JP6102382B2 - Gas wiping device - Google Patents

Gas wiping device Download PDF

Info

Publication number
JP6102382B2
JP6102382B2 JP2013055049A JP2013055049A JP6102382B2 JP 6102382 B2 JP6102382 B2 JP 6102382B2 JP 2013055049 A JP2013055049 A JP 2013055049A JP 2013055049 A JP2013055049 A JP 2013055049A JP 6102382 B2 JP6102382 B2 JP 6102382B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
baffle plate
splash
gas wiping
fluid resistance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2013055049A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014181361A (en
Inventor
正人 景山
正人 景山
義広 末宗
義広 末宗
大橋 徹
徹 大橋
陽子 天野
陽子 天野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Corp filed Critical Nippon Steel Corp
Priority to JP2013055049A priority Critical patent/JP6102382B2/en
Publication of JP2014181361A publication Critical patent/JP2014181361A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6102382B2 publication Critical patent/JP6102382B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Coating With Molten Metal (AREA)

Description

本発明は、例えば、帯状材として鋼帯を、また液体浴として溶融亜鉛などのめっき浴を想定し、鋼帯に溶融めっきを行うに際し、鋼帯が溶融めっき浴から引き上げられた後、余分な溶融めっき金属をガスワイピングで払拭する方式の連続溶融めっきプロセスにおいて、ガスワイピング時のスプラッシュ発生を軽減し得るガスワイピング装置に関する。   The present invention assumes, for example, a steel strip as a strip material and a plating bath such as hot dip zinc as a liquid bath, and when performing hot-dip plating on the steel strip, after the steel strip has been pulled out of the hot-dip bath, The present invention relates to a gas wiping apparatus capable of reducing the occurrence of splash during gas wiping in a continuous hot dip plating process in which hot dip metal is wiped by gas wiping.

通常、鋼帯の連続溶融めっきプロセスにおいては、めっき浴に浸漬して垂直に引き上げた鋼帯の両面に、引き上げ直後、一対のスリット状のワイピングノズルから気体(不活性ガス、空気等)を吹き付けて、鋼帯に付着した未凝固の溶融めっき金属を除去し、鋼帯面におけるめっき付着量を調節する。   Normally, in the continuous hot dip plating process of steel strip, gas (inert gas, air, etc.) is sprayed from a pair of slit-shaped wiping nozzles immediately after pulling on both sides of the steel strip that has been immersed in a plating bath and pulled up vertically. Then, the unsolidified hot dip plating metal adhering to the steel strip is removed, and the plating adhesion amount on the steel strip surface is adjusted.

このとき、鋼帯端部に付着している未凝固の溶融めっき金属が、鋼帯端部から飛沫(以後スプラッシュと呼ぶ)となって飛散し、ワイピングノズルや、鋼帯のめっき面に付着する。スプラッシュがワイピングノズルに付着すると、ノズルが閉塞するなどして、めっき金属の除去が充分に行われず、めっき面外観が著しく損なわれる。また、スプラッシュそのものが鋼帯のめっき面に付着し、そのまま凝固しても、めっき面の外観が損なわれる。   At this time, the unsolidified hot-dipped metal adhering to the end of the steel strip scatters from the end of the steel strip as splash (hereinafter referred to as splash) and adheres to the wiping nozzle or the plated surface of the steel strip. . If the splash adheres to the wiping nozzle, the nozzle is closed, and the plating metal is not sufficiently removed, so that the appearance of the plated surface is significantly impaired. Moreover, even if the splash itself adheres to the plated surface of the steel strip and solidifies as it is, the appearance of the plated surface is impaired.

また、上記の連続溶融めっきプロセスにおいて、生産量を増加させるには、鋼帯通板速度を増加させればよいが、鋼帯通板速度の増加により、鋼帯による溶融めっき金属の持ちあげ量が増大し、めっき付着量を一定範囲内に制御するためにワイピングガス圧力をより高圧に設定せざるを得ない。それによって、ワイピングガス噴流の乱流成分が大きくなるため、スプラッシュが大幅に増加し、良好なめっき面外観を維持できなくなる。すなわち、スプラッシュの発生が、上記の溶融亜鉛めっきプロセスの生産性の上限制約となっている。   Also, in the above continuous hot dipping process, to increase the production rate, the steel strip threading speed should be increased. However, by increasing the steel strip threading speed, the amount of hot dip plated metal lifted by the steel strip is increased. , And the wiping gas pressure must be set to a higher pressure in order to control the plating adhesion amount within a certain range. As a result, the turbulent flow component of the wiping gas jet increases, so that the splash increases significantly and a good plated surface appearance cannot be maintained. That is, the occurrence of splash is an upper limit on the productivity of the hot dip galvanizing process.

それ故、これまで、スプラッシュの飛散や付着を防止又は抑制するため、上記ワイピングノズルに加えて、鋼帯両端部近傍に追加の気体ノズルを設ける方法や、鋼帯両端部延長面上に位置するバッフルプレートを設けるといった、様々な方法が開示されており、特許文献1において、先行技術例としてその代表的なものが幾つか提示されている。   Therefore, until now, in order to prevent or suppress splash splash and adhesion, in addition to the wiping nozzle, a method of providing an additional gas nozzle near the steel strip ends, or on the extension surfaces of the steel strip ends. Various methods, such as providing a baffle plate, are disclosed, and in Patent Document 1, some representative examples are presented as prior art examples.

しかし、特許文献1にて指摘されたように、それら先行技術例は、ワイピングノズルから吹きつけられる気体の乱れが原因で発生すると考えられるスプラッシュを必ずしも安定的に抑制できない等、不十分な点が多々あった。   However, as pointed out in Patent Document 1, these prior art examples have insufficient points such as that splash that is considered to be generated due to turbulence of gas blown from the wiping nozzle cannot always be stably suppressed. There were many.

そこで、特許文献1では、より改良されたバッフルプレートによりガスの乱れを低減させることでスプラッシュの発生を抑制させる方法を開示している。すなわち、特許文献1には、図4に示すように、鋼帯Sの幅方向両側端部近傍の延長面上に、ガスワイピングノズル1から噴射されたガス同士の衝突を遮断するバッフルプレート3を設け、該バッフルプレート3の板厚は、めっき浴方向に向かって薄くなるようにするとともに、該バッフルプレート3のガスワイピングノズル1から噴射されたガス同士が衝突する位置よりも上方に、該バッフルプレート3の厚みよりも幅が広い邪魔板4を取り付けることを特徴とする溶融金属めっき鋼帯の製造方法が開示されている。   Therefore, Patent Document 1 discloses a method of suppressing the occurrence of splash by reducing gas turbulence with a more improved baffle plate. That is, in Patent Document 1, as shown in FIG. 4, a baffle plate 3 that blocks the collision between gases injected from the gas wiping nozzle 1 is provided on an extended surface in the vicinity of both ends of the steel strip S in the width direction. The baffle plate 3 is formed so that the thickness of the baffle plate 3 decreases in the plating bath direction, and the baffle plate 3 is positioned above the position where the gas jetted from the gas wiping nozzle 1 collides with the baffle plate 3. A method for manufacturing a hot-dip metal-plated steel strip is disclosed in which a baffle plate 4 having a width wider than the thickness of the plate 3 is attached.

特許第4816105号Patent No. 4816105

特許文献1に開示された方法に関し、そのスプラッシュ抑制効果を本願発明者らが実験により確認したところ、邪魔板4とガスワイピングノズル1との位置関係によっては、十分なスプラッシュ抑制効果が得られない場合があるという不都合があることが判明した。   Regarding the method disclosed in Patent Document 1, when the inventors of the present invention confirmed the splash suppression effect by experiments, depending on the positional relationship between the baffle plate 4 and the gas wiping nozzle 1, a sufficient splash suppression effect cannot be obtained. It turned out to be inconvenient.

ここで、本願発明者らは、このような不都合が生じる原因を解明すべく、図4に示した特許文献1に開示されたガスワイピング装置を溶融亜鉛めっきラインに設置し、邪魔板4とガスワイピングノズル1との位置関係を系統立てて変更し、スプラッシュ抑制効果を実験的に確認調査したところ、次に示す知見を得た。   Here, in order to elucidate the cause of such inconvenience, the inventors of the present application installed the gas wiping device disclosed in Patent Document 1 shown in FIG. When the positional relationship with the wiping nozzle 1 was systematically changed and the splash suppression effect was experimentally confirmed and investigated, the following knowledge was obtained.

最初に、本願発明者らが行った効果確認実験方法について、その概要を説明する。   First, an outline of the effect confirmation experiment method performed by the present inventors will be described.

実験にて変化させた邪魔板4とガスワイピングノズル1との位置関係について、図5を用いて示す。図5は、特許文献1に開示された方法のガスワイピングノズル1およびバッフルプレート3、邪魔板4を鋼帯Sの側方断面方向から見た図であり、ガスワイピングノズル1、バッフルプレート3、邪魔板4、鋼帯Sの配置を模式的に示す。本願発明者らが行った効果確認実験では、邪魔板4の幅B(mm)、邪魔板4の下面とガスワイピングノズル1のガス噴出口上端までの高さ方向距離H(mm)、ワイピングノズル1から鋼帯Sまでの距離D(mm)を種々変更した。   FIG. 5 shows the positional relationship between the baffle plate 4 and the gas wiping nozzle 1 changed in the experiment. FIG. 5 is a view of the gas wiping nozzle 1, the baffle plate 3, and the baffle plate 4 of the method disclosed in Patent Document 1 as viewed from the side cross-sectional direction of the steel strip S, and the gas wiping nozzle 1, the baffle plate 3, The arrangement of the baffle plate 4 and the steel strip S is schematically shown. In the effect confirmation experiment conducted by the present inventors, the width B (mm) of the baffle plate 4, the height direction distance H (mm) from the lower surface of the baffle plate 4 to the upper end of the gas outlet of the gas wiping nozzle 1, the wiping nozzle Various distances D (mm) from 1 to the steel strip S were changed.

ここで注意すべきは、幅B、距離D、高さ方向距離Hを変化させることにより、邪魔板4の端部とガスワイピングノズル1の上面との隙間間隔C(mm)も変化するという点である。後述するように、本願発明者らが行った確認実験により、この隙間間隔Cが、スプラッシュ抑制効果に大きく影響を与えるということが明らかになり、そのメカニズムを鋭意解明した結果、本発明を成すに至ったのである。   It should be noted that the gap distance C (mm) between the end of the baffle plate 4 and the upper surface of the gas wiping nozzle 1 is changed by changing the width B, the distance D, and the height direction distance H. It is. As will be described later, a confirmation experiment conducted by the inventors of the present application revealed that the gap C greatly affects the splash suppression effect. As a result of earnestly elucidating the mechanism, the present invention is achieved. It has come.

実験では、上記のように、幅B、距離D、高さ方向距離Hを種々変化させて(すなわち隙間間隔Cも変化させて)、鋼帯Sの通板時に発生したスプラッシュ量を評価した。発生したスプラッシュ量の評価は、図には示していないが、鋼帯Sの幅方向端部近傍に設置したスプラッシュ採取装置にて、一定時間採取しその重量を計測することにより行った。なお、本スプラッシュ採取装置で採取したスプラッシュの単位時間当たりの重量とスプラッシュによる外観不良発生頻度とは、正の相関がみられることが事前の検討により分かっている。すなわち、スプラッシュ採取装置で採取した単位時間の重量が少ないほど、スプラッシュ発生量が少なくなり、スプラッシュ抑制効果、すなわち鋼帯の表面品質向上効果が大きいといえる。   In the experiment, as described above, the width B, the distance D, and the height direction distance H were variously changed (that is, the gap interval C was also changed), and the amount of splash generated when the steel strip S was passed was evaluated. Although not shown in the figure, the amount of generated splash was evaluated by sampling for a certain period of time with a splash collecting device installed in the vicinity of the end of the steel strip S in the width direction and measuring the weight. In addition, it has been found from prior examination that there is a positive correlation between the weight per unit time of the splash collected by the splash collecting apparatus and the appearance defect occurrence frequency due to the splash. That is, it can be said that the smaller the weight per unit time collected by the splash collecting device, the smaller the amount of splash generated, and the greater the effect of suppressing the splash, that is, the effect of improving the surface quality of the steel strip.

以降、スプラッシュ採取装置で採取した単位時間当たりのスプラッシュ重量をスプラッシュ発生量と表記する。   Hereinafter, the splash weight per unit time collected by the splash collection device is referred to as a splash generation amount.

邪魔板4とガスワイピングノズル1との位置関係以外の実験条件は、特許文献1において開示された、好適とされる実施例11〜14とほぼ同等としている。すなわち、ワイピングノズルスリットギャップ0.8mm、溶融亜鉛浴からのノズル高さ420mm、溶融亜鉛浴温度460℃とし、鋼帯Sのサイズは、1.0mm厚×1.8m幅とした。バッフルプレート3の寸法は、縦50mm、幅200mmで、その形状は、めっき浴側が、めっき浴に向かって厚さが薄くなり、かつ、鋼帯Sの端部側が、鋼帯Sの端部に向かって厚さが薄くなる形状である。ワイピングガスの衝突位置はバッフルプレート3の上部から20mmの位置とした。また、バッフルプレート3と鋼帯Sとの距離は10mmとした。邪魔板4の幅Bも、特許文献1と同じく、幅を10mm、20mmと変え、厚さも5mmとした。   Experimental conditions other than the positional relationship between the baffle plate 4 and the gas wiping nozzle 1 are substantially the same as those of the preferred embodiments 11 to 14 disclosed in Patent Document 1. That is, the wiping nozzle slit gap was 0.8 mm, the nozzle height from the molten zinc bath was 420 mm, the molten zinc bath temperature was 460 ° C., and the size of the steel strip S was 1.0 mm thickness × 1.8 m width. The dimensions of the baffle plate 3 are 50 mm in length and 200 mm in width. The shape of the baffle plate 3 is such that the plating bath side becomes thinner toward the plating bath, and the end side of the steel strip S is at the end of the steel strip S. The shape becomes thinner toward the surface. The collision position of the wiping gas was 20 mm from the top of the baffle plate 3. The distance between the baffle plate 3 and the steel strip S was 10 mm. Similarly to Patent Document 1, the width B of the baffle plate 4 was changed to 10 mm and 20 mm, and the thickness was also 5 mm.

また、実験条件について留意すべき点として、特許文献1では、幅B(mm)と距離D(mm)の記載はあるものの、高さ方向距離H(mm)とワイピングノズル1の先端角度θ(°)の記載がないため、これら幅B、距離D、高さ方向距離H、先端角度θからほぼ幾何学的に定まる、隙間間隔C(mm)が不明な点がある。定性的には、特許文献1においても、実施例12と実施例13とで比較しているように、ガスワイピング装置の上から見た場合に邪魔板4の端部がワイピングノズル1噴射口に達するように設けることが好ましいことが提示されているが、具体的に隙間間隔Cの値にまでは言及していない。例えば、幅B、先端角度θが一定であっても、距離Dや高さ方向距離Hが大きくなれば、隙間間隔Cも大きくなる。後述するように、特許文献1にて開示された技術は、この隙間間隔Cを一定に保つことがなければ、安定したスプラッシュ防止効果が得られないということが、本願発明者らが発見した実験事実である。   In addition, as a point to be noted regarding the experimental conditions, in Patent Document 1, although the width B (mm) and the distance D (mm) are described, the height direction distance H (mm) and the tip angle θ of the wiping nozzle 1 ( Since there is no description of (°), there is an unknown point of clearance C (mm), which is geometrically determined from the width B, distance D, height direction distance H, and tip angle θ. Qualitatively, also in Patent Document 1, as compared in Example 12 and Example 13, when viewed from above the gas wiping device, the end portion of the baffle plate 4 becomes the wiping nozzle 1 injection port. Although it is suggested that it is preferable to provide the gap interval, the value of the gap interval C is not specifically mentioned. For example, even if the width B and the tip angle θ are constant, if the distance D or the height direction distance H is increased, the gap interval C is also increased. As will be described later, the technique disclosed in Patent Document 1 is an experiment that the present inventors have discovered that a stable splash prevention effect cannot be obtained unless the gap C is kept constant. It is a fact.

上記のような実験によって得られたスプラッシュ発生量の測定結果を、実験条件と供に、図8に示す。図8に示されるように、本検証実験では、距離Dを8mm、6mm、4mmと変え(特許文献1では、距離Dは8mmのみの場合を開示)、また、幅Bを20mm、10mmと変え、さらに、高さ方向距離Hを1〜10mmの間で幾つか変えることで、隙間間隔Cを0mm〜約6mmの間で変化させている。   The measurement results of the amount of splash generated by the above experiment are shown in FIG. 8 together with the experimental conditions. As shown in FIG. 8, in this verification experiment, the distance D is changed to 8 mm, 6 mm, and 4 mm (in Patent Document 1, the case where the distance D is only 8 mm is disclosed), and the width B is changed to 20 mm and 10 mm. Further, the gap distance C is changed between 0 mm and about 6 mm by changing the height direction distance H several times between 1 and 10 mm.

図6は、特許文献1に開示されたガスワイピング装置を用いて、本願発明者らが行ったスプラッシュ抑制効果確認実験の結果を示すグラフであり、図8に示した、スプラッシュ発生量を幅Bについてプロットしたものである。図6では、横軸を幅B(mm)で整理して示している。図6より、特許文献1にて開示されているように、ガスワイピング装置の上から見た場合に邪魔板4の端部がワイピングノズル1噴射口に達するように設けられた幅B=20mmの方が、そうでない幅B=10mmよりもスプラッシュ発生量は、少ないように見える。しかしながら、そのばらつきは大きく、安定的にスプラッシュ発生量を抑制しているとは言い難いことが分かる。   FIG. 6 is a graph showing the results of the splash suppression effect confirmation experiment conducted by the inventors of the present application using the gas wiping apparatus disclosed in Patent Document 1, and the amount of splash generation shown in FIG. Is plotted for. In FIG. 6, the horizontal axis is shown organized with a width B (mm). From FIG. 6, as disclosed in Patent Document 1, when viewed from above the gas wiping device, the width B = 20 mm provided so that the end of the baffle plate 4 reaches the wiping nozzle 1 injection port. On the other hand, the amount of splash generation seems to be less than the width B = 10 mm which is not so. However, the variation is large, and it is difficult to say that the amount of splash generation is stably suppressed.

一方、図7は、特許文献1に開示されたガスワイピング装置を用いて、本願発明者らが行ったスプラッシュ抑制効果確認実験の結果について、スプラッシュ発生量を隙間間隔Cで整理したもので、図6とは異なり、おおよそ一本の曲線に整理されていることが分かる。すなわち、幅B、距離D、高さ方向距離Hを様々に変化させて実験を行ったが、結局は、スプラッシュ発生量は、主に隙間間隔Cの値により支配されているということが分かる。しかも、図7から分かるように、隙間間隔Cが2mm前後、より詳しく言えば、隙間間隔C=1.5mm〜2.5mmといった極めて狭い範囲で、最もスプラッシュ抑制効果が大きくなることがわかった。   On the other hand, FIG. 7 shows the result of the splash suppression effect confirmation experiment conducted by the present inventors using the gas wiping device disclosed in Patent Document 1, and the amount of splash generation is organized by the gap interval C. FIG. It can be seen that, unlike 6, it is roughly organized into a single curve. That is, the experiment was performed by changing the width B, the distance D, and the height direction distance H in various ways, but it can be understood that the amount of splash generation is mainly governed by the value of the gap interval C. Moreover, as can be seen from FIG. 7, it has been found that the effect of suppressing the splash is the greatest in the extremely narrow range of the gap interval C of about 2 mm, more specifically, the gap interval C = 1.5 mm to 2.5 mm.

以上述べたように、本願発明者らが行った確認実験により、特許文献1にて開示されるバッフルプレート3では、隙間間隔Cが、スプラッシュ抑制効果に大きく影響を与えるということが明らかになり、この隙間間隔Cの値を適切に制御せねば、十分なスプラッシュ抑制効果を安定的に発揮できないという不都合があることが分かった。さらには、最も効果的な隙間間隔Cの値は、その範囲が約1.5mm〜2.5mmと狭く、極めて注意深くバッフルプレート3の設置をしなければならないという不都合があることも分かった。   As described above, in the baffle plate 3 disclosed in Patent Document 1, it is clear from the confirmation experiment conducted by the present inventors that the gap interval C greatly affects the splash suppression effect. It has been found that there is an inconvenience that a sufficient splash suppression effect cannot be stably exhibited unless the value of the gap interval C is appropriately controlled. Furthermore, it has been found that the most effective value of the gap distance C is as narrow as about 1.5 mm to 2.5 mm, and the baffle plate 3 must be installed very carefully.

一方、バッフルプレートは、一般的には、ワイピングノズルの両端上部に設けたサーボモーターによる幅方向位置制御装置からフレームを伸ばした先に取り付けられ、通板される鋼帯の幅に応じて鋼帯との接触を避けるように幅方向に移動するようになっており、特許文献1にて開示されるバッフルプレート3も同様である。この時、フレームに取り付けられたバッフルプレート3には、ワイピングノズル1のからのガス噴流による強い圧力を受けるためこのフレームにも強い曲げ力が働き、さらに、フレームやバッフルプレート3自身には高温のめっき浴や鋼帯Sからの輻射熱を受けるため熱ひずみを生じ、バッフルプレート3の正確な位置決めを困難なものとしている。すなわち正確な位置決めを行うには、ガス噴流による強い圧力を受けても曲がらない太いフレームや、熱ひずみを緩和するための冷却機構や、また、隙間間隔Cを正確に計測し、その大きさを精度よく一定に保つ制御装置が必要になり、設備コストが高くなる。そもそも、一般的にワイピングノズル1まわりは極めて狭く、大きなフレームや、冷却機構、隙間間隔Cの計測装置などを設置する余分な空間はほとんどなく、仮にそれらを設置したとすると、メンテナンス等の作業性が著しく悪くなる。すなわち、適正な隙間間隔Cを精度よく維持するには、コストがかかり、作業性も悪くなるという不都合があるのである。   On the other hand, the baffle plate is generally attached to the end of the frame extending from the width direction position control device by servo motors provided at the upper ends of both ends of the wiping nozzle. The baffle plate 3 disclosed in Patent Document 1 is also the same. At this time, the baffle plate 3 attached to the frame receives a strong pressure due to the gas jet from the wiping nozzle 1, so that a strong bending force acts on the frame, and the frame and the baffle plate 3 itself have a high temperature. Since it receives the radiant heat from the plating bath and the steel strip S, thermal distortion occurs, and it is difficult to accurately position the baffle plate 3. That is, in order to perform accurate positioning, a thick frame that does not bend even when subjected to strong pressure from a gas jet, a cooling mechanism for relaxing thermal strain, and a gap interval C are accurately measured and the size is measured. A control device that keeps the accuracy constant is required, which increases the equipment cost. In the first place, the wiping nozzle 1 is generally extremely narrow, and there is almost no extra space for installing a large frame, cooling mechanism, measuring device for the gap interval C, etc. Is significantly worse. That is, there is an inconvenience that maintaining an appropriate gap interval C with high accuracy is costly and the workability is deteriorated.

本発明は、係る知見に基づきなされたものであり、装置設置による設備コストが高くなること及び作業性が悪くなることを解消し、スプラッシュを安定的に抑制するガスワイピング装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made based on such knowledge, and an object of the present invention is to provide a gas wiping device that eliminates the increase in equipment cost and workability due to device installation and stably suppresses splash. And

上記課題を解決するために、液体浴中から連続的に引き上げられて進行する帯状材を挟み、液体浴面と同一高さで、かつ帯状材の幅方向に沿って配置され、帯状材の表面に向けてガスを噴出することにより、帯状材の表面に付着した液体の付着量を調節する、少なくとも一対の対向するガスワイピングノズルと、帯状材の幅方向の延長面上の帯状材の両側に設けられ、かつ、ワイピングノズルから噴出されたガスが帯状材表面に衝突するガス衝突点を含む高さに配置された一対のバッフルプレートと、ガスワイピングノズルから噴射されたガスがバッフルプレートに衝突する位置よりも上方で、かつ、ガスワイピングノズルとバッフルプレートとの間に、通気性を有する流体抵抗要素と、を備えることを特徴とする、ガスワイピング装置が提供される。 In order to solve the above-mentioned problem, a belt-like material that is continuously pulled up from the liquid bath is sandwiched, and is disposed at the same height as the liquid bath surface and along the width direction of the belt-like material. the towards by ejecting the gas, to adjust the adhesion amount of liquid adhering to the surface of the strip material, and the gas wiping nozzle of at least one pair of opposed, both sides of the strip material on the extended surface in the width direction of the strip material And a pair of baffle plates disposed at a height including the gas collision point where the gas ejected from the wiping nozzle collides with the surface of the belt-like material, and the gas ejected from the gas wiping nozzle collides with the baffle plate A gas wiping device comprising a fluid resistance element having air permeability between the gas wiping nozzle and the baffle plate. It is.

バッフルプレートは、対向するガスワイピングノズルから噴射されたガス噴流同士が、帯状材から外れた位置で衝突するのを防ぐよう配置される。また、流体抵抗要素は、強い渦を伴ってガス噴流がバッフルプレートに衝突することで生じる乱れをダンピング効果により減衰させるために設けられ、これによりガスワイピングノズルとバッフルプレートの隙間間隔に影響されず安定してスプラッシュの発生を抑制することが可能となる。   A baffle plate is arrange | positioned so that the gas jets injected from the gas wiping nozzle which opposes may collide in the position which remove | deviated from the strip | belt-shaped material. In addition, the fluid resistance element is provided to attenuate the turbulence caused by the collision of the gas jet against the baffle plate with a strong vortex by the damping effect, so that it is not affected by the gap distance between the gas wiping nozzle and the baffle plate. It is possible to stably suppress the occurrence of splash.

流体抵抗要素は、通気性を有する多孔体であってもよい。流体抵抗要素として多孔体を用いることで、隙間間隔に影響されずにダンピング効果によるスプラッシュ抑制効果が得られ、特に平均孔径が0.2mm〜1.3mmの範囲であれば、さらに良好なスプラッシュ抑制効果を得ることができる。   The fluid resistance element may be a porous body having air permeability. By using a porous body as a fluid resistance element, a splash suppression effect due to a damping effect can be obtained without being affected by the gap spacing, and even better splash suppression is achieved particularly when the average pore diameter is in the range of 0.2 mm to 1.3 mm. An effect can be obtained.

流体抵抗要素は、通気性を有する繊維質状体であってもよい。流体抵抗要素は、多数の流路と様々な大きさの流路径からなる。したがって、流行抵抗要素は、上記多孔体に限らず、例えば繊維質状体でも同様の効果を得ることができる。   The fluid resistance element may be a fibrous body having air permeability. The fluid resistance element includes a large number of flow paths and various sizes of flow paths. Therefore, the epidemic resistance element is not limited to the porous body, and the same effect can be obtained even with a fibrous body, for example.

本発明によれば、ガスワイピングノズルとバッフルプレートとで挟まれた空間に配置された流体抵抗要素によるダンピング効果により、強い渦を伴ったガス噴流がバッフルプレートに衝突する際に生じるガス流の乱れを減衰することで、安定的にスプラッシュ発生を抑制できる。   According to the present invention, turbulence of gas flow generated when a gas jet with a strong vortex collides with a baffle plate due to a damping effect by a fluid resistance element arranged in a space sandwiched between a gas wiping nozzle and a baffle plate. The occurrence of splash can be stably suppressed by attenuating.

また、本発明によれば、ガスワイピングノズルとバッフルプレートとで挟まれた空間に流体抵抗要素を配置するだけで安定的にスプラッシュ発生を抑制できるため、従来技術に比べて、スプラッシュ抑制にかかる設備コストを低減し、装置周辺での作業性を確保することができる。   In addition, according to the present invention, the occurrence of splash can be stably suppressed only by arranging the fluid resistance element in the space sandwiched between the gas wiping nozzle and the baffle plate. Cost can be reduced and workability around the device can be secured.

本発明の第1実施形態に係るガスワイピング装置を鋼帯の側方断面方向から見た説明図である。It is explanatory drawing which looked at the gas wiping apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention from the side cross-sectional direction of the steel strip. 本発明の第2実施形態に係るガスワイピング装置を鋼帯の側方断面方向から見た説明図である。It is explanatory drawing which looked at the gas wiping apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention from the side cross-sectional direction of the steel strip. 本発明の第2実施形態と従来とについて邪魔板の端部とガスワイピングノズルの上面との隙間間隔とスプラッシュ発生量との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the clearance gap between the edge part of a baffle plate and the upper surface of a gas wiping nozzle, and the amount of splash generation about 2nd Embodiment of this invention, and the past. 特許文献1に開示されたガスワイピング装置の鋼帯端部近傍部分を示す概略斜視図である。It is a schematic perspective view which shows the steel strip edge part vicinity part of the gas wiping apparatus disclosed by patent document 1. FIG. 特許文献1に開示されたガスワイピング装置を側方断面方向から見た図である。It is the figure which looked at the gas wiping apparatus disclosed by patent document 1 from the side cross-sectional direction. 特許文献1に開示されたガスワイピング装置を用いて、本願発明者らが行ったスプラッシュ抑制効果確認実験の結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of the splash suppression effect confirmation experiment which the present inventors performed using the gas wiping apparatus indicated by patent documents 1. 特許文献1に開示されたガスワイピング装置を用いて、本願発明者らが行ったスプラッシュ抑制効果確認実験の結果を示すグラフである。It is a graph which shows the result of the splash suppression effect confirmation experiment which the present inventors performed using the gas wiping apparatus indicated by patent documents 1. 引用文献1の効果確認試験の実験結果を示す表であるIt is a table | surface which shows the experimental result of the effect confirmation test of the cited reference 1. 第2実施形態のスプラッシュ抑制効果試験の実験結果を示す表である。It is a table | surface which shows the experimental result of the splash suppression effect test of 2nd Embodiment. 本願実施例に対する引用文献1の効果確認試験結果の比較例を示す表である。It is a table | surface which shows the comparative example of the effect confirmation test result of the cited reference 1 with respect to an Example of this application. 第1実施形態のスプラッシュ抑制効果試験の実験結果を示す表である。It is a table | surface which shows the experimental result of the splash suppression effect test of 1st Embodiment.

上記のように、特許文献1に記載の従来の技術では、スプラッシュ発生量は邪魔板4からガスワイピングノズル1の上面までの隙間間隔Cに影響を受けており、安定的にスプラッシュを抑制しようとするには、隙間間隔Cを狭い範囲で精度良く制御する必要があった。そこで、本願発明者らは上記知見に基づき、さらに鋭意研究を行ったところ、スプラッシュ発生量は、隙間間隔Cに本質的に影響を受けているわけでなく、バッフルプレート3や邪魔板4とガスワイピングノズル1とで挟まれた空間の、流体抵抗の大小に本質的に影響を受けていることを見出した。すなわち、ワイピングノズル1から噴出されたガスがバッファープレートに衝突した後、その一部は、邪魔板4とガスワイピングノズル1とで挟まれた空間を通って流れて行くが、この流れに作用する流体抵抗の大小がスプラッシュ発生量に影響することを見出したのである。このことは、例えば、邪魔板4の表面やガスワイピングノズル1の上面の粗度を変えたり、図2に示すがごとく、邪魔板4とガスワイピングノズル1とで挟まれた空間に通気性を有する多孔体やあるいは繊維質体といった通気抵抗を変化させる部材を配置したりすることなどにより、スプラッシュ発生量が変化することを示す。ここで翻ってみるに、そもそも、隙間間隔Cを増減させることは、まさに、邪魔板4とガスワイピングノズル1とで挟まれた空間の流路断面積を変化させることにより流体抵抗の大きさを変化させるための一つの手段であることに相当する。つまり、スプラッシュ抑制のためには、隙間間隔Cを増減させることが本質的ではなく、邪魔板4とガスワイピングノズル1とで挟まれた空間に流体抵抗を付与するということが本質であることが分かったのである。   As described above, in the conventional technique described in Patent Document 1, the amount of splash generation is affected by the gap interval C from the baffle plate 4 to the upper surface of the gas wiping nozzle 1, and attempts to suppress the splash stably. In order to achieve this, it is necessary to accurately control the gap interval C within a narrow range. Therefore, the inventors of the present application conducted further research based on the above findings. As a result, the amount of splash generation is not essentially affected by the gap interval C, but the baffle plate 3 and the baffle plate 4 and the gas. It has been found that the space sandwiched between the wiping nozzle 1 is essentially influenced by the magnitude of fluid resistance. That is, after the gas ejected from the wiping nozzle 1 collides with the buffer plate, a part of the gas flows through the space sandwiched between the baffle plate 4 and the gas wiping nozzle 1, but this flow acts. It was found that the magnitude of fluid resistance affects the amount of splash generated. For example, this may change the roughness of the surface of the baffle plate 4 or the upper surface of the gas wiping nozzle 1 or, as shown in FIG. It shows that the amount of splash generation changes by arranging a member that changes ventilation resistance such as a porous body or a fibrous body. In the first place, in the first place, increasing or decreasing the gap interval C is exactly the same as changing the flow path cross-sectional area of the space sandwiched between the baffle plate 4 and the gas wiping nozzle 1 to increase the magnitude of the fluid resistance. This corresponds to one means for changing. That is, in order to suppress the splash, it is not essential to increase or decrease the gap interval C, but it is essential to provide fluid resistance to the space sandwiched between the baffle plate 4 and the gas wiping nozzle 1. I understand.

さらに本願発明者らは、図2のように、ガスワイピングノズル1と邪魔板4とで挟まれた空間に、通気性を有する多孔体や繊維質体といった流体抵抗要素を配置することで、隙間間隔Cが、多少変化してもそのスプラッシュ抑制効果にあまり影響を与えず、安定的な操業を可能とすることを発見した。   Furthermore, as shown in FIG. 2, the inventors of the present application arrange a fluid resistance element such as a porous body or a fibrous body having air permeability in a space sandwiched between the gas wiping nozzle 1 and the baffle plate 4. It has been found that even if the interval C changes slightly, the splash suppression effect is not significantly affected, and stable operation is possible.

上記知見に関し、本願発明者らはそのメカニズムを次のように考えた。
一般的に、鋼帯Sの端部にてスプラッシュが発生しやすいのは、鋼帯Sが無い部分では、ガスワイピングノズル1から噴射されたガス噴流同士が衝突し、ガス流れに大きな乱れが生じるためと考えられている。特許文献1に開示されたようなバッフルプレート3を用いるスプラッシュ防止技術は、このガス噴流同士の衝突をバッフルプレート3により遮断することによりガス流れに大きな乱れを生じにくくしてスプラッシュを抑制しようとするものである。
With regard to the above findings, the inventors of the present application considered the mechanism as follows.
In general, splash is likely to occur at the end of the steel strip S. In the portion where the steel strip S is not present, gas jets jetted from the gas wiping nozzle 1 collide with each other, and the gas flow is greatly disturbed. It is considered because. The anti-splash technique using the baffle plate 3 as disclosed in Patent Document 1 tries to suppress the splash by blocking the collision between the gas jets with the baffle plate 3 so that the gas flow is not easily disturbed. Is.

確かに、バッフルプレート3によりガス噴流同士の衝突による乱れは軽減され、スプラッシュ抑制効果を発揮するものと考えられる。しかしながら、そもそも、ガスワイピングノズル1から噴出されるガス流れは、非常に高速であるため、ガスワイピングノズル1から噴出された直後から周囲のガスを巻きこんで、そのガス噴流外縁部に強い渦を伴っている。この強い渦は、ガス噴流とともにバッフルプレート3に衝突し、周囲に強い乱れを生じ、これもスプラッシュを発生する大きな原因となっていると考えられる。   Certainly, the baffle plate 3 reduces the turbulence caused by the collision between the gas jets, and it is considered that the splash suppressing effect is exhibited. However, since the gas flow ejected from the gas wiping nozzle 1 is very high in the first place, the surrounding gas is entrained immediately after it is ejected from the gas wiping nozzle 1 and a strong vortex is formed at the outer edge of the gas jet. Accompanying. This strong vortex collides with the baffle plate 3 together with the gas jet to cause a strong turbulence around it, which is considered to be a major cause of splash.

すなわち、スプラッシュ発生を抑制するためには、バッフルプレート3によるガス噴流同士の衝突による乱れを軽減させるだけでなく、強い渦を伴ってバッフルプレート3に衝突したガス噴流から生じる乱れも軽減させる必要があると考える。   That is, in order to suppress the occurrence of splash, it is necessary not only to reduce the turbulence caused by the collision between the gas jets caused by the baffle plate 3, but also to reduce the turbulence caused by the gas jet that collides with the baffle plate 3 with a strong vortex. I think there is.

本願発明者らは、図2のように、ガスワイピングノズル1と邪魔板4とで挟まれた空間に、通気性を有する多孔体や繊維質体等の流体抵抗要素を配置することで、上記の強い渦を伴ってバッフルプレート3’に衝突したガス噴流から生じる乱れを軽減し得るものと考えた。すなわち、強い渦を伴ったガス噴流がバッフルプレート3’に衝突することによって生じたガス噴流の乱れに対し、流体抵抗要素がダンパーとして働き、ガス噴流の乱れの運動エネルギーを熱エネルギーに変換し、結果的に乱れを減衰させると推測した。   As shown in FIG. 2, the inventors of the present application arrange a fluid resistance element such as a porous body or a fibrous body having air permeability in a space sandwiched between the gas wiping nozzle 1 and the baffle plate 4. It was thought that the turbulence caused by the gas jet impinging on the baffle plate 3 ′ with a strong vortex could be reduced. In other words, the fluid resistance element acts as a damper against the turbulence of the gas jet caused by the collision of the gas jet with a strong vortex against the baffle plate 3 ′, and converts the kinetic energy of the turbulence of the gas jet into thermal energy. As a result, it was assumed that the disturbance was attenuated.

特許文献1に開示されたように、バッフルプレート3の上部に邪魔板4を取り付けることは、結果として隙間間隔Cを減少させることで流体抵抗を大きくして、上記のダンピング効果を生じさせたものと考えられるが、本願発明者らの行った実験に示されるように、隙間間隔Cで流体抵抗をコントロールするのは、僅かな隙間間隔Cの違いにより、その流体抵抗が大きく変化すると考えられる。すなわち、先に図7を用いて説明した、特許文献1に開示されたガスワイピング装置を用いて本願発明者らが行ったスプラッシュ抑制効果確認実験の結果にて見られたように、隙間間隔Cが2mm前後で、最もスプラッシュ抑制効果が大きくなり、隙間間隔Cが、それより広くても、狭くてもスプラッシュ抑制効果が小さくなっていく。   As disclosed in Patent Document 1, attaching the baffle plate 4 to the upper part of the baffle plate 3 results in increasing the fluid resistance by reducing the gap interval C, and causing the above-described damping effect. However, as shown in the experiment conducted by the inventors of the present application, the fluid resistance is controlled by the gap interval C. It is considered that the fluid resistance greatly changes due to a slight difference in the gap interval C. That is, as seen in the result of the splash suppression effect confirmation experiment conducted by the inventors of the present application using the gas wiping device disclosed in Patent Document 1 described above with reference to FIG. Is about 2 mm, the splash suppression effect becomes the largest, and the splash suppression effect becomes smaller even if the gap interval C is wider or narrower.

隙間間隔Cが、2mmより広くなるにつれ、スプラッシュ抑制効果が小さくなっていく理由は、隙間間隔Cが広がるにつれ、流体抵抗が小さくなるからにほかならない。一方、隙間間隔Cが、2mmより狭くなるにつれ、スプラッシュ抑制効果が小さくなっていく理由は、流体抵抗が大きくなり過ぎ、邪魔板4の端部とガスワイピングノズル1の上面との隙間を流れる流体の流量が少なくなりすぎてしまい、ガス噴流の乱れの運動エネルギーを熱エネルギーに変換する割合が減少してしまったためと考える。すなわち、ガス噴流の乱れの運動エネルギーを熱エネルギーに変換する割合は、流体抵抗の大きさと、邪魔板4の端部とガスワイピングノズル1の上面との隙間を流れる流体の流量の両方に影響されるのである。そのため、結果として、隙間間隔Cが、2mm前後にてスプラッシュ抑制効果が極大となり、それより広くても、狭くてもスプラッシュ抑制効果が小さくなり、安定的にスプラッシュを抑制する事が出来なかったものと考えられる。   The reason why the splash suppression effect becomes smaller as the gap interval C becomes wider than 2 mm is that the fluid resistance decreases as the gap interval C increases. On the other hand, as the gap C becomes narrower than 2 mm, the splash suppression effect becomes smaller because the fluid resistance becomes too large and the fluid that flows through the gap between the end of the baffle plate 4 and the upper surface of the gas wiping nozzle 1. This is because the ratio of converting the kinetic energy of the turbulence of the gas jet into heat energy has decreased. That is, the rate of converting the turbulent kinetic energy of the gas jet into thermal energy is affected by both the magnitude of the fluid resistance and the flow rate of the fluid flowing through the gap between the end of the baffle plate 4 and the upper surface of the gas wiping nozzle 1. It is. Therefore, as a result, the splash suppression effect is maximized when the gap interval C is around 2 mm, and even if it is wider or narrower, the splash suppression effect is small, and the splash cannot be stably suppressed. it is conceivable that.

一方、ガスワイピングノズル1と邪魔板4とで挟まれた空間に、通気性を有する多孔体や繊維質体といった流体抵抗要素を配置した場合は、その流体抵抗要素の隙間に多数の細かい流路が形成されており、単に邪魔板4を置いただけよりも大きなダンピング効果を発揮すると考えられる。   On the other hand, when a fluid resistance element such as a porous body or a fibrous body having air permeability is arranged in a space sandwiched between the gas wiping nozzle 1 and the baffle plate 4, a large number of fine flow paths are provided in the gap between the fluid resistance elements. It is considered that a larger damping effect is exhibited than when the baffle plate 4 is simply placed.

さらに多孔体や繊維質体といったものの隙間に出来た多数の流路の流路径は一般的には分布を有し様々な大きさからなる。従って、ガスワイピングノズル1と邪魔板4とで挟まれた空間の流体抵抗も各々の流路経に応じた流体抵抗の合計となり、例え、流体抵抗要素の配置や形状等が少々変化しても、その合計された流体抵抗自体には大きな変化はなく、安定的なスプラッシュ抑制効果を発揮するものと考えられる。   Furthermore, the flow path diameters of a large number of flow paths formed in the gaps between porous bodies and fibrous bodies are generally distributed and have various sizes. Accordingly, the fluid resistance of the space sandwiched between the gas wiping nozzle 1 and the baffle plate 4 is also the sum of the fluid resistances according to the respective flow paths. For example, even if the arrangement or shape of the fluid resistance elements changes slightly. The total fluid resistance itself is not significantly changed, and is considered to exhibit a stable splash suppressing effect.

つまり、バッフルプレート3の上部に邪魔板4を取り付けただけで、流体抵抗要素を配置しなかった場合には、隙間間隔Cという、単一の流体抵抗制御因子しか存在せず、隙間間隔Cの僅かな違いがスプラッシュ抑制効果の大きな変動につながったと考えられる。   That is, when the baffle plate 4 is simply attached to the upper part of the baffle plate 3 and no fluid resistance element is arranged, there is only a single fluid resistance control factor, the gap interval C, and the gap interval C A slight difference is thought to have led to a large fluctuation in the splash suppression effect.

一方、ガスワイピングノズル1と邪魔板4とで挟まれた空間に、通気性を有する多孔体や繊維質体といった流体抵抗要素を配置した場合は、そもそも、流体抵抗要素の隙間に存在する多数の細かい流路の流路径は、隙間間隔Cよりもかなり小さく、単に邪魔板4を置いただけよりも大きなダンピング効果を発揮すると考えられる。さらに、その流路径は分布を有するために、隙間間隔Cの違いによる流体抵抗要素全体の流体抵抗値の変動が緩和され、結果として安定的なスプラッシュ防止効果が得られたものと考える。   On the other hand, when a fluid resistance element such as a porous body or a fibrous body having air permeability is arranged in a space sandwiched between the gas wiping nozzle 1 and the baffle plate 4, a large number of fluid resistance elements are present in the gaps in the first place. The flow path diameter of the fine flow path is considerably smaller than the gap interval C, and it is considered that a larger damping effect is exhibited than simply placing the baffle plate 4. Further, since the flow path diameter has a distribution, it is considered that the fluctuation of the fluid resistance value of the entire fluid resistance element due to the difference in the gap interval C is alleviated, and as a result, a stable splash preventing effect is obtained.

さらに、本願発明者らは、上記の流体抵抗要素によるスプラッシュ防止効果のメカニズムに鑑みて鋭意検討を加えた結果、そもそも邪魔板4は不要であることを見出した。すなわち、図1に示すがごとく、ガスワイピングノズル1とバッフルプレート3とで挟まれた空間に、通気性を有する多孔体や繊維質体といった流体抵抗要素を配置するだけで、同等のスプラッシュ抑制効果を発揮できることを見出したのである。これは、ガス噴流の乱れに対するダンピング効果が、主として流体抵抗要素によるものであるからと考えられる。   Furthermore, as a result of intensive studies in view of the mechanism of the splash preventing effect by the fluid resistance element, the inventors of the present application have found that the baffle plate 4 is unnecessary in the first place. That is, as shown in FIG. 1, the same splash suppression effect can be obtained simply by disposing a fluid resistance element such as a porous body or a fibrous body having air permeability in the space between the gas wiping nozzle 1 and the baffle plate 3. It was found that can be demonstrated. This is presumably because the damping effect on the turbulence of the gas jet is mainly due to the fluid resistance element.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

<第1の実施形態>
図1は、本発明の第1の実施形態に係るガスワイピング装置を鋼帯Sの側方断面方向から見た図である。図1は、特に鋼帯の溶融めっきプロセスにおけるガスワイピング装置を示しており、図1において、1はガスワイピングノズル、3’はバッフルプレート、2はガスワイピングノズル1とバッフルプレート3’とで挟まれた空間に配置された流体抵抗要素、Sは鋼帯である。また、図1中の二股に分かれた矢印付き曲線5は、ガスワイピングノズル1から噴射されたガスの平均的な流れを模式的にあらわしたものであり、矢印の向きが流れの方向を示しており、曲線はガスが流れる軌跡を表す。また曲線が二股に分かれているのは、その近傍でガス流れが、バッフルプレート3’に衝突し、流れが上下に分かれることを示している。
<First Embodiment>
FIG. 1 is a view of the gas wiping device according to the first embodiment of the present invention as viewed from the side sectional direction of the steel strip S. FIG. FIG. 1 shows a gas wiping apparatus, particularly in a hot-dip plating process of a steel strip. In FIG. 1, 1 is a gas wiping nozzle, 3 ′ is a baffle plate, 2 is a gas wiping nozzle 1 and a baffle plate 3 ′. The fluid resistance element S, which is disposed in the space, is a steel strip. Further, a curve 5 with an arrow divided into two in FIG. 1 schematically shows an average flow of the gas injected from the gas wiping nozzle 1, and the direction of the arrow indicates the flow direction. The curve represents the trajectory of gas flow. Further, the fact that the curve is divided into two branches indicates that the gas flow collides with the baffle plate 3 ′ in the vicinity thereof, and the flow is divided up and down.

ガスワイピングノズル1は、溶融めっき浴中から連続的に引き上げられて進行する鋼帯Sを挟むように対向して、めっき浴面から同じ高さで、かつ鋼帯Sの幅方向に沿って配置され、鋼帯Sの表面に向けてガスを噴出することにより、鋼帯Sの表面に付着した溶融めっき金属の付着量を調節する。   The gas wiping nozzle 1 is disposed so as to face the steel strip S that is continuously pulled up from the hot dipping bath, and is located at the same height from the plating bath surface and along the width direction of the steel strip S. Then, the amount of hot-dip plated metal adhering to the surface of the steel strip S is adjusted by jetting gas toward the surface of the steel strip S.

また、バッフルプレート3’は、鋼帯Sの幅方向の両側近傍の延長面上で、かつ、ワイピングノズル1から噴出されたガスが鋼帯Sの表面に衝突するガス衝突点を含む高さに配置されている。バッフルプレート3’の材質や厚みは、溶融めっき金属のめっき浴温度(溶融亜鉛では、420℃〜480℃程度)に耐えることが出来る材質で、ワイピングノズル1からのガス衝突圧(0.1×10Pa〜0.9×10Pa程度)に耐えられる強度を有する厚みであれば何でもよい。例えば、バッフルプレート3’の材質はステンレスで、その厚みは4〜10mm程度でよい。 Further, the baffle plate 3 ′ is on an extended surface near both sides in the width direction of the steel strip S and at a height including a gas collision point where the gas ejected from the wiping nozzle 1 collides with the surface of the steel strip S. Has been placed. The material and thickness of the baffle plate 3 ′ are materials that can withstand the plating bath temperature of molten plating metal (in the case of molten zinc, about 420 ° C. to 480 ° C.), and the gas collision pressure (0.1 × 10 5 Pa~0.9 × may be any thickness having a strength to withstand 10 about 5 Pa). For example, the material of the baffle plate 3 ′ may be stainless steel and the thickness thereof may be about 4 to 10 mm.

本発明を最も特徴付ける流体抵抗要素2は、ガスワイピングノズル1から噴射されたガスがバッフルプレート3’に衝突する位置よりも上方で、かつ、バッフルプレート3’の幅方向(図1においては紙面垂直方向)の全幅に、適切な方法でバッフルプレート3’に密着するように設置されている。ここで、図1では、流体抵抗要素2は、ガスワイピングノズル1の上面に対して密着している場合を示しているが、必ずしもガスワイピングノズル1の上面に対して密着している必要はない。また、流体抵抗要素2は、ガスワイピングノズル1から噴射されたガスがバッフルプレート3’に衝突する位置よりも上方に配置しているが、下方、又は上方と下方の両方に配置しても、スプラッシュ防止効果は得られるが、下方に配置した場合は、僅かに発生するスプラッシュが流体抵抗要素2に付着し堆積する可能性があり、長期運転時には、付着量が増え、堆積物の先端が通板される鋼帯Sに接触する可能性があるので望ましくない。   The fluid resistance element 2 that most characterizes the present invention is above the position where the gas jetted from the gas wiping nozzle 1 collides with the baffle plate 3 ′, and in the width direction of the baffle plate 3 ′ (in FIG. It is installed so as to be in close contact with the baffle plate 3 ′ by an appropriate method over the entire width in the direction). Here, FIG. 1 shows a case where the fluid resistance element 2 is in close contact with the upper surface of the gas wiping nozzle 1, but is not necessarily in close contact with the upper surface of the gas wiping nozzle 1. . Further, the fluid resistance element 2 is disposed above the position where the gas jetted from the gas wiping nozzle 1 collides with the baffle plate 3 ′, but may be disposed below or both above and below, Although a splash prevention effect can be obtained, if it is disposed below, a slight amount of splash may adhere to and accumulate on the fluid resistance element 2, and during long-term operation, the amount of adhesion increases and the tip of the deposit passes. Since there is a possibility of contact with the steel strip S to be plated, it is not desirable.

流体抵抗要素2の材質は、溶融めっき金属のめっき浴温度(溶融亜鉛では、420℃〜480℃程度)に耐えることが出来、ワイピングノズル1からのガス噴流に吹き飛ばされない程度の強度を有しており、適度な通気性を有しておればよい。例えば、流体抵抗要素2は、金属多孔体やセラミックスの焼結体といった多孔体や、繊維状の金属やガラス繊維など高温に耐えられる材質で、通気性を有するものであればよい。本発明では、もっぱら金属多孔体(例えば、セルメット(登録商標))を用いた。この金属多孔体の流路径(この場合は孔径とみなす)は、様々な大きさのものが市販されているが、最もスプラッシュ抑制に効果的であったものは、平均の孔径が0.2mm〜1.3mmのものであった。   The material of the fluid resistance element 2 is capable of withstanding the plating bath temperature of molten plating metal (about 420 ° C. to 480 ° C. in the case of molten zinc), and has a strength that is not blown off by the gas jet from the wiping nozzle 1. Therefore, it is only necessary to have appropriate air permeability. For example, the fluid resistance element 2 may be any material that can withstand high temperatures such as a porous body such as a porous metal body or a sintered ceramic body, a fibrous metal or glass fiber, and has air permeability. In the present invention, a metal porous body (for example, Celmet (registered trademark)) is exclusively used. As for the flow path diameter of this metal porous body (in this case, it is regarded as the pore diameter), those having various sizes are commercially available, but the average pore diameter is 0.2 mm to the most effective for suppressing the splash. It was 1.3 mm.

<第2の実施形態>
図2は、本発明の第2の実施形態に係るガスワイピング装置を鋼帯Sの側方断面方向から見た図である。図2において、1はガスワイピングノズル、3’はバッフルプレート、4は邪魔板、2は流体抵抗要素、Sは鋼帯である。本実施形態に係るガスワイピング装置は、第1の実施形態と比較してバッフルプレート3’に邪魔板4も設けた点が異なる。また、図1と同様にガスワイピングノズル1から噴射されたガスの平均的な流れを示す。本実施形態に係るバッフルプレート3’は、図2に示すようにその厚みは均一のものでよい。特許文献1では、バッフルプレート3の板厚は、図4、図5に示したように、その板厚は、めっき浴方向に向かって薄くすることで、ガスの乱れを抑えることが可能であるとして推奨されているが、本発明においては、本発明を最も特徴付ける流体抵抗要素2によるガス乱れ抑制効果により、必ずしもそのようにする必要はない。
<Second Embodiment>
FIG. 2 is a view of the gas wiping device according to the second embodiment of the present invention as viewed from the side sectional direction of the steel strip S. In FIG. 2, 1 is a gas wiping nozzle, 3 'is a baffle plate, 4 is a baffle plate, 2 is a fluid resistance element, and S is a steel strip. The gas wiping apparatus according to the present embodiment is different from the first embodiment in that the baffle plate 3 ′ is also provided with a baffle plate 4. Moreover, the average flow of the gas injected from the gas wiping nozzle 1 is shown like FIG. The baffle plate 3 ′ according to this embodiment may have a uniform thickness as shown in FIG. In Patent Document 1, as shown in FIGS. 4 and 5, the thickness of the baffle plate 3 is reduced toward the plating bath direction, so that gas disturbance can be suppressed. In the present invention, it is not always necessary to do so because of the effect of suppressing gas turbulence by the fluid resistance element 2 that characterizes the present invention.

上記、二つの実施形態を示したが、先に述べたように、図2の第2実施形態で示されるような邪魔板4は、本質的には不要で、本発明の本質的な特徴は、図1に示すように、ガスワイピングノズル1とバッフルプレート3’とで挟まれた空間に配置された流体抵抗要素2にある。以下に、スプラッシュ防止に対しては邪魔板4が本質的な要素ではなく、流体抵抗要素2が本質的であることを明確にするために、本発明に係る実施形態に関するスプラッシュの抑制効果検証結果について、図2、図1の実施形態の順番で述べる。   The two embodiments have been described above. As described above, the baffle plate 4 as shown in the second embodiment of FIG. 2 is essentially unnecessary, and the essential features of the present invention are as follows. As shown in FIG. 1, the fluid resistance element 2 is disposed in a space sandwiched between the gas wiping nozzle 1 and the baffle plate 3 ′. Hereinafter, in order to clarify that the baffle plate 4 is not an essential element but a fluid resistance element 2 is essential for preventing splash, the result of verifying the effect of suppressing the splash according to the embodiment of the present invention is described below. Will be described in the order of the embodiments of FIGS.

第1、2実施形態に係るガスワイピング装置をそれぞれ溶融亜鉛めっきラインに設置し、本願発明者らが先に行った特許文献1のガスワイピングノズルの効果確認実験と同様に、スプラッシュ抑制効果を実験的に調査した。   The gas wiping apparatus according to the first and second embodiments is installed in the hot dip galvanizing line, and the splash suppression effect is tested in the same manner as the effect confirmation experiment of the gas wiping nozzle of Patent Document 1 previously conducted by the present inventors. Surveyed.

下記第1実施例では、特許文献1に対して、本発明の流体抵抗要素2の効果が明確になるように、図2に示すように、特許文献1の構成要素でもある邪魔板4を有したガスワイピング装置に流体抵抗要素2を配置し、先に行った実験のように、隙間間隔Cを変化させスプラッシュ発生量への影響を調査し、その結果を流体抵抗要素2が無い場合と比較し、流体抵抗要素2の有無によるスプラッシュ抑制効果の差異を確認した。   In the first embodiment described below, as shown in FIG. 2, the baffle plate 4 that is also a constituent element of the patent document 1 is provided so that the effect of the fluid resistance element 2 of the present invention becomes clear. The fluid resistance element 2 is arranged in the gas wiping device, and the effect on the amount of splash is investigated by changing the gap interval C as in the previous experiment, and the result is compared with the case without the fluid resistance element 2 And the difference of the splash inhibitory effect by the presence or absence of the fluid resistance element 2 was confirmed.

下記第2実施例では、図1に示されるところの本発明に係るガスワイピング装置を溶融亜鉛めっきラインに設置し、本願発明者らが先に行った特許文献1のガスワイピングノズルの効果確認実験と同様に、スプラッシュ抑制効果を実験的に調査した。すなわち、ガスワイピングノズル1とバッフルプレート3’とで挟まれた空間に、金属多孔体からなる流体抵抗要素2を配置し、スプラッシュ発生量を調査確認した。   In the following second embodiment, the gas wiping apparatus according to the present invention as shown in FIG. 1 is installed in a hot dip galvanizing line, and the effect confirmation experiment of the gas wiping nozzle of Patent Document 1 previously conducted by the present inventors. In the same manner as above, the splash suppression effect was experimentally investigated. That is, the fluid resistance element 2 made of a metal porous body was disposed in a space sandwiched between the gas wiping nozzle 1 and the baffle plate 3 ′, and the amount of splash generated was investigated and confirmed.

実験条件としては、第1、2実施例共に、ワイピングノズルスリットギャップ0.8mm、溶融亜鉛浴からのノズル高さ420mm、溶融亜鉛浴温度460℃とし、鋼帯Sのサイズは、1.0mm厚×1.8m幅とした。バッフルプレート3’の寸法は、縦50mm、幅200mmで、その形状は、厚み5mmの均一厚みの平板である。また、バッフルプレート3’と鋼帯Sとの距離は10mmとした。金属多孔体からなる流体抵抗要素2の平均孔径αは、0.1mm〜3.2mmの範囲で幾つか変化させた。また第1実施例では、邪魔板4の幅Bを、幅を10mm、20mmと変え、厚さは5mmとした。   As experimental conditions, in both the first and second examples, the wiping nozzle slit gap was 0.8 mm, the nozzle height from the molten zinc bath was 420 mm, the molten zinc bath temperature was 460 ° C., and the size of the steel strip S was 1.0 mm thick. X 1.8 m width. The dimensions of the baffle plate 3 'are 50 mm in length and 200 mm in width, and the shape thereof is a flat plate having a uniform thickness of 5 mm. The distance between the baffle plate 3 ′ and the steel strip S was 10 mm. The average pore diameter α of the fluid resistance element 2 made of a metal porous body was changed in a range of 0.1 mm to 3.2 mm. In the first embodiment, the width B of the baffle plate 4 is changed to 10 mm and 20 mm, and the thickness is 5 mm.

上記の実施形態の実験によって得られたスプラッシュ発生量の測定結果を、実験条件と共に、図9、図11に示す。図9は、邪魔板4と流体抵抗要素2とを有する第2の実施形態に係るガスワイピング装置に対する第1実施例の実験結果であり、図11は、邪魔板4なしの流体抵抗要素2のみの第1の実施形態に係るガスワイピング装置に対する第2実施例の実験結果である。また、図10は、本発明の実施例に対する比較例として、邪魔板4のみで流体抵抗要素2が無いガスワイピング装置に対するスプラッシュ発生量の測定した、引用文献1の効果確認試験の結果である。   The measurement results of the amount of splash generated by the experiment of the above embodiment are shown in FIGS. FIG. 9 shows the experimental results of the first example for the gas wiping apparatus according to the second embodiment having the baffle plate 4 and the fluid resistance element 2, and FIG. 11 shows only the fluid resistance element 2 without the baffle plate 4. It is an experimental result of 2nd Example with respect to the gas wiping apparatus which concerns on 1st Embodiment. Moreover, FIG. 10 is a result of the effect confirmation test of the cited reference 1 which measured the splash generation amount with respect to the gas wiping apparatus which does not have the fluid resistance element 2 only by the baffle plate 4 as a comparative example with respect to the Example of this invention.

[第1実施例]
まず、図9に基づいて、邪魔板4と流体抵抗要素2とを有する上記第2の実施形態に係るガスワイピング装置に対する実験結果を説明する。図9において、実施例1〜6は、金属多孔体からなる流体抵抗要素2の平均の孔径α=0.1mmの場合、実施例7〜12は、孔径α=0.2mmの場合、実施例13〜18は、孔径α=0.5mmの場合、実施例19〜22は、孔径α=1.0mmの場合、実施例23〜26は、孔径α=1.3mmの場合、実施例27〜30は、孔径α=1.9mmの場合、実施例31〜33は、孔径α=3.2mmの場合を示している。そして、孔径αの各条件に対して、隙間間隔Cも変化させている。
[First embodiment]
First, based on FIG. 9, the experimental result with respect to the gas wiping apparatus which concerns on the said 2nd Embodiment which has the baffle plate 4 and the fluid resistance element 2 is demonstrated. In FIG. 9, Examples 1 to 6 are examples when the average pore diameter α of the fluid resistance element 2 made of a metal porous body is 0.1 mm, and Examples 7 to 12 are examples when the pore diameter α is 0.2 mm. Nos. 13 to 18 have a hole diameter α = 0.5 mm, Examples 19 to 22 have a hole diameter α = 1.0 mm, and Examples 23 to 26 have a hole diameter α = 1.3 mm. 30 shows a case where the hole diameter α = 1.9 mm, and Examples 31 to 33 show a case where the hole diameter α = 3.2 mm. And the gap | interval space | interval C is also changed with respect to each condition of the hole diameter (alpha).

また、図3は、図9に示した実施例と、図10に示した比較例におけるスプラッシュ発生量を、隙間間隔Cについて整理比較したものである。図3に示されるように、流体抵抗要素2を設置した場合(実施例の結果を示す図9のデータで、図3中では、*、□、◇、○、△、×、+でプロット)は、孔径α=0.1mm〜3.2mmの範囲では、その大小にかかわらず、何れも隙間間隔Cが変化しても、各々の孔径αの値に対応して概ね一定のスプラッシュ発生量に抑えられている。一方、流体抵抗要素2が無い場合(比較例の結果を示す図10のデータで、図3中●でプロット)は、先述したように、隙間間隔Cの値によってスプラッシュ発生量が大きく変動してしまう。すなわち、流体抵抗要素2を設置することにより、隙間間隔Cの値が少々異なっていても、安定的にスプラッシュを抑制し得ることが分かる。   Further, FIG. 3 shows a comparison of the amount of splash generated in the embodiment shown in FIG. 9 and the comparative example shown in FIG. As shown in FIG. 3, when the fluid resistance element 2 is installed (the data of FIG. 9 showing the results of the example, plotted in *, □, ◇, ○, Δ, ×, + in FIG. 3) In the range of the hole diameter α = 0.1 mm to 3.2 mm, regardless of the size, even if the gap interval C changes, the amount of splash generated is substantially constant corresponding to the value of each hole diameter α. It is suppressed. On the other hand, when there is no fluid resistance element 2 (the data in FIG. 10 showing the result of the comparative example and plotted with ● in FIG. 3), as described above, the amount of splash generation varies greatly depending on the value of the gap interval C. End up. That is, it can be seen that by installing the fluid resistance element 2, splash can be stably suppressed even if the value of the gap interval C is slightly different.

さらに、図3から分かるように、流体抵抗要素2を設置した場合は、特に孔径α=0.2mm〜1.3mmの範囲(図3中□、◇、○、△でプロット)で、スプラッシュ抑制効果が大きく、流体抵抗要素2が無い場合(図3中●でプロット)の最もスプラッシュ発生量が少ないレベルであることが分かる。しかし、孔径α=0.2mmより小さい場合(孔径α=0.1mmの場合で図3中*でプロット)のように、あまりに孔径αが小さいと、通気抵抗が大きくなりすぎて、結局、スプラッシュ発生量は、邪魔板4のみの隙間間隔C=0mmの場合と同じ程度になってしまい、十分なダンピング効果が得られなくなってしまうのである。すなわち、通気抵抗が大きくなりすぎたことで、流体抵抗要素2を流れる流体量が少なくなりすぎてしまい、ガス噴流の乱れの運動エネルギーを熱エネルギーに変換する割合が減少してしまったためと考える。但し、孔径α=0.1mmの場合であっても、流体抵抗要素2が無い場合の隙間間隔Cが約5mm以上でのスプラッシュ発生量(約120g/min)よりも発生量は少なく抑えられている。   Further, as shown in FIG. 3, when the fluid resistance element 2 is installed, the splash is suppressed particularly in the range of the hole diameter α = 0.2 mm to 1.3 mm (indicated by □, ◇, ○, and Δ in FIG. 3). It can be seen that the amount of splash generation is the lowest when the effect is large and there is no fluid resistance element 2 (plotted with ● in FIG. 3). However, if the hole diameter α is smaller than 0.2 mm (when the hole diameter α is 0.1 mm, plotted as * in FIG. 3), if the hole diameter α is too small, the airflow resistance becomes too large and eventually splash The amount of generation becomes the same as the case where the gap interval C of the baffle plate 4 alone is 0 mm, and a sufficient damping effect cannot be obtained. That is, it is considered that because the ventilation resistance is too large, the amount of fluid flowing through the fluid resistance element 2 is too small, and the rate of converting the turbulent kinetic energy of the gas jet into heat energy is reduced. However, even when the hole diameter α is 0.1 mm, the generated amount is suppressed to be smaller than the amount of splash generated (about 120 g / min) when the gap distance C is about 5 mm or more without the fluid resistance element 2. Yes.

一方、逆に孔径α=1.3mmより大きい場合(孔径α=1.9mm、3.2mmの場合で、各々図3中×、+でプロット)のようにあまりにαが大きいと、流体抵抗要素2を流れる流体量は十分にあるにもかかわらず、通気抵抗の方が小さくなりすぎるため、ガス噴流の乱れの運動エネルギーを熱エネルギーに変換する割合が減少してしまい、これも十分なダンピング効果が得られなくなったものと考える。但し、孔径α=1.9mm、3.2mmの場合であっても、やはり隙間間隔Cが約5mm以上でのスプラッシュ発生量(約120g/min)以下に抑えられている。   On the other hand, if α is too large, as shown in the case where the hole diameter α is larger than 1.3 mm (the case where the hole diameter α is 1.9 mm and 3.2 mm, respectively plotted with x and + in FIG. 3), the fluid resistance element Although there is a sufficient amount of fluid flowing through 2, the ventilation resistance becomes too small, so the rate of converting the turbulent kinetic energy of the gas jet into thermal energy decreases, which is also a sufficient damping effect I think that is no longer available. However, even in the case of the hole diameter α = 1.9 mm and 3.2 mm, it is still suppressed to a splash generation amount (about 120 g / min) when the gap interval C is about 5 mm or more.

なお、鋼帯のめっき面外観について、一般的には約120g/min程度以下のスプラッシュ発生量であれば十分な品質レベルを確保でき、孔径α=0.2mm〜1.3mmの範囲でのスプラッシュ発生量(約50g/min以下)であれば、高い外観品質要求にも十分応え得る品質レベルといえる。   In addition, as for the appearance of the plated surface of the steel strip, a sufficient quality level can be secured if the amount of splash generated is generally about 120 g / min or less, and the splash in the range of hole diameter α = 0.2 mm to 1.3 mm. If the generated amount (about 50 g / min or less), it can be said that the quality level can sufficiently meet the high appearance quality requirement.

[第2実施例]
次に、図11に基づいて、邪魔板4なしで流体抵抗要素2のみの上記第1実施形態に係るガスワイピング装置に対する実験結果を説明する。図11において、実施例34〜40にて、金属多孔体からなる流体抵抗要素2の平均の孔径αを0.1mm、0.2mm、0.5mm、1.0mm、1.3mm、1.9mm、3.2mmと変化させた場合を示している。なお、本実施例は、図1に示す第1実施形態に係るガスワイピング装置に対するものであり、邪魔板4がないため隙間間隔Cは定義できない。このため、図11中のバッフルプレート条件の項目には隙間間隔Cのデータは無い。
[Second Embodiment]
Next, based on FIG. 11, an experimental result for the gas wiping apparatus according to the first embodiment in which only the fluid resistance element 2 is provided without the baffle plate 4 will be described. In FIG. 11, in Examples 34 to 40, the average pore diameter α of the fluid resistance element 2 made of a metal porous body is 0.1 mm, 0.2 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, 1.3 mm, 1.9 mm. 3 shows a case of changing to 3.2 mm. In addition, a present Example is a thing with respect to the gas wiping apparatus which concerns on 1st Embodiment shown in FIG. 1, Since there is no baffle plate 4, the clearance gap C cannot be defined. For this reason, there is no data of the gap interval C in the item of the baffle plate condition in FIG.

図11からもわかるように、邪魔板4なしの流体抵抗要素2のみのガスワイピング装置においても、概ねスプラッシュ抑制効果は良好で、孔径αが、特に0.2mm〜1.3mmの範囲で、スプラッシュ抑制効果が大きいことが分かる。つまり、邪魔板4なしの流体抵抗要素2のみのガスワイピング装置においても、先述したように、通気抵抗は、大きすぎても、小さすぎても、十分なダンピング効果が得られない。   As can be seen from FIG. 11, even in the gas wiping apparatus having only the fluid resistance element 2 without the baffle plate 4, the splash suppression effect is generally good, and the splash diameter is in the range of 0.2 mm to 1.3 mm. It can be seen that the suppression effect is large. That is, even in the gas wiping device having only the fluid resistance element 2 without the baffle plate 4, as described above, a sufficient damping effect cannot be obtained if the ventilation resistance is too large or too small.

先に述べたダンピング効果は、引用文献1の効果確認試験の結果についても同様のことがいえ、図7に示したように隙間間隔Cに対してスプラッシュ発生量が隙間間隔C=1.5〜2.5mmの狭い範囲で少なくなるのは、この範囲でダンピング効果が効果的に得られていることを示している。つまり、スプラッシュ防止のためには、そもそも特許文献1に開示されたような邪魔板4が本質的に必要なわけではなく、ガスワイピングノズル1とバッフルプレート3とで挟まれた空間に、流体抵抗要素2を配置することが本質的に必要となる。さらに、通気性を有する多孔体や繊維質体といった流体抵抗要素2を用いることで、隙間間隔Cの変動を緩和し、安定的にスプラッシュ抑制効果を発揮できることが示されたのである。   The damping effect described above is the same for the result of the effect confirmation test of the cited document 1, and the amount of splash generated with respect to the gap interval C as shown in FIG. The decrease in the narrow range of 2.5 mm indicates that the damping effect is effectively obtained in this range. That is, in order to prevent the splash, the baffle plate 4 as disclosed in Patent Document 1 is not essential in the first place, and the fluid resistance is set in the space between the gas wiping nozzle 1 and the baffle plate 3. It is essentially necessary to arrange element 2. Furthermore, it was shown that by using the fluid resistance element 2 such as a porous body or a fibrous body having air permeability, the fluctuation of the gap interval C can be reduced and the splash suppressing effect can be stably exhibited.

以上、本発明に係るガスワイピング装置の実施例を示した。但し、実施例での条件は、本発明の実施可能性及び効果を確認するために採用した一条件例であり、本発明は、この一条件例に限定されるものではない。本発明は、本発明の要旨を逸脱せず、本発明の目的を達成する限りにおいて、種々の条件を採用し得るものである。   The embodiment of the gas wiping device according to the present invention has been described above. However, the conditions in the examples are one condition example adopted to confirm the feasibility and effects of the present invention, and the present invention is not limited to this one condition example. The present invention can adopt various conditions as long as the object of the present invention is achieved without departing from the gist of the present invention.

本発明は、例えば、帯状材として鋼帯を、また液体浴として溶融亜鉛などのめっき浴を想定し、鋼帯に溶融めっきを行うに際し、鋼帯が溶融めっき浴から引き上げられた後、余分な溶融めっき金属をガスワイピングで払拭する方式の連続溶融めっきプロセスにおいて、ガスワイピング時のスプラッシュ発生を安定的に軽減し得るガスワイピング装置として利用できる。   The present invention assumes, for example, a steel strip as a strip material and a plating bath such as hot dip zinc as a liquid bath, and when performing hot-dip plating on the steel strip, after the steel strip has been pulled out of the hot-dip bath, In a continuous hot dipping process in which hot dip metal is wiped off by gas wiping, it can be used as a gas wiping device that can stably reduce the occurrence of splash during gas wiping.

1 ガスワイピングノズル
2 流体抵抗要素
3 特許文献1にて開示されたバッフルプレート
3’ バッフルプレート
4 邪魔板
5 ガスワイピングノズル1から噴出されたガス流れ
S 鋼帯
B 邪魔板4の幅
C 邪魔板4の端部とガスワイピングノズル1の上面との隙間間隔
D ワイピングノズル1と鋼帯Sとの面直方向距離
H 邪魔板4とガスワイピングノズル1との高さ方向距離
θ ワイピングノズル1の先端部分の上面が水平方向となす角度
α 多孔体からなる流体抵抗要素2の平均孔径



DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Gas wiping nozzle 2 Fluid resistance element 3 Baffle plate disclosed by patent document 1 3 'Baffle plate 4 Baffle plate 5 Gas flow ejected from gas wiping nozzle 1 S Steel strip B Width of baffle plate 4 C Baffle plate 4 The gap distance between the end of the gas wiping nozzle 1 and the upper surface of the gas wiping nozzle 1 D Distance between the wiping nozzle 1 and the steel strip S in the perpendicular direction H Distance between the baffle plate 4 and the gas wiping nozzle 1 θ The angle between the upper surface of the fluid and the horizontal direction α The average pore diameter of the fluid resistance element 2 made of porous



Claims (4)

液体浴の中から連続的に引き上げられて進行する帯状材を挟み、該液体浴の浴面から同一高さで、かつ該帯状材の幅方向に沿って配置され、該帯状材の表面に向けてガスを噴出することにより、該帯状材の表面に付着した液体の付着量を調節する、少なくとも一対の対向するガスワイピングノズルと、
前記帯状材の幅方向の延長面上の該帯状材の両側に設けられ、かつ、前記ガスワイピングノズルから噴出されたガスが前記帯状材の表面に衝突するガス衝突点を含む高さに配置された一対のバッフルプレートと、
前記ガスワイピングノズルから噴射されたガスがバッフルプレートに衝突する位置よりも上方で、かつ、前記ガスワイピングノズルと前記バッフルプレートとの間に設けられた、通気性を有する流体抵抗要素と、
を備えることを特徴とする、ガスワイピング装置。
A belt-shaped material that is continuously pulled up from the liquid bath is sandwiched, and is disposed at the same height from the bath surface of the liquid bath and along the width direction of the belt-shaped material, toward the surface of the belt-shaped material. And at least a pair of opposing gas wiping nozzles for adjusting the amount of liquid attached to the surface of the belt-like material by jetting gas,
Provided on both sides of the belt-shaped member on the extended surface in the width direction of the belt-shaped member and disposed at a height including a gas collision point gas ejected from the gas wiping nozzle impinges on the surface of the strip material A pair of baffle plates,
An air-permeable fluid resistance element provided above the position where the gas jetted from the gas wiping nozzle collides with the baffle plate and between the gas wiping nozzle and the baffle plate;
A gas wiping apparatus comprising:
前記流体抵抗要素は、通気性を有する多孔体であることを特徴とする、請求項1に記載のガスワイピング装置。   The gas wiping apparatus according to claim 1, wherein the fluid resistance element is a porous body having air permeability. 前記多孔体は、平均孔径が、0.2mm〜1.3mmの範囲であることを特徴とする、請求項2に記載のガスワイピング装置。   The gas wiping apparatus according to claim 2, wherein the porous body has an average pore diameter in a range of 0.2 mm to 1.3 mm. 前記流体抵抗要素は、通気性を有する繊維質状体であることを特徴とする、請求項1に記載のガスワイピング装置。
The gas wiping apparatus according to claim 1, wherein the fluid resistance element is a fibrous body having air permeability.
JP2013055049A 2013-03-18 2013-03-18 Gas wiping device Active JP6102382B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013055049A JP6102382B2 (en) 2013-03-18 2013-03-18 Gas wiping device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013055049A JP6102382B2 (en) 2013-03-18 2013-03-18 Gas wiping device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014181361A JP2014181361A (en) 2014-09-29
JP6102382B2 true JP6102382B2 (en) 2017-03-29

Family

ID=51700377

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013055049A Active JP6102382B2 (en) 2013-03-18 2013-03-18 Gas wiping device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6102382B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6638872B1 (en) * 2018-08-22 2020-01-29 Jfeスチール株式会社 Method for producing hot-dip coated steel strip and continuous hot-dip metal plating equipment
WO2020039869A1 (en) * 2018-08-22 2020-02-27 Jfeスチール株式会社 Method for manufacturing hot-dip metal plated steel strip, and continuous hot-dip metal plating facility

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0639678B2 (en) * 1988-02-16 1994-05-25 川崎製鉄株式会社 Gas wiping device
JPH05306449A (en) * 1992-04-30 1993-11-19 Nkk Corp Method for preventing sticking of molten metal splash to strip surface at the time of hot dip metal coating
JP3686627B2 (en) * 2002-04-26 2005-08-24 新日本製鐵株式会社 Gas wiping device
JP4765641B2 (en) * 2006-01-27 2011-09-07 Jfeスチール株式会社 Manufacturing method of molten metal plated steel strip
JP4816105B2 (en) * 2006-01-27 2011-11-16 Jfeスチール株式会社 Manufacturing method of molten metal plated steel strip
JP2007321171A (en) * 2006-05-30 2007-12-13 Kobe Steel Ltd Nozzle device for wiping hot-dip galvanizing film, and hot-dip galvanizing apparatus using the same
JP5009175B2 (en) * 2008-01-15 2012-08-22 新日本製鐵株式会社 Splash adhesion preventing method and hot dip galvanizing equipment in hot dip galvanizing equipment
JP2010235970A (en) * 2009-03-30 2010-10-21 Nippon Steel Engineering Co Ltd Gas wiping nozzle for reducing noise
JP2011252180A (en) * 2010-05-31 2011-12-15 Jfe Steel Corp Method of manufacturing hot dip metal coated steel strip
JP5418550B2 (en) * 2011-07-12 2014-02-19 Jfeスチール株式会社 Manufacturing method of molten metal plated steel strip

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014181361A (en) 2014-09-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6102382B2 (en) Gas wiping device
JP5470932B2 (en) Hot-dip metal-plated steel strip manufacturing equipment and hot-metal-plated steel strip manufacturing method
JP4781891B2 (en) Gas wiping device
JP5418550B2 (en) Manufacturing method of molten metal plated steel strip
JP5565368B2 (en) Wiping apparatus and hot dipping apparatus using the same
JP4857906B2 (en) Manufacturing method of molten metal plated steel strip
JP4816105B2 (en) Manufacturing method of molten metal plated steel strip
JP6205753B2 (en) Gas wiping nozzle and gas wiping method
JP5396996B2 (en) Manufacturing method of hot dipped steel sheet
JP5444730B2 (en) Molten metal plating steel strip production equipment
JP7111058B2 (en) Hot-dip metal plated steel strip manufacturing method and continuous hot-dip metal plating equipment
JP2011252180A (en) Method of manufacturing hot dip metal coated steel strip
JP5532831B2 (en) Manufacturing method of molten metal plated steel strip
JP4835073B2 (en) Manufacturing method of molten metal plated steel strip
JP5655978B2 (en) Gas wiping method and gas wiping apparatus
JP5640340B2 (en) Manufacturing method of molten metal plated steel strip
JP5444705B2 (en) Molten metal plating steel strip production equipment
WO2023037881A1 (en) Molten metal-plated steel strip production method
JP2007321171A (en) Nozzle device for wiping hot-dip galvanizing film, and hot-dip galvanizing apparatus using the same
JP4765641B2 (en) Manufacturing method of molten metal plated steel strip
JPH11279737A (en) Nozzle for gas wiping
JP7327291B2 (en) Baffle plate, turbulence suppressor, and method for producing galvanized steel sheet
KR101532496B1 (en) Wiping device and hot-dip plating device using same
JPH11279736A (en) Gas wiping method suitable for thick plating
JP6094362B2 (en) Gas wiping apparatus and wiping method for molten metal plated steel strip

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20151106

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160818

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160906

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20161018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170131

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170213

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6102382

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350