JP6095949B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
図2(a)は、本発明の第1の実施形態に係る半導体装置1の構成を示す平面図、図2(b)は、図2(a)における2b−2b線に沿った断面図である。本実施形態において、半導体装置1は、矩形形状の主面を有するプレーナ型のバイポーラトランジスタを構成している。
以下に、本発明の第2の実施形態に係る半導体装置について説明する。図8(a)は、本発明の第2の実施形態に係る半導体装置2のコーナ部を示す平面図である。半導体装置2は、上記した第1の実施形態に係る半導体装置1および1aと同様、バイポーラトランジスタ、MOS FET、IGBT等のディスクリート半導体または集積回路(IC)等を構成するものであり、そのコーナ部に位置する領域20内にTEG21を有する。TEG21は、抵抗素子等の評価用素子と電気的に接続された複数の電極パッド22を、矩形形状を有する半導体装置1の主面上に有しており、この電極パッド22を介してTEG21を構成する評価用構素子の電気的特性を測定することが可能となっている。
11 コレクタ層
13 ベース拡散層
14 エミッタ拡散層
15 エミッタ電極
16 ベース電極
17 絶縁膜
21 TEG
22 電極パッド
50 半導体ウエハ
Claims (9)
- 矩形形状を有する主面と、
前記主面内に設けられて少なくとも1層の半導体層を含む活性領域と、
前記活性領域の外周を囲む耐圧構造部と、
前記耐圧構造部の外側の前記主面のコーナ部に設けられると共に、前記活性領域と同等の深さ方向のキャリア濃度分布を持つ広がり抵抗構造部を備え、且つ斜めに研磨された前記広がり抵抗構造部に探針を接触させることで前記キャリア濃度分布を評価する評価用構造体と、
を含む半導体装置。 - 前記評価用構造体は、前記活性領域に含まれる半導体層と同一のプロセスで形成されることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 矩形形状を有する主面と、
前記主面内に設けられて少なくとも1層の半導体層を含む活性領域と、
前記活性領域の外側の前記主面のコーナ部に設けられ且つ前記活性領域を評価するための構成要素を含む評価用構造体と、
前記主面のコーナ部において、前記主面を画定する辺に対して45°傾いた第1の方向に配列された各々が前記評価用構造体に接続された複数の電極パッドからなる電極パッド群が、前記第1の方向とは垂直な方向である第2の方向に複数配列されてなる電極パッドアレイと、
を含む半導体装置。 - 前記評価用構造体は、前記複数の電極パッドの間に配置されている請求項3に記載の半導体装置。
- 前記評価用構造体は、前記活性領域に含まれる半導体層と同一のプロセスで形成された半導体層からなる抵抗体を有する請求項3または請求項4に記載の半導体装置。
- 前記活性領域において、前記半導体層と導電体とが接続されたコンタクト部を有し、
前記評価用構造体は、前記活性領域における前記コンタクト部と同一のプロセスで形成されたコンタクト部を複数含むコンタクトチェーンを有する請求項3または請求項4に記載の半導体装置。 - 前記評価用構造体は、前記活性領域における前記半導体層の深さ方向におけるキャリア濃度分布と同等のキャリア濃度分布を有する半導体層を含む請求項3または請求項4に記載の半導体装置。
- 前記評価用構造体は、前記主面の各コーナ部に設けられている請求項1乃至7のいずれか1項に記載の半導体装置。
- 前記主面の各コーナ部に設けられた前記評価用構造体は、互いに異なる構造を有する請求項2乃至7に記載の半導体装置。
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