗浄装置によれば、洗浄中に飛散した被加工物のチップを環状ストレーナが受けとめるので、洗浄中に飛散した被加工物のチップとフレームユニットの被加工物を洗浄した洗浄液とを環状ストレーナにより分離することができる。したがって、洗浄装置は、洗浄中に飛散した被加工物のチップが洗浄室の底部に貯まることを抑えることができる。 According to the cleaning apparatus of the present invention, since the annular strainer receives the chips of the workpiece scattered during the cleaning, the chip of the workpiece scattered during the cleaning and the cleaning liquid for cleaning the workpiece of the frame unit are annularly formed. It can be separated by a strainer. Therefore, the cleaning apparatus can suppress the chip of the workpiece scattered during cleaning from being stored in the bottom of the cleaning chamber.
また、洗浄装置によれば、複数の円弧状ストレーナが周方向に連なって環状に形成され、少なくとも1つの円弧状ストレーナは洗浄室から着脱できることから、被加工物のチップを洗浄室から取り除くための清掃作業は容易に行うことができ、その清掃作業の作業工数を少なくすることができる。すなわち、洗浄装置によれば、洗浄中に飛散したチップを受けとめた円弧状ストレーナが洗浄装置から取り外されることで、被加工物のチップを容易に除去することができる。 Further, according to the cleaning device, the plurality of arc-shaped strainers are formed in an annular shape in a circumferential direction, and at least one arc-shaped strainer can be detached from the cleaning chamber, so that the workpiece chip can be removed from the cleaning chamber. Cleaning work can be easily performed, and the number of work steps for the cleaning work can be reduced. That is, according to the cleaning device, the arc-shaped strainer that receives the chips scattered during the cleaning is removed from the cleaning device, so that the chips of the workpiece can be easily removed.
また、本発明の加工装置によれば、上記洗浄装置を備えることにより、洗浄中に飛散した被加工物のチップが洗浄室の底部に貯まることを抑えることができる。 Moreover, according to the processing apparatus of this invention, it can suppress that the chip | tip of the to-be-processed object scattered during washing | cleaning accumulates in the bottom part of a washing | cleaning chamber by providing the said washing | cleaning apparatus.
本発明を実施するための形態(実施形態)につき、図面を参照しつつ詳細に説明する。以下の実施形態に記載した内容により本発明が限定されるものではない。また、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれる。更に、以下に記載した構成は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成の種々の省略、置換または変更を行うことができる。 DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Embodiments (embodiments) for carrying out the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The present invention is not limited by the contents described in the following embodiments. The constituent elements described below include those that can be easily assumed by those skilled in the art and those that are substantially the same. Furthermore, the structures described below can be combined as appropriate. In addition, various omissions, substitutions, or changes in the configuration can be made without departing from the scope of the present invention.
〔実施形態1〕
図1は、実施形態1に係る洗浄装置の概略構成例を示す図である。図2は、図1に示す洗浄装置の平面図である。図3は、図2に示す洗浄装置の断面図である。図4は、図2に示す洗浄装置が有する円弧状ストレーナの概略構成例を示す図である。図5は、図4に示す円弧状ストレーナの側面図である。実施形態1に係る洗浄装置1−1は、図1に示すように、複数のチップWCに分割された板状の被加工物Wが環状フレームFの開口に粘着テープTを介して支持されるフレームユニットUの被加工物Wを洗浄するものである。洗浄装置1−1は、チャックテーブル10と、洗浄ノズル20と、洗浄室30と、環状ストレーナ40と、を含んで構成されている。
Embodiment 1
FIG. 1 is a diagram illustrating a schematic configuration example of the cleaning apparatus according to the first embodiment. FIG. 2 is a plan view of the cleaning apparatus shown in FIG. 3 is a cross-sectional view of the cleaning apparatus shown in FIG. FIG. 4 is a diagram illustrating a schematic configuration example of an arcuate strainer included in the cleaning device illustrated in FIG. 2. FIG. 5 is a side view of the arcuate strainer shown in FIG. As shown in FIG. 1, in the cleaning apparatus 1-1 according to the first embodiment, a plate-like workpiece W divided into a plurality of chips WC is supported by an opening of an annular frame F via an adhesive tape T. The workpiece W of the frame unit U is cleaned. The cleaning device 1-1 includes a chuck table 10, a
ここで、被加工物Wは、特に限定されないが、例えば、シリコン、ヒ化ガリウム(GaAs)等を母材とする板状の半導体ウエーハや光デバイスウエーハ、セラミック、ガラス、サファイア(Al2O3)系の板状の無機材料基板、金属や樹脂等の板状の延性材料等、板状の各種加工材料である。本実施形態において、被加工物Wは、例えば、IC(Integrated Circuit)やLSI(Large Scale Integration)等のデバイスの形成されていない裏面に粘着テープT(ダイシングテープとも呼ばれる)が貼着されており、粘着テープTの外周が環状フレームFに貼着されることで、環状フレームFの開口に粘着テープTを介して支持される。また、被加工物Wは、例えば、切削加工によって格子状に分割(本実施形態では、いわゆるフルカット)されており、複数のチップWCに分割されている。複数のチップWCは、デバイスの形成されているデバイスチップDCと、デバイスチップDCの外周でデバイスが形成されていない端材チップSCと、を有している。端材チップSCは、デバイスチップDCよりも小さいものを含む。 Here, the workpiece W is not particularly limited, but for example, a plate-like semiconductor wafer or optical device wafer based on silicon, gallium arsenide (GaAs) or the like, ceramic, glass, sapphire (Al 2 O 3). ) -Based plate-like inorganic material substrates, plate-like ductile materials such as metals and resins, and other plate-like processed materials. In the present embodiment, the workpiece W has an adhesive tape T (also referred to as a dicing tape) attached to the back surface where no device such as an IC (Integrated Circuit) or LSI (Large Scale Integration) is formed. The outer periphery of the adhesive tape T is attached to the annular frame F so that the opening of the annular frame F is supported via the adhesive tape T. In addition, the workpiece W is divided into a lattice shape (in this embodiment, so-called full cut) by cutting, for example, and is divided into a plurality of chips WC. The plurality of chips WC include a device chip DC in which a device is formed and an end material chip SC in which no device is formed on the outer periphery of the device chip DC. The end material chip SC includes a chip smaller than the device chip DC.
チャックテーブル10は、図2に示すように、保持面11と、クランプ12と、を備え、図3に示すように、駆動源13と、軸部14と、カバー部15と、を備えている。チャックテーブル10は、保持面11と直交する回転軸周り、すなわち本実施形態ではZ軸回りに回転する。保持面11は、円盤形状のポーラスセラミック等で構成されており、図示しない真空吸引源と連通している。保持面11は、真空吸引源により、フレームユニットUの粘着テープTを介して被加工物Wを吸引保持する。クランプ12は、チャックテーブル10の外周に配設されており、チャックテーブル10の周方向に等間隔で4つ配設されている。クランプ12は、チャックテーブル10の回転に伴って生じる遠心力で揺動し、チャックテーブル10に保持されるフレームユニットUの環状フレームFの外周縁を挟み込む。駆動源13は、チャックテーブル10を回転させるためのものであり、例えば、電動モータである。駆動源13は、駆動軸である軸部14を介してチャックテーブル10と接続されている。また、駆動源13は、図示しないエアピストン等のアクチュエータにより昇降可能に支持されている。アクチュエータは、駆動源13およびチャックテーブル10を昇降させる。カバー部15は、チャックテーブル10と同じ外径の有蓋筒状に形成されている。カバー部15は、チャックテーブル10の下部に配設されている。カバー部15は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中、洗浄室30の後述する内周壁33の上端の開口を覆う。
As shown in FIG. 2, the chuck table 10 includes a
洗浄ノズル20は、チャックテーブル10で保持する被加工物Wに洗浄液Lを噴射する噴射ノズルである。洗浄ノズル20は、図3に示すように、供給管21と、アーム部22と、ノズル部23と、を有している。供給管21は、洗浄液供給源50と連通しており、この洗浄液供給源50から洗浄液Lとして、例えば、純水と圧縮空気とが供給される。供給管21は、図示しない電動モータ等の回動手段により、回動駆動される。アーム部22は、供給管21の先端からチャックテーブル10に対して平行に延びている。アーム部22は、ノズル部23をチャックテーブル10の回転中心に位置付ける長さに設定されている。また、アーム部22は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄前後、チャックテーブル10と干渉しない外周壁31側の待避位置に配置される。ノズル部23は、例えば、洗浄液供給源50から供給される圧縮空気の高速の流れを利用して洗浄液Lを噴射する、いわゆる二流体ノズルであり、洗浄液LをフレームユニットUの被加工物Wに向けて噴射する。ノズル部23は、アーム部22がチャックテーブル10の回転中心に向けられると、チャックテーブル10の回転中心上に位置付けられる。ノズル部23は、供給管21の回動駆動により、供給管21を回動中心として、チャックテーブル10上を円弧状に往復動する。
The cleaning
洗浄室30は、図3に示すように、外周壁31と底部32と内周壁33とで形成されている。洗浄室30には、チャックテーブル10、洗浄ノズル20および環状ストレーナ40が配設されている。外周壁31は、チャックテーブル10の外周に対応する円形状に形成されている。外周壁31は、チャックテーブル10と洗浄ノズル20とを囲繞し、洗浄室30を形成する。外周壁31には、洗浄室30内の空気を外部へ排気するための排気手段60と連通する排気経路34が設けられている。底部32は、円環状に形成されており、環状ストレーナ40を載置可能な幅で形成されている。底部32には、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中に供給される洗浄液Lを、洗浄室30から外部へ排水するためのドレイン35が設けられている。また、底部32には、ドレイン35と連通するドレイン開口35aがあけられている。ドレイン開口35aは、底部32に載置される環状ストレーナ40と干渉しないように、内周壁33側に配置されている。内周壁33は、底部32から上方に向かって突出し、外周壁31と対向する円筒形状に形成されている。内周壁33は、底部32から上方への突出量が外周壁31よりも小さい。内周壁33の外径は、チャックテーブル10の外径、すなわちカバー部15の外径よりも小さい。内周壁33は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中、上端の開口がカバー部15で覆われる。
As shown in FIG. 3, the cleaning
環状ストレーナ40は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中に飛散する被加工物WのチップWCを洗浄室30の底部32の上方で受けとめ、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中に供給される洗浄液Lを洗浄室30の底部32へ流すことで、チップWCと洗浄液Lとを分離する、いわゆるストレーナ(濾過器)である。環状ストレーナ40は、図3に示すように、洗浄室30の底部32に載置される。環状ストレーナ40は、本実施形態において、チャックテーブル10の保持面11より下方で、チャックテーブル10と外周壁31の内周との間の領域に対応し、洗浄中に飛散する被加工物WのチップWCを受けとめる有底状に形成されている。環状ストレーナ40は、チャックテーブル10の外周、すなわちカバー部15の外周と、外周壁31の内周との間に形成される環状の領域に対応する円環状である。環状ストレーナ40は、外周壁31の内周に沿って配置され、カバー部15の外周から離れて配置される。環状ストレーナ40は、図2に示すように、底部40aと、外側壁部40bと、内側壁部40cと、脚部40d(図3参照)と、穴40eと、取っ手40fと、を含んでおり、底部40aを挟んで外側壁部40bと内側壁部40cとが対向する樋状となっている。なお、本実施形態において、有底状とは、洗浄中に飛散する被加工物WのチップWCを受けとめるための底部40aを有する形状であることをいう。
The
底部40aは、洗浄中にフレームユニットUの粘着テープTから飛散する被加工物WのチップWCを受けとめるものである。底部40aは、図2に示すように、チャックテーブル10の外周、すなわちカバー部15(図3参照)の外周と外周壁31の内周との間に形成される環状の領域に対応する幅で、円環状に形成されている。外側壁部40bは、洗浄室30の外周壁31の内周に対向し、外周壁31の内周に沿う円筒形状に形成されている。外側壁部40bは、図5に示すように、内側壁部40cよりも上方への突出量が小さい。内側壁部40cは、図3に示すように、カバー部15の外周に対向し、カバー部15の外周とは非接触となる円筒形状に形成されている。内側壁部40cは、その外周(カバー部15の外周と対向する外側面)がカバー部15の外周に対して隙間をあけて対向している。内側壁部40cの外周とカバー部15の外周との隙間の大きさは、被加工物WのチップWC、特に端材チップSCが通過できない大きさである。内側壁部40cは、図3に示すように、外側壁部40bよりも上方への突出量が大きい。内側壁部40cの上方への突出量は、外側壁部40bと内側壁部40cとが対向し、底部40a上に十分な量の被加工物WのチップWCを保持することができる突出量に設定されている。脚部40dは、図4および図5に示すように、底部40aの裏面(環状ストレーナ40を洗浄室30の底部32に配置した時、底部32と対向する面)に配設されている。穴40eは、洗浄中に飛散する被加工物WのチップWC、特に端材チップSCを通過させず、洗浄中に供給される洗浄液Lを通過させる大きさの穴である。取っ手40fは、底部40aの表面に配設されている。取っ手40fは、作業員等のオペレータにより掴み上げられる把持部材である。
The
また、本実施形態において、環状ストレーナ40は、図2に示すように、複数の円弧状ストレーナ41〜45で形成されており、周方向に等間隔で5つに分割されている。すなわち、環状ストレーナ40は、複数の円弧状ストレーナ41〜45が周方向に連なって円環状に形成されている。円弧状ストレーナ41〜45において、隣り合うものは、互いに周方向端部が突き当たった状態で配設されている。円弧状ストレーナ41〜45は、環状ストレーナ40の径を維持する。円弧状ストレーナ41〜45は、例えば、パンチングメタルで構成されている。円弧状ストレーナ41〜45は、底部40aと外側壁部40bと内側壁部40cと脚部40d(図3参照)と穴40eとを共通で有している。円弧状ストレーナ41〜45は、底部40aの両端の周方向端部側の裏面に脚部40dが配設されている。円弧状ストレーナ41〜45は、図3に示すように、それぞれの底部40aがチャックテーブル10の保持面11に対して平行であり、それぞれの底部40aが同一平面上に配置される。円弧状ストレーナ41〜45は、それぞれの外側壁部40bの上端が同一平面上に配置され、それぞれの内側壁部40cの上端が同一平面上に配置される。円弧状ストレーナ41〜45は、少なくとも1つの円弧状ストレーナ45(所定の円弧状ストレーナ45)が洗浄室30から着脱できる。
Moreover, in this embodiment, as shown in FIG. 2, the cyclic |
また、円弧状ストレーナ41〜45は、図2に示すように、底部40aの全面(全体)に複数の穴40eがあけられている。円弧状ストレーナ41〜45は、図示してはいないが、外側壁部40bおよび内側壁部40cの全面(全体)にも複数の穴(穴40eと同様の穴)があけられている。なお、複数の穴40eのうち、底部40aの裏面に配設される脚部40dと重なる穴40eは、脚部40dを貫通することが好ましい。供給管21を挟んで隣り合う円弧状ストレーナ41、44は、互いに突き当たる周方向端部に、供給管21の外周に対応する半円形状の供給管挿通部41a、44aが形成されている。所定の円弧状ストレーナ45は、底部40aの表面に取っ手40fが配設されている。なお、本実施形態においては、円弧状ストレーナ41〜45は、洗浄室30から着脱できる。
Further, as shown in FIG. 2, the arc-shaped
上述の如く構成された洗浄装置1−1は、図示しないアクチュエータによりチャックテーブル10を搬送載置位置(チャックテーブル10の保持面11と外周壁31の上端とが同一平面上となる位置)にまで上昇させる。次に、洗浄装置1−1は、オペレータあるいは図示しない搬送手段によりチャックテーブル10に載置されたフレームユニットUを図示しない真空吸引源によって吸引保持する。次に、洗浄装置1−1は、アクチュエータによりチャックテーブル10を図3に示す作業位置(カバー部15で内周壁33の上端の開口を覆う位置)にまで下降させる。次に、洗浄装置1−1は、排気経路34を介して排気手段60により洗浄室30内の空気を排気させる。次に、洗浄装置1−1は、駆動源13によりチャックテーブル10を回転させ、クランプ12によりフレームユニットUの環状フレームFの外周縁を挟み込ませる。次に、洗浄装置1−1は、図示しない回動手段により洗浄ノズル20を待避位置からチャックテーブル10の回転中心に移動させる。次に、洗浄装置1−1は、洗浄液供給源50により洗浄ノズル20からフレームユニットUの被加工物Wに洗浄液Lを噴射させつつ、回動手段により洗浄ノズル20をフレームユニットUの被加工物W上で往復動させる。
The cleaning apparatus 1-1 configured as described above moves the chuck table 10 to a position where the chuck table 10 is transported and placed by an actuator (not shown) (a position where the holding
ここで、洗浄装置1−1は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中、フレームユニットUの粘着テープTから飛散した被加工物WのチップWC、特に端材チップSCを、環状ストレーナ40で受けとめる。また、洗浄装置1−1は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中、デバイスチップDCが飛散することがあっても、飛散したデバイスチップDCを環状ストレーナ40で受けとめる。また、洗浄装置1−1は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中、フレームユニットUの被加工物Wに噴射された洗浄液Lを、環状ストレーナ40の穴40eを介して洗浄室30の底部32へ流下させ、ドレイン開口35aからドレイン35を介して外部へ排水させる。
Here, the cleaning device 1-1 uses the
次に、洗浄装置1−1は、所定の時間、あるいはオペレータにより設定された時間の経過後、洗浄液供給源50による洗浄液Lの供給を停止させ、回動手段により洗浄ノズル20を待避位置へ移動させる。次に、洗浄装置1−1は、駆動源13によるチャックテーブル10の回転を停止させ、クランプ12によるフレームユニットUの環状フレームFの外周縁の挟み込みを解除させる。次に、洗浄装置1−1は、排気手段60による排気を停止させ、アクチュエータによりチャックテーブル10を搬送載置位置にまで上昇させ、真空吸引源による吸引を停止させる。次に、洗浄装置1−1は、オペレータあるいは搬送手段によりフレームユニットUがチャックテーブル10から取り外されることで、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄を終了する。以上のように、洗浄装置1−1は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中、フレームユニットUの粘着テープTから飛散した被加工物WのチップWCを環状ストレーナ40で受けとめるので、洗浄室30の底部32のドレイン開口35aが被加工物WのチップWC(端材チップSCやデバイスチップDC)で塞がれることを抑え、洗浄液Lが洗浄室30からオーバーフローすることを抑えることができる。
Next, the cleaning device 1-1 stops the supply of the cleaning liquid L by the cleaning
次に、洗浄装置1−1において、環状ストレーナ40で受けとめられた被加工物WのチップWCを除去する方法について説明する。まず、洗浄装置1−1は、オペレータによる洗浄を停止させる指示入力、および、洗浄室30から被加工物WのチップWCを除去させる指示入力にしたがって、洗浄液Lの供給やチャックテーブル10の回転等を停止させる。次に、洗浄装置1−1は、被加工物WのチップWCをオペレータに回収させやすいように、チャックテーブル10を図3に示す作業位置に移動させた後、洗浄装置1−1を駆動するための電源を遮断する。
Next, a method for removing the chip WC of the workpiece W received by the
次に、オペレータは、被加工物WのチップWCを所定の円弧状ストレーナ45に集めた後、所定の円弧状ストレーナ45を洗浄室30から取り外す。次に、オペレータは、所定の円弧状ストレーナ45上の被加工物WのチップWCを廃棄した後、所定の円弧状ストレーナ45を洗浄室30に装着する。これにより、被加工物WのチップWCの除去作業が終了する。以上のように、洗浄装置1−1によれば、所定の円弧状ストレーナ45が洗浄室30から着脱可能であることから、所定の円弧状ストレーナ45に被加工物WのチップWCが集められた状態で所定の円弧状ストレーナ45が洗浄室30から取り外されることで、被加工物WのチップWCを洗浄室30から取り除くことができる。したがって、洗浄装置1−1によれば、少ない作業工数で容易に被加工物WのチップWCを洗浄室30から取り除くことができる。
Next, the operator collects the chips WC of the workpiece W in a predetermined arc-shaped
次に、図6および図7を参照して、掻き出し手段70により被加工物WのチップWCを所定の円弧状ストレーナ45に掻き集める方法について説明する。図6は、実施形態1に係る洗浄装置での洗浄中に飛散したチップを掻き出すための掻き出し手段の概略構成例を示す図である。図7は、図6に示す掻き出し手段によりチップを掻き出している状態を示す側面図である。掻き出し手段70は、図6に示すように、本体部71と、把持部72と、スクレーパ部73と、を含んで構成されている。本体部71は、対向する外側壁部40bと内側壁部40cとの間の領域に対応する幅で形成されている。本体部71は、両側面に配設された軸部71c、71dにより回転自在に支持される外側ローラ71aおよび内側ローラ71bを有する。外側ローラ71aは、外側壁部40bの上端側の内周(内側壁部40cと対向する側面)と対向するフランジを有する。内側ローラ71bは、内側壁部40cの上端側の内周(外側壁部40bと対向する側面)と対向するフランジを有する。各ローラ71a、71bは、環状ストレーナ40の底部40aに対して本体部71を平行にさせる径にそれぞれ設定されている。各ローラ71a、71bは、各壁部40b、40cをガイドレールとして利用することで、本体部71を環状ストレーナ40の円環形状に沿って移動させる。把持部72は、本体部71の上端に配設されている。把持部72は、オペレータに把持される部材である。スクレーパ部73は、本体部71の下端に配設されている。スクレーパ部73は、本体部71と同じ幅で形成されている。スクレーパ部73は、例えば、弾性部材で構成されている。スクレーパ部73は、いわゆるブラシやヘラ等である。スクレーパ部73は、図7に示すように、環状ストレーナ40の底部40aに対して弾性変形しつつ摺接し、底部40a上の被加工物WのチップWCを矢印方向(掻き出し手段70の移動方向)に掻き出す。
Next, with reference to FIGS. 6 and 7, a method for scraping the chips WC of the workpiece W onto the predetermined arc-shaped
オペレータは、上述の如く構成された掻き出し手段70により被加工物WのチップWCを所定の円弧状ストレーナ45に掻き集めた後、所定の円弧状ストレーナ45を洗浄室30から取り外す。次に、オペレータは、所定の円弧状ストレーナ45上の被加工物WのチップWCを廃棄した後、所定の円弧状ストレーナ45を洗浄室30に装着する。これにより、被加工物WのチップWCの除去作業が終了する。このため、洗浄装置1−1によれば、オペレータの手で被加工物WのチップWCを所定の円弧状ストレーナ45へ集める場合よりも、効率よく、容易に被加工物WのチップWCを所定の円弧状ストレーナ45に集めることができる。したがって、洗浄装置1−1によれば、掻き出し手段70を用いることで、オペレータの手で被加工物WのチップWCを集める場合よりも作業工数を減らし、容易に被加工物WのチップWCを洗浄室30から取り除くことができる。
The operator scrapes the chips WC of the workpiece W on the predetermined arc-shaped
以上のように、実施形態1に係る洗浄装置1−1によれば、環状ストレーナ40は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中、フレームユニットUの粘着テープTから飛散した被加工物WのチップWCを受けとめ、被加工物Wの洗浄に使用された洗浄液Lを穴40eから洗浄室30の底部32へ流す。すなわち、洗浄装置1−1によれば、被加工物WのチップWCと洗浄液Lとが分離され、洗浄液Lが底部32へ流される。このため、洗浄装置1−1によれば、洗浄中に飛散した被加工物WのチップWCが洗浄室30の底部32に貯まることを抑えることができる。したがって、洗浄装置1−1によれば、洗浄室30の底部32のドレイン開口35aが被加工物WのチップWCで塞がれることを抑えることができ、洗浄室30から洗浄液Lがオーバーフローすることを抑えることができる。
As described above, according to the cleaning device 1-1 according to the first embodiment, the
また、洗浄室30の底部32に被加工物WのチップWCが貯まる従来の洗浄装置では洗浄液Lがオーバーフローする虞があるために定期的にチップWCを除去する必要があったが、実施形態1に係る洗浄装置1−1によれば、洗浄室30の底部32に被加工物WのチップWCが貯まることを抑えることができることから、チップWCを除去するための清掃作業を実施する間隔を拡げ、清掃作業を実施する回数を減らすことができる。すなわち、洗浄装置1−1によれば、定期的に実施される清掃作業の回数を減らすことができる。
Further, in the conventional cleaning apparatus in which the chip WC of the workpiece W is stored in the bottom 32 of the cleaning
また、実施形態1に係る洗浄装置1−1によれば、環状ストレーナ40は、複数の円弧状ストレーナ41〜45が周方向に連なって環状に形成され、少なくとも1つの円弧状ストレーナ45(所定の円弧状ストレーナ45)は洗浄室30から着脱できる。このため、洗浄装置1−1によれば、洗浄中にフレームユニットUの粘着テープTから飛散し、環状ストレーナ40により受けとめられた被加工物WのチップWCがオペレータによって所定の円弧状ストレーナ45に集められた後、この所定の円弧状ストレーナ45がオペレータにより洗浄室30から取り外されると、洗浄室30から被加工物WのチップWCを取り除くことができる。
Further, according to the cleaning device 1-1 according to the first embodiment, the
また、オペレータがチャックテーブル10と外周壁31との狭い隙間に手を入れて底部32の被加工物WのチップWCを拾い上げる作業が必要な従来の洗浄装置ではその作業は困難であり、作業工数も多いものであったが、洗浄装置1−1によれば、被加工物WのチップWCが所定の円弧状ストレーナ45に集められた後、所定の円弧状ストレーナ45がオペレータにより洗浄室30から取り外されるという作業で被加工物WのチップWCが取り除かれるので、その作業は容易であり、作業工数は少ない。すなわち、洗浄装置1−1によれば、所定の円弧状ストレーナ45が洗浄室30から取り外されることで、環状ストレーナ40が受けとめた被加工物WのチップWCを少ない作業工数で容易に除去することができる。
In addition, in a conventional cleaning apparatus that requires an operator to put a hand in the narrow gap between the chuck table 10 and the outer
また、実施形態1に係る洗浄装置1−1によれば、隣り合う円弧状ストレーナ41〜45は、互いに周方向端部が突き当たった状態で配設され、複数の円弧状ストレーナ41〜45が形成する環状ストレーナ40の径を維持する。このため、洗浄装置1−1によれば、円弧状ストレーナ41〜45の周方向端部を隙間なく配置することができる。
Moreover, according to the cleaning apparatus 1-1 according to the first embodiment, the adjacent arc-shaped
また、洗浄装置1−1によれば、複数の円弧状ストレーナ41〜45が周方向に連なって、環状ストレーナ40が形成されることから、環状ストレーナ40の構成が簡単である。また、洗浄装置1−1によれば、複数の円弧状ストレーナ41〜45により環状ストレーナ40の径が維持されるため、チャックテーブル10側への環状ストレーナ40(個々の円弧状ストレーナ41〜45)の移動が規制され、チャックテーブル10と環状ストレーナ40とが干渉しない。また、洗浄装置1−1によれば、環状ストレーナ40が複数に分割されて小さいため、環状ストレーナ40を洗浄室30から着脱させることが容易である。
Moreover, according to the cleaning apparatus 1-1, the plurality of arc-shaped
また、実施形態1に係る洗浄装置1−1によれば、円弧状ストレーナ41〜45が洗浄室30から着脱できるので、円弧状ストレーナ41〜45を洗浄室30から取り外して、洗浄室30の底部32の清掃を行うことができる。このため、洗浄装置1−1によれば、洗浄室30の底部32に被加工物WのチップWCが侵入した場合であっても、洗浄室30の底部32から被加工物WのチップWCを取り除くことができる。
Moreover, according to the cleaning apparatus 1-1 according to the first embodiment, the arc-shaped
〔実施形態2〕
次に、実施形態2に係る洗浄装置1−2について説明する。図8は、実施形態2に係る洗浄装置の概略構成例を示す図である。図9は、実施形態2に係る洗浄装置が備える環状ストレーナの傾斜を説明するための説明図である。実施形態2に係る洗浄装置1−2は、環状ストレーナ40の底部40aを傾斜させることで、所定の円弧状ストレーナ45に被加工物WのチップWCを集めさせるようにしたものである。実施形態2に係る洗浄装置1−2の基本構成は、実施形態1に係る洗浄装置1−1と同様であるので、同一部分の構成の説明は省略する。
[Embodiment 2]
Next, the cleaning apparatus 1-2 according to the second embodiment will be described. FIG. 8 is a diagram illustrating a schematic configuration example of the cleaning apparatus according to the second embodiment. FIG. 9 is an explanatory diagram for explaining the inclination of the annular strainer included in the cleaning device according to the second embodiment. In the cleaning device 1-2 according to the second embodiment, the bottom 40a of the
実施形態2に係る洗浄装置1−2は、図8に示すように、洗浄水供給手段36、37を備えている。洗浄水供給手段36、37は、環状ストレーナ40にストレーナ洗浄水を供給するものである。洗浄水供給手段36、37は、ストレーナ洗浄水を供給するための供給口36a、37aを有している。供給口36a、37aは、洗浄ノズル20の供給管21を挟んで隣り合う円弧状ストレーナ41、44同士が突き当たる周方向端部側の底部40aに、ストレーナ洗浄水を供給する。供給口36a、37aは、隣り合う円弧状ストレーナ41、44の円弧形状の接線方向にストレーナ洗浄水を供給することが好ましい。ストレーナ洗浄水は、供給口36a、37aと連通する洗浄水供給源80から供給される。
As shown in FIG. 8, the cleaning device 1-2 according to the second embodiment includes cleaning
また、洗浄装置1−2は、所定の円弧状ストレーナ45のみに複数の穴40eがあけられた環状ストレーナ40を洗浄室30に配設している。環状ストレーナ40は、チャックテーブル10を挟んで洗浄ノズル20の供給管21と対向する位置に、所定の円弧状ストレーナ45を配置している。環状ストレーナ40は、所定の円弧状ストレーナ45を除いた円弧状ストレーナ41〜44が穴40eのない樋状となっており、所定の円弧状ストレーナ45が穴40eのある樋状となっている。環状ストレーナ40の底部40aは、図9に示すように、洗浄水供給手段36、37側から所定の円弧状ストレーナ45の穴40eに向かって低くなる傾斜で形成されている。このため、環状ストレーナ40の底部40aは、図8に矢印で示すように、洗浄ノズル20から噴射された洗浄液L、および、洗浄水供給手段36、37から供給されたストレーナ洗浄水を、洗浄ノズル20の供給管21を挟んで隣り合う円弧状ストレーナ41、44から所定の円弧状ストレーナ45に向かって案内する。環状ストレーナ40の底部40aは、洗浄液Lおよびストレーナ洗浄水の流れにより、環状ストレーナ40で受けとめられた被加工物WのチップWCを所定の円弧状ストレーナ45へ案内する。なお、環状ストレーナ40の外側壁部40bは、複数の円弧状ストレーナ41〜45のそれぞれにおいて、底部40aから上方への突出量が同じである。また、環状ストレーナ40の内側壁部40cは、複数の円弧状ストレーナ41〜45のそれぞれにおいて、底部40aから上方への突出量が同じである。
Further, in the cleaning device 1-2, an
上述の如く構成された洗浄装置1−2は、上記実施形態1に係る洗浄装置1−1と同様に、フレームユニットUの環状フレームFの外周縁をクランプ12により挟み込ませた後、洗浄水供給源80によりストレーナ洗浄水を洗浄水供給手段36、37から環状ストレーナ40へ供給させつつ、洗浄ノズル20を往復動させながら洗浄液Lを噴射させる。
In the cleaning device 1-2 configured as described above, the cleaning water supply is performed after the outer peripheral edge of the annular frame F of the frame unit U is sandwiched by the
ここで、洗浄装置1−2は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中、フレームユニットUの粘着テープTから飛散した被加工物WのチップWC(特に端材チップSC)を、環状ストレーナ40で受けとめる。また、洗浄装置1−2は、環状ストレーナ40で受けとめられた被加工物WのチップWCを、環状ストレーナ40の底部40aの傾斜と、洗浄水供給手段36、37から供給されるストレーナ洗浄水とにより、所定の円弧状ストレーナ45へ案内させて集める。また、洗浄装置1−2は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中、洗浄ノズル20から噴射された洗浄液L、および、洗浄水供給手段36、37から供給されたストレーナ洗浄水を、環状ストレーナ40の穴40eを介して洗浄室30の底部32へ排水させる。
Here, the cleaning device 1-2 uses the annular strainer to remove the chip WC (particularly the end material chip SC) of the workpiece W scattered from the adhesive tape T of the frame unit U during the cleaning of the workpiece W of the frame unit U. Accept at 40. The cleaning device 1-2 also includes a tip WC of the workpiece W received by the
次に、洗浄装置1−2は、所定の洗浄時間、あるいはオペレータにより設定された洗浄時間の経過後、洗浄液供給源50からの洗浄液L、および、洗浄水供給源80からのストレーナ洗浄水の供給を停止させ、上記実施形態1に係る洗浄装置1−1と同様に、フレームユニットUがチャックテーブル10から取り外されることで、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄を終了する。以上のように、洗浄装置1−2によれば、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄中、環状ストレーナ40で受けとめた被加工物WのチップWCが所定の円弧状ストレーナ45に案内され、供給した洗浄液Lとストレーナ洗浄水とが環状ストレーナ40の穴40eから排水されるので、ドレイン開口35aが被加工物WのチップWCで塞がれることを抑え、洗浄液Lやストレーナ洗浄水が洗浄室30からオーバーフローすることを抑えることができる。
Next, the cleaning device 1-2 supplies the cleaning liquid L from the cleaning
次に、洗浄装置1−2において、環状ストレーナ40で受けとめられた被加工物WのチップWCを除去する方法について説明する。まず、オペレータは、上記実施形態1に係る洗浄装置1−1と同様に、洗浄装置1−2自体の電源を遮断させた後、所定の円弧状ストレーナ45を洗浄室30から取り外す。次に、オペレータは、所定の円弧状ストレーナ45上の被加工物WのチップWCを廃棄した後、所定の円弧状ストレーナ45を洗浄室30に装着する。これにより、被加工物WのチップWCの除去作業が終了する。以上のように、洗浄装置1−2によれば、被加工物WのチップWCがオペレータにより集められなくても、所定の円弧状ストレーナ45に被加工物WのチップWCを案内して集めることから、より少ない作業工数で容易に被加工物WのチップWCを洗浄室30から取り除くことができる。
Next, a method for removing the chip WC of the workpiece W received by the
以上のように、実施形態2に係る洗浄装置1−2によれば、所定の円弧状ストレーナ45に向かって低くなるように環状ストレーナ40の底部40aが形成されており、洗浄中に飛散した被加工物WのチップWCが所定の円弧状ストレーナ45に案内されることから、洗浄ノズル20から噴射される洗浄液Lを所定の円弧状ストレーナ45に流下させることができるので、洗浄水供給手段36、37からストレーナ洗浄水が供給されていなくても、被加工物WのチップWCを所定の円弧状ストレーナ45へ案内して集めることができる。
As described above, according to the cleaning device 1-2 according to the second embodiment, the bottom 40a of the
また、洗浄装置1−2によれば、複数の円弧状ストレーナ41〜45のそれぞれにおいて、底部40aからの外側壁部40bの上方への突出量が同じであり、底部40aからの内側壁部40cの上方への突出量が同じであることから、外側壁部40bと内側壁部40cとをガイドレールとして利用する掻き出し手段70(図6参照)によって、所定の円弧状ストレーナ45に案内されていない被加工物WのチップWCを、所定の円弧状ストレーナ45へ掻き集めることもできる。
Further, according to the cleaning device 1-2, in each of the plurality of arc-shaped
〔実施形態3〕
次に、実施形態3に係る加工装置100について説明する。図10は、実施形態3に係る加工装置の概略構成例を示す図である。実施形態3に係る加工装置100は、実施形態1または実施形態2に係る洗浄装置1−1(1−2)を備えた加工装置である。洗浄装置1−1(1−2)の基本構成は、実施形態1または実施形態2に係る洗浄装置1−1(1−2)と同様であるので、同一部分の構成の説明は省略する。
[Embodiment 3]
Next, the
実施形態3に係る加工装置100は、板状の被加工物Wが環状フレームFの開口に粘着テープTを介して支持されるフレームユニットUの被加工物Wを複数のチップWCに分割する加工装置である。加工装置100は、カセット110と、仮置き手段120と、加工用チャックテーブル130と、加工手段140と、撮像手段150と、第1搬送手段160と、第2搬送手段170と、カセットエレベータ180と、洗浄装置1−1(1−2)と、を含んで構成されている。
The
カセット110は、フレームユニットUの被加工物Wを一枚ずつ収納する。仮置き手段120は、フレームユニットUの加工前後の被加工物Wを一対の仮置きレール121、122に一時的に仮置きする。加工用チャックテーブル130は、保持面131に載置されたフレームユニットUの被加工物Wを図示しない吸引源により吸引保持する。また、加工用チャックテーブル130は、図示しない駆動手段により、装置本体101に対してX軸方向(加工送り方向に相当)において相対的に往復動する。
The
加工手段140は、加工用チャックテーブル130に保持されたフレームユニットUの被加工物Wを加工(切削加工)するものである。加工手段140は、切削ブレード141と、スピンドル142と、切削液供給ノズル143と、駆動手段144と、を備えている。切削ブレード141は、加工用チャックテーブル130に保持されるフレームユニットUの被加工物Wを、高速回転することで切削する極薄のリング形状の切削砥石である。スピンドル142は、図示しない固定ナット等により切削ブレード141を交換可能に固定する。切削液供給ノズル143は、切削ブレード141の加工点に向けて切削液を供給する。駆動手段144は、装置本体101に対してY軸方向(割り出し送り方向に相当)およびZ軸方向(切り込み送り方向に相当)のそれぞれにおいて相対的に切削ブレード141を往復動させる。
The processing means 140 processes (cuts) the workpiece W of the frame unit U held on the processing chuck table 130. The processing means 140 includes a
撮像手段150は、例えば、CCD(Charge Coupled Device)イメージセンサを用いたカメラ等である。また、撮像手段150は、フレームユニットUの被加工物Wに対する加工手段140のアライメントを調整するための画像データを生成する。第1搬送手段160は、エアシリンダ等のアクチュエータ駆動によりフレームユニットUの環状フレームFの周縁を挟み込むチャック手段を有する、いわゆるフレーム搬送手段である。第1搬送手段160は、フレームユニットUの被加工物Wを、加工用チャックテーブル130から洗浄装置1−1(1−2)のチャックテーブル10へ搬送する。第2搬送手段170は、第1搬送手段160と同様に、いわゆるフレーム搬送手段である。第2搬送手段170は、洗浄前のフレームユニットUの被加工物Wをカセット110から仮置き手段120、仮置き手段120から加工用チャックテーブル130へ搬送し、洗浄後のフレームユニットUの被加工物Wを仮置き手段120を介してカセット110へ搬送する。カセットエレベータ180は、装置本体101に対してZ軸方向において昇降自在であり、カセット110を昇降させる。
The imaging means 150 is, for example, a camera using a CCD (Charge Coupled Device) image sensor. Further, the
洗浄装置1−1(1−2)は、上記実施形態1または上記実施形態2に係る洗浄装置であって、加工手段140によって複数のチップWCに分割された板状の被加工物Wが環状フレームFの開口に粘着テープTを介して支持されるフレームユニットU(図1参照)の被加工物Wを洗浄する洗浄装置である。洗浄装置1−1(1−2)は、加工後のフレームユニットUの被加工物Wを洗浄する。 The cleaning device 1-1 (1-2) is the cleaning device according to the first embodiment or the second embodiment, and the plate-like workpiece W divided into the plurality of chips WC by the processing means 140 is annular. This is a cleaning device for cleaning the workpiece W of the frame unit U (see FIG. 1) supported by the opening of the frame F via the adhesive tape T. The cleaning device 1-1 (1-2) cleans the workpiece W of the frame unit U after processing.
上述の如く構成された加工装置100は、第2搬送手段170により加工前のフレームユニットUの被加工物Wをカセット110から仮置き手段120へ搬送させた後、加工用チャックテーブル130によりフレームユニットUの被加工物Wを保持させる。次に、加工装置100は、加工用チャックテーブル130に保持されたフレームユニットUの被加工物Wを撮像手段150により撮像させ、撮像手段150により生成された画像データに基づいて加工手段140と被加工物Wとのアライメントを調整する。次に、加工装置100は、加工手段140の切削ブレード141を高速回転させつつ、加工用チャックテーブル130に対して加工手段140を駆動手段144でZ軸方向に相対的に切り込み送りさせ、加工手段140に対して加工用チャックテーブル130を図示しない駆動手段でX軸方向に相対的に加工送りさせ、加工用チャックテーブル130に対して加工手段140を駆動手段144でY軸方向に相対的に割り出し送りさせることで、切削ブレード141を粘着テープTの厚み方向の途中まで切り込ませながら、フレームユニットUの被加工物Wの分割予定ラインを切削する。次に、加工装置100は、同一方向の全ての分割予定ラインについて切削した後、図示しない回転手段により加工用チャックテーブル130をZ軸回りに90度回転させ、加工手段140により同様の切削を繰り返すことで、フレームユニットUの板状の被加工物Wを複数のチップWCに分割(本実施形態においてはフルカット)する。
In the
次に、加工装置100は、第1搬送手段160により加工用チャックテーブル130から洗浄装置1−1(1−2)のチャックテーブル10へフレームユニットUの被加工物Wを搬送させた後、洗浄装置1−1(1−2)によりフレームユニットUの被加工物Wを洗浄させる。次に、加工装置100は、洗浄装置1−1(1−2)によってフレームユニットUの被加工物Wを洗浄させた後、第2搬送手段170によりチャックテーブル10から仮置き手段120を介してカセット110へフレームユニットUの被加工物Wを搬送させ、フレームユニットUの被加工物Wに対する加工および洗浄を終える。以上のように、加工装置100によれば、洗浄装置1−1(1−2)によるフレームユニットUの被加工物Wの洗浄中、フレームユニットUの粘着テープTから飛散したチップWCが環状ストレーナ40で受けとめられる。また、加工装置100によれば、所定の円弧状ストレーナ45がオペレータによって洗浄室30から取り出されることで、被加工物WのチップWCが洗浄室30から取り除かれる。
Next, the
以上のように、実施形態3に係る加工装置100によれば、フレームユニットUの被加工物Wを保持する加工用チャックテーブル130と、加工用チャックテーブル130に保持された被加工物Wを加工する加工手段140と、を備え、加工手段140で加工後のフレームユニットUの被加工物Wを洗浄する洗浄装置1−1(1−2)を更に備えている。このため、加工装置100によれば、加工後のフレームユニットUの被加工物Wを洗浄中、フレームユニットUの粘着テープTから飛散する被加工物WのチップWCが環状ストレーナ40で受けとめられる。したがって、加工装置100は、洗浄中に飛散した被加工物WのチップWCが洗浄室30の底部32に貯まることを抑え、洗浄室30から洗浄液Lまたはストレーナ洗浄水がオーバーフローすることを抑えることができる。
As described above, according to the
また、加工装置100によれば、少ない作業工数で容易に被加工物WのチップWCを洗浄装置1−1(1−2)の洗浄室30から取り除くことができることから、例えば、フレームユニットUを加工中に、被加工物WのチップWCを洗浄室30から取り除く必要が生じた場合、洗浄室30から被加工物WのチップWCを取り除くための清掃作業にかかる所要時間を短縮することができ、加工装置100が停止している時間を短縮することができる。
Further, according to the
なお、上記の少なくとも1つの実施形態において、洗浄装置1−1(1−2)は、フレームユニットUの被加工物Wを洗浄するものであったが、フレームユニットUの被加工物Wに空気を吹き付けて乾燥させるエア供給ノズルが更に配設されていてもよい。これにより、洗浄装置1−1(1−2)は、フレームユニットUの被加工物Wの洗浄と乾燥とを続けて実施することができる。 In the above-described at least one embodiment, the cleaning device 1-1 (1-2) cleans the workpiece W of the frame unit U, but the workpiece W of the frame unit U has air. There may be further provided an air supply nozzle for spraying and drying. Accordingly, the cleaning device 1-1 (1-2) can continuously perform the cleaning and drying of the workpiece W of the frame unit U.
また、上記の実施形態1または2において、円弧状ストレーナ41〜45は、洗浄室30から着脱できることから、チャックテーブル10と洗浄ノズル20とを有する既設の洗浄装置の洗浄室30にも、環状ストレーナ40を設置することができる。
In the first or second embodiment, since the arc-shaped
また、上記の実施形態3において、加工装置100は、フレームユニットUの被加工物Wを切削ブレード141で切削して複数のチップWCに分割するものであったが、フレームユニットUの被加工物Wに対して吸収性を有する波長のパルスレーザビームを照射して複数のチップWCに分割するものであってもよい。これにより、いわゆるレーザ加工装置においても、洗浄装置1−1(1−2)を備えることができる。また、その他の加工手段でもよい。
In Embodiment 3 described above, the
1−1、1−2 洗浄装置
10 チャックテーブル
11 保持面
20 洗浄ノズル
30 洗浄室
31 外周壁
40 環状ストレーナ
41〜44 円弧状ストレーナ
45 円弧状ストレーナ(所定の円弧状ストレーナ)
100 加工装置
130 加工用チャックテーブル
140 加工手段
L 洗浄液
F 環状フレーム
T 粘着テープ
U フレームニット
W 被加工物
WC チップ
1-1, 1-2
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記粘着テープを介して前記被加工物を吸引保持する保持面を備え、前記保持面と直交する回転軸周りに回転するチャックテーブルと、
前記チャックテーブルで保持する前記被加工物に洗浄液を噴射する洗浄ノズルと、
前記チャックテーブルと前記洗浄ノズルとを囲繞し洗浄室を形成する外周壁と、
前記チャックテーブルの保持面より下方で、前記チャックテーブルと前記外周壁の内周との間の領域に対応し、洗浄中に飛散する前記被加工物のチップを受けとめる有底状の環状ストレーナと、を含み、
前記環状ストレーナは、複数の円弧状ストレーナが周方向に連なって環状に形成され、少なくとも1つの前記円弧状ストレーナは前記洗浄室から着脱できることを特徴とする洗浄装置。 A cleaning device for cleaning the workpiece of a frame unit in which a plate-like workpiece divided into a plurality of chips is supported by an opening of an annular frame via an adhesive tape,
A chuck table provided with a holding surface for sucking and holding the workpiece via the adhesive tape, and rotating around a rotation axis orthogonal to the holding surface;
A cleaning nozzle for injecting a cleaning liquid onto the workpiece held by the chuck table;
An outer peripheral wall surrounding the chuck table and the cleaning nozzle to form a cleaning chamber;
A bottomed annular strainer below the holding surface of the chuck table, corresponding to a region between the chuck table and the inner periphery of the outer peripheral wall, and receiving chips of the workpiece scattered during cleaning; Including
The annular strainer includes a plurality of arc-shaped strainers formed in an annular shape in a circumferential direction, and at least one of the arc-shaped strainers is detachable from the cleaning chamber.
前記加工用チャックテーブルに保持された前記被加工物を加工する加工手段と、を備えた加工装置であって、
前記加工手段で加工後の前記フレームユニットの前記被加工物を洗浄する請求項1、2または3記載の洗浄装置を更に備えることを特徴とする加工装置。 A chuck table for processing that holds the workpiece of the frame unit;
A processing device for processing the workpiece held on the processing chuck table,
4. The processing apparatus according to claim 1, further comprising a cleaning device for cleaning the workpiece of the frame unit after processing by the processing means.
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