JP6116593B2 - 放射源及びリソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
但し、λは使用される放射の波長、NAはパターンを印刷するために使用される投影システムの開口数、k1はレイリー定数とも呼ばれるプロセス依存調整係数であり、CDは印刷されるフィーチャのフィーチャサイズ(すなわちクリティカルディメンション)である。式(1)から、フィーチャの印刷可能な最小サイズの縮小は3つの方法で達成できることが分かる。すなわち、露光波長λの短縮によるもの、開口数NAの増加によるもの、又はk1の値の減少によるものである。
放射ビームB(例えば、EUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えば、マスク又はレチクル)MAを支持するように構築され、パターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第1ポジショナPMに接続された支持構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、基板を正確に位置決めするように構成された第2ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ以上のダイを含む)上にパターニングデバイスMAによって放射ビームBへ付与されたパターンを投影するように構成された投影システム(例えば、反射投影システム)PSと、を備える。
1.ステップモードにおいては、支持構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が1回でターゲット部分Cに投影される(すなわち単一静的露光)。次に、別のターゲット部分Cを露光することができるように、基板テーブルWTがX方向及び/又はY方向に移動させられる。
2.スキャンモードにおいては、支持構造(例えばマスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち単一動的露光)。支持構造(例えばマスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)及び像反転特性によって判定することができる。
3.別のモードにおいては、支持構造(例えばマスクテーブル)MTは、プログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルWTを移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Cに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルWTを移動させるごとに、又はスキャン中に連続する放射パルス間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用できる。
Claims (12)
- 燃料小滴流を生成する燃料小滴エミッタを備える放射源燃料小滴流ジェネレータであって、
前記燃料小滴エミッタが、前記燃料小滴が第1方向に放出される始動用の第1位置と、小滴流が第2方向で生成される定常状態で使用される第2位置との間で移動させられ、
前記燃料小滴流ジェネレータが、前記燃料小滴エミッタに接続された燃料リザーバを備え、前記リザーバが前記エミッタの縦軸に対して角度をなして配置された前記リザーバの縦軸を中心に回転可能であり、前記リザーバの縦軸を中心とする回転が前記第1位置と第2位置との間で前記エミッタを移動させる、
放射源燃料小滴流ジェネレータ。 - 前記第1位置が、前記小滴流が下方向に生成される垂直位置である、請求項1に記載の放射源燃料小滴流ジェネレータ。
- 前記第2位置が、前記小滴流が実質的に水平方向に生成される実質的な水平方向である、請求項1又は2に記載の放射源燃料小滴流ジェネレータ。
- 前記燃料小滴を検査する小滴可視化システムをさらに備える、請求項1〜3のいずれか1項に記載の放射源燃料小滴流ジェネレータ。
- 前記可視化システムが、前記小滴の像を記録して小滴パラメータを決定する、請求項4に記載の放射源燃料小滴流ジェネレータ。
- 前記可視化システムが、カメラと、顕微鏡対物レンズと、ストロボスコープと、を備える、請求項5に記載の放射源燃料小滴流ジェネレータ。
- 前記可視化システムが2方向から前記小滴を視認する、請求項6に記載の放射源燃料小滴流ジェネレータ。
- 前記可視化システムが前記燃料小滴エミッタにフィードバック制御を提供する、請求項4〜7のいずれか1項に記載の放射源燃料小滴流ジェネレータ。
- 前記可視化システムが、小滴流が所定の特性を満たす定常状態を確立したことを判定すると、前記燃料小滴流ジェネレータは前記第1位置と第2位置との間で回転させられる、請求項8に記載の放射源燃料小滴流ジェネレータ。
- 前記リザーバは歯付きフランジを備え、前記リザーバが、前記歯付きフランジと係合するピニオンホイールを駆動する電動モータによって回転駆動される、請求項1〜9のいずれか1項に記載の放射源燃料小滴流ジェネレータ。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の燃料小滴流ジェネレータを備える放射源。
- 請求項11に記載の放射源を備えたリソグラフィ装置であって、放射ビームを調整する照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターニングされた放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持する支持体と、基板を保持する基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分に投影する投影システムと、をさらに備えるリソグラフィ装置。
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