JP6117821B2 - 複合基板および機能素子 - Google Patents
複合基板および機能素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6117821B2 JP6117821B2 JP2014550145A JP2014550145A JP6117821B2 JP 6117821 B2 JP6117821 B2 JP 6117821B2 JP 2014550145 A JP2014550145 A JP 2014550145A JP 2014550145 A JP2014550145 A JP 2014550145A JP 6117821 B2 JP6117821 B2 JP 6117821B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- stress relaxation
- seed crystal
- crystal layer
- young
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 118
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 64
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 265
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 178
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 claims description 101
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 81
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 20
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 18
- 229910052795 boron group element Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 15
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 claims description 6
- 206010027476 Metastases Diseases 0.000 claims 1
- 230000009401 metastasis Effects 0.000 claims 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 claims 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 25
- 238000007716 flux method Methods 0.000 description 18
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 10
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 7
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000002248 hydride vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 4
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005092 sublimation method Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005811 Viola adunca Nutrition 0.000 description 2
- 240000009038 Viola odorata Species 0.000 description 2
- 235000013487 Viola odorata Nutrition 0.000 description 2
- 235000002254 Viola papilionacea Nutrition 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 2
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 2
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017083 AlN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000807 Ga alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003917 TEM image Methods 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 150000002259 gallium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 1
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000000927 vapour-phase epitaxy Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/40—AIIIBV compounds wherein A is B, Al, Ga, In or Tl and B is N, P, As, Sb or Bi
- C30B29/403—AIII-nitrides
- C30B29/406—Gallium nitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
- C30B25/18—Epitaxial-layer growth characterised by the substrate
- C30B25/183—Epitaxial-layer growth characterised by the substrate being provided with a buffer layer, e.g. a lattice matching layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Recrystallisation Techniques (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Description
最初に、本発明者が検討した複合基板とその問題点について述べる。まず、図1(a)に示すように、種結晶成長用基板1上に種結晶層4を形成する。次いで、図1(b)に示すように、種結晶層4上に、窒化ガリウムからなる窒化ガリウム結晶層5をフラックス法で形成する。
(種結晶成長用基板)
種結晶成長用基板は、種結晶膜および窒化ガリウム結晶層が育成可能であれば限定されないが、サファイア、SiC(炭化ケイ素)、GaAs,AlNやAlGaN等の、GaN以外の各種III―V族化合物、Si、Ge、ZnOやMgO等の各種酸化物材料を例示できる。
下地層の形成方法は気相成長法であるが、有機金属化学気相成長(MOCVD: Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法、ハイドライド気相成長(HVPE)法、MBE法、昇華法を例示できる。
種結晶層は、一層であってよく、あるいは複数層であって良い。また、種結晶層の形成方法は気相成長法を好ましい一例として挙げることができ、有機金属化学気相成長(MOCVD: Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法、ハイドライド気相成長(HVPE)法、パルス励起堆積(PXD)法、MBE法、昇華法を例示できる。有機金属化学気相成長法が特に好ましい。
応力緩和層は、複合基板上に機能層を成膜するときの熱処理によって、種結晶成長用基板と窒化ガリウム結晶層との間に印加される応力を吸収する層である。
本発明によれば、窒化ガリウム結晶層とサファイア基板との自然剥離が生ずると、複合基板として利用できない。ここで、窒化ガリウム結晶層の厚さ(成膜時の厚さ)を300μm以下とすることで、窒化ガリウム結晶層のサファイア基板からの自然剥離が生じにくいようにしている。この観点からは、窒化ガリウム結晶層の厚さは、200μm以下が好ましく、100μm以下が更に好ましく、50μm以下が更に好ましい。
こうして得られた複合基板上に機能層を気相法で形成する。
こうした機能層は、単一層であってよく、複数層であってよい。また、機能としては、高輝度・高演色性の青色LEDや高速高密度光メモリ用青紫レーザ、ハイブリッド自動車用のインバータ用のパワーデバイスなどに用いることができる。
図2を参照しつつ説明したようにして複合基板および機能素子を作製した。
直径2インチの単結晶サファイアc面基板1をMOCVD炉(有機金属気相成長炉)内に入れ、水素雰囲気中で1150℃にて10分間加熱し、表面のクリーニングを行った。次いで、基板温度を500℃まで下げ、TMG(トリメチルガリウム)、アンモニアを原料として窒化ガリウム層を30nmの厚さに成長させた。次いで、基板温度を1080℃まで上げ、TMGとアンモニアとを原料として窒化ガリウム層を1μmの厚さに成長させ、下地層2を形成した。この時のIII族元素の原料(TMG)に対するV族元素の原料(アンモニア)の供給量のモル比(以下「V/III」)は、4000とした。
なお、ヤング率の測定は、実施例1に記載の複合基板を作製する途中では実施できないので、同じものを別に作成して測定した。
この種結晶基板上に、Naフラックス法にて窒化ガリウム結晶を育成した。成長に用いた原料は、金属ガリウム、金属ナトリウムである。アルミナるつぼに金属ガリウム30g、金属ナトリウム44g、をそれぞれ充填して、炉内温度900℃・圧力4MPaにて窒化ガリウム単結晶を約30時間育成した。るつぼから取り出したところ、透明な単結晶が成長しており、すべての基板表面に窒化ガリウム結晶層5が100μmの厚さで堆積していた。
次いで、窒化ガリウム結晶層5の表面をダイヤモンド砥粒で研磨し、研磨後の窒化ガリウム結晶層5Aの厚さを25μmとした。
この複合基板をMOCVD炉内に入れ、水素とアンモニアガスの混合雰囲気中で1080℃にまで昇温し、その温度にてTMG、アンモニア原料としてGaN層を2μmの厚さに成長させた後、モノシランを原料ガスに混入させ、n−GaN層を2μmの厚さに成長させた。その後、原料を止め、基板温度を室温まで下げた後、基板を取り出した。
この結果、得られたLED構造には筋状異常は見られず、全面にわたって成膜されていた。
実施例1と同様にして複合基板およびLED素子を作製した。
ただし、応力緩和層3の材質はInGaN層とし、成膜温度は800℃とし、層厚は0.2μmとした。下地層2、種結晶層4の転位密度は5×108cm−2であり、ヤング率は、299GPaであった。応力緩和層3の転位密度は2×109cm−2であり、ヤング率は244GPaであった。(応力緩和層のヤング率)/(種結晶層のヤング率)=0.816である。
この結果、得られたLED構造には筋状異常は見られず、全面にわたって成膜されていた。
実施例1と同様にして複合基板およびLED素子を作製した。
ただし、応力緩和層の材質はAlGaN層(Al組成20%)とし、成膜温度は1080℃とし、層厚は30nmとした。下地層2、種結晶層4の転位密度は5×108cm−2であり、ヤング率は299GPaであった。応力緩和層3の転位密度は5×109cm−2であり、ヤング率は285GPaであった。(応力緩和層のヤング率)/(種結晶層のヤング率)は0.953である。
この結果、得られたLED構造には筋状異常は見られず、全面にわたって成膜されていた。
実施例1と同様にして複合基板およびLED素子を作製した。
ただし、応力緩和層3の材質はGaN層とし、成膜温度は800℃とし、層厚は0.3μmとした。下地層2、種結晶層4の転位密度は5×108cm−2であり、ヤング率は299GPaであった。応力緩和層3の転位密度は1.5×1010cm−2であり、ヤング率は279GPaであった。(応力緩和層のヤング率)/(種結晶層のヤング率)は0.933である。
この結果、得られたLED構造には筋状異常は見られず、全面にわたって成膜されていた。
実施例1と同様にして複合基板およびLED素子を作製した。
ただし、応力緩和層の材質はGaN層とし、成膜温度は500℃とし、層厚は0.1μmとした。下地層2、種結晶層4の転位密度は5×108cm−2であり、ヤング率は299GPaであった。応力緩和層3の転位密度は5×1010cm−2であり、ヤング率は262GPaであった。(応力緩和層のヤング率)/(種結晶層のヤング率)は0.876である。
この結果、得られたLED構造には筋状異常は見られず、全面にわたって成膜されていた。
実施例1と同様にして複合基板およびLED素子を作製した。
ただし、応力緩和層の材質は AlInGaNとし、成膜温度は900℃とした。下地層2、種結晶層4の転位密度は5×108cm−2であり、ヤング率は299GPaであった。応力緩和層3の転位密度は5×109cm−2であり、ヤング率は279GPaであった。(応力緩和層のヤング率)/(種結晶層のヤング率)は0.933である。
この結果、得られたLED構造には筋状異常は見られず、全面にわたって成膜されていた。
実施例1と同様にして複合基板およびLED素子を作製した。
下地層2、種結晶層4の転位密度は5×108cm−2であり、ヤング率は299GPaであった。
ただし、応力緩和層3の材質はGaN層とし、成膜温度は980℃とし、層厚は0.3μmとした。この結果、応力緩和層3の転位密度は1×109 cm−2であり、ヤング率は282GPaであった。(応力緩和層のヤング率)/(種結晶層のヤング率)は0.943である。
更に、フラックス法で成膜した窒化ガリウム結晶層の厚さ(研磨前)を300μmとした。
この結果、得られたLED構造には筋状異常は見られず、全面にわたって成膜されていた。
実施例1と同様にして複合基板およびLED素子を作製した。
ただし、応力緩和層3は設けなかった。下地層2、種結晶層4の転位密度は5×108cm−2であった。
この結果、得られたLED構造には筋状異常が発生していた。また、筋状異常の直下において複合基板にクラックが見られた。
種結晶層の転位密度が高い複合基板およびLED素子を作製した。
直径2インチの単結晶サファイアc面基板1をMOCVD炉(有機金属気相成長炉)内に入れ、水素雰囲気中で1150℃にて10分間加熱し、表面のクリーニングを行った。次いで、基板温度を500℃まで下げ、TMG(トリメチルガリウム)、アンモニアを原料として窒化ガリウム層を30nmの厚さに成長させた。次いで、基板温度を1080℃まで上げ、TMGとアンモニアとを原料として窒化ガリウム層を1μmの厚さに成長させ、下地層2を形成した。この時のIII族元素の原料(TMG)に対するV族元素の原料(アンモニア)の供給量のモル比(以下「V/III」)は、2000とした。
次いで、実施例1と同様にしてフラックス法によって窒化ガリウム結晶層5を形成し、ダイヤモンド砥粒で研磨して厚さ25μmの窒化ガリウム結晶層5Aを形成し、複合基板を得た。
実施例1と同様にして複合基板およびLED素子を作製した。
ただし、応力緩和層の材質はAlGaN層(Al組成35%)とし、成膜温度は1080℃とし、層厚は30nmとした。下地層2、種結晶層4の転位密度は5×108cm−2であり、ヤング率は299GPaであった。
応力緩和層3の転位密度は9×109cm−2であり、ヤング率は322GPaであった。(応力緩和層のヤング率)/(種結晶層のヤング率)は1.077である。
この結果、得られたLED構造には筋状異常が発生していた。また、筋状異常の直下において複合基板にクラックが見られた。
すなわち、応力緩和層の転位密度が高くとも、そのヤング率が大きいと、やはり筋状異常が発生してしまうことが判明した。
実施例1と同様にして複合基板およびLED素子を作製した。
ただし、応力緩和層の材質はInGaNとし、成膜温度は900℃とし、層厚は0.2μmとした。下地層2、種結晶層4の転位密度は5×108cm−2であり、ヤング率は299GPaであった。応力緩和層3の転位密度は3×108cm−2であり、ヤング率は278GPaであった。(応力緩和層のヤング率)/(種結晶層のヤング率)は0.930である。
本例では、応力緩和層の転位密度が相対的に低いが、ヤング率も相対的に低くなっている。
すなわち、応力緩和層の転位密度が低くとも、そのヤング率が低いと、筋状異常が見られないことが判明した。
本発明は、高品質であることが要求される技術分野、例えばポスト蛍光灯といわれている高演色性の青色LEDや高速高密度光メモリ用青紫レーザ、ハイブリッド自動車用のインバータに用いるパワーデバイスなどに用いることができる。
Claims (11)
- 種結晶成長用基板、前記種結晶成長用基板上に設けられた応力緩和層、前記応力緩和層上に形成された窒化ガリウム結晶からなる種結晶層、およびこの種結晶層上に結晶成長した厚さ300μm以下の窒化ガリウム結晶層を備える複合基板であって、
前記応力緩和層が13族元素窒化物からなり、前記応力緩和層のヤング率が前記種結晶層のヤング率よりも低く、前記種結晶層の転移密度Aに対する前記応力緩和層の転移密度Bの比(B/A)が2以上であることを特徴とする、複合基板。 - 前記種結晶層の転移密度Aに対する前記応力緩和層の転移密度Bの比(B/A)が10以上であることを特徴とする、請求項1記載の複合基板。
- 前記応力緩和層の転位密度が1×109cm−2以上であることを特徴とする、請求項1または2記載の複合基板。
- 前記応力緩和層のヤング率の前記種結晶層のヤング率に対する比率(前記応力緩和層のヤング率/前記種結晶層のヤング率)が0.96以下であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一つの請求項に記載の複合基板。
- 前記応力緩和層のヤング率が285GPa以下であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一つの請求項に記載の複合基板。
- 前記窒化ガリウム結晶層が研磨されていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一つの請求項に記載の複合基板。
- 前記種結晶成長用基板がサファイアからなることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一つの請求項に記載の複合基板。
- 前記応力緩和層が、AlInGaN、InGaN、AlGaN、InAlN、InN、GaNおよびAlNからなる群より選ばれた一種の材質からなることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一つの請求項に記載の複合基板。
- 前記応力緩和層が、AlInGaN、InGaN、AlGaN、InAlN、InN、GaNおよびAlNからなる群より選ばれた二種以上の材質からなる超格子構造体からなることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一つの請求項に記載の複合基板。
- 請求項1〜9のいずれか一つの請求項に記載の複合基板、および前記窒化ガリウム結晶層上に気相法によって形成された13族元素窒化物からなる機能層を備えていることを特徴とする、機能素子。
- 前記機能層が発光機能を有することを特徴とする、請求項10記載の機能素子。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261730640P | 2012-11-28 | 2012-11-28 | |
US61/730,640 | 2012-11-28 | ||
PCT/JP2013/081335 WO2014084105A1 (ja) | 2012-11-28 | 2013-11-14 | 複合基板および機能素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2014084105A1 JPWO2014084105A1 (ja) | 2017-01-05 |
JP6117821B2 true JP6117821B2 (ja) | 2017-04-19 |
Family
ID=50827745
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014550145A Active JP6117821B2 (ja) | 2012-11-28 | 2013-11-14 | 複合基板および機能素子 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6117821B2 (ja) |
TW (1) | TWI589017B (ja) |
WO (1) | WO2014084105A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6604205B2 (ja) * | 2016-01-05 | 2019-11-13 | 国立大学法人大阪大学 | 窒化物結晶基板の製造方法および結晶成長用基板 |
US10128107B1 (en) * | 2017-08-31 | 2018-11-13 | Rfhic Corporation | Wafers having III-Nitride and diamond layers |
WO2024127513A1 (ja) * | 2022-12-13 | 2024-06-20 | 日本碍子株式会社 | Iii族元素窒化物基板およびiii族元素窒化物基板の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4422473B2 (ja) * | 2003-01-20 | 2010-02-24 | パナソニック株式会社 | Iii族窒化物基板の製造方法 |
JP2008001540A (ja) * | 2006-06-21 | 2008-01-10 | Mitsubishi Cable Ind Ltd | 窒化物半導体結晶の製造方法 |
JP4886711B2 (ja) * | 2008-02-04 | 2012-02-29 | 日本碍子株式会社 | Iii族窒化物単結晶の製造方法 |
JP2009227545A (ja) * | 2008-03-25 | 2009-10-08 | Nippon Light Metal Co Ltd | 光デバイス用基板及びその製造方法 |
-
2013
- 2013-11-13 TW TW102141203A patent/TWI589017B/zh active
- 2013-11-14 WO PCT/JP2013/081335 patent/WO2014084105A1/ja active Application Filing
- 2013-11-14 JP JP2014550145A patent/JP6117821B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2014084105A1 (ja) | 2017-01-05 |
TW201438274A (zh) | 2014-10-01 |
TWI589017B (zh) | 2017-06-21 |
WO2014084105A1 (ja) | 2014-06-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4849296B2 (ja) | GaN基板 | |
KR101321654B1 (ko) | Ⅲ족 질화물 반도체 성장용 기판, ⅲ족 질화물 반도체 에피택셜 기판, ⅲ족 질화물 반도체 소자 및 ⅲ족 질화물 반도체 자립 기판, 및 이들의 제조 방법 | |
JP4886711B2 (ja) | Iii族窒化物単結晶の製造方法 | |
JP5274785B2 (ja) | AlGaN結晶層の形成方法 | |
TWI689611B (zh) | Iii族氮化物積層體及具有該積層體之發光元件 | |
JP5979547B2 (ja) | エピタキシャルウェハ及びその製造方法 | |
KR20150054785A (ko) | 질화 알루미늄 기판 및 iii족 질화물 적층체 | |
JP6242941B2 (ja) | Iii族窒化物半導体及びその製造方法 | |
KR101178505B1 (ko) | 반도체 기판과 이의 제조 방법 | |
JP5805352B2 (ja) | 複合基板、その製造方法、機能素子および種結晶基板 | |
US9287453B2 (en) | Composite substrates and functional device | |
JP2010010613A (ja) | 積層体、自立基板製造用基板、自立基板およびこれらの製造方法 | |
JP2010073750A (ja) | 酸化亜鉛系半導体の成長方法及び半導体発光素子の製造方法 | |
JP2011051849A (ja) | 窒化物半導体自立基板とその製造方法 | |
JP2007053251A (ja) | Iii族窒化物結晶の形成方法、積層体、およびエピタキシャル基板 | |
JP6117821B2 (ja) | 複合基板および機能素子 | |
JP4633962B2 (ja) | 窒化物半導体基板の製造方法 | |
CN107002283B (zh) | 13族元素氮化物结晶基板及功能元件 | |
WO2022004046A1 (ja) | エピタキシャル結晶成長用自立基板および機能素子 | |
JP6004550B2 (ja) | 種結晶基板、複合基板および機能素子 | |
WO2016093033A1 (ja) | 13族元素窒化物結晶層および機能素子 | |
JP2010251743A (ja) | Iii族窒化物半導体成長用基板、iii族窒化物半導体自立基板、iii族窒化物半導体素子、ならびに、これらの製造方法 | |
JP2010195678A (ja) | Iii族窒化物結晶の形成方法、積層体、およびエピタキシャル基板 | |
JP2010278470A (ja) | Iii族窒化物半導体成長用基板、iii族窒化物半導体エピタキシャル基板、iii族窒化物半導体素子およびiii族窒化物半導体自立基板、ならびに、これらの製造方法 | |
JP2002237458A (ja) | 窒化物半導体基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170217 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170308 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170323 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6117821 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |